JPS59146431A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS59146431A JPS59146431A JP2060283A JP2060283A JPS59146431A JP S59146431 A JPS59146431 A JP S59146431A JP 2060283 A JP2060283 A JP 2060283A JP 2060283 A JP2060283 A JP 2060283A JP S59146431 A JPS59146431 A JP S59146431A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gap
- magnetic
- lead glass
- glass
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/23—Gap features
- G11B5/235—Selection of material for gap filler
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は磁気記録再生装置に用いる磁気ヘッドに関する
ものである。
ものである。
従来例の構成とその問題点
フェライトヘッドなどでは、ギャップ材料としてガラス
が用いられ、耐磨耗性、硬度の関係より高融点ガラス又
はSiO2が主であった。コア材にアモルファス磁性合
金を用いると、材料の結晶化温度おいう制約のため、せ
いぜい500℃が耐熱限界である。そのため、ギャップ
をガラス接着する時、500℃以上に加熱することがで
きる、そのためギャップスペーサが融合せず、強固なギ
ャップを形成することができなかった。
が用いられ、耐磨耗性、硬度の関係より高融点ガラス又
はSiO2が主であった。コア材にアモルファス磁性合
金を用いると、材料の結晶化温度おいう制約のため、せ
いぜい500℃が耐熱限界である。そのため、ギャップ
をガラス接着する時、500℃以上に加熱することがで
きる、そのためギャップスペーサが融合せず、強固なギ
ャップを形成することができなかった。
発明の目的
本発明は低温でガラスによるギャップ形成を行なった時
でも強固な磁気キャップを得ることのできる磁気ヘッド
を提供することを目的とする。
でも強固な磁気キャップを得ることのできる磁気ヘッド
を提供することを目的とする。
発明の構成
本発明は、磁気ギャップスペーサをSiO2層とPbを
主成分とする鉛ガラス層とで構成することによって、上
述の目的を達成したものである。
主成分とする鉛ガラス層とで構成することによって、上
述の目的を達成したものである。
実施例の説明
以下、本発明の実施例について、図面を用いて説明する
。
。
第1図に示すように、アルモファス磁性合金膜1を補強
材2,3ではさんだ構造のコアブロックを作製し、巻線
溝加工を行なった後、磁気ギャッブ面4を平坦に研摩す
る。この磁気ギャップ面4にギャップ長に相当するギャ
ップスペーサを形成する。第2図に示すように、まずS
iO2層5をRFスパッタ法により1000Å厚に形成
し、その上に鉛ガラス層6を同じくRFスパッタ法によ
り250Å厚に形成する。鉛ガラスとしではPbO84
wt%、B2O310wt%、SiO23wt%、およ
びAl2O33wt%の組成比率のガラスを用いた。こ
のガラスの軟化点は370℃である。次に第3図に示す
ように、ギャップスペーサを形成したコアブロックを左
右突き合せ、低融点の接合用ガラス棒7を配置し、加熱
することにより、左右のコアブロックを接合させた。こ
の時の温度は470℃である。この接合時に470℃の
状態でのギャップスペーサの鉛ガラスの粘度は、104
ポイス程度であり、完成した磁気ギャップは確実に接合
されていて、気泡なども認められなかった。
材2,3ではさんだ構造のコアブロックを作製し、巻線
溝加工を行なった後、磁気ギャッブ面4を平坦に研摩す
る。この磁気ギャップ面4にギャップ長に相当するギャ
ップスペーサを形成する。第2図に示すように、まずS
iO2層5をRFスパッタ法により1000Å厚に形成
し、その上に鉛ガラス層6を同じくRFスパッタ法によ
り250Å厚に形成する。鉛ガラスとしではPbO84
wt%、B2O310wt%、SiO23wt%、およ
びAl2O33wt%の組成比率のガラスを用いた。こ
のガラスの軟化点は370℃である。次に第3図に示す
ように、ギャップスペーサを形成したコアブロックを左
右突き合せ、低融点の接合用ガラス棒7を配置し、加熱
することにより、左右のコアブロックを接合させた。こ
の時の温度は470℃である。この接合時に470℃の
状態でのギャップスペーサの鉛ガラスの粘度は、104
ポイス程度であり、完成した磁気ギャップは確実に接合
されていて、気泡なども認められなかった。
そのギャップ長は0.25μmである。
次に、ギャップスペーサ用の鉛ガラスの成分を種々変化
させ、そのギャップ形成の良否を判定したところ、Pb
Oの量を90wt%にすると、ガラスとして不安定とな
り、失透しやすい。しかも形成された磁気ギャップ長は
第4図に示すごとく鉛ガラスの厚さが不安定であり、極
端な場合にはSiO2をも浸食し、ギャップ長がほぼ0
に等しい箇所も見られた。またPbOの量を60wt%
以下にすると、形成ギャップ長は正確であるが、ギャッ
プスペーサの融合は見られず、コアブロックより単体チ
ップに切断した時に破損した。これはギャップ接合面で
の強度が不十分であったためである。
させ、そのギャップ形成の良否を判定したところ、Pb
Oの量を90wt%にすると、ガラスとして不安定とな
り、失透しやすい。しかも形成された磁気ギャップ長は
第4図に示すごとく鉛ガラスの厚さが不安定であり、極
端な場合にはSiO2をも浸食し、ギャップ長がほぼ0
に等しい箇所も見られた。またPbOの量を60wt%
以下にすると、形成ギャップ長は正確であるが、ギャッ
プスペーサの融合は見られず、コアブロックより単体チ
ップに切断した時に破損した。これはギャップ接合面で
の強度が不十分であったためである。
上記のデータは左右コアの接合温度を470℃で3層分
間保持した時の結果である。この470℃は用いたアモ
ルファス磁性合金の結晶化温度が52℃であったため、
この合金の再結晶が起きない温度として470℃を用い
た。一般に鉛ガラスのPbO含有量を増すと軟化点は低
下し、接合温度におけるガラス粘度は下がる。ギャップ
接合におけるガラスの粘度の適否がより強固な磁気ギャ
ップ形成の成否にかかわり、500℃以下の接合では、
ガラス成分としてPbOを60〜84wt%含有するも
のが非常に有効である。しかし、ギャップスペーサがす
べてこの鉛ガラスたけで形成されているものは、その鉛
ガラスの強度の点で、問題があり、テープ摺動時にギャ
ップスペーサの偏磨耗を発生し、ひいてはギャップエッ
ジの崩れをひき起し、強固なギャップを形成することは
不可能であった。そのため実施例で説明したように、コ
ア面にはまずSiO2層を形成し、接合面に鉛ガラスを
用いることにより500℃以下で強固な磁気ギャップを
形成することができた。
間保持した時の結果である。この470℃は用いたアモ
ルファス磁性合金の結晶化温度が52℃であったため、
この合金の再結晶が起きない温度として470℃を用い
た。一般に鉛ガラスのPbO含有量を増すと軟化点は低
下し、接合温度におけるガラス粘度は下がる。ギャップ
接合におけるガラスの粘度の適否がより強固な磁気ギャ
ップ形成の成否にかかわり、500℃以下の接合では、
ガラス成分としてPbOを60〜84wt%含有するも
のが非常に有効である。しかし、ギャップスペーサがす
べてこの鉛ガラスたけで形成されているものは、その鉛
ガラスの強度の点で、問題があり、テープ摺動時にギャ
ップスペーサの偏磨耗を発生し、ひいてはギャップエッ
ジの崩れをひき起し、強固なギャップを形成することは
不可能であった。そのため実施例で説明したように、コ
ア面にはまずSiO2層を形成し、接合面に鉛ガラスを
用いることにより500℃以下で強固な磁気ギャップを
形成することができた。
発明の効果
本発明の磁気ヘッドによれば、磁気ギャップスペーサを
SiO2層とPbOを含む鉛ガラス層で形成する事によ
り500℃以下でガラス接着によるギャップ形成を行な
っても十分強固な耐久性のある磁気ギャップを形成する
ことができる。
SiO2層とPbOを含む鉛ガラス層で形成する事によ
り500℃以下でガラス接着によるギャップ形成を行な
っても十分強固な耐久性のある磁気ギャップを形成する
ことができる。
第1図は本発明の一実施例の磁気ヘッドに用いたコアブ
ロックの斜視図、第2図はそのギャップスペーサの側面
図、第3図はギャップスペーサを形成したコアブロック
を突き合せだ状態の側面図、第4図はPbO含有率に対
するギャップ接合後のギャップ長の値、及びその状態を
示したものである。 1・・・・・アモルファス磁性合金膜、5・・・SiO
2層、6・・・・・・鉛ガラス層。 代理人の氏名弁理士中尾敏男ほか1名 第1図 第2図↑ ギ′ 第3図 4図 pbo名膚阜υ缶−一−− 155−
ロックの斜視図、第2図はそのギャップスペーサの側面
図、第3図はギャップスペーサを形成したコアブロック
を突き合せだ状態の側面図、第4図はPbO含有率に対
するギャップ接合後のギャップ長の値、及びその状態を
示したものである。 1・・・・・アモルファス磁性合金膜、5・・・SiO
2層、6・・・・・・鉛ガラス層。 代理人の氏名弁理士中尾敏男ほか1名 第1図 第2図↑ ギ′ 第3図 4図 pbo名膚阜υ缶−一−− 155−
Claims (4)
- (1)少なくとも磁気コアと、SiO2層とPbOを主
成分とする鉛ガラス層で構成された磁気ギャップスペー
サとを有することを特徴とする磁気ヘッド。 - (2)鉛ガラス層の組成が重量百分率でPbOを60〜
90%、残部が少なくともSiO2,Al2O3,B2
O3であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の磁気ヘッド。 - (3)鉛ガラス層を二つのSiO2層間に形成されてい
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の磁気ヘ
ッド。 - (4)磁気コアがアモルファス磁性合金で構成されてい
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の磁気ヘ
ッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2060283A JPS59146431A (ja) | 1983-02-10 | 1983-02-10 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2060283A JPS59146431A (ja) | 1983-02-10 | 1983-02-10 | 磁気ヘツド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59146431A true JPS59146431A (ja) | 1984-08-22 |
JPH0376526B2 JPH0376526B2 (ja) | 1991-12-05 |
Family
ID=12031810
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2060283A Granted JPS59146431A (ja) | 1983-02-10 | 1983-02-10 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59146431A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6242308A (ja) * | 1985-08-20 | 1987-02-24 | Sanyo Electric Co Ltd | 磁気ヘツドの製造方法 |
EP0221697A2 (en) * | 1985-10-14 | 1987-05-13 | Hitachi, Ltd. | Magnetic head of amorphous magnetic alloy and process for producing the same |
EP0628949A1 (en) * | 1993-04-27 | 1994-12-14 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic head |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS505924A (ja) * | 1973-05-18 | 1975-01-22 | ||
JPS55125526A (en) * | 1979-03-22 | 1980-09-27 | Pioneer Electronic Corp | Magnetic head |
JPS5654622A (en) * | 1979-10-12 | 1981-05-14 | Hitachi Ltd | Magnetic head and its manufacture |
-
1983
- 1983-02-10 JP JP2060283A patent/JPS59146431A/ja active Granted
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS505924A (ja) * | 1973-05-18 | 1975-01-22 | ||
JPS55125526A (en) * | 1979-03-22 | 1980-09-27 | Pioneer Electronic Corp | Magnetic head |
JPS5654622A (en) * | 1979-10-12 | 1981-05-14 | Hitachi Ltd | Magnetic head and its manufacture |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6242308A (ja) * | 1985-08-20 | 1987-02-24 | Sanyo Electric Co Ltd | 磁気ヘツドの製造方法 |
EP0221697A2 (en) * | 1985-10-14 | 1987-05-13 | Hitachi, Ltd. | Magnetic head of amorphous magnetic alloy and process for producing the same |
US4794483A (en) * | 1985-10-14 | 1988-12-27 | Hitachi, Ltd. | Magnetic head having layers of amorphous magnetic alloy bonded together with a glass containing vandium oxide phosphorus oxide and antimony oxide |
EP0628949A1 (en) * | 1993-04-27 | 1994-12-14 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic head |
US6150044A (en) * | 1993-04-27 | 2000-11-21 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic head |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0376526B2 (ja) | 1991-12-05 |
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