JPH0664702B2 - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
- Publication number
- JPH0664702B2 JPH0664702B2 JP62204377A JP20437787A JPH0664702B2 JP H0664702 B2 JPH0664702 B2 JP H0664702B2 JP 62204377 A JP62204377 A JP 62204377A JP 20437787 A JP20437787 A JP 20437787A JP H0664702 B2 JPH0664702 B2 JP H0664702B2
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- JP
- Japan
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- magnetic
- magnetic core
- magnetic head
- glass
- core halves
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は磁気ヘッド、特にそのギャップ形成用ガラス薄
膜の製造方法に関する。
膜の製造方法に関する。
（従来技術） 第１図（ａ）〜（ｅ）は従来の磁気ヘッドの代表的な製
造工程を示す説明図であり、第２図は他の従来例を示す
磁気ヘッドコアの磁気ギャップ近傍の一部拡大図であ
る。まず、第１図（ａ）に示す様に、例えばフエライト
磁性材からなるブロック状の一対磁気コア半体10,10′
を用意する。次に、同図（ｂ）に示す様に、少なくとも
一方の磁気コア半体10の磁気ギャップ形成面となる突合
せ面11上に巻線溝12を磁気コア半体10の長手方向に沿っ
て形成したのち、突合せ面11,11′を鏡面に仕上げる。
造工程を示す説明図であり、第２図は他の従来例を示す
磁気ヘッドコアの磁気ギャップ近傍の一部拡大図であ
る。まず、第１図（ａ）に示す様に、例えばフエライト
磁性材からなるブロック状の一対磁気コア半体10,10′
を用意する。次に、同図（ｂ）に示す様に、少なくとも
一方の磁気コア半体10の磁気ギャップ形成面となる突合
せ面11上に巻線溝12を磁気コア半体10の長手方向に沿っ
て形成したのち、突合せ面11,11′を鏡面に仕上げる。
次に、同図（ｃ）に示す様に、一対の磁気コア半体10,1
0′の突合せ面11,11′上に例えばSiO２をスパッタリン
グターゲットとした既知のスパッタリング法を用いて非
磁性膜13,13′を成膜することにより、ギャップスペー
サを形成する。次に、同図（ｄ），（ｅ）に示す様に、
一対の磁気コア半体10,10′を突合せ、比較的低融点を
有する鉛ガラス14を巻線溝12の中に溶融により充填し、
両磁気コア10,10′を一体に接合してブロック状の磁気
コア15を得る。その後、上記ブロック状の磁気コア15を
所定の厚さを有するチップに切断することにより所望の
磁気コア本体を得ることが出来る。このように得られた
磁気コア本体を先端研磨し、巻線溝12を利用してコイル
を巻回することにより磁気ヘッドが得られる。
0′の突合せ面11,11′上に例えばSiO２をスパッタリン
グターゲットとした既知のスパッタリング法を用いて非
磁性膜13,13′を成膜することにより、ギャップスペー
サを形成する。次に、同図（ｄ），（ｅ）に示す様に、
一対の磁気コア半体10,10′を突合せ、比較的低融点を
有する鉛ガラス14を巻線溝12の中に溶融により充填し、
両磁気コア10,10′を一体に接合してブロック状の磁気
コア15を得る。その後、上記ブロック状の磁気コア15を
所定の厚さを有するチップに切断することにより所望の
磁気コア本体を得ることが出来る。このように得られた
磁気コア本体を先端研磨し、巻線溝12を利用してコイル
を巻回することにより磁気ヘッドが得られる。
（解決すべき問題点） 上述の製造方法においては、ギャップスペーサとなる非
磁性膜13,13′の成膜にSiO２をスパッタリングターゲッ
トするスパッタリング手法が用いられ突合せ面11,11′
にはSiO２からなる非磁性膜13,13′が形成されると共に
両磁気コア半体10,10′を一体に接合するガラス材とし
て低融点を有する鉛ガラス14が使用されているが、SiO
２からなる非磁性膜13,13′と鉛ガラス14とのぬれ性が
悪く接着力が弱いため、ブロック状の磁気コア15をチッ
プ切断する際や、巻数作業中に壊れるという事故が多か
つた。
磁性膜13,13′の成膜にSiO２をスパッタリングターゲッ
トするスパッタリング手法が用いられ突合せ面11,11′
にはSiO２からなる非磁性膜13,13′が形成されると共に
両磁気コア半体10,10′を一体に接合するガラス材とし
て低融点を有する鉛ガラス14が使用されているが、SiO
２からなる非磁性膜13,13′と鉛ガラス14とのぬれ性が
悪く接着力が弱いため、ブロック状の磁気コア15をチッ
プ切断する際や、巻数作業中に壊れるという事故が多か
つた。
そのため、第２図に示す様に巻線溝12やその近傍の突合
せ面11′に非磁性膜13,13′が付着しないようにこの部
分にシールを施してスパッタリングを行う方法が考えら
れるが、肝心な非磁性膜13,13′の端部16と鉛ガラス14
とは依然として接着力が弱いため、ギャップが開いた
り、使用中に壊れやすい等の欠点があった。
せ面11′に非磁性膜13,13′が付着しないようにこの部
分にシールを施してスパッタリングを行う方法が考えら
れるが、肝心な非磁性膜13,13′の端部16と鉛ガラス14
とは依然として接着力が弱いため、ギャップが開いた
り、使用中に壊れやすい等の欠点があった。
また、磁気コア半体10,10′同志の付着力を高めるため
に、ギャップ材としてSiO２のかわりに鉛ガラスをスパ
ッタリング法により形成する方法があるが、鉛ガラスを
スパッタリングターゲットとして使用し、スパッタリン
グレートを高めるとターゲット自体が壊れてしまうため
このレートを高める訳にはいかず、SiO２の１／10程度
のレートにしか出来ないため生産性が極めて悪いという
問題点があった。
に、ギャップ材としてSiO２のかわりに鉛ガラスをスパ
ッタリング法により形成する方法があるが、鉛ガラスを
スパッタリングターゲットとして使用し、スパッタリン
グレートを高めるとターゲット自体が壊れてしまうため
このレートを高める訳にはいかず、SiO２の１／10程度
のレートにしか出来ないため生産性が極めて悪いという
問題点があった。
また、形成される非磁性膜13,13′中に気泡が発生しや
すく良好な磁気ギャップが得られないという品質上の問
題点もあった。
すく良好な磁気ギャップが得られないという品質上の問
題点もあった。
（問題点を解決するための手段） 本発明は上記問題点を解決するためになされたものであ
り、突合せ面を有する一対の磁気コア半体からなり、こ
れら磁気コア半体の少なくとも一方の突合せ面に巻線溝
を形成し、これら一対の磁気コア半体を前記突合せ面間
に非磁性材からなるギャップスペーサを介して突合せ、
前記巻線溝にガラス材を溶融充填することにより一体に
接合してなる磁気ヘッドにおいて、LiO２,Na２O,MgO,Ba
O,TiO２,ZrO２の内少なくとも上記１種類以上の酸化物
を重量比で0.5〜15％含む結晶化ガラスをスパッタリン
グターゲットとするスパッタリング法によって前記ギャ
ップスペーサを前記突合せ面に成膜すると共に前記ガラ
ス材に鉛ガラスを用いたことを特徴とする磁気ヘッドの
製造方法を提供するものである。
り、突合せ面を有する一対の磁気コア半体からなり、こ
れら磁気コア半体の少なくとも一方の突合せ面に巻線溝
を形成し、これら一対の磁気コア半体を前記突合せ面間
に非磁性材からなるギャップスペーサを介して突合せ、
前記巻線溝にガラス材を溶融充填することにより一体に
接合してなる磁気ヘッドにおいて、LiO２,Na２O,MgO,Ba
O,TiO２,ZrO２の内少なくとも上記１種類以上の酸化物
を重量比で0.5〜15％含む結晶化ガラスをスパッタリン
グターゲットとするスパッタリング法によって前記ギャ
ップスペーサを前記突合せ面に成膜すると共に前記ガラ
ス材に鉛ガラスを用いたことを特徴とする磁気ヘッドの
製造方法を提供するものである。
（実施例） 本発明になる磁気ヘッドの製造方法の主要工程は第１図
に示す従来の磁気ヘッドの製造工程に順じて行なわれる
ため、第１図を用いて説明するが、説明の重複を避ける
ために前記従来例と異なる点のみを説明する。
に示す従来の磁気ヘッドの製造工程に順じて行なわれる
ため、第１図を用いて説明するが、説明の重複を避ける
ために前記従来例と異なる点のみを説明する。
異なる点は第１図（ｃ）に示す様に、突合せ面11,11′
上に非磁性膜13,13′を形成する際に、LiO２,NaO,MgO,B
aO,TiO２,ZrO２の酸化物のうち少なくとも１種類以上の
上記酸化物を重量比で0.5〜15％含む結晶化ガラスをス
パッタリングターゲットとしてスパッタリングを行うこ
とである。
上に非磁性膜13,13′を形成する際に、LiO２,NaO,MgO,B
aO,TiO２,ZrO２の酸化物のうち少なくとも１種類以上の
上記酸化物を重量比で0.5〜15％含む結晶化ガラスをス
パッタリングターゲットとしてスパッタリングを行うこ
とである。
上記酸化物はガラス材を結晶化させる際、結晶の核とな
る材料であり、重量比で0.5〜15％含むとガラス材を結
晶化させることが出来るものである。
る材料であり、重量比で0.5〜15％含むとガラス材を結
晶化させることが出来るものである。
一般に結晶化ガラスは普通の非晶質ガラスに比較して極
めて高い強度を有しているため上記の酸化物を含む結晶
化ガラスをスパッタリングターゲットとして用いると、
SiO２スパッタリングレートの２／３のレートでスパッ
タリングを行ってもこのターゲットは破壊することはな
いから生産性を極端に低めることはない。
めて高い強度を有しているため上記の酸化物を含む結晶
化ガラスをスパッタリングターゲットとして用いると、
SiO２スパッタリングレートの２／３のレートでスパッ
タリングを行ってもこのターゲットは破壊することはな
いから生産性を極端に低めることはない。
また、例えばLiO２,SiO２を主成分とした結晶化ガラス
をスパッタリングターゲットとして非磁性膜13,13′を
形成した場合、この非磁性膜13,13′と鉛ガラス14との
ぬれ性は極めて良く、しかも鉛ガラス14と溶融し合うた
め強力な接着力を得ることが出来る。
をスパッタリングターゲットとして非磁性膜13,13′を
形成した場合、この非磁性膜13,13′と鉛ガラス14との
ぬれ性は極めて良く、しかも鉛ガラス14と溶融し合うた
め強力な接着力を得ることが出来る。
また、非磁性膜13,13′中に気泡が発生することがない
から高品質の磁気ギャップの形成が可能となる。LiO２,
SiO２を主成分とする結晶化ガラスの例を説明したが、
他の前記酸化物とSiO２を主成分とする結晶化ガラスも
同様の作用効果を有するものである。
から高品質の磁気ギャップの形成が可能となる。LiO２,
SiO２を主成分とする結晶化ガラスの例を説明したが、
他の前記酸化物とSiO２を主成分とする結晶化ガラスも
同様の作用効果を有するものである。
（発明の効果） 上述の様に、本発明になる磁気ヘッドの製造方法によれ
ば、LiO２,Na２O,MgO,BaO,TiO２,ZrO２の内少なくとも
上記１種類以上の酸化物を重量比で0.5〜15％含む結晶
化ガラスをスパッタリングターゲットとするスパッタリ
ング法によってギャップスペーサを磁気コア半体の突合
せ面に成膜したため、スパッタリングレートを高めても
ターゲット自体が破壊することはなく、また、これによ
って成膜される非磁性膜中には気泡発生もないことか
ら、高品質の磁気ギャップを能率良く形成することが出
来コスト的に有利となる。また、突合せ面に形成した巻
線溝に溶融充填する鉛ガラスとのぬれ性が良く強力な接
着力が得られるため歩留りの向上と高い信頼性を有する
磁気ヘッドの製造を可能とするものである。
ば、LiO２,Na２O,MgO,BaO,TiO２,ZrO２の内少なくとも
上記１種類以上の酸化物を重量比で0.5〜15％含む結晶
化ガラスをスパッタリングターゲットとするスパッタリ
ング法によってギャップスペーサを磁気コア半体の突合
せ面に成膜したため、スパッタリングレートを高めても
ターゲット自体が破壊することはなく、また、これによ
って成膜される非磁性膜中には気泡発生もないことか
ら、高品質の磁気ギャップを能率良く形成することが出
来コスト的に有利となる。また、突合せ面に形成した巻
線溝に溶融充填する鉛ガラスとのぬれ性が良く強力な接
着力が得られるため歩留りの向上と高い信頼性を有する
磁気ヘッドの製造を可能とするものである。
第１図（ａ）〜（ｅ）は従来の磁気ヘッドの代表的な製
造工程を示す説明図であり、第２図は他の従来例を示す
磁気ヘッドコアの磁気ギャップ近傍の一部拡大図であ
る。 10,10′……ブロック状の磁気コア半体、11,11′……突
合せ面、12……巻線溝、13,13′……非磁性膜、14……
鉛ガラス、15……ブロック状の磁気コア。
造工程を示す説明図であり、第２図は他の従来例を示す
磁気ヘッドコアの磁気ギャップ近傍の一部拡大図であ
る。 10,10′……ブロック状の磁気コア半体、11,11′……突
合せ面、12……巻線溝、13,13′……非磁性膜、14……
鉛ガラス、15……ブロック状の磁気コア。
Claims (1)
- 【請求項１】突合せ面を有する一対の磁気コア半体から
なり、これら磁気コア半体の少なくとも一方の突合せ面
に巻線溝を形成し、これら一対の磁気コア半体を前記突
合せ面間に非磁性材からなるギャップスペーサを介して
突合せ、前記巻線溝にガラス材を溶融充填することによ
り一体に接合してなる磁気ヘッドにおいて、LiO２,Na２
O,MgO,BaO,TiO２,ZrO２の内少なくとも上記１種類以上
の酸化物を重量比で0.5〜15％含む結晶化ガラスをスパ
ッタリングターゲットとするスパッタリング法によって
前記ギャップスペーサを前記突合せ面に成膜すると共に
前記ガラス材に鉛ガラスを用いたことを特徴とする磁気
ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62204377A JPH0664702B2 (ja) | 1987-08-18 | 1987-08-18 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62204377A JPH0664702B2 (ja) | 1987-08-18 | 1987-08-18 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6448212A JPS6448212A (en) | 1989-02-22 |
| JPH0664702B2 true JPH0664702B2 (ja) | 1994-08-22 |
Family
ID=16489514
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62204377A Expired - Lifetime JPH0664702B2 (ja) | 1987-08-18 | 1987-08-18 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0664702B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4953014B2 (ja) * | 2007-09-12 | 2012-06-13 | 住友電装株式会社 | 樹脂成形品、樹脂成形品の成形方法、及び成形用金型 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55108922A (en) * | 1979-02-09 | 1980-08-21 | Tdk Corp | Magnetic head |
| JPS61233405A (ja) * | 1985-04-08 | 1986-10-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘツド |
-
1987
- 1987-08-18 JP JP62204377A patent/JPH0664702B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6448212A (en) | 1989-02-22 |
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