JPH0327965B2 - - Google Patents
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- JPH0327965B2 JPH0327965B2 JP12781381A JP12781381A JPH0327965B2 JP H0327965 B2 JPH0327965 B2 JP H0327965B2 JP 12781381 A JP12781381 A JP 12781381A JP 12781381 A JP12781381 A JP 12781381A JP H0327965 B2 JPH0327965 B2 JP H0327965B2
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- glass
- magnetic head
- magnetic
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/23—Gap features
- G11B5/232—Manufacture of gap
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
本発明は、磁気ヘツドの製造方法にかかわり、
特に磁気ヘツドのガラスボンデイングをより低い
温度で行う方法に関するものである。 フエライトは、磁気特性、耐摩耗性、機械加工
性が優れているため、磁気ヘツド用コア材として
広く用いられている。特に、ビデオヘツドのよう
な狭トラツクヘツドでは、第１図および第２図に
示すように、２本のフエライトコア１および２を
ギヤツプ幅Glに等しい間隔をおいて対向させ、
その空隙は、ガラスを用いた非磁性体層３で形成
され、また耐摩耗性を向上させるため、所要のト
ラツク部４の両側にガラスを充填したガラス補強
部５を設けることが行われている。 ところで、このガラスをガラス補強部に流入さ
せるには、高温で熱処理を行わなければならない
が、テープ摺動面６のガラス中に気泡７が残る
と、記録信号の減磁やテープきずの発生の原因と
なる。 これは、以下１〜３に示すような理由等により
ガラス中に気泡が発生するものである。 (1) 磁気ヘツドの加工時にガラス充填部に付着し
た有機物による汚れ (2) 磁気ヘツド部材とガラスの反応 (3) 磁気ヘツド部材表面の吸着物 そして、従来はガラスボンデイング工程中に発
生してしまつた既にガラス中に残留しいる気泡を
除去するために、１については、アルコール、ア
セトン、トリクロロエチレン等の有機溶剤を用い
て洗浄し、取り除いていた。２については、ガラ
スボンデイング温度を下げることにより取り除い
ていた。３については、ガラスとフエライトの反
応が進行しない温度で、１気圧より減圧し、その
後ガラス溶融中に雰囲気圧力を１気圧以上に上昇
させ、ガラス中に残つた気泡を押しつぶして小さ
くすることにより、対処していた。 しかしながら、１については磁気ヘツドの加工
時にガラス充填部に付着したた有機物による汚れ
は取り除けるものの、有機溶剤を用いて洗浄した
ため、有機溶剤、大気中の水分等が新たな磁気ヘ
ツド部材表面の吸着物となり残存してしまいま
す。また、３については根本的な解決にはなら
ず、ガラスボンデイング中に一旦気泡が発生する
と、たとえ減圧脱泡しても気泡を取り除くことは
できず、小さな気泡（直径10μm程度）が残留す
るものである。 その結果、ギヤツプ部では磁気的なギヤツプ
長、いわゆる実効ギヤツプ長Geが拡大し、トラ
ツク部では磁気的なトラツク幅、いわゆる実効ト
ラツク幅Twが減少するため、磁気ヘツドの製造
のガラスボンデイング工程での歩留まりが80％以
下であり、特性の安定性という点についての考慮
がされていないものであつた。 本発明の目的は、上記した従来技術の欠点をな
くし、高性能な磁気ヘツドを歩留り良く提供する
である。 この目的を達成するために、本発明は、トラツ
ク部を形成するための切欠き部を有するフエライ
ト単結晶のコア材をギヤツプ幅の間隔をおいて対
向させ、前記切欠き部にガラスを充填する磁気ヘ
ツドの製造方法において、軟化温度が535〜610℃
のガラスを用いて減圧中で加熱を行ない吸着物を
ガス化した後、ガラスボンデイングを行なうこと
を特徴とする磁気ヘツドの製造方法を提供するも
のである。これにより、磁気ヘツドの製造工程に
おけるガラスボンデイング工程の段階では気泡の
発生は防止され、ガラス中に気泡はなくなる。以
下にその要点と作用について詳細に説明する。 本発明は、上述したガラス中に気泡が発生する
理由３である磁気ヘツド部材表面の吸着物をガラ
スボンデイング中に全く発生させないものであ
り、磁気ヘツド部材表面の吸着物を取り除くため
に減圧中で加熱を行ない、吸着物をガス化して取
り除きガラスボンデイングを行なうことを見出し
た。 しかしここで問題となるのが、通常のガラスボ
ンデイングは第４図のような治具を使用して行な
うもので、ギヤツプ対向面１３，１４（第３図）
の吸着物を完全に取り除くためには500℃以上の
温度に加熱しなければならないが、この時に使用
するガラスの軟化温度が低いと、500℃以下の温
度でガラスが充填されるため、吸着物のベーキン
グが不完全となり、ガラス中に気泡が発生する。
また、磁気ヘツド部材にガラスが付着した場合に
も吸着物のベーキングが不完全となり、ガラス中
に気泡が発生する。 この問題を解決するためには、吸着物のベーキ
ングが完全に行なえる500℃で磁気ヘツド部材に
ガラスの付着が起こらないことが必要であり、ガ
ラスの軟化温度を最適に選ぶことが重要である。
たとえば、広くビデオヘツドのコア材として用い
られているフエライト単結晶に対しては、軟化温
度が535℃以上（610℃以下）のガラスを選ぶこと
によつて、500℃のベーキングで、フエライト単
結晶とガラスの付着を防止することができ、 吸着物による気泡の発生を完全に防止すること
が解決できたのである。 その結果、本発明によれば710℃以下の低温で
ガラスボンデイングが可能となり、フエライト単
結晶とガラスの相互拡散も少なく、実効ギヤツプ
長と実効トラツク幅が安定に得られ、高性能の磁
気ヘツドを歩留り良く製造できる。 次に、本発明による磁気ヘツドの製造方法の実
施例を述べる。コア材としては、Mn0：30モル
％、Zn0：20モル％、Fe203：50モル％から成る
Mn−Zn単結晶フエライトを用いた。この単結晶
フエライトを第３図に示すように、60μm幅のト
ラツク部４を残すように切欠き部１０を150μmの
一定間隔で設けた一方のコアブロツク８と巻線用
切溝１１およびガラス用切溝１２を設けた他方の
コアブロツク９のギヤツプ対向面１３および１４
に第４図に示すように非磁性体層３として、
SiO2を高周波スパツタリングにより0.25μmずつ
蒸着させた。つぎに、第４図に示すような適当な
治具１６を用いコアブロツク８および９を対向さ
せ、巻線用切溝１１およびガラス用切溝１２にそ
れぞれガラス棒１５を載置し、減圧中（10-1Pa）
の炉中にて710℃以下の温度で５分の熱処理を行
つてガラス棒１５を溶融させ、両コアブロツクを
一体化すると同時に、一定間隔の切り欠き部１０
にガラスを流入してガラス補強部５を形成した。
この後、切削、研摩等の機械加工を行い、第１図
に示すような個々の磁気ヘツドを製造した。 また、使用したガラスの組成と特性は表に示す
もので、ガラス軟化温度が535〜610℃のガラスで
ある。
特に磁気ヘツドのガラスボンデイングをより低い
温度で行う方法に関するものである。 フエライトは、磁気特性、耐摩耗性、機械加工
性が優れているため、磁気ヘツド用コア材として
広く用いられている。特に、ビデオヘツドのよう
な狭トラツクヘツドでは、第１図および第２図に
示すように、２本のフエライトコア１および２を
ギヤツプ幅Glに等しい間隔をおいて対向させ、
その空隙は、ガラスを用いた非磁性体層３で形成
され、また耐摩耗性を向上させるため、所要のト
ラツク部４の両側にガラスを充填したガラス補強
部５を設けることが行われている。 ところで、このガラスをガラス補強部に流入さ
せるには、高温で熱処理を行わなければならない
が、テープ摺動面６のガラス中に気泡７が残る
と、記録信号の減磁やテープきずの発生の原因と
なる。 これは、以下１〜３に示すような理由等により
ガラス中に気泡が発生するものである。 (1) 磁気ヘツドの加工時にガラス充填部に付着し
た有機物による汚れ (2) 磁気ヘツド部材とガラスの反応 (3) 磁気ヘツド部材表面の吸着物 そして、従来はガラスボンデイング工程中に発
生してしまつた既にガラス中に残留しいる気泡を
除去するために、１については、アルコール、ア
セトン、トリクロロエチレン等の有機溶剤を用い
て洗浄し、取り除いていた。２については、ガラ
スボンデイング温度を下げることにより取り除い
ていた。３については、ガラスとフエライトの反
応が進行しない温度で、１気圧より減圧し、その
後ガラス溶融中に雰囲気圧力を１気圧以上に上昇
させ、ガラス中に残つた気泡を押しつぶして小さ
くすることにより、対処していた。 しかしながら、１については磁気ヘツドの加工
時にガラス充填部に付着したた有機物による汚れ
は取り除けるものの、有機溶剤を用いて洗浄した
ため、有機溶剤、大気中の水分等が新たな磁気ヘ
ツド部材表面の吸着物となり残存してしまいま
す。また、３については根本的な解決にはなら
ず、ガラスボンデイング中に一旦気泡が発生する
と、たとえ減圧脱泡しても気泡を取り除くことは
できず、小さな気泡（直径10μm程度）が残留す
るものである。 その結果、ギヤツプ部では磁気的なギヤツプ
長、いわゆる実効ギヤツプ長Geが拡大し、トラ
ツク部では磁気的なトラツク幅、いわゆる実効ト
ラツク幅Twが減少するため、磁気ヘツドの製造
のガラスボンデイング工程での歩留まりが80％以
下であり、特性の安定性という点についての考慮
がされていないものであつた。 本発明の目的は、上記した従来技術の欠点をな
くし、高性能な磁気ヘツドを歩留り良く提供する
である。 この目的を達成するために、本発明は、トラツ
ク部を形成するための切欠き部を有するフエライ
ト単結晶のコア材をギヤツプ幅の間隔をおいて対
向させ、前記切欠き部にガラスを充填する磁気ヘ
ツドの製造方法において、軟化温度が535〜610℃
のガラスを用いて減圧中で加熱を行ない吸着物を
ガス化した後、ガラスボンデイングを行なうこと
を特徴とする磁気ヘツドの製造方法を提供するも
のである。これにより、磁気ヘツドの製造工程に
おけるガラスボンデイング工程の段階では気泡の
発生は防止され、ガラス中に気泡はなくなる。以
下にその要点と作用について詳細に説明する。 本発明は、上述したガラス中に気泡が発生する
理由３である磁気ヘツド部材表面の吸着物をガラ
スボンデイング中に全く発生させないものであ
り、磁気ヘツド部材表面の吸着物を取り除くため
に減圧中で加熱を行ない、吸着物をガス化して取
り除きガラスボンデイングを行なうことを見出し
た。 しかしここで問題となるのが、通常のガラスボ
ンデイングは第４図のような治具を使用して行な
うもので、ギヤツプ対向面１３，１４（第３図）
の吸着物を完全に取り除くためには500℃以上の
温度に加熱しなければならないが、この時に使用
するガラスの軟化温度が低いと、500℃以下の温
度でガラスが充填されるため、吸着物のベーキン
グが不完全となり、ガラス中に気泡が発生する。
また、磁気ヘツド部材にガラスが付着した場合に
も吸着物のベーキングが不完全となり、ガラス中
に気泡が発生する。 この問題を解決するためには、吸着物のベーキ
ングが完全に行なえる500℃で磁気ヘツド部材に
ガラスの付着が起こらないことが必要であり、ガ
ラスの軟化温度を最適に選ぶことが重要である。
たとえば、広くビデオヘツドのコア材として用い
られているフエライト単結晶に対しては、軟化温
度が535℃以上（610℃以下）のガラスを選ぶこと
によつて、500℃のベーキングで、フエライト単
結晶とガラスの付着を防止することができ、 吸着物による気泡の発生を完全に防止すること
が解決できたのである。 その結果、本発明によれば710℃以下の低温で
ガラスボンデイングが可能となり、フエライト単
結晶とガラスの相互拡散も少なく、実効ギヤツプ
長と実効トラツク幅が安定に得られ、高性能の磁
気ヘツドを歩留り良く製造できる。 次に、本発明による磁気ヘツドの製造方法の実
施例を述べる。コア材としては、Mn0：30モル
％、Zn0：20モル％、Fe203：50モル％から成る
Mn−Zn単結晶フエライトを用いた。この単結晶
フエライトを第３図に示すように、60μm幅のト
ラツク部４を残すように切欠き部１０を150μmの
一定間隔で設けた一方のコアブロツク８と巻線用
切溝１１およびガラス用切溝１２を設けた他方の
コアブロツク９のギヤツプ対向面１３および１４
に第４図に示すように非磁性体層３として、
SiO2を高周波スパツタリングにより0.25μmずつ
蒸着させた。つぎに、第４図に示すような適当な
治具１６を用いコアブロツク８および９を対向さ
せ、巻線用切溝１１およびガラス用切溝１２にそ
れぞれガラス棒１５を載置し、減圧中（10-1Pa）
の炉中にて710℃以下の温度で５分の熱処理を行
つてガラス棒１５を溶融させ、両コアブロツクを
一体化すると同時に、一定間隔の切り欠き部１０
にガラスを流入してガラス補強部５を形成した。
この後、切削、研摩等の機械加工を行い、第１図
に示すような個々の磁気ヘツドを製造した。 また、使用したガラスの組成と特性は表に示す
もので、ガラス軟化温度が535〜610℃のガラスで
ある。
【表】
以上説明したように、本発明によれば、磁気ヘ
ツドの製造工程において、軟化温度が535〜610℃
のガラスを用いて減圧中でガラスボンデイングを
行うことによつて、ガラス中に全く気泡を発生さ
せないことが可能となり、710℃以下の温度でガ
ラスボンデイングを行えるので、安定した実効ギ
ヤツプ長と実効トラツク幅が得られるため、ばら
つきの少ない、高性能の磁気ヘツドを99％以上の
高歩留りで製造することができる。
ツドの製造工程において、軟化温度が535〜610℃
のガラスを用いて減圧中でガラスボンデイングを
行うことによつて、ガラス中に全く気泡を発生さ
せないことが可能となり、710℃以下の温度でガ
ラスボンデイングを行えるので、安定した実効ギ
ヤツプ長と実効トラツク幅が得られるため、ばら
つきの少ない、高性能の磁気ヘツドを99％以上の
高歩留りで製造することができる。
第１図はテープ摺動面にガラス補強部を有する
磁気ヘツドの斜視図、第２図は第１図のギヤツプ
近傍の拡大図、第３図は本発明による磁気ヘツド
の実施例で用いられるコアブロツクを示す斜視
図、第４図は該コアブロツクを治具に装着した状
態を示す側面図である。 １，２……フエライトコア、３……非磁性体
層、４……トラツク部、５……ガラス補強部、６
……テープ摺動面、７……気泡、８，９……コア
ブロツク、１０……切欠き部、１１……巻線用切
溝、１２……ガラス用切溝、１３，１４……ギヤ
ツプ対向面、１５……ガラス棒、１６……治具。
磁気ヘツドの斜視図、第２図は第１図のギヤツプ
近傍の拡大図、第３図は本発明による磁気ヘツド
の実施例で用いられるコアブロツクを示す斜視
図、第４図は該コアブロツクを治具に装着した状
態を示す側面図である。 １，２……フエライトコア、３……非磁性体
層、４……トラツク部、５……ガラス補強部、６
……テープ摺動面、７……気泡、８，９……コア
ブロツク、１０……切欠き部、１１……巻線用切
溝、１２……ガラス用切溝、１３，１４……ギヤ
ツプ対向面、１５……ガラス棒、１６……治具。
Claims (1)
- １ トラツク部を形成するための切欠き部を有す
るフエライト単結晶のコア材をギヤツプ幅の間隔
をおいて対向させ、前記切欠き部にガラスを充填
する磁気ヘツドの製造方法において、軟化温度が
535〜610℃のガラスを用いて減圧中で加熱を行な
い吸着物をガス化した後、ガラスボンデイングを
行なうことを特徴とする磁気ヘツドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12781381A JPS5832222A (ja) | 1981-08-17 | 1981-08-17 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12781381A JPS5832222A (ja) | 1981-08-17 | 1981-08-17 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5832222A JPS5832222A (ja) | 1983-02-25 |
| JPH0327965B2 true JPH0327965B2 (ja) | 1991-04-17 |
Family
ID=14969300
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12781381A Granted JPS5832222A (ja) | 1981-08-17 | 1981-08-17 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5832222A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6063705A (ja) * | 1983-09-19 | 1985-04-12 | Sanyo Electric Co Ltd | 磁気ヘツド |
| JPS6089542A (ja) * | 1983-10-19 | 1985-05-20 | Furukawa Alum Co Ltd | 真空ろう付け用耐孔食性Ａｌ合金クラツド材 |
| JPH0766493B2 (ja) * | 1985-06-20 | 1995-07-19 | 三洋電機株式会社 | 磁気ヘツドの製造方法 |
| JPH0196356A (ja) * | 1987-10-05 | 1989-04-14 | Furukawa Alum Co Ltd | 耐垂下性防食用フィン材の製造方法 |
-
1981
- 1981-08-17 JP JP12781381A patent/JPS5832222A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5832222A (ja) | 1983-02-25 |
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