JPH08119672A - 溶着ガラス、磁気ヘッド及び磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
溶着ガラス、磁気ヘッド及び磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPH08119672A JPH08119672A JP26425794A JP26425794A JPH08119672A JP H08119672 A JPH08119672 A JP H08119672A JP 26425794 A JP26425794 A JP 26425794A JP 26425794 A JP26425794 A JP 26425794A JP H08119672 A JPH08119672 A JP H08119672A
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- glass
- magnetic head
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- Glass Compositions (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 溶着ガラスによる歪が生じにくく、また化学
的耐久性に優れた溶着ガラス及びそのガラスを用いた磁
気ヘッド、またはガラスによる溶着が適正に行われる磁
気ヘッドの製造方法。 【構成】 下記組成を満足し、熱膨張係数が１１０×１
０-7／℃以上であることを特徴とする溶着ガラス。Ｐｂ
Ｏ：５０〜６５wt%、ＳｉＯ2：１５〜２５wt%、Ｔｅ
Ｏ2：５〜２０wt%、Ｒ2Ｏ：１.５〜６wt%、Ｂｉ2Ｏ3：
２０wt%以下、Ｑ2Ｏ3：１wt%以下、Ｂ2Ｏ3：８wt%以
下、ＺｎＯ：８wt%以下。但し、Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ
の内のいずれか２種以上を示し、ＱはＳｂ又はＡｓであ
る。
的耐久性に優れた溶着ガラス及びそのガラスを用いた磁
気ヘッド、またはガラスによる溶着が適正に行われる磁
気ヘッドの製造方法。 【構成】 下記組成を満足し、熱膨張係数が１１０×１
０-7／℃以上であることを特徴とする溶着ガラス。Ｐｂ
Ｏ：５０〜６５wt%、ＳｉＯ2：１５〜２５wt%、Ｔｅ
Ｏ2：５〜２０wt%、Ｒ2Ｏ：１.５〜６wt%、Ｂｉ2Ｏ3：
２０wt%以下、Ｑ2Ｏ3：１wt%以下、Ｂ2Ｏ3：８wt%以
下、ＺｎＯ：８wt%以下。但し、Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ
の内のいずれか２種以上を示し、ＱはＳｂ又はＡｓであ
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、主として磁気ヘッドに
用いられる溶着ガラス、その溶着ガラスを用いた磁気ヘ
ッド、ならびに磁気ヘッドの製造方法に関するものであ
る。
用いられる溶着ガラス、その溶着ガラスを用いた磁気ヘ
ッド、ならびに磁気ヘッドの製造方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】コンピュータ等の記録装置、オーディオ
機器、ＶＴＲ等の様々な磁気記録装置においては、それ
ぞれに適した各種の磁気ヘッドが組み込まれて用いられ
ている。代表的な磁気ヘッドの一例として、図１にＶＴ
Ｒ用再生磁気ヘッド１０を示す。この磁気ヘッド１０
は、磁性材料からなる磁気コア半体（Ｉ型コア）１２と
磁気コア半体（Ｃ型コア）１４とが磁気ギャップ１６を
形成するように溶着ガラス１８にて接合され、巻線孔２
０に図示しないコイルが巻回されて概略構成される。
機器、ＶＴＲ等の様々な磁気記録装置においては、それ
ぞれに適した各種の磁気ヘッドが組み込まれて用いられ
ている。代表的な磁気ヘッドの一例として、図１にＶＴ
Ｒ用再生磁気ヘッド１０を示す。この磁気ヘッド１０
は、磁性材料からなる磁気コア半体（Ｉ型コア）１２と
磁気コア半体（Ｃ型コア）１４とが磁気ギャップ１６を
形成するように溶着ガラス１８にて接合され、巻線孔２
０に図示しないコイルが巻回されて概略構成される。
【０００３】こうした磁気ヘッド１０は、例えば、次の
ように製造される。まず、磁性材料からなるブロックを
断面がＩ字状のものと、凹部の形成されたＣ字状のもの
とに適宜切削、加工する。そして、図８に示すように、
これらをその間にＣ型コア１４の凹部が巻線孔２０とな
るように向い合せる。そして、その巻線孔２０内に、所
定の溶着ガラスからなるガラス棒２２，２２，・・・を複
数本、挿入し、加熱し、ガラス棒２２，２２，・・・を溶
融する。すると、溶融したガラスがＩ型コア１２とＣ型
コア１４の間に浸み渡り、図９に示すように、ガラス膜
２４となり、Ｉ型コア１２とＣ型コア１４が接合され
る。
ように製造される。まず、磁性材料からなるブロックを
断面がＩ字状のものと、凹部の形成されたＣ字状のもの
とに適宜切削、加工する。そして、図８に示すように、
これらをその間にＣ型コア１４の凹部が巻線孔２０とな
るように向い合せる。そして、その巻線孔２０内に、所
定の溶着ガラスからなるガラス棒２２，２２，・・・を複
数本、挿入し、加熱し、ガラス棒２２，２２，・・・を溶
融する。すると、溶融したガラスがＩ型コア１２とＣ型
コア１４の間に浸み渡り、図９に示すように、ガラス膜
２４となり、Ｉ型コア１２とＣ型コア１４が接合され
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】磁気ヘッドに用いられ
る溶着ガラスには、磁気ヘッドの種類に応じて、磁気コ
アを構成する材料、例えば、フェライトなどの軟磁性合
金または非磁性セラミックス（以下、基体等と称する）
を強固に接合するのに適した組成のものが適宜用いられ
ているが、概して、その熱膨張係数αは、接合する基体
等よりも小さくなっている。
る溶着ガラスには、磁気ヘッドの種類に応じて、磁気コ
アを構成する材料、例えば、フェライトなどの軟磁性合
金または非磁性セラミックス（以下、基体等と称する）
を強固に接合するのに適した組成のものが適宜用いられ
ているが、概して、その熱膨張係数αは、接合する基体
等よりも小さくなっている。
【０００５】例えば、フェライトであると、その熱膨張
係数αは、１１０〜１３０／℃であり、非磁性セラミッ
クス、例えば、ＭｎＯ−ＮｉＯ系やＴｉＯ−ＣａＯ系セ
ラミックスであると、熱膨張係数αは１２０×10-7〜１
３０×10-7／℃である。しかし、溶着ガラスの熱膨張係
数αが基体等の熱膨張係数αと大きく異なると、磁気ヘ
ッドの製造過程にある加熱工程等において、歪が生じた
りする問題がある。そこで、溶着ガラスには、その熱膨
張係数αを大きくするための改良がされている。その為
に、例えば、Ｎａ2Ｏ、Ｌｉ2Ｏを多く含有させる手段が
採られる。しかしながら、そうしたものであると、化学
的耐久性が劣化するという問題を生じることがあった。
係数αは、１１０〜１３０／℃であり、非磁性セラミッ
クス、例えば、ＭｎＯ−ＮｉＯ系やＴｉＯ−ＣａＯ系セ
ラミックスであると、熱膨張係数αは１２０×10-7〜１
３０×10-7／℃である。しかし、溶着ガラスの熱膨張係
数αが基体等の熱膨張係数αと大きく異なると、磁気ヘ
ッドの製造過程にある加熱工程等において、歪が生じた
りする問題がある。そこで、溶着ガラスには、その熱膨
張係数αを大きくするための改良がされている。その為
に、例えば、Ｎａ2Ｏ、Ｌｉ2Ｏを多く含有させる手段が
採られる。しかしながら、そうしたものであると、化学
的耐久性が劣化するという問題を生じることがあった。
【０００６】また、近年特に、磁気記録装置等の小型軽
量化が求められており、それに応じて、磁気ヘッドにも
小型化が強く要求されている。そのような小型化された
磁気ヘッドにおいて、上記したように、巻線孔にガラス
棒を挿入し、溶融する製造方法であると、溶融軟化した
ガラスが、Ｉ型コア１２とＣ型コア１４の間に広がりき
れず、溶着が不完全になってしまうという問題が生じて
いた。
量化が求められており、それに応じて、磁気ヘッドにも
小型化が強く要求されている。そのような小型化された
磁気ヘッドにおいて、上記したように、巻線孔にガラス
棒を挿入し、溶融する製造方法であると、溶融軟化した
ガラスが、Ｉ型コア１２とＣ型コア１４の間に広がりき
れず、溶着が不完全になってしまうという問題が生じて
いた。
【０００７】本発明は前記いずれかの課題を解決するた
めになされたもので、溶着ガラスによる歪が生じにく
く、また化学的耐久性に優れた溶着ガラスおよびそのガ
ラスを用いた磁気ヘッド、またはガラスによる溶着が適
正に行われる磁気ヘッドの製造方法を提供するものであ
る。
めになされたもので、溶着ガラスによる歪が生じにく
く、また化学的耐久性に優れた溶着ガラスおよびそのガ
ラスを用いた磁気ヘッド、またはガラスによる溶着が適
正に行われる磁気ヘッドの製造方法を提供するものであ
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の溶着ガ
ラスは、下記組成を満足し、熱膨張係数が１１０×１０
-7／℃以上であることを特徴とするものである。 ＰｂＯ ： ５０〜６５wt% ＳｉＯ2 ： １５〜２５wt% ＴｅＯ2 ： ５〜２０wt% Ｒ2Ｏ ：１.５〜６wt% 但し、Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋの内のいずれか２種以上を
示す。 Ｂｉ2Ｏ3：２０wt%以下 Ｑ2Ｏ3 ：１wt%以下 但し、ＱはＳｂ又はＡｓである。 Ｂ2Ｏ3 ：８wt%以下 ＺｎＯ ：８wt%以下
ラスは、下記組成を満足し、熱膨張係数が１１０×１０
-7／℃以上であることを特徴とするものである。 ＰｂＯ ： ５０〜６５wt% ＳｉＯ2 ： １５〜２５wt% ＴｅＯ2 ： ５〜２０wt% Ｒ2Ｏ ：１.５〜６wt% 但し、Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋの内のいずれか２種以上を
示す。 Ｂｉ2Ｏ3：２０wt%以下 Ｑ2Ｏ3 ：１wt%以下 但し、ＱはＳｂ又はＡｓである。 Ｂ2Ｏ3 ：８wt%以下 ＺｎＯ ：８wt%以下
【０００９】請求項２に記載の溶着ガラスは、下記組成
を満足し、熱膨張係数が１１０×１０-7／℃以上である
ことを特徴とするものである。 ＰｂＯ ： ５４〜６３wt% ＳｉＯ2 ： １７〜２２wt% ＴｅＯ2 ： ７〜１５wt% Ｒ2Ｏ ： ２〜４wt% 但し、Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋの内のいずれか２種以上を
示す。 Ｂｉ2Ｏ3：１５wt%以下 Ｑ2Ｏ3 ：０.５wt%以下 但し、ＱはＳｂ又はＡｓである。 Ｂ2Ｏ3 ：６wt%以下 ＺｎＯ ：６wt%以下 但し、ＴｅＯ2の含有量とＢｉ2Ｏ3の含有量が６wt%より
も多いこと。
を満足し、熱膨張係数が１１０×１０-7／℃以上である
ことを特徴とするものである。 ＰｂＯ ： ５４〜６３wt% ＳｉＯ2 ： １７〜２２wt% ＴｅＯ2 ： ７〜１５wt% Ｒ2Ｏ ： ２〜４wt% 但し、Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋの内のいずれか２種以上を
示す。 Ｂｉ2Ｏ3：１５wt%以下 Ｑ2Ｏ3 ：０.５wt%以下 但し、ＱはＳｂ又はＡｓである。 Ｂ2Ｏ3 ：６wt%以下 ＺｎＯ ：６wt%以下 但し、ＴｅＯ2の含有量とＢｉ2Ｏ3の含有量が６wt%より
も多いこと。
【００１０】請求項３に記載の磁気ヘッドは、Ｆｅを主
成分とした平均結晶粒径が３０nm以下の軟磁性合金膜を
熱膨張係数が１１５〜１４５／℃の非磁性セラミックス
で挟み込んだ磁気ヘッドコアの接合に、下記組成を満足
し、熱膨張係数が１１０×１０-7／℃以上の溶着ガラス
が用いられていることを特徴とするものである。 ＰｂＯ ： ５０〜６５wt% ＳｉＯ2 ： １５〜２５wt% ＴｅＯ2 ： ５〜２０wt% Ｒ2Ｏ ：１.５〜６wt% 但し、Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋの内のいずれか２種以上を
示す。 Ｂｉ2Ｏ3：２０wt%以下 Ｑ2Ｏ3 ：１wt%以下 但し、ＱはＳｂ又はＡｓである。 Ｂ2Ｏ3 ：８wt%以下 ＺｎＯ ：８wt%以下
成分とした平均結晶粒径が３０nm以下の軟磁性合金膜を
熱膨張係数が１１５〜１４５／℃の非磁性セラミックス
で挟み込んだ磁気ヘッドコアの接合に、下記組成を満足
し、熱膨張係数が１１０×１０-7／℃以上の溶着ガラス
が用いられていることを特徴とするものである。 ＰｂＯ ： ５０〜６５wt% ＳｉＯ2 ： １５〜２５wt% ＴｅＯ2 ： ５〜２０wt% Ｒ2Ｏ ：１.５〜６wt% 但し、Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋの内のいずれか２種以上を
示す。 Ｂｉ2Ｏ3：２０wt%以下 Ｑ2Ｏ3 ：１wt%以下 但し、ＱはＳｂ又はＡｓである。 Ｂ2Ｏ3 ：８wt%以下 ＺｎＯ ：８wt%以下
【００１１】請求項４に記載の磁気ヘッドは、Ｆｅを主
成分とした平均結晶粒径が３０nm以下の軟磁性合金膜を
熱膨張係数が１１５〜１４５／℃の非磁性セラミックス
で挟み込んだ磁気ヘッドコアの接合に、下記組成を満足
し、熱膨張係数が１１０×１０-7／℃以上の溶着ガラス
が用いられていることを特徴とするものである。 ＰｂＯ ： ５４〜６３wt% ＳｉＯ2 ： １７〜２２wt% ＴｅＯ2 ： ７〜１５wt% Ｒ2Ｏ ： ２〜４wt% 但し、Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋの内のいずれか２種以上を
示す。 Ｂｉ2Ｏ3：１５wt%以下 Ｑ2Ｏ3 ：０.５wt%以下 但し、ＱはＳｂ又はＡｓである。 Ｂ2Ｏ3 ：６wt%以下 ＺｎＯ ：６wt%以下 但し、ＴｅＯ2の含有量とＢｉ2Ｏ3の含有量が６wt%より
も多いこと。
成分とした平均結晶粒径が３０nm以下の軟磁性合金膜を
熱膨張係数が１１５〜１４５／℃の非磁性セラミックス
で挟み込んだ磁気ヘッドコアの接合に、下記組成を満足
し、熱膨張係数が１１０×１０-7／℃以上の溶着ガラス
が用いられていることを特徴とするものである。 ＰｂＯ ： ５４〜６３wt% ＳｉＯ2 ： １７〜２２wt% ＴｅＯ2 ： ７〜１５wt% Ｒ2Ｏ ： ２〜４wt% 但し、Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋの内のいずれか２種以上を
示す。 Ｂｉ2Ｏ3：１５wt%以下 Ｑ2Ｏ3 ：０.５wt%以下 但し、ＱはＳｂ又はＡｓである。 Ｂ2Ｏ3 ：６wt%以下 ＺｎＯ ：６wt%以下 但し、ＴｅＯ2の含有量とＢｉ2Ｏ3の含有量が６wt%より
も多いこと。
【００１２】請求項５記載の磁気ヘッドの製造方法は、
磁気コア半体の凹部の形成された接合面に、該凹部に充
填されるように、接合面に溶着ガラスを付着させた後
に、接合面にラップ仕上を施し、その接合面に、該磁気
コア半体と対になる他の磁気コア半体の接合面を組合せ
た状態で、加熱し、凹部に充填された溶着ガラスを溶融
し、磁気コア半体どうしを接合して磁気コアを製造する
工程を有することを特徴とするものである。
磁気コア半体の凹部の形成された接合面に、該凹部に充
填されるように、接合面に溶着ガラスを付着させた後
に、接合面にラップ仕上を施し、その接合面に、該磁気
コア半体と対になる他の磁気コア半体の接合面を組合せ
た状態で、加熱し、凹部に充填された溶着ガラスを溶融
し、磁気コア半体どうしを接合して磁気コアを製造する
工程を有することを特徴とするものである。
【００１３】
【作用】本発明の溶着ガラスにおいて、ＰｂＯは５０〜
６５wt%であり、５４〜６３wt%であれはより好ましい。
ＰｂＯが５０wt%未満であると、軟化点が高くなり、ガ
ラスの流動性が悪化し、６５wt%を超えると化学的耐久
性が劣化し、また耐水性も低下するからである。また、
ＳｉＯ2は、１５〜２５wt%であり、１７〜２２wt%であ
ればより好ましい。ＳｉＯ2が１５wt%未満ではガラスが
失透し易く、また化学的耐久性も劣化し易く、さらに、
耐水性、強度および耐摩耗性が低下するからである。ま
た、２５wt%を超えると、軟化点が高くなると共に、熱
膨張係数が小さくなるからである。 ＴｅＯ2は５〜２
０wt%であり、７〜１５wt%であればより好ましい。Ｔｅ
Ｏ2はガラスの軟化点を下げると共に熱膨張係数を大き
くするために添加しており、５wt%未満であると、その
効果を得ることができず、２０wt%を超えると化学的耐
久性が劣化するからである。
６５wt%であり、５４〜６３wt%であれはより好ましい。
ＰｂＯが５０wt%未満であると、軟化点が高くなり、ガ
ラスの流動性が悪化し、６５wt%を超えると化学的耐久
性が劣化し、また耐水性も低下するからである。また、
ＳｉＯ2は、１５〜２５wt%であり、１７〜２２wt%であ
ればより好ましい。ＳｉＯ2が１５wt%未満ではガラスが
失透し易く、また化学的耐久性も劣化し易く、さらに、
耐水性、強度および耐摩耗性が低下するからである。ま
た、２５wt%を超えると、軟化点が高くなると共に、熱
膨張係数が小さくなるからである。 ＴｅＯ2は５〜２
０wt%であり、７〜１５wt%であればより好ましい。Ｔｅ
Ｏ2はガラスの軟化点を下げると共に熱膨張係数を大き
くするために添加しており、５wt%未満であると、その
効果を得ることができず、２０wt%を超えると化学的耐
久性が劣化するからである。
【００１４】Ｒ2Ｏ、すなわち、Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2
Ｏの内のいずれか２種以上は、１.５〜６wt%であり、２
〜４wt%であればより好ましい。Ｒ2Ｏが１．５wt%未満
であると、熱膨張係数が小さくなり、６wt%を超えると
化学的耐久性が劣化し、洗浄等により変色が生じる。Ｂ
ｉ2Ｏ3はＴｅＯ2と同様に、ガラスの軟化点を下げると
共に熱膨張係数を大きくするために添加するもので、２
０wt%以下、１５wt%以下であればより好ましい。Ｂｉ2
Ｏ3が２０wt%を超えると、失透し易くなる。Ｑ2Ｏ3、即
ち、Ｓｂ2Ｏ3又はＡｓ2Ｏ3は、脱泡の目的で必要に応じ
て添加するもので、１wt%以下であり、０.５wt%以下で
あればより好ましい。１wt%を超えて添加すると、失透
し易くなる。Ｂ2Ｏ3はガラスを安定化させるために必要
に応じて添加するもので、８wt%以下であり、６wt%以下
であればより好ましい。Ｂ2Ｏ3が８wt%を超えると、化
学的耐久性が劣化し、また耐水性が低下する。
Ｏの内のいずれか２種以上は、１.５〜６wt%であり、２
〜４wt%であればより好ましい。Ｒ2Ｏが１．５wt%未満
であると、熱膨張係数が小さくなり、６wt%を超えると
化学的耐久性が劣化し、洗浄等により変色が生じる。Ｂ
ｉ2Ｏ3はＴｅＯ2と同様に、ガラスの軟化点を下げると
共に熱膨張係数を大きくするために添加するもので、２
０wt%以下、１５wt%以下であればより好ましい。Ｂｉ2
Ｏ3が２０wt%を超えると、失透し易くなる。Ｑ2Ｏ3、即
ち、Ｓｂ2Ｏ3又はＡｓ2Ｏ3は、脱泡の目的で必要に応じ
て添加するもので、１wt%以下であり、０.５wt%以下で
あればより好ましい。１wt%を超えて添加すると、失透
し易くなる。Ｂ2Ｏ3はガラスを安定化させるために必要
に応じて添加するもので、８wt%以下であり、６wt%以下
であればより好ましい。Ｂ2Ｏ3が８wt%を超えると、化
学的耐久性が劣化し、また耐水性が低下する。
【００１５】ＺｎＯは熱膨張係数と軟化点を調節するた
めに添加するもので、８wt%以下であり、６wt%以下であ
ればより好ましい。ＺｎＯが８wt%を超えると、失透し
易くなる。さらにまた、ＴｅＯ2の含有量とＢｉ2Ｏ3の
含有量の和が６wt%未満であると、熱膨張係数が小さく
なり易い。
めに添加するもので、８wt%以下であり、６wt%以下であ
ればより好ましい。ＺｎＯが８wt%を超えると、失透し
易くなる。さらにまた、ＴｅＯ2の含有量とＢｉ2Ｏ3の
含有量の和が６wt%未満であると、熱膨張係数が小さく
なり易い。
【００１６】尚、Ｂｉ2Ｏ3、Ｑ2Ｏ3、Ｂ2Ｏ3、ＺｎＯは
必ずしも必須のものではなく、それぞれ含有されていな
くても良い。
必ずしも必須のものではなく、それぞれ含有されていな
くても良い。
【００１７】また、ＭｇＯやＡｌ2Ｏ3を微小量添加させ
ると、ガラスとしての安定性を高めることができ、Ｃｕ
Ｏを添加することで、耐水性を損なうことなく熱膨張係
数を調節することができる。
ると、ガラスとしての安定性を高めることができ、Ｃｕ
Ｏを添加することで、耐水性を損なうことなく熱膨張係
数を調節することができる。
【００１８】本発明の磁気ヘッドの製造方法であると、
溶着ガラスが十分に広く浸み渡るので、溶着不良が生じ
にくく、高い接合強度を確保できる。
溶着ガラスが十分に広く浸み渡るので、溶着不良が生じ
にくく、高い接合強度を確保できる。
【００１９】
【実施例】本発明の溶着ガラスは各種の磁気ヘッドに適
用することができる。例えば、図１に示されるようなＶ
ＴＲ用再生磁気ヘッド１０での磁気コア半体１２と磁気
コア半体１４を接合するための溶着ガラス１８に適用で
きる。また、図４、５に示されるようなコンピュータ用
のハードディスク装置用磁気ヘッドにも適用できる。図
４に示す磁気ヘッド２６は、一対の互いに平行な浮上レ
ール２８，２８の形成されたスライダ３０と、一方の浮
上レール２８の端部に形成されたコア部３２と、磁気コ
ア３４とで概略構成されるもので、スライダ３０とコア
部３２基体とすると、これらの基体中に磁気コア３４は
挟み込まれて配置されている。これら基体３０，３２
は、熱膨張係数が１１５〜１４５℃／の非磁性セラミッ
クスで構成されることが望ましい。
用することができる。例えば、図１に示されるようなＶ
ＴＲ用再生磁気ヘッド１０での磁気コア半体１２と磁気
コア半体１４を接合するための溶着ガラス１８に適用で
きる。また、図４、５に示されるようなコンピュータ用
のハードディスク装置用磁気ヘッドにも適用できる。図
４に示す磁気ヘッド２６は、一対の互いに平行な浮上レ
ール２８，２８の形成されたスライダ３０と、一方の浮
上レール２８の端部に形成されたコア部３２と、磁気コ
ア３４とで概略構成されるもので、スライダ３０とコア
部３２基体とすると、これらの基体中に磁気コア３４は
挟み込まれて配置されている。これら基体３０，３２
は、熱膨張係数が１１５〜１４５℃／の非磁性セラミッ
クスで構成されることが望ましい。
【００２０】また、磁気コア３４は、Ｆｅを主成分とし
た平均結晶粒径が３０nm以下の軟磁性合金膜からなるも
のが望ましい。粒径が３０nm以下の微細な体心立方構造
の結晶粒を主体とする組織のものであると、特に、４０
０〜７５０℃の広い熱処理条件の熱処理工程を施しても
磁気特性に悪影響を受けにくい。この際、組織の約５０
％以上が、平均結晶粒径３０nm以下の体心立方構造の微
細な結晶粒からなるものであれば良い。
た平均結晶粒径が３０nm以下の軟磁性合金膜からなるも
のが望ましい。粒径が３０nm以下の微細な体心立方構造
の結晶粒を主体とする組織のものであると、特に、４０
０〜７５０℃の広い熱処理条件の熱処理工程を施しても
磁気特性に悪影響を受けにくい。この際、組織の約５０
％以上が、平均結晶粒径３０nm以下の体心立方構造の微
細な結晶粒からなるものであれば良い。
【００２１】図４のＡ部の拡大図を図５に示す。スライ
ダの一部分でもある基体３０’と基体３０''間に磁性膜
３４’が挟み込まれ、同様にコア部３２の一部分でもあ
る基体３２’と基体３２''間に磁性膜３４''が挟み込ま
れ、磁性膜３４’と磁性膜３４''で磁気コア３４が形成
される。さらにスライダ３０とコア部３２の間には非磁
性体が介在し、これが磁気ギャップ３６となっている。
さらにまた、磁気コア３４の一方の面と基体３０''，３
２''の間には、磁気コア３４と基体３０''，３２''を接
合する溶着ガラス（ラミネートガラス）３８が介在して
いる。さらにまた、図示していないが、コア部３２には
コイルが巻回されて磁気ヘッドが構成される。
ダの一部分でもある基体３０’と基体３０''間に磁性膜
３４’が挟み込まれ、同様にコア部３２の一部分でもあ
る基体３２’と基体３２''間に磁性膜３４''が挟み込ま
れ、磁性膜３４’と磁性膜３４''で磁気コア３４が形成
される。さらにスライダ３０とコア部３２の間には非磁
性体が介在し、これが磁気ギャップ３６となっている。
さらにまた、磁気コア３４の一方の面と基体３０''，３
２''の間には、磁気コア３４と基体３０''，３２''を接
合する溶着ガラス（ラミネートガラス）３８が介在して
いる。さらにまた、図示していないが、コア部３２には
コイルが巻回されて磁気ヘッドが構成される。
【００２２】この図示したハードディスク装置用磁気ヘ
ッド２６においては、磁性体である円盤状のハードディ
スク上を、磁気ギャップ３６が極僅かに離間して浮上走
行して磁気記録または再生を行なうものである。
ッド２６においては、磁性体である円盤状のハードディ
スク上を、磁気ギャップ３６が極僅かに離間して浮上走
行して磁気記録または再生を行なうものである。
【００２３】また、本発明での溶着ガラスは、図６に示
されるようなＶＴＲ用磁気ヘッドにも適用できる。磁気
ヘッド４０は、Ｍｎ-Ｚｎフェライト基体に軟磁性合金
膜４４が成膜された一対の磁気コア半体５０，５０が、
磁気ギャップ４２が形成されるように接合して磁気コア
５４の形成されたメタルインギャップタイプ（ＭＩＧ）
の磁気ヘッドである。尚、巻線孔５２にはコイル４６が
巻回され、軟磁性合金膜の成膜された磁気コア半体５
０，５０はギャップ部４２及びトラック幅規制溝４８に
存在する溶着ガラス（ギャップガラス）で溶着されてい
る。
されるようなＶＴＲ用磁気ヘッドにも適用できる。磁気
ヘッド４０は、Ｍｎ-Ｚｎフェライト基体に軟磁性合金
膜４４が成膜された一対の磁気コア半体５０，５０が、
磁気ギャップ４２が形成されるように接合して磁気コア
５４の形成されたメタルインギャップタイプ（ＭＩＧ）
の磁気ヘッドである。尚、巻線孔５２にはコイル４６が
巻回され、軟磁性合金膜の成膜された磁気コア半体５
０，５０はギャップ部４２及びトラック幅規制溝４８に
存在する溶着ガラス（ギャップガラス）で溶着されてい
る。
【００２４】本発明に該当する溶着ガラスと、該当しな
いガラスの諸特性、熱膨張係数α（／℃）、ガラス転移
温度Ｔｇ（℃）、屈伏点Ａｔ（℃）、軟化点Ｔｓ
（℃）、耐湿性を試験した。各ガラスの調製は、通常の
手段を採ることができ、出発原料の所定量を秤量し、ア
ルミナ乳鉢で十分混合した後、白金製坩堝に容れ、８５
０〜１２００℃に加熱してガラス溶液とし、攪拌して均
一化を図り、泡切れを行った後、適当な温度に予熱した
金型に鋳込み、徐冷して試験に供することのできる形状
のガラスとした。試験結果を表１，２に示す。尚、耐湿
性の試験は、ラップ仕上を施したガラスブロックを６０
℃、９５％ＲＨの恒温槽中に９６時間放置した後の外観
変色等を目視観察したもので、良好であったものを○、
不良であったものを×で表示した。
いガラスの諸特性、熱膨張係数α（／℃）、ガラス転移
温度Ｔｇ（℃）、屈伏点Ａｔ（℃）、軟化点Ｔｓ
（℃）、耐湿性を試験した。各ガラスの調製は、通常の
手段を採ることができ、出発原料の所定量を秤量し、ア
ルミナ乳鉢で十分混合した後、白金製坩堝に容れ、８５
０〜１２００℃に加熱してガラス溶液とし、攪拌して均
一化を図り、泡切れを行った後、適当な温度に予熱した
金型に鋳込み、徐冷して試験に供することのできる形状
のガラスとした。試験結果を表１，２に示す。尚、耐湿
性の試験は、ラップ仕上を施したガラスブロックを６０
℃、９５％ＲＨの恒温槽中に９６時間放置した後の外観
変色等を目視観察したもので、良好であったものを○、
不良であったものを×で表示した。
【００２５】
【表１】
【００２６】
【表２】
【００２７】表１，２から、本発明に該当する試料Ｎ
ｏ．１〜５のものであると、いずれも、熱膨張係数αが
高く、耐湿性も良好であることがわかる。これに対し、
ＰｂＯの含有量の多い試料Ｎｏ．６のものであると、耐
湿性が不良である。また、Ｂｉ2Ｏ3の含有量の多い試料
Ｎｏ．７のものは、耐湿性は良好であったが、結晶化し
ていた。
ｏ．１〜５のものであると、いずれも、熱膨張係数αが
高く、耐湿性も良好であることがわかる。これに対し、
ＰｂＯの含有量の多い試料Ｎｏ．６のものであると、耐
湿性が不良である。また、Ｂｉ2Ｏ3の含有量の多い試料
Ｎｏ．７のものは、耐湿性は良好であったが、結晶化し
ていた。
【００２８】また、化学的耐久性を調べるため、乳化剤
浸漬試験を行った。これは、溶着ガラスで溶着した磁気
ヘッドを乳化剤（花王（株）製：ポイズ５３０、エマル
ゲン９１１及びトリポリリン酸ソーダの混合液）中に浸
漬し、その乳化剤に溶出して減少する磁気コア間に介在
する溶着ガラスの変化量の経時変化を試験したものであ
る。この試験においては、２時間の浸漬で変化量が２０
０nm以下であれば優れているとされている。結果を図７
に示す。尚、図７において、−○−が表１での試料Ｎ
ｏ．３のガラスであり、−□−が試料Ｎｏ．６のガラス
である。図７から、試料Ｎｏ．６のガラスであると、２
時間後には、約７００nmもガラスが溶け出してしまって
いるが、本実施例に該当する試料Ｎｏ．３のものである
と、変化量はその２割程度であることがわかり、本実施
例の溶着ガラスが比較例のガラスに比して化学的耐久性
に優れていることが明らかである。
浸漬試験を行った。これは、溶着ガラスで溶着した磁気
ヘッドを乳化剤（花王（株）製：ポイズ５３０、エマル
ゲン９１１及びトリポリリン酸ソーダの混合液）中に浸
漬し、その乳化剤に溶出して減少する磁気コア間に介在
する溶着ガラスの変化量の経時変化を試験したものであ
る。この試験においては、２時間の浸漬で変化量が２０
０nm以下であれば優れているとされている。結果を図７
に示す。尚、図７において、−○−が表１での試料Ｎ
ｏ．３のガラスであり、−□−が試料Ｎｏ．６のガラス
である。図７から、試料Ｎｏ．６のガラスであると、２
時間後には、約７００nmもガラスが溶け出してしまって
いるが、本実施例に該当する試料Ｎｏ．３のものである
と、変化量はその２割程度であることがわかり、本実施
例の溶着ガラスが比較例のガラスに比して化学的耐久性
に優れていることが明らかである。
【００２９】従来、磁気ヘッドの製造に溶着ガラスを用
いる場合、磁気ヘッドが小型化されると、溶着ガラスの
広がりが低下し、接合強度が低下する問題があったが、
以下の方法によると、当該不具合を低減することができ
た。図１に示されるような磁気ヘッド１０を製造するに
おいて、所定形状のＩ字状の磁気コア半体とＣ字状の磁
気コア半体とを用意する。この際、Ｃ字状半体には、後
に巻線孔となる凹部を形成しておく。次に、図２に示す
ように、所定の組成の溶着ガラス５６をＣ字状の磁気コ
ア半体１４の接合面上に塗布し、付着させる。この際、
凹部２０’内に溶着ガラス５６が充填されるようにして
おく。そして、その接合面にラップ仕上を施し、図３に
示されるように、接合面上の過剰の溶着ガラスを除去す
る。その後は、一般の工程と同様に、この磁気コア半体
１４と、この磁気コア半体１４と対になる他方の磁気コ
ア半体とを組合せ、加熱して、溶着ガラスを溶融し、磁
気コア半体どうしを接合して磁気ヘッドの製造に供す
る。
いる場合、磁気ヘッドが小型化されると、溶着ガラスの
広がりが低下し、接合強度が低下する問題があったが、
以下の方法によると、当該不具合を低減することができ
た。図１に示されるような磁気ヘッド１０を製造するに
おいて、所定形状のＩ字状の磁気コア半体とＣ字状の磁
気コア半体とを用意する。この際、Ｃ字状半体には、後
に巻線孔となる凹部を形成しておく。次に、図２に示す
ように、所定の組成の溶着ガラス５６をＣ字状の磁気コ
ア半体１４の接合面上に塗布し、付着させる。この際、
凹部２０’内に溶着ガラス５６が充填されるようにして
おく。そして、その接合面にラップ仕上を施し、図３に
示されるように、接合面上の過剰の溶着ガラスを除去す
る。その後は、一般の工程と同様に、この磁気コア半体
１４と、この磁気コア半体１４と対になる他方の磁気コ
ア半体とを組合せ、加熱して、溶着ガラスを溶融し、磁
気コア半体どうしを接合して磁気ヘッドの製造に供す
る。
【００３０】この溶着方法であると、溶着ガラスが磁気
コア半体どうしの界面に良好に浸み渡り、溶着ガラスに
よる接合強度の不良が生じにくく、磁気ヘッドが小型化
に対応し易くなる。この製造方法での溶着ガラスには、
上記本実施例の特有の組成を有する溶着ガラスを適用す
ることが、非常に好ましい。
コア半体どうしの界面に良好に浸み渡り、溶着ガラスに
よる接合強度の不良が生じにくく、磁気ヘッドが小型化
に対応し易くなる。この製造方法での溶着ガラスには、
上記本実施例の特有の組成を有する溶着ガラスを適用す
ることが、非常に好ましい。
【００３１】
【発明の効果】本発明の溶着ガラスは、下記組成を満足
し、熱膨張係数が１１０×１０-7／℃以上であることを
特徴とするものである。 ＰｂＯ ： ５０〜６５wt% ＳｉＯ2 ： １５〜２５wt% ＴｅＯ2 ： ５〜２０wt% Ｒ2Ｏ ：１.５〜６wt% 但し、Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋの内のいずれか２種以上を
示す。 Ｂｉ2Ｏ3：２０wt%以下 Ｑ2Ｏ3 ：１wt%以下 但し、ＱはＳｂ又はＡｓである。 Ｂ2Ｏ3 ：８wt%以下 ＺｎＯ ：８wt%以下
し、熱膨張係数が１１０×１０-7／℃以上であることを
特徴とするものである。 ＰｂＯ ： ５０〜６５wt% ＳｉＯ2 ： １５〜２５wt% ＴｅＯ2 ： ５〜２０wt% Ｒ2Ｏ ：１.５〜６wt% 但し、Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋの内のいずれか２種以上を
示す。 Ｂｉ2Ｏ3：２０wt%以下 Ｑ2Ｏ3 ：１wt%以下 但し、ＱはＳｂ又はＡｓである。 Ｂ2Ｏ3 ：８wt%以下 ＺｎＯ ：８wt%以下
【００３２】さらには、下記組成を満足するものである
と、より好ましくなる。 ＰｂＯ ： ５４〜６３wt% ＳｉＯ2 ： １７〜２２wt% ＴｅＯ2 ： ７〜１５wt% Ｒ2Ｏ ： ２〜４wt% 但し、Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋの内のいずれか２種以上を
示す。 Ｂｉ2Ｏ3：１５wt%以下 Ｑ2Ｏ3 ：０.５wt%以下 但し、ＱはＳｂ又はＡｓである。 Ｂ2Ｏ3 ：６wt%以下 ＺｎＯ ：６wt%以下 但し、ＴｅＯ2の含有量とＢｉ2Ｏ3の含有量が６wt%より
も多いこと。
と、より好ましくなる。 ＰｂＯ ： ５４〜６３wt% ＳｉＯ2 ： １７〜２２wt% ＴｅＯ2 ： ７〜１５wt% Ｒ2Ｏ ： ２〜４wt% 但し、Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋの内のいずれか２種以上を
示す。 Ｂｉ2Ｏ3：１５wt%以下 Ｑ2Ｏ3 ：０.５wt%以下 但し、ＱはＳｂ又はＡｓである。 Ｂ2Ｏ3 ：６wt%以下 ＺｎＯ ：６wt%以下 但し、ＴｅＯ2の含有量とＢｉ2Ｏ3の含有量が６wt%より
も多いこと。
【００３３】本発明での磁気ヘッドは、その磁気ヘッド
コアの接合に、上記本発明の溶着ガラスを用いたことを
特徴とするものである。
コアの接合に、上記本発明の溶着ガラスを用いたことを
特徴とするものである。
【００３４】本発明の磁気ヘッドの製造方法は、磁気コ
ア半体の凹部の形成された接合面に、該凹部に充填され
るように、接合面に溶着ガラスを付着させた後に、接合
面にラップ仕上を施し、その接合面に、該磁気コア半体
と対になる他の磁気コア半体の接合面を組合せた状態
で、加熱し、凹部に充填された溶着ガラスを溶融し、磁
気コア半体どうしを接合して磁気コアを製造する工程を
有することを特徴とするものである。
ア半体の凹部の形成された接合面に、該凹部に充填され
るように、接合面に溶着ガラスを付着させた後に、接合
面にラップ仕上を施し、その接合面に、該磁気コア半体
と対になる他の磁気コア半体の接合面を組合せた状態
で、加熱し、凹部に充填された溶着ガラスを溶融し、磁
気コア半体どうしを接合して磁気コアを製造する工程を
有することを特徴とするものである。
【００３５】本発明の溶着ガラスであると、化学的耐久
性が低下することなく、熱膨張係数が高められているも
のであるので、磁気ヘッドなどに用いた場合には、溶着
ガラスの周囲の部材、例えば磁気ヘッドコア等と熱膨張
係数が近似しているので、加熱工程を経ても、歪等の不
具合が生じにくい。
性が低下することなく、熱膨張係数が高められているも
のであるので、磁気ヘッドなどに用いた場合には、溶着
ガラスの周囲の部材、例えば磁気ヘッドコア等と熱膨張
係数が近似しているので、加熱工程を経ても、歪等の不
具合が生じにくい。
【００３６】また、本発明の磁気ヘッドの製造方法であ
ると、小型化され、溶着ガラスによっては困難な磁気コ
アの接合であっても、溶着ガラスが広く十分に浸み渡る
ので接合強度の不良が生じにくく、小型化に対応でき
る。
ると、小型化され、溶着ガラスによっては困難な磁気コ
アの接合であっても、溶着ガラスが広く十分に浸み渡る
ので接合強度の不良が生じにくく、小型化に対応でき
る。
【図１】磁気ヘッドの一例を示す斜視図である。
【図２】磁気ヘッドの製造過程を示す側面図である。
【図３】磁気ヘッドの製造過程を示す側面図である。
【図４】磁気ヘッドの一例を示す斜視図である。
【図５】図４のＡ部の拡大図である。
【図６】磁気ヘッドの一例を示す斜視図である。
【図７】乳化剤浸漬実験の結果を示すグラフである。
【図８】磁気ヘッドの製造過程の一例を示す側面図であ
る。
る。
【図９】磁気ヘッドの製造過程の一例を示す側面図であ
る。
る。
１０ 磁気ヘッド １２ 磁気コア半体 １４ 磁気コア半体 １８ 溶着ガラス ２６ 磁気ヘッド ３４ 磁気コア ３６ 磁気ヘッド ３８ 溶着ガラス ４０ 磁気ヘッド ５０ 磁気コア半体 ５２ 巻線孔 ５６ 溶着ガラス
Claims (5)
- 【請求項１】 下記組成を満足し、熱膨張係数が１１０
×１０-7／℃以上であることを特徴とする溶着ガラス。 ＰｂＯ ： ５０〜６５wt% ＳｉＯ2 ： １５〜２５wt% ＴｅＯ2 ： ５〜２０wt% Ｒ2Ｏ ：１.５〜６wt% 但し、Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋの内のいずれか２種以上を
示す。 Ｂｉ2Ｏ3：２０wt%以下 Ｑ2Ｏ3 ：１wt%以下 但し、ＱはＳｂ又はＡｓである。 Ｂ2Ｏ3 ：８wt%以下 ＺｎＯ ：８wt%以下 - 【請求項２】 下記組成を満足し、熱膨張係数が１１０
×１０-7／℃以上であることを特徴とする溶着ガラス。 ＰｂＯ ： ５４〜６３wt% ＳｉＯ2 ： １７〜２２wt% ＴｅＯ2 ： ７〜１５wt% Ｒ2Ｏ ： ２〜４wt% 但し、Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋの内のいずれか２種以上を
示す。 Ｂｉ2Ｏ3：１５wt%以下 Ｑ2Ｏ3 ：０.５wt%以下 但し、ＱはＳｂ又はＡｓである。 Ｂ2Ｏ3 ：６wt%以下 ＺｎＯ ：６wt%以下 但し、ＴｅＯ2の含有量とＢｉ2Ｏ3の含有量が６wt%より
も多いこと。 - 【請求項３】 Ｆｅを主成分とした平均結晶粒径が３０
nm以下の軟磁性合金膜を熱膨張係数が１１５〜１４５／
℃の非磁性セラミックスで挟み込んだ磁気ヘッドコアの
接合に、下記組成を満足し、熱膨張係数が１１０×１０
-7／℃以上の溶着ガラスが用いられていることを特徴と
する磁気ヘッド。 ＰｂＯ ： ５０〜６５wt% ＳｉＯ2 ： １５〜２５wt% ＴｅＯ2 ： ５〜２０wt% Ｒ2Ｏ ：１.５〜６wt% 但し、Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋの内のいずれか２種以上を
示す。 Ｂｉ2Ｏ3：２０wt%以下 Ｑ2Ｏ3 ：１wt%以下 但し、ＱはＳｂ又はＡｓである。 Ｂ2Ｏ3 ：８wt%以下 ＺｎＯ ：８wt%以下 - 【請求項４】 Ｆｅを主成分とした平均結晶粒径が３０
nm以下の軟磁性合金膜を熱膨張係数が１１５〜１４５／
℃の非磁性セラミックスで挟み込んだ磁気ヘッドコアの
接合に、下記組成を満足し、熱膨張係数が１１０×１０
-7／℃以上の溶着ガラスが用いられていることを特徴と
する磁気ヘッド。 ＰｂＯ ： ５４〜６３wt% ＳｉＯ2 ： １７〜２２wt% ＴｅＯ2 ： ７〜１５wt% Ｒ2Ｏ ： ２〜４wt% 但し、Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋの内のいずれか２種以上を
示す。 Ｂｉ2Ｏ3：１５wt%以下 Ｑ2Ｏ3 ：０.５wt%以下 但し、ＱはＳｂ又はＡｓである。 Ｂ2Ｏ3 ：６wt%以下 ＺｎＯ ：６wt%以下 但し、ＴｅＯ2の含有量とＢｉ2Ｏ3の含有量が６wt%より
も多いこと。 - 【請求項５】 磁気コア半体の凹部の形成された接合面
に、該凹部に充填されるように、接合面に溶着ガラスを
付着させた後に、接合面にラップ仕上を施し、その接合
面に、該磁気コア半体と対になる他の磁気コア半体の接
合面を組合せた状態で、加熱し、凹部に充填された溶着
ガラスを溶融し、磁気コア半体どうしを接合して磁気コ
アを製造する工程を有することを特徴とする磁気ヘッド
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26425794A JPH08119672A (ja) | 1994-10-27 | 1994-10-27 | 溶着ガラス、磁気ヘッド及び磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26425794A JPH08119672A (ja) | 1994-10-27 | 1994-10-27 | 溶着ガラス、磁気ヘッド及び磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08119672A true JPH08119672A (ja) | 1996-05-14 |
Family
ID=17400668
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26425794A Pending JPH08119672A (ja) | 1994-10-27 | 1994-10-27 | 溶着ガラス、磁気ヘッド及び磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08119672A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1262462A1 (en) * | 2001-05-29 | 2002-12-04 | Kabushiki Kaisha Ohara | Optical glass |
-
1994
- 1994-10-27 JP JP26425794A patent/JPH08119672A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1262462A1 (en) * | 2001-05-29 | 2002-12-04 | Kabushiki Kaisha Ohara | Optical glass |
| US6756334B2 (en) | 2001-05-29 | 2004-06-29 | Kabushiki Kaisha Ohara | Optical glass |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20010529 |