JPH0467684B2 - - Google Patents
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- JPH0467684B2 JPH0467684B2 JP60008321A JP832185A JPH0467684B2 JP H0467684 B2 JPH0467684 B2 JP H0467684B2 JP 60008321 A JP60008321 A JP 60008321A JP 832185 A JP832185 A JP 832185A JP H0467684 B2 JPH0467684 B2 JP H0467684B2
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- scratches
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 8
- 239000010408 film Substances 0.000 description 16
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N phosphanylidynenickel Chemical compound [P].[Ni] OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SIBIBHIFKSKVRR-UHFFFAOYSA-N phosphanylidynecobalt Chemical compound [Co]#P SIBIBHIFKSKVRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910001004 magnetic alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、例えばメツキ型磁気デイスクといつ
た磁気記録媒体に関するものである。
た磁気記録媒体に関するものである。
例えば、コンピユータ周辺機器の記憶媒体とし
て用いられている磁気デイスクには、塗布型のも
のとメツキ型のものとがある。
て用いられている磁気デイスクには、塗布型のも
のとメツキ型のものとがある。
これらのうちメツキ型のものは、磁性膜形成に
バインダー樹脂が用いられていないいので、すな
わち例えばCo系磁性合金材料を非磁性基体上に
メツキ手段で設けたものであるから、磁性材料の
充填密度が高く、高密度化に適しているものの、
これで充分満足できるものでもなく、さらなる研
究が続けられている。
バインダー樹脂が用いられていないいので、すな
わち例えばCo系磁性合金材料を非磁性基体上に
メツキ手段で設けたものであるから、磁性材料の
充填密度が高く、高密度化に適しているものの、
これで充分満足できるものでもなく、さらなる研
究が続けられている。
つまり、従来のメツキ型磁気デイスクは、メツ
キ磁性膜の膜面内での磁化容易軸が等方的なもの
となつていることより、その再生出力、分解能等
において問題が残されていたのである。
キ磁性膜の膜面内での磁化容易軸が等方的なもの
となつていることより、その再生出力、分解能等
において問題が残されていたのである。
本発明者は、例えばメツキ型磁気デイスクのメ
ツキ磁性膜は、その成膜過程における下地膜の表
面状態によつて大きく影響を受けるのではないか
と考え、このような発想に基いて研究を続けた
所、メツキ磁性膜の磁化容易軸方向は下地膜の表
面状態によつて影響を受けることを見い出し、こ
のような点より本発明をなしとげたのである。
ツキ磁性膜は、その成膜過程における下地膜の表
面状態によつて大きく影響を受けるのではないか
と考え、このような発想に基いて研究を続けた
所、メツキ磁性膜の磁化容易軸方向は下地膜の表
面状態によつて影響を受けることを見い出し、こ
のような点より本発明をなしとげたのである。
すなわち、例えば磁気デイスクの場合にあつて
は、その非磁性基体上に略同心円状のあるいは略
渦巻状のといつたように、再生ヘツドの走行方向
にほぼ沿つた方向に傷を付けておき、このように
表面処理された非磁性基体の表面処理面にメツキ
処理で磁性膜を構成すると、このメツキ磁性膜は
メツキ磁性膜の下地面の影響を受けて、再生ヘツ
ドの走行方向に沿つた方向に磁化容易軸をもつ磁
気異方性のあるものとなることを見い出したので
ある。
は、その非磁性基体上に略同心円状のあるいは略
渦巻状のといつたように、再生ヘツドの走行方向
にほぼ沿つた方向に傷を付けておき、このように
表面処理された非磁性基体の表面処理面にメツキ
処理で磁性膜を構成すると、このメツキ磁性膜は
メツキ磁性膜の下地面の影響を受けて、再生ヘツ
ドの走行方向に沿つた方向に磁化容易軸をもつ磁
気異方性のあるものとなることを見い出したので
ある。
尚、この非磁性基体上に形成する傷の程度は微
細なものであつて、例えば傷の深さの基準として
は、中心線平均粗さRaの表現手段で約0.002〜
0.1μm程度であり、又、ピツチは約50μm以下、
より好ましくは約0.1〜10μm程度であることが望
ましい。
細なものであつて、例えば傷の深さの基準として
は、中心線平均粗さRaの表現手段で約0.002〜
0.1μm程度であり、又、ピツチは約50μm以下、
より好ましくは約0.1〜10μm程度であることが望
ましい。
つまり、中心線平均粗さRaが0.002μmより大
巾に小さな傷付け程度であると、配向効果が小さ
くなり、又、逆に中心線平均粗さRaが0.1μmよ
り大巾に大きな傷付け程度であると、再生ヘツド
の浮上安定性が確保されにくく、例えばヘツドク
ラツシユが起きやすくなつたりするからであり、
又、傷のピツチが50μmを越えて大きくなりすぎ
ると、配向効果が小さくなるからである。
巾に小さな傷付け程度であると、配向効果が小さ
くなり、又、逆に中心線平均粗さRaが0.1μmよ
り大巾に大きな傷付け程度であると、再生ヘツド
の浮上安定性が確保されにくく、例えばヘツドク
ラツシユが起きやすくなつたりするからであり、
又、傷のピツチが50μmを越えて大きくなりすぎ
ると、配向効果が小さくなるからである。
そして、このような傷付は、例えば非磁性基体
面上に研磨砥粒等を配し、非磁性基体を回転させ
ることで簡単に形成できる。
面上に研磨砥粒等を配し、非磁性基体を回転させ
ることで簡単に形成できる。
第１図ａ，ｂは、本発明に係る磁気記録媒体の
１実施例の製造工程説明図である。
１実施例の製造工程説明図である。
まず、第１図ａに示す如く、約1.9mm厚のアル
ミニウム製基板を用意し、このアルミニウム製基
板１面上に例えば無電解メツキ手段で約10〜
20μm厚のニツケル−リン非磁性薄膜２を形成し、
その後このニツケル−リン非磁性薄膜２面上に前
述のような手段で略円周方向に沿つた方向に傷方
向を有する傷３を形成する。
ミニウム製基板を用意し、このアルミニウム製基
板１面上に例えば無電解メツキ手段で約10〜
20μm厚のニツケル−リン非磁性薄膜２を形成し、
その後このニツケル−リン非磁性薄膜２面上に前
述のような手段で略円周方向に沿つた方向に傷方
向を有する傷３を形成する。
尚、この傷３の深さは中心線平均粗さRaがタ
リステツプによれば約0.007〜0.04μmであり、か
つ傷３のピツチｐは約1μmである。
リステツプによれば約0.007〜0.04μmであり、か
つ傷３のピツチｐは約1μmである。
その後、この傷３の付けられたニツケル−リン
非磁性薄膜２の面上に、例えばCoSO4・
7H2O0.05mol／ｌ、NaH2PO2・H2O 0.15mol／
ｌ、（NH4）2SO4 0.50mol／ｌ、Na2C4H4O6・
H2O 0.50mol／ｌのPH約８の組成浴のメツキ浴
を用い、70℃の温度で無電解といつた湿式メツキ
手段により、コバルト−リン磁性膜４を約600Å
厚形成して磁気デイスクを構成する。
非磁性薄膜２の面上に、例えばCoSO4・
7H2O0.05mol／ｌ、NaH2PO2・H2O 0.15mol／
ｌ、（NH4）2SO4 0.50mol／ｌ、Na2C4H4O6・
H2O 0.50mol／ｌのPH約８の組成浴のメツキ浴
を用い、70℃の温度で無電解といつた湿式メツキ
手段により、コバルト−リン磁性膜４を約600Å
厚形成して磁気デイスクを構成する。
〔比較例 １〕
実施例のように傷の付いたものではなく、中心
線平均粗さがRaが0.003μm程度の鏡面研磨（研
磨方向がランダム）面といつたニツケル−リン非
磁性薄膜面上に、実施例と同様な湿式メツキ手段
でコバルト−リン磁性膜を形成し、磁気デイスク
を構成する。
線平均粗さがRaが0.003μm程度の鏡面研磨（研
磨方向がランダム）面といつたニツケル−リン非
磁性薄膜面上に、実施例と同様な湿式メツキ手段
でコバルト−リン磁性膜を形成し、磁気デイスク
を構成する。
〔比較例 ２〕
実施例のような略円周方向の傷ではなく、等方
的（ランダム）な傷（傷の深さはRaが約0.007〜
0.02μm）の付いたニツケル−リン非磁性薄膜面
上に、実施例と同様な湿式メツキ手段でコバルト
−リン磁性膜を形成し、磁気デイスクを構成す
る。
的（ランダム）な傷（傷の深さはRaが約0.007〜
0.02μm）の付いたニツケル−リン非磁性薄膜面
上に、実施例と同様な湿式メツキ手段でコバルト
−リン磁性膜を形成し、磁気デイスクを構成す
る。
上記実施例及び比較例１で得た磁気デイスク
（実施例における傷の深さはRaが約0.015μm）に
ついて、ギヤツプ長1.2μm、トラツク幅50μmの
Mn−Znフエライト磁気ヘツドを用いて、再生出
力の周波数特性を測定すると、第２図に示す通り
である。同図中、白丸印は実施例のもの、黒丸印
は比較例１のものを示す。
（実施例における傷の深さはRaが約0.015μm）に
ついて、ギヤツプ長1.2μm、トラツク幅50μmの
Mn−Znフエライト磁気ヘツドを用いて、再生出
力の周波数特性を測定すると、第２図に示す通り
である。同図中、白丸印は実施例のもの、黒丸印
は比較例１のものを示す。
これによれば、本実施例の磁気デイスクは比較
例１の磁気デイスクよりその出力の高いものであ
ることがわかる。つまり、再生ヘツドの走行方向
に沿つて傷の付いた面上にメツキ磁性膜を構成し
たものは、高出力化の図れたものとなることがわ
かる。
例１の磁気デイスクよりその出力の高いものであ
ることがわかる。つまり、再生ヘツドの走行方向
に沿つて傷の付いた面上にメツキ磁性膜を構成し
たものは、高出力化の図れたものとなることがわ
かる。
又、上記実施例及び比較例１，２で得た磁気デ
イスクについて、そのDC消去ノイズを測定する
と、第３図に示す通りである。同図中、白丸印は
実施例のもの、黒丸印は比較例１のもの、×印は
比較例２のものを示す。
イスクについて、そのDC消去ノイズを測定する
と、第３図に示す通りである。同図中、白丸印は
実施例のもの、黒丸印は比較例１のもの、×印は
比較例２のものを示す。
これによれば、本実施例のものは、傷が付いて
いてもこの傷は再生ヘツドの走行方向に沿つたも
のである為漏洩磁界が発生しにくいことによるの
か、傷付けによるDC消去ノイズの増加はない。
これに対して、比較例２のものでは、傷付けによ
つてDC消去ノイズが著しく増加している。
いてもこの傷は再生ヘツドの走行方向に沿つたも
のである為漏洩磁界が発生しにくいことによるの
か、傷付けによるDC消去ノイズの増加はない。
これに対して、比較例２のものでは、傷付けによ
つてDC消去ノイズが著しく増加している。
又、上記実施例の磁気デイスク（傷の深さは
Raが約0.015μm）について、最大印加磁場
10KOeでVSMを用いて静磁気特性を調べると、
円周方向に磁場を印加した場合には、保磁力Hc
が700エルステツド、角型比Rsが0.80、S*が0.90
であるのに対し、半径方向に磁場を印加した場合
にはHcが650エルステツド、Rsが0.65、S*が0.80
であつて、円周方向に磁化容易軸のあることがわ
かる。
Raが約0.015μm）について、最大印加磁場
10KOeでVSMを用いて静磁気特性を調べると、
円周方向に磁場を印加した場合には、保磁力Hc
が700エルステツド、角型比Rsが0.80、S*が0.90
であるのに対し、半径方向に磁場を印加した場合
にはHcが650エルステツド、Rsが0.65、S*が0.80
であつて、円周方向に磁化容易軸のあることがわ
かる。
又、本実施例のものは、傷の程度がほぼ一定で
あることより、配向がほぼ一定のものとなつて、
出力変動の小さなものである。
あることより、配向がほぼ一定のものとなつて、
出力変動の小さなものである。
再生出力の高く、DC消去ノイズの少ない高密
度記録の行なえるものである。
度記録の行なえるものである。
第１図ａ，ｂは本発明に係る磁気記録媒体の１
実施例の製造工程説明図、第２図及び第３図は本
発明に係る磁気記録媒体の特性説明図である。 １……アルミニウム製基板、２……非磁性薄
膜、３……傷、４……磁性膜。
実施例の製造工程説明図、第２図及び第３図は本
発明に係る磁気記録媒体の特性説明図である。 １……アルミニウム製基板、２……非磁性薄
膜、３……傷、４……磁性膜。
Claims (1)
- １ 再生ヘツドの走行方向にほぼ沿つた方向に傷
のある基板上にメツキ磁性膜を構成したことを特
徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP832185A JPS61168118A (ja) | 1985-01-22 | 1985-01-22 | 磁気記録媒体 |
| US06/820,494 US4698251A (en) | 1985-01-22 | 1986-01-17 | Magnetic recording medium and method of producing the same |
| DE19863601848 DE3601848A1 (de) | 1985-01-22 | 1986-01-22 | Magnetisches aufzeichnungsmedium und verfahren zu dessen herstellung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP832185A JPS61168118A (ja) | 1985-01-22 | 1985-01-22 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61168118A JPS61168118A (ja) | 1986-07-29 |
| JPH0467684B2 true JPH0467684B2 (ja) | 1992-10-29 |
Family
ID=11689895
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP832185A Granted JPS61168118A (ja) | 1985-01-22 | 1985-01-22 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61168118A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62273619A (ja) * | 1986-05-21 | 1987-11-27 | Hitachi Ltd | 磁気デイスク |
| JPH0833983B2 (ja) * | 1986-09-01 | 1996-03-29 | 株式会社日立製作所 | 磁気記録媒体 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53123906A (en) * | 1977-04-05 | 1978-10-28 | Fujitsu Ltd | Magnetic disc |
| JPS55125533A (en) * | 1979-03-14 | 1980-09-27 | Basf Ag | Magnetic recording carrier and method of fabricating same |
-
1985
- 1985-01-22 JP JP832185A patent/JPS61168118A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53123906A (en) * | 1977-04-05 | 1978-10-28 | Fujitsu Ltd | Magnetic disc |
| JPS55125533A (en) * | 1979-03-14 | 1980-09-27 | Basf Ag | Magnetic recording carrier and method of fabricating same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61168118A (ja) | 1986-07-29 |
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