JPS6226089B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6226089B2 JPS6226089B2 JP13081279A JP13081279A JPS6226089B2 JP S6226089 B2 JPS6226089 B2 JP S6226089B2 JP 13081279 A JP13081279 A JP 13081279A JP 13081279 A JP13081279 A JP 13081279A JP S6226089 B2 JPS6226089 B2 JP S6226089B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- sio
- magnetic head
- ferrite
- core
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 6
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims description 3
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims 1
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 description 11
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/23—Gap features
- G11B5/232—Manufacture of gap
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気ヘツドに関する。
従来の磁気ヘツド製造においては第１図に示す
如く２つのフエライトコア、すなわちＩコア１と
Ｃコア２との突き合せ面に鉛系ガラス等の低融点
膜３をそれぞれ形成し、これを突き合せて加熱す
ることによつて接着およびギヤツプ形成を行つて
いる。この方法は加熱条件を制御することによつ
て良好な接着状態が得られるが、磁気ヘツドの特
性を左右するギヤツプ形成の点では、低融点膜と
フエライトとが互に拡散するという現象が生じる
結果、光学的なギヤツプ長さと実効的なギヤツプ
長さとが著しく異ることになり、所望のギヤツプ
を形成することが困難である。
如く２つのフエライトコア、すなわちＩコア１と
Ｃコア２との突き合せ面に鉛系ガラス等の低融点
膜３をそれぞれ形成し、これを突き合せて加熱す
ることによつて接着およびギヤツプ形成を行つて
いる。この方法は加熱条件を制御することによつ
て良好な接着状態が得られるが、磁気ヘツドの特
性を左右するギヤツプ形成の点では、低融点膜と
フエライトとが互に拡散するという現象が生じる
結果、光学的なギヤツプ長さと実効的なギヤツプ
長さとが著しく異ることになり、所望のギヤツプ
を形成することが困難である。
本発明の目的は上記した従来技術の欠点を除去
した磁気ヘツド製造技術を提供するにある。
した磁気ヘツド製造技術を提供するにある。
本発明によれば、少くとも２つのフエライトコ
アを突き合せ、その少くとも一方のフエライトコ
アには巻線用窓となる溝およびトラツク幅を規制
するための狭トラツク加工による切り欠き部が設
けられた磁気ヘツドにおいて、これら２つのフエ
ライトコアの突き合せ面上に少くとも0.03μｍ以
上のSi2O膜を形成し、そのSi2O膜上に鉛系ガラ
ス膜をさらに形成し、この２つのフエライトコア
を突き合せて800℃以下にて接着ボンデイング
し、更に、狭トラツク加工による切り欠き部にガ
ラスを充填する各工程を含む磁気ヘツドの製造方
法が提供される。
アを突き合せ、その少くとも一方のフエライトコ
アには巻線用窓となる溝およびトラツク幅を規制
するための狭トラツク加工による切り欠き部が設
けられた磁気ヘツドにおいて、これら２つのフエ
ライトコアの突き合せ面上に少くとも0.03μｍ以
上のSi2O膜を形成し、そのSi2O膜上に鉛系ガラ
ス膜をさらに形成し、この２つのフエライトコア
を突き合せて800℃以下にて接着ボンデイング
し、更に、狭トラツク加工による切り欠き部にガ
ラスを充填する各工程を含む磁気ヘツドの製造方
法が提供される。
この方法によれば、両フエライトコアは充分な
接着強度をもつて互に接着され、加熱時の拡散に
よる影響を小とすることができるので良好なギヤ
ツプが形成され、磁気ヘツドの性能、信頼性、歩
留りを著しく向上させることができる。
接着強度をもつて互に接着され、加熱時の拡散に
よる影響を小とすることができるので良好なギヤ
ツプが形成され、磁気ヘツドの性能、信頼性、歩
留りを著しく向上させることができる。
第２図ａは第２図ｂに示すようにフエライト基
板１１上に鉛ガラス膜１３（PbO70％、ZnO8
％、B2O312％、Al2O35％、SiO25％の母材ターゲ
ツトを約1W／cm2のパワーでスパツタした膜）を
形成し、通常の接着時のボンデイング温度で熱処
理（770℃ ３分保持）したときのフエライト表
面近傍のIMA（イオンマイクロアナライザ）分
析結果を示すグラフであり、従来のヘツド製造法
に対応するものである。図に示す如くPb、Alの
フエライトへの拡散は500Å（0.05μｍ）以上あ
り、Feの鉛ガラス中へ拡散も600Å以上に達して
いる。
板１１上に鉛ガラス膜１３（PbO70％、ZnO8
％、B2O312％、Al2O35％、SiO25％の母材ターゲ
ツトを約1W／cm2のパワーでスパツタした膜）を
形成し、通常の接着時のボンデイング温度で熱処
理（770℃ ３分保持）したときのフエライト表
面近傍のIMA（イオンマイクロアナライザ）分
析結果を示すグラフであり、従来のヘツド製造法
に対応するものである。図に示す如くPb、Alの
フエライトへの拡散は500Å（0.05μｍ）以上あ
り、Feの鉛ガラス中へ拡散も600Å以上に達して
いる。
第３図ａ，ｂは本発明の磁気ヘツド製造方法に
対応するもので、第３図ｂに示すようにフエライ
ト１１と鉛ガラス１３との間にSiO2膜１４が存
在する場合の拡散状態を第２図の場合と同様に第
３図ａに示している。鉛ガラス膜の成分元素であ
るAl、PbはSiO2膜内へ500〜600Å拡散している
がフエライト内へはほとんど拡散していない。フ
エライト中のFeのSiO2膜内への拡散は300Å以下
であり、SiO2膜の効果は顕著である。すなわ
ち、フエライトと鉛ガラスとの間にSiO2膜を300
Å以上、望ましくは600Å以上形成すれば、接着
用鉛ガラス膜とフエライトとの加熱ボンデイング
による相互拡散は除去することができ、Ｉコア、
Ｃコアの双方を強固に接着し、良好なギヤツプを
形成することができる。すなわちSiO2膜は約800
℃以下で加熱ボンデイングすれば、フエライトと
鉛ガラス膜との相互の拡散を制御するストツパ材
として作用する。また、加熱ボンデイング後に鉛
ガラス膜とSiO2膜とが互に全く均一組成となる
ことは生じない。
対応するもので、第３図ｂに示すようにフエライ
ト１１と鉛ガラス１３との間にSiO2膜１４が存
在する場合の拡散状態を第２図の場合と同様に第
３図ａに示している。鉛ガラス膜の成分元素であ
るAl、PbはSiO2膜内へ500〜600Å拡散している
がフエライト内へはほとんど拡散していない。フ
エライト中のFeのSiO2膜内への拡散は300Å以下
であり、SiO2膜の効果は顕著である。すなわ
ち、フエライトと鉛ガラスとの間にSiO2膜を300
Å以上、望ましくは600Å以上形成すれば、接着
用鉛ガラス膜とフエライトとの加熱ボンデイング
による相互拡散は除去することができ、Ｉコア、
Ｃコアの双方を強固に接着し、良好なギヤツプを
形成することができる。すなわちSiO2膜は約800
℃以下で加熱ボンデイングすれば、フエライトと
鉛ガラス膜との相互の拡散を制御するストツパ材
として作用する。また、加熱ボンデイング後に鉛
ガラス膜とSiO2膜とが互に全く均一組成となる
ことは生じない。
本発明を実施例について詳細に説明する。
第４図示す如くＩコア１とＣコア２とにSiO2
膜をスパツタする。このとき後部には約1500Å前
部には約2100Åの厚さにスパツタする。次に接着
用の鉛系ガラス、例えばPbO70％、B2O312％、
ZnO8％、Al2O35％、SiO25％のガラスを母材と
して約1W／cm2のパワーで後部SiO2膜上には約
1200Å、前部SiO2膜上には約200Åの厚さにスパ
ツタする。この場合、後部鉛ガラスのスパツタ膜
を前部のそれより厚くすることはＩコア、Ｃコア
の接着強度を増すためと突き合せ接着の信頼性を
向上させるために有効である。Ｉコア、Ｃコアを
突き合せ、300〜400℃／時間の割合で加熱し、
770℃で３分間保持した後、200℃前後／時間の割
合で降温し、同時に、狭トラツク加工切り欠き部
５にガラスを充填してヘツドが形成される。
膜をスパツタする。このとき後部には約1500Å前
部には約2100Åの厚さにスパツタする。次に接着
用の鉛系ガラス、例えばPbO70％、B2O312％、
ZnO8％、Al2O35％、SiO25％のガラスを母材と
して約1W／cm2のパワーで後部SiO2膜上には約
1200Å、前部SiO2膜上には約200Åの厚さにスパ
ツタする。この場合、後部鉛ガラスのスパツタ膜
を前部のそれより厚くすることはＩコア、Ｃコア
の接着強度を増すためと突き合せ接着の信頼性を
向上させるために有効である。Ｉコア、Ｃコアを
突き合せ、300〜400℃／時間の割合で加熱し、
770℃で３分間保持した後、200℃前後／時間の割
合で降温し、同時に、狭トラツク加工切り欠き部
５にガラスを充填してヘツドが形成される。
第５図に示す実施例において、後部突き合せ面
にはＩコア１およびＣコア２にそれぞれSiO2膜
４を約1500Å形成し、さらに鉛系ガラス膜３を約
1200Å形成する。前部突き合せ面には、SiO2膜
４′のみを約2200Åスパツタして形成する。この
ようにして形成されたＩコア及びＣコアを前述実
施例と同様にしてボンデイングし、切り欠き部５
には同時にガラスを充填してヘツドを作る。この
場合、前部ギヤツプ部突き合せ面には接着用鉛ガ
ラスのスパツタ膜はないが、切り欠き部５に充填
されたガラスはＩコアとＣコアとの接着作用をも
行うので、前部ギヤツプ部の接着について何等問
題はない。
にはＩコア１およびＣコア２にそれぞれSiO2膜
４を約1500Å形成し、さらに鉛系ガラス膜３を約
1200Å形成する。前部突き合せ面には、SiO2膜
４′のみを約2200Åスパツタして形成する。この
ようにして形成されたＩコア及びＣコアを前述実
施例と同様にしてボンデイングし、切り欠き部５
には同時にガラスを充填してヘツドを作る。この
場合、前部ギヤツプ部突き合せ面には接着用鉛ガ
ラスのスパツタ膜はないが、切り欠き部５に充填
されたガラスはＩコアとＣコアとの接着作用をも
行うので、前部ギヤツプ部の接着について何等問
題はない。
上述のように本発明によれば従来の磁気ヘツド
製造方法と対比して、コアの接着強度を低下せし
めることなく、接着用鉛ガラススパツタ膜との相
互拡散を著しく減少でき、従つてフエライトとギ
ヤツプ規制膜との境界面を尖鋭にし且つ前後部の
ギヤツプ突き合せ面近傍のフエライトの磁性特性
も劣化させることなく磁気ヘツドを作成すること
ができる。更に、狭トラツク加工切り欠き部に接
着ボンデイングと同時にガラスを充填するため、
作業性もよく、信頼性、歩留りも向上する。
製造方法と対比して、コアの接着強度を低下せし
めることなく、接着用鉛ガラススパツタ膜との相
互拡散を著しく減少でき、従つてフエライトとギ
ヤツプ規制膜との境界面を尖鋭にし且つ前後部の
ギヤツプ突き合せ面近傍のフエライトの磁性特性
も劣化させることなく磁気ヘツドを作成すること
ができる。更に、狭トラツク加工切り欠き部に接
着ボンデイングと同時にガラスを充填するため、
作業性もよく、信頼性、歩留りも向上する。
第１図は従来の磁気ヘツドの接着前の状態を示
す概略側面図、第２図ａ，ｂは従来の方法による
接着後の拡散状態を示すグラフおよび拡大断面
図、第３図ａ，ｂは本発明によりSiO2膜を介在
させた場合の拡散状態を示すグラフおよび拡大断
面図、第４図は本発明の実施例として示す磁気ヘ
ツドの接着前の状態を示す側面図、第５図は第４
図の変形例を示す側面図である。 １：Ｉコア、２：Ｃコア、３：鉛系ガラス膜、
４，４′：SiO2膜、５：狭トラツク加工による切
り欠き部。
す概略側面図、第２図ａ，ｂは従来の方法による
接着後の拡散状態を示すグラフおよび拡大断面
図、第３図ａ，ｂは本発明によりSiO2膜を介在
させた場合の拡散状態を示すグラフおよび拡大断
面図、第４図は本発明の実施例として示す磁気ヘ
ツドの接着前の状態を示す側面図、第５図は第４
図の変形例を示す側面図である。 １：Ｉコア、２：Ｃコア、３：鉛系ガラス膜、
４，４′：SiO2膜、５：狭トラツク加工による切
り欠き部。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 少くとも２つのフエライトコアを突き合せ、
その少くとも一方のコアには巻線用窓となる溝お
よびトラツク幅を規制するための狭トラツク加工
による切り欠き部が設けられた磁気ヘツドにおい
て、上記２つのフエライトコアの突き合せ面上に
少くとも0.03μｍ以上のSiO2膜を形成し、その
SiO2膜上に鉛系ガラス膜をさらに形成し、この
２つのフエライトコアを突き合せて800℃以下に
て接着ボンデイングし、更に、前記狭トラツク加
工による切り欠き部にガラスを充填することを特
徴とする磁気ヘツドの製造方法。 ２ 互に突き合せ接合された２つのフエライトコ
アを含み、少くともその一方のコアには巻線窓と
なる溝および狭トラツク加工による切り欠き部が
設けられている磁気ヘツドにおいて、両フエライ
トコアの突き合せ面がそれぞれ少くとも0.03μｍ
以上のSiO2膜を介して鉛系ガラスによつて接着
されていることを特徴とする磁気ヘツド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13081279A JPS5654622A (en) | 1979-10-12 | 1979-10-12 | Magnetic head and its manufacture |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13081279A JPS5654622A (en) | 1979-10-12 | 1979-10-12 | Magnetic head and its manufacture |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5654622A JPS5654622A (en) | 1981-05-14 |
| JPS6226089B2 true JPS6226089B2 (ja) | 1987-06-06 |
Family
ID=15043279
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13081279A Granted JPS5654622A (en) | 1979-10-12 | 1979-10-12 | Magnetic head and its manufacture |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5654622A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59146431A (ja) * | 1983-02-10 | 1984-08-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘツド |
| JPS6083205A (ja) * | 1983-10-12 | 1985-05-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘツド |
| JPS61104309A (ja) * | 1984-10-24 | 1986-05-22 | Canon Electronics Inc | 磁気ヘツドの製造方法 |
| JPS6228909A (ja) * | 1985-07-31 | 1987-02-06 | Hitachi Metals Ltd | 磁気ヘツド及びその製造方法 |
| JPH0775053B2 (ja) * | 1988-08-03 | 1995-08-09 | 松下電器産業株式会社 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
-
1979
- 1979-10-12 JP JP13081279A patent/JPS5654622A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5654622A (en) | 1981-05-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS61233405A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS6226089B2 (ja) | ||
| JPH0152808B2 (ja) | ||
| US5170301A (en) | Magnetic head having core parts joined by low-melting point crystallized glass with composite gap | |
| JPS6221176B2 (ja) | ||
| JPH0778853B2 (ja) | 浮動型磁気ヘツド及びその製造方法 | |
| JPH0581964B2 (ja) | ||
| JPH0439731B2 (ja) | ||
| JPS6224845B2 (ja) | ||
| JPH0477963B2 (ja) | ||
| JPS59146431A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JP2581855B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP3114220B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| EP0353998B1 (en) | Magnetic Head | |
| JPH01125710A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH0546608B2 (ja) | ||
| JPS63187407A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH0334124B2 (ja) | ||
| JPS6360444B2 (ja) | ||
| JPS6379212A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS60223010A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS61229216A (ja) | 磁気ヘツドコアおよびその製造方法 | |
| JPS62107408A (ja) | 磁気ヘツドコア | |
| JPS60170011A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS6095713A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 |