JPS62273619A - 磁気デイスク - Google Patents
磁気デイスクInfo
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- JPS62273619A JPS62273619A JP11456986A JP11456986A JPS62273619A JP S62273619 A JPS62273619 A JP S62273619A JP 11456986 A JP11456986 A JP 11456986A JP 11456986 A JP11456986 A JP 11456986A JP S62273619 A JPS62273619 A JP S62273619A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
３、発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
本発明は、スパッタやメッキ手段により高記録ピザ用値
性璋嗅を杉Ｏｚするｒ璋嗅３気ディスクに係り、特に磁
気ヘッドのコンタクト・スタート・ストップ特性等の耐
ヘッド摺動特性に良好な磁気ディスクに関する。
性璋嗅を杉Ｏｚするｒ璋嗅３気ディスクに係り、特に磁
気ヘッドのコンタクト・スタート・ストップ特性等の耐
ヘッド摺動特性に良好な磁気ディスクに関する。
従来の高密度磁気記録用の磁気ディスクは、特開昭５３
−１２５９０６号に記載のように、アルマイト処理を施
したアルミニウム基ｆＭあるいは導ｉ性表面を持つ基板
上に、サンドペーパーケ押しっけ、同心円状に微細な溝
を咋って粗面とし、この川面上に磁性膜ケ被着し、磁気
ヘッドの粘Ｎを回避することとなっていた。しかし、溝
の模様は同心円状と記載され、溝の深さ等の寸法は不明
であり、磁性薄膜との密層性やヘッドスライダ部による
摺動強度と微細な溝との相関、また基板表面の加工性と
微細な溝との関係の点については配Ｖされていなかった
。
−１２５９０６号に記載のように、アルマイト処理を施
したアルミニウム基ｆＭあるいは導ｉ性表面を持つ基板
上に、サンドペーパーケ押しっけ、同心円状に微細な溝
を咋って粗面とし、この川面上に磁性膜ケ被着し、磁気
ヘッドの粘Ｎを回避することとなっていた。しかし、溝
の模様は同心円状と記載され、溝の深さ等の寸法は不明
であり、磁性薄膜との密層性やヘッドスライダ部による
摺動強度と微細な溝との相関、また基板表面の加工性と
微細な溝との関係の点については配Ｖされていなかった
。
上記従来技術は、基板表面の溝須様が同心円状とされ、
溝の大きさについて配壇かなされておらず、磁性薄膜と
のど１件やヘッドスライダ部による摺動強度と電気的エ
ラーとの観点から、溝の深さや基板面上の模様が不明で
あった。また、特開昭５３−１２５９０６号に記載のサ
ンドベーパ等の研磨材を基板上に押し当てる方法では、
溝模様は同心円状に形成されるが、切屑等の排除が悪く
局部的に極めて大きな溝が生じやす（加工性に問題があ
る。
溝の大きさについて配壇かなされておらず、磁性薄膜と
のど１件やヘッドスライダ部による摺動強度と電気的エ
ラーとの観点から、溝の深さや基板面上の模様が不明で
あった。また、特開昭５３−１２５９０６号に記載のサ
ンドベーパ等の研磨材を基板上に押し当てる方法では、
溝模様は同心円状に形成されるが、切屑等の排除が悪く
局部的に極めて大きな溝が生じやす（加工性に問題があ
る。
本発明の目的は、電気的エラーの欠陥を生じさせず、感
性薄膜との密着性、ヘッドスライダ部による摺動強度を
同上させる微細なスクラッチを形成した磁気ディスクを
提供することにある。
性薄膜との密着性、ヘッドスライダ部による摺動強度を
同上させる微細なスクラッチを形成した磁気ディスクを
提供することにある。
上記目的は、Ｎｉ −Ｐメッキ等の表面処理したディス
ク基板の両面を同時研磨し、表面粗さ０．０２ｔｉｎ
Ｒｍａｘ以下の平滑面にし、さらに微細な砥粒（望まし
くは粒径１〜３１ｘｎの砥粒）を固着した研磨フィルム
を回転するディスク基板に押圧し、加工面に対して微小
量揺勧させることによって、ディスク基板表面には安定
した微細なスクラッチが近似的に基板円周方向に成形さ
れ、この基板上に、感性薄膜をスパッタ形成することに
よって達成される。
ク基板の両面を同時研磨し、表面粗さ０．０２ｔｉｎ
Ｒｍａｘ以下の平滑面にし、さらに微細な砥粒（望まし
くは粒径１〜３１ｘｎの砥粒）を固着した研磨フィルム
を回転するディスク基板に押圧し、加工面に対して微小
量揺勧させることによって、ディスク基板表面には安定
した微細なスクラッチが近似的に基板円周方向に成形さ
れ、この基板上に、感性薄膜をスパッタ形成することに
よって達成される。
ディスク基板上に成形した溝深さα０２〜α０５１ｔｎ
の微細なりラッチは、基板上に形成した感性薄膜との密
着性を向上させ、またへラドスライダ部による衝撃エネ
ルギーを吸収し、ヘッドと基板表面との餐触面積減少に
よるＩＩｊＬｔ！Ａ抵抗力を低減させ、さらに、ヘッド
の粘着を防止し、しかも溝深さが［１０２〜０．０５１
ｘｎであるので、ヘッド浮上隙間αＮ４縄に対して、は
とんど影響がなく電気的エラーを生じる欠陥とはならな
い。
の微細なりラッチは、基板上に形成した感性薄膜との密
着性を向上させ、またへラドスライダ部による衝撃エネ
ルギーを吸収し、ヘッドと基板表面との餐触面積減少に
よるＩＩｊＬｔ！Ａ抵抗力を低減させ、さらに、ヘッド
の粘着を防止し、しかも溝深さが［１０２〜０．０５１
ｘｎであるので、ヘッド浮上隙間αＮ４縄に対して、は
とんど影響がなく電気的エラーを生じる欠陥とはならな
い。
このように、基板−＆面に成形した微細なスクラッチに
よって、磁気ヘッドのＣ８Ｓ時におけるディスク基板の
ヘッド摺動強度を向上させ、母性薄膜を形成した磁気デ
ィスクの信頼性を向上させる。
よって、磁気ヘッドのＣ８Ｓ時におけるディスク基板の
ヘッド摺動強度を向上させ、母性薄膜を形成した磁気デ
ィスクの信頼性を向上させる。
本発明の一実施例を第１図および第２図により説明する
。本発明は厚さ約２０μｍのＮ１−Ｐメッキ乞施こし、
表面粗さＯ，ｏ １ ｘｎＲｆｆａ ｘ以下に平滑研磨
した後、研磨テープによって溝深さ０．０２〜Ｑ、０５
／Ａｍの微細なスクラッチを表面に成形したメッキ層１
．このメッキ表面にスパッタにより磁性媒体膜な厚さ約
０．２μｍ形成した磁性層２．この表面に微少量塗布し
たフッ素系欄滑剤層３からなるドーナツ状のに１円板４
である。
。本発明は厚さ約２０μｍのＮ１−Ｐメッキ乞施こし、
表面粗さＯ，ｏ １ ｘｎＲｆｆａ ｘ以下に平滑研磨
した後、研磨テープによって溝深さ０．０２〜Ｑ、０５
／Ａｍの微細なスクラッチを表面に成形したメッキ層１
．このメッキ表面にスパッタにより磁性媒体膜な厚さ約
０．２μｍ形成した磁性層２．この表面に微少量塗布し
たフッ素系欄滑剤層３からなるドーナツ状のに１円板４
である。
さらに、詳細に説明すると、両面研磨したＡｔ円板４に
、無電解Ｎ１−Ｐメッキ１を厚さ約２０μｍ表面処理し
、第３図に示すような両面研磨機５（例えばスピードフ
ァム社ｇｓＦＤＬ−１ｏｏｏ型）を用いてディスク基板
９の両面を粒径１１１ｒｎのＡ４．Ｏｓ砥粒のｄｆ磨剤
６？：供給しなから研磨布７をはりつけた定！１８間で
相対摺動させ、研磨する。この研磨面は第４図に示すよ
うに表面粗さα０１ ｔｕｎＥｋｎａｘ以下の平滑面で
ある。このディスク基板９の両面を、粒径１ｔｘｒ＋の
ダイヤモンド砥粒を固着した研磨テープで表面加工し、
基板表面に溝深さ０．０２櫂５ μｍの微細なスクラッ
チを成形する。この表１１７１０工法は、例えば、特開
昭５４−２３２９４ 号に示されているように第５
ｉ’Ａに示す基板９０両面に研磨テーブル１０をコンタ
クトａ−２１１で押圧し、基板９を回転させながら研磨
チー１１０を巻取り、かつ研磨テープ１０を巻取り、か
つ研磨テープ１０を基板の半径方向（図中の矢印入方向
）に微小ｔｉＲｆＪさせかつ研磨テープが基板全面に摺
動するように、基板上を往復摺Ｊ１ｈさせ、基板両面に
近似的に円周方向の微細なスクラッチを成形させる方法
である。また他の表面加工法は、第３図に示した両面研
磨Ｄロエと同様の加工法で、研磨布７のかわりに、前記
の微細砥粒な固着した研−フィルムを用い、基板の両面
に微細なスクラッチを無方向に成形させる方法である。
、無電解Ｎ１−Ｐメッキ１を厚さ約２０μｍ表面処理し
、第３図に示すような両面研磨機５（例えばスピードフ
ァム社ｇｓＦＤＬ−１ｏｏｏ型）を用いてディスク基板
９の両面を粒径１１１ｒｎのＡ４．Ｏｓ砥粒のｄｆ磨剤
６？：供給しなから研磨布７をはりつけた定！１８間で
相対摺動させ、研磨する。この研磨面は第４図に示すよ
うに表面粗さα０１ ｔｕｎＥｋｎａｘ以下の平滑面で
ある。このディスク基板９の両面を、粒径１ｔｘｒ＋の
ダイヤモンド砥粒を固着した研磨テープで表面加工し、
基板表面に溝深さ０．０２櫂５ μｍの微細なスクラッ
チを成形する。この表１１７１０工法は、例えば、特開
昭５４−２３２９４ 号に示されているように第５
ｉ’Ａに示す基板９０両面に研磨テーブル１０をコンタ
クトａ−２１１で押圧し、基板９を回転させながら研磨
チー１１０を巻取り、かつ研磨テープ１０を巻取り、か
つ研磨テープ１０を基板の半径方向（図中の矢印入方向
）に微小ｔｉＲｆＪさせかつ研磨テープが基板全面に摺
動するように、基板上を往復摺Ｊ１ｈさせ、基板両面に
近似的に円周方向の微細なスクラッチを成形させる方法
である。また他の表面加工法は、第３図に示した両面研
磨Ｄロエと同様の加工法で、研磨布７のかわりに、前記
の微細砥粒な固着した研−フィルムを用い、基板の両面
に微細なスクラッチを無方向に成形させる方法である。
それぞれの基板上に成形された微細なスクラッチの模様
を第６図、第７図に示す。第６図は、スクラッチの方向
を、螺旋方向としている。このようにすれば、切屑の排
除が良好となる。いずれの図面も、溝の深さは、第８図
に示すようにα０２（ロ）、０５１１ｍ であった。
を第６図、第７図に示す。第６図は、スクラッチの方向
を、螺旋方向としている。このようにすれば、切屑の排
除が良好となる。いずれの図面も、溝の深さは、第８図
に示すようにα０２（ロ）、０５１１ｍ であった。
この基板上に、スパッタ法により厚さ約１２．ａｍのフ
ェライト磁性膜を形成し、さらにフッ素系潤ｒｌｔ剤を
微少を塗巧した。
ェライト磁性膜を形成し、さらにフッ素系潤ｒｌｔ剤を
微少を塗巧した。
この磁性薄膜を形成した磁気ディスクでは、母性ｇｌ模
の密者力は基板表面が表面粗さ０．ｏ ２ ｔｘｎＲｍ
ａ ｘ以下の平滑面の場合と比べ大巾に向上し、またヘ
ッドの吸着も生じなかった。さらに、基板表面の凹凸に
よって磁気ヘッドによる衝重ダメージを低減させ、摺動
強度を大巾に向上することができた。
の密者力は基板表面が表面粗さ０．ｏ ２ ｔｘｎＲｍ
ａ ｘ以下の平滑面の場合と比べ大巾に向上し、またヘ
ッドの吸着も生じなかった。さらに、基板表面の凹凸に
よって磁気ヘッドによる衝重ダメージを低減させ、摺動
強度を大巾に向上することができた。
また、表面粗さがα０２−０．０５μｍと均一に形成し
であるので、第９図に示すように、磁気ヘッド１２の浮
上隙間０．２−ｎ、４７７ｍに対して影響を及ぼさず、
電気的エラーを生じる欠陥にならなかった。
であるので、第９図に示すように、磁気ヘッド１２の浮
上隙間０．２−ｎ、４７７ｍに対して影響を及ぼさず、
電気的エラーを生じる欠陥にならなかった。
本発明によれば、ディスク基板表面に深さ１０５μｍ以
下の微細なスクラッチヲ放形しであるので、基板上にス
パッタ形成した磁性薄膜の密着性が向上し、また潤滑膜
を形成した表面も表面粗さ約０．０５μｍの表面凹凸が
形成され、磁気ヘッドとの摺＠強度を大巾に同上できた
。また、ディスク基板の表面粗さが１０２％Ｑ、０５
ｔａｎ Ｒｍａ ｘと均一であるので、伍気ヘッド浮上
原間（Ｌ２り４ Ａｍに対するヘッド浮上性に杉響を及
ぼさず、磁気的エラーの欠陥要因にもならない。
下の微細なスクラッチヲ放形しであるので、基板上にス
パッタ形成した磁性薄膜の密着性が向上し、また潤滑膜
を形成した表面も表面粗さ約０．０５μｍの表面凹凸が
形成され、磁気ヘッドとの摺＠強度を大巾に同上できた
。また、ディスク基板の表面粗さが１０２％Ｑ、０５
ｔａｎ Ｒｍａ ｘと均一であるので、伍気ヘッド浮上
原間（Ｌ２り４ Ａｍに対するヘッド浮上性に杉響を及
ぼさず、磁気的エラーの欠陥要因にもならない。
第１図、第２図は、本発明の一実施例の平面図。
断面拡大図、第３図は不発明の一実施例を具現化する過
程の加工機の断面図、、ｇ４１：Ａは研磨面精度を表わ
す粗さ曲線を示す図、第５図は不発明を具現化する加工
機馨示す図、第６図は本発明の一実施例の平面図、第７
図は本発明の他の実施例の平面図、＠８１Ａは本発明の
一実施例の徂さ曲１腺を示す図、第９図は磁気ヘッドと
磁気ディスクとの１ｉｌＡ係を示す説明図である。 １・・・メッキ層 ２・・・磁性ｌ− ３・・・潤滑剤層 ４・−ｋｔＨ板。 代理人升埋士 小 川 勝 男− あ ｔｒｎ 寿５ｆｆｉ １・−７７１層 ４− Δ）円辰
７− 創肩布２−．．［’ｄ層 ５−・−両酊珂
鷹教 ８− 定１５−−■滑荊、Ｗｉ；−訓麿則
９− テ叔ル纂４ 口 第５ｒｆ１ ２０、ｕ／ｙＬ
程の加工機の断面図、、ｇ４１：Ａは研磨面精度を表わ
す粗さ曲線を示す図、第５図は不発明を具現化する加工
機馨示す図、第６図は本発明の一実施例の平面図、第７
図は本発明の他の実施例の平面図、＠８１Ａは本発明の
一実施例の徂さ曲１腺を示す図、第９図は磁気ヘッドと
磁気ディスクとの１ｉｌＡ係を示す説明図である。 １・・・メッキ層 ２・・・磁性ｌ− ３・・・潤滑剤層 ４・−ｋｔＨ板。 代理人升埋士 小 川 勝 男− あ ｔｒｎ 寿５ｆｆｉ １・−７７１層 ４− Δ）円辰
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鷹教 ８− 定１５−−■滑荊、Ｗｉ；−訓麿則
９− テ叔ル纂４ 口 第５ｒｆ１ ２０、ｕ／ｙＬ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ドーナツ状の平滑基板表面に、スパッタ若しくはメ
ッキ手段によつて磁性薄膜を形成してなる高記録密度磁
気ディスクにおいて、該基板表面に深さ０．０５μｍ以
下の微細なスクラッチが形成されており、該基板上に磁
性薄膜が形成されていることを特徴とする磁気ディスク
。 ２、深さ０．０５μｍ以下の微細なスクラッチを該基板
全面に無方向に形成したことを特徴とする特許請求の範
囲第１項記載の磁気ディスク。 ３、深さ０．０５μｍ以下の微細なスクラッチを近似的
に円周方向に形成したことを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載の磁気ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11456986A JPS62273619A (ja) | 1986-05-21 | 1986-05-21 | 磁気デイスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11456986A JPS62273619A (ja) | 1986-05-21 | 1986-05-21 | 磁気デイスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62273619A true JPS62273619A (ja) | 1987-11-27 |
Family
ID=14641105
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11456986A Pending JPS62273619A (ja) | 1986-05-21 | 1986-05-21 | 磁気デイスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62273619A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6383404B1 (en) | 1998-08-19 | 2002-05-07 | Hoya Corporation | Glass substrate for magnetic recording medium, magnetic recording medium, and method of manufacturing the same |
| US6395634B1 (en) | 1999-03-31 | 2002-05-28 | Hoya Corporation | Glass substrate for magnetic recording medium, magnetic recording medium, and method of manufacturing the same |
| US6916558B2 (en) | 2003-02-17 | 2005-07-12 | Hoya Corporation | Magnetic disk using a glass substrate |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5376010A (en) * | 1976-12-17 | 1978-07-06 | Nec Corp | Magnetic momory medium |
| JPS53123906A (en) * | 1977-04-05 | 1978-10-28 | Fujitsu Ltd | Magnetic disc |
| JPS61168118A (ja) * | 1985-01-22 | 1986-07-29 | Victor Co Of Japan Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1986
- 1986-05-21 JP JP11456986A patent/JPS62273619A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5376010A (en) * | 1976-12-17 | 1978-07-06 | Nec Corp | Magnetic momory medium |
| JPS53123906A (en) * | 1977-04-05 | 1978-10-28 | Fujitsu Ltd | Magnetic disc |
| JPS61168118A (ja) * | 1985-01-22 | 1986-07-29 | Victor Co Of Japan Ltd | 磁気記録媒体 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6383404B1 (en) | 1998-08-19 | 2002-05-07 | Hoya Corporation | Glass substrate for magnetic recording medium, magnetic recording medium, and method of manufacturing the same |
| US6548139B2 (en) | 1998-08-19 | 2003-04-15 | Hoya Corporation | Glass substrate for magnetic recording medium, magnetic recording medium, and method of manufacturing the same |
| US6395634B1 (en) | 1999-03-31 | 2002-05-28 | Hoya Corporation | Glass substrate for magnetic recording medium, magnetic recording medium, and method of manufacturing the same |
| US6916558B2 (en) | 2003-02-17 | 2005-07-12 | Hoya Corporation | Magnetic disk using a glass substrate |
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