JPH0561683B2 - - Google Patents
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- JPH0561683B2 JPH0561683B2 JP59189034A JP18903484A JPH0561683B2 JP H0561683 B2 JPH0561683 B2 JP H0561683B2 JP 59189034 A JP59189034 A JP 59189034A JP 18903484 A JP18903484 A JP 18903484A JP H0561683 B2 JPH0561683 B2 JP H0561683B2
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Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
産業上の利用分野
本発明は高密度磁気記録に適する磁気記録媒体
に関する。 従来例の構成とその問題点 近年、磁気記録の高密度化に原理的に適した垂
直磁気記録方式が注目され、研究が活発に行われ
その特徴が明らかになると同時に実用化する為の
多くの課題が明らかになつてきている。それらの
課題の中に磁気ヘツドの感度不足の問題が挙げら
れる。一方長手記録と考えられる現在実用になつ
ている磁気記録方式で用いられているリング型の
磁気ヘツドは感度が最も良好であり、逆にリング
ヘツドにより更に記録密度を向上できる磁気記録
媒体を見出すことができれば有用であるのは明ら
かである。 現状では、飽和磁束密度の大きい金属薄膜で長
手方向の保磁力を大きくすることで減磁界を受け
ても必要な感度が得られるようにする方向が主流
であるが、雑音が予想以上に大きく、機器設計に
必要な信号対雑音比（Ｓ／Ｎ）を高密度で得るこ
とが出来ず、垂直記録が目標にしている108ビツ
ト／cm2をクリアすることが出来ず改良が望まれて
いる。 発明の目的 本発明は上記事情に鑑みなされたもので、高密
度記録をリング型磁気ヘツドにより行うことの出
来る磁気記録媒体を提供するのが目的である。 発明の構成 本発明の磁気記録媒体は、微細突起を有する基
板上に形成した磁気記録層の垂直方向の保磁力が
長手方向の保磁力の1.2倍から1.7倍の範囲にある
ことを特徴とし、リング型磁気ヘツドにより高密
度記録再生で優れたＳ／Ｎを得ることができるも
のである。 実施例の説明 以上図面を参照しながら本発明を説明する。 第１図は本発明の磁気記録媒体の拡大断面図で
ある。第１図で１は高分子基板、２は微粒子、３
は該微粒子を固定する樹脂層、４は磁気記録層で
ある。 第２図は、本発明の磁気記録層の磁化曲線の一
例である。５は磁気記録層に垂直方向の磁化曲線
で６は磁気記録層と平行でかつ長手方向の磁化曲
線であり、H1，H2はそれぞれ保磁力を示すもの
で、本発明の磁気記録層はH2／H1が1.2から1.7
の範囲にあることを条件としている。 本発明に用いることの出来る高分子基板はポリ
エチレンテレフタレート，ポリカーボネート，ポ
リアミド，ポリイミド等で、これらのフイルムの
上にSiO2，CaCo3，BaSO4，TiO2等の微粒子を
1μm角に１ケから50ケ、ポリエステル，エポキシ
等の樹脂で固定したものが基板として適してい
る。 用いられる微粒子の作用効果のひとつは、実効
的な接触面積を減らして、摩擦力を軽減すること
で金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体の実
用化を可能にした点が挙げられるが、Ｓ／Ｎでみ
ると不均一性が微視的には増大し、雑音が増大
し、Ｓ／Ｎ低下が起つており、記録密度の実用限
界が107ビツト／cm2近くでとまつてしまつていた
のであるが、本発明の保磁力の関係を満足するこ
とで108ビツト／cm2が可能になつたものである。 勿論、保磁力の比率だけが問題ではなく、その
値も常識的な値である必要があるのは当然であ
る。 ヘツド材質、ギヤツプ長などにもよるが、長手
方向の保磁力は800〔O¨e〕から2000〔O¨e〕好まし
くは1000〔O¨e〕から1500〔O¨e〕である。 本発明に用いられる磁気記録層は、Co，Fe，
Co−Fe，Co−Ni，Co−Ｂ，Co−Cu＋Co−Ce，
Co−Dy，Co−Ｆ，Co−Ge，Co−Hf，Co−La，
Co−Mg，Co−Mn，Co−Mo，Co−Nd，Co−
Os，Co−ｐ，Co−Ru，Co−Rh，Co−Sm，Co
−Si，Co−Sn，Co−Ti，Co−Ta，Co−Ｖ，Co
−Ｗ，Co−Ｙ，Co−Zn，Co−Zr，Co−Ni−Ｐ，
Co−Ｏ，Co−Ni−Ｏ，Co−Ni−Zn−Ｐ等で、
磁化容易軸には無関係である。 本発明の磁気記録層の要件によりＳ／Ｎが改良
されるのは、リングヘツドの作る磁界がベクトル
的であり、記録磁化量が最大になる範囲が垂直磁
気記録の時も長手記録の時も純粋に一記録過程で
考えられず、合成であり、保磁力の比率が（垂
直）／（長手）で1.2から3.3の間にあり、雑音を
抑制するには、垂直記録的の時は、長手の保磁力
が必要で、逆に長手記録的の時は垂直の保磁力が
必要で、その良好な抑制範囲が（垂直）／（長
手）が0.9から1.7の範囲であり、この両方から本
発明の条件がでてくるもので、それにより、Ｓが
最大でＮが最小とできＳ／Ｎが改良されるものと
考えられるものである。 微細突起の大きさが平均粒子径50Åから500Å
の範囲であれば、前述の条件でよいが、それ以外
の微細突起では、別のフアクタが入つてくるもの
と考えられ必ずしも本発明の要件のみで目的を達
成できるとは限らないが、これについては現在不
明である。 以下さらに具体的に本発明の一実施例について
説明する。 （実施例） 厚み12μmのポリアミドフイルムの上に、平均
粒子径100ÅのTiO2粒子を紫外線硬化のエポキシ
樹脂で平均密度13個／（μm）2となる様分散固定
した基板を用い、基板温度を−20℃に保持して、
高周波スパツタリング法により、Co−Cr−Ｖ三
元系合金薄膜を形成し、その後熱処理を行い、各
種の磁気記録層を得た。 それらの磁気特性を振動試料型磁束計で測定す
ると共に、リング型磁気ヘツドで５×107ビツ
ト／cm2108ビツト／cm2の２つの記録密度でのＳ／
Ｎを評価した。Ｓ／Ｎは45dB以上であれば実用
水準とみなした。 条件と測定結果を表にまとめて示した。
に関する。 従来例の構成とその問題点 近年、磁気記録の高密度化に原理的に適した垂
直磁気記録方式が注目され、研究が活発に行われ
その特徴が明らかになると同時に実用化する為の
多くの課題が明らかになつてきている。それらの
課題の中に磁気ヘツドの感度不足の問題が挙げら
れる。一方長手記録と考えられる現在実用になつ
ている磁気記録方式で用いられているリング型の
磁気ヘツドは感度が最も良好であり、逆にリング
ヘツドにより更に記録密度を向上できる磁気記録
媒体を見出すことができれば有用であるのは明ら
かである。 現状では、飽和磁束密度の大きい金属薄膜で長
手方向の保磁力を大きくすることで減磁界を受け
ても必要な感度が得られるようにする方向が主流
であるが、雑音が予想以上に大きく、機器設計に
必要な信号対雑音比（Ｓ／Ｎ）を高密度で得るこ
とが出来ず、垂直記録が目標にしている108ビツ
ト／cm2をクリアすることが出来ず改良が望まれて
いる。 発明の目的 本発明は上記事情に鑑みなされたもので、高密
度記録をリング型磁気ヘツドにより行うことの出
来る磁気記録媒体を提供するのが目的である。 発明の構成 本発明の磁気記録媒体は、微細突起を有する基
板上に形成した磁気記録層の垂直方向の保磁力が
長手方向の保磁力の1.2倍から1.7倍の範囲にある
ことを特徴とし、リング型磁気ヘツドにより高密
度記録再生で優れたＳ／Ｎを得ることができるも
のである。 実施例の説明 以上図面を参照しながら本発明を説明する。 第１図は本発明の磁気記録媒体の拡大断面図で
ある。第１図で１は高分子基板、２は微粒子、３
は該微粒子を固定する樹脂層、４は磁気記録層で
ある。 第２図は、本発明の磁気記録層の磁化曲線の一
例である。５は磁気記録層に垂直方向の磁化曲線
で６は磁気記録層と平行でかつ長手方向の磁化曲
線であり、H1，H2はそれぞれ保磁力を示すもの
で、本発明の磁気記録層はH2／H1が1.2から1.7
の範囲にあることを条件としている。 本発明に用いることの出来る高分子基板はポリ
エチレンテレフタレート，ポリカーボネート，ポ
リアミド，ポリイミド等で、これらのフイルムの
上にSiO2，CaCo3，BaSO4，TiO2等の微粒子を
1μm角に１ケから50ケ、ポリエステル，エポキシ
等の樹脂で固定したものが基板として適してい
る。 用いられる微粒子の作用効果のひとつは、実効
的な接触面積を減らして、摩擦力を軽減すること
で金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体の実
用化を可能にした点が挙げられるが、Ｓ／Ｎでみ
ると不均一性が微視的には増大し、雑音が増大
し、Ｓ／Ｎ低下が起つており、記録密度の実用限
界が107ビツト／cm2近くでとまつてしまつていた
のであるが、本発明の保磁力の関係を満足するこ
とで108ビツト／cm2が可能になつたものである。 勿論、保磁力の比率だけが問題ではなく、その
値も常識的な値である必要があるのは当然であ
る。 ヘツド材質、ギヤツプ長などにもよるが、長手
方向の保磁力は800〔O¨e〕から2000〔O¨e〕好まし
くは1000〔O¨e〕から1500〔O¨e〕である。 本発明に用いられる磁気記録層は、Co，Fe，
Co−Fe，Co−Ni，Co−Ｂ，Co−Cu＋Co−Ce，
Co−Dy，Co−Ｆ，Co−Ge，Co−Hf，Co−La，
Co−Mg，Co−Mn，Co−Mo，Co−Nd，Co−
Os，Co−ｐ，Co−Ru，Co−Rh，Co−Sm，Co
−Si，Co−Sn，Co−Ti，Co−Ta，Co−Ｖ，Co
−Ｗ，Co−Ｙ，Co−Zn，Co−Zr，Co−Ni−Ｐ，
Co−Ｏ，Co−Ni−Ｏ，Co−Ni−Zn−Ｐ等で、
磁化容易軸には無関係である。 本発明の磁気記録層の要件によりＳ／Ｎが改良
されるのは、リングヘツドの作る磁界がベクトル
的であり、記録磁化量が最大になる範囲が垂直磁
気記録の時も長手記録の時も純粋に一記録過程で
考えられず、合成であり、保磁力の比率が（垂
直）／（長手）で1.2から3.3の間にあり、雑音を
抑制するには、垂直記録的の時は、長手の保磁力
が必要で、逆に長手記録的の時は垂直の保磁力が
必要で、その良好な抑制範囲が（垂直）／（長
手）が0.9から1.7の範囲であり、この両方から本
発明の条件がでてくるもので、それにより、Ｓが
最大でＮが最小とできＳ／Ｎが改良されるものと
考えられるものである。 微細突起の大きさが平均粒子径50Åから500Å
の範囲であれば、前述の条件でよいが、それ以外
の微細突起では、別のフアクタが入つてくるもの
と考えられ必ずしも本発明の要件のみで目的を達
成できるとは限らないが、これについては現在不
明である。 以下さらに具体的に本発明の一実施例について
説明する。 （実施例） 厚み12μmのポリアミドフイルムの上に、平均
粒子径100ÅのTiO2粒子を紫外線硬化のエポキシ
樹脂で平均密度13個／（μm）2となる様分散固定
した基板を用い、基板温度を−20℃に保持して、
高周波スパツタリング法により、Co−Cr−Ｖ三
元系合金薄膜を形成し、その後熱処理を行い、各
種の磁気記録層を得た。 それらの磁気特性を振動試料型磁束計で測定す
ると共に、リング型磁気ヘツドで５×107ビツ
ト／cm2108ビツト／cm2の２つの記録密度でのＳ／
Ｎを評価した。Ｓ／Ｎは45dB以上であれば実用
水準とみなした。 条件と測定結果を表にまとめて示した。
【表】
尚、他に垂直保磁力と長手保磁力の比率が0.7
と2.5のものについてCo−Ｂ非晶質合金ヘツド
（ギヤツプ長0.17μm）で録再した時の１×108ビ
ツト／cm2でのＳ／Ｎは37dBで、表より明らかに、
本発明品によれば、リング型磁気ヘツドでの録再
によりＳ／Ｎとして45dB以上の値を１×108ビツ
ト／cm2で確保できることがわかる。 尚、本発明品はこの例に限らず、前述の他の材
料の組み合わせでもほぼ同様のＳ／Ｎを達成でき
ることを確認した。 発明の効果 以上のように本発明の磁気記録媒体は垂直保磁
力を長手保磁力の1.2倍から1.7倍の範囲に構成し
た磁気記録層を用いることで、リング型磁気ヘツ
ドにより高密度記録再生を良好なＳ／Ｎで行うこ
とができるものでその実用性は大きい。
と2.5のものについてCo−Ｂ非晶質合金ヘツド
（ギヤツプ長0.17μm）で録再した時の１×108ビ
ツト／cm2でのＳ／Ｎは37dBで、表より明らかに、
本発明品によれば、リング型磁気ヘツドでの録再
によりＳ／Ｎとして45dB以上の値を１×108ビツ
ト／cm2で確保できることがわかる。 尚、本発明品はこの例に限らず、前述の他の材
料の組み合わせでもほぼ同様のＳ／Ｎを達成でき
ることを確認した。 発明の効果 以上のように本発明の磁気記録媒体は垂直保磁
力を長手保磁力の1.2倍から1.7倍の範囲に構成し
た磁気記録層を用いることで、リング型磁気ヘツ
ドにより高密度記録再生を良好なＳ／Ｎで行うこ
とができるものでその実用性は大きい。
第１図は本発明の磁気記録媒体の拡大断面図、
第２図は本発明の磁気記録層に用いる磁化曲線の
一例を示す図である。 １…高分子基板、２…微粒子、４…磁気記録
層。
第２図は本発明の磁気記録層に用いる磁化曲線の
一例を示す図である。 １…高分子基板、２…微粒子、４…磁気記録
層。
Claims (1)
- １ 微細突起を有する基板上に形成した磁気記録
層の垂直方向の保磁力が長手方向の保磁力の1.2
倍から1.7倍の範囲にあることを特徴とする磁気
記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18903484A JPS6166221A (ja) | 1984-09-10 | 1984-09-10 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18903484A JPS6166221A (ja) | 1984-09-10 | 1984-09-10 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6166221A JPS6166221A (ja) | 1986-04-05 |
| JPH0561683B2 true JPH0561683B2 (ja) | 1993-09-06 |
Family
ID=16234187
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18903484A Granted JPS6166221A (ja) | 1984-09-10 | 1984-09-10 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6166221A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5992428A (ja) * | 1982-11-18 | 1984-05-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS5994227A (ja) * | 1982-11-19 | 1984-05-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1984
- 1984-09-10 JP JP18903484A patent/JPS6166221A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5992428A (ja) * | 1982-11-18 | 1984-05-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS5994227A (ja) * | 1982-11-19 | 1984-05-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6166221A (ja) | 1986-04-05 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |