JPH0273516A - 磁気ディスク - Google Patents
磁気ディスクInfo
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- JPH0273516A JPH0273516A JP22444188A JP22444188A JPH0273516A JP H0273516 A JPH0273516 A JP H0273516A JP 22444188 A JP22444188 A JP 22444188A JP 22444188 A JP22444188 A JP 22444188A JP H0273516 A JPH0273516 A JP H0273516A
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- Japan
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- substrate
- magnetic disk
- magnetic
- magnetic head
- roughening
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- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 32
- 238000007788 roughening Methods 0.000 claims abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 abstract description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 6
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 abstract description 2
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 abstract description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- -1 polyethylene Polymers 0.000 abstract description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 abstract description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract 2
- 229910018104 Ni-P Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910018536 Ni—P Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 abstract 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 12
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気ディスクに係り、特にその基板面又は基板
面上に設けられた下地膜面上に面粗し加工を行なった磁
気ディスクに関する。
面上に設けられた下地膜面上に面粗し加工を行なった磁
気ディスクに関する。
従来、磁気ディスク、特にスパッタディスク、メツキデ
ィスク等のいわゆる薄膜磁気ディスクは。
ィスク等のいわゆる薄膜磁気ディスクは。
通常の磁気ディスクに比べ表面粗さがより微細になって
いる。このため磁気ディスク上で磁気ヘッドを停止させ
た時、磁気ヘッドが吸着した水分や潤滑剤により磁気デ
ィスクに吸着することが知られている。
いる。このため磁気ディスク上で磁気ヘッドを停止させ
た時、磁気ヘッドが吸着した水分や潤滑剤により磁気デ
ィスクに吸着することが知られている。
そのため、磁気ディスクの基板面又は基板面上に設けら
れた下地膜面上に電磁気特性を劣化させない程度に、基
板の円周方向に同心円状の微細な面相し加工、いわゆる
テクスチャ加工を施し、微細な凹凸を形成し、磁気ディ
スクの吸着を軽減すると共に、場合によっては磁気ディ
スクの磁性膜の磁気異方性を円周方向に付与していた。
れた下地膜面上に電磁気特性を劣化させない程度に、基
板の円周方向に同心円状の微細な面相し加工、いわゆる
テクスチャ加工を施し、微細な凹凸を形成し、磁気ディ
スクの吸着を軽減すると共に、場合によっては磁気ディ
スクの磁性膜の磁気異方性を円周方向に付与していた。
従来、この加工法として、研摩剤をテープに固定保持し
た研摩テープを用い、上記基板を回転させながら研摩テ
ープを基板に押し付は加工することが行なわれていた。
た研摩テープを用い、上記基板を回転させながら研摩テ
ープを基板に押し付は加工することが行なわれていた。
そのためテクスチャ加工痕（溝）の方向としては、−数
的にほぼ磁気ヘッドの走行方向（ディスクとの相対的な
移動方向）と一致する方向すなわち円周方向に、同心円
状に施されていた。なお、これに関連するものとしては
特開昭６１−５１６１９が挙げられる。
的にほぼ磁気ヘッドの走行方向（ディスクとの相対的な
移動方向）と一致する方向すなわち円周方向に、同心円
状に施されていた。なお、これに関連するものとしては
特開昭６１−５１６１９が挙げられる。
上記従来技術は、磁気ヘッドと磁気ディスクとの耐摺動
性については十分配慮されておらず、塵埃等によって摺
動が生じるという問題があった。
性については十分配慮されておらず、塵埃等によって摺
動が生じるという問題があった。
すなわち、耐摺動性を損う要因の一つとして、塵埃に起
因するものが挙げられる。磁気ヘッドと磁気ディスクが
収納されたデータエンクロージャ内の塵埃を軽減しても
、清浄化には一定の限界がある０ｍ埃が磁気ヘッドと磁
気ディスクの間に侵入して、磁気ヘッドのスライダーに
付着すると、スライダーのどの位置に付着したかにより
結果は異なるが、多くの場合磁気ヘッドの浮上量を低下
させる。そのため、浮上マージンを減じ、磁気ヘッドと
磁気ディスクとの接触、摺動を引き起こし易くなるとい
う問題があった。
因するものが挙げられる。磁気ヘッドと磁気ディスクが
収納されたデータエンクロージャ内の塵埃を軽減しても
、清浄化には一定の限界がある０ｍ埃が磁気ヘッドと磁
気ディスクの間に侵入して、磁気ヘッドのスライダーに
付着すると、スライダーのどの位置に付着したかにより
結果は異なるが、多くの場合磁気ヘッドの浮上量を低下
させる。そのため、浮上マージンを減じ、磁気ヘッドと
磁気ディスクとの接触、摺動を引き起こし易くなるとい
う問題があった。
一方、磁気ディスクの表面の平均面粗さと磁気ヘッドス
ライダ−面の汚れ付着物量との間には第２図に示すよう
な相関関係がある。汚れ付着物量は、スライダー表面を
微小面積に分割して各部分の付着物を測定して計算する
０図にみられるように、ヘッドスライダ−の汚れ付着物
量は、磁気ディスク表面の平均粗さを大にすることによ
り軽減できる。これは磁気ディスク表面の面粗さが大で
あると付着物がかき落とされるためと考えられる。
ライダ−面の汚れ付着物量との間には第２図に示すよう
な相関関係がある。汚れ付着物量は、スライダー表面を
微小面積に分割して各部分の付着物を測定して計算する
０図にみられるように、ヘッドスライダ−の汚れ付着物
量は、磁気ディスク表面の平均粗さを大にすることによ
り軽減できる。これは磁気ディスク表面の面粗さが大で
あると付着物がかき落とされるためと考えられる。
ところが、磁気ディスク表面の面粗さを大とすることは
、磁気ヘッドと磁気ディスクの接触確率を高めることに
なり、磁気ヘッドの浮上マージンを確保するためには好
ましいことではない。
、磁気ヘッドと磁気ディスクの接触確率を高めることに
なり、磁気ヘッドの浮上マージンを確保するためには好
ましいことではない。
本発明の目的は、磁気ディスクの表面粗さを大とするこ
となく、磁気ヘッドの汚れ付着物量を減少させて、耐摺
動特性の高めた磁気ディスクを提供することにある。
となく、磁気ヘッドの汚れ付着物量を減少させて、耐摺
動特性の高めた磁気ディスクを提供することにある。
上記目的は、基板面又は基板面上に設けられた下地膜面
上に面粗し加工痕を有し、該基板又は下地膜上に磁気記
録膜を有する磁気ディスクにおいて、上記加工痕の方向
が基板の円周方向と３度以上異なることを特徴とする磁
気ディスクによって達成される。
上に面粗し加工痕を有し、該基板又は下地膜上に磁気記
録膜を有する磁気ディスクにおいて、上記加工痕の方向
が基板の円周方向と３度以上異なることを特徴とする磁
気ディスクによって達成される。
上記面粗し加工痕は、磁気ディスク表面の平均面粗さと
関係する。上記面粗し加工痕の方向が基板の円周方向、
すなわち磁気ヘッドの移動方向と３度以上異なるときは
、前述の付着物のかき落としと類似の効果が生ずるので
はないかと考えられる。
関係する。上記面粗し加工痕の方向が基板の円周方向、
すなわち磁気ヘッドの移動方向と３度以上異なるときは
、前述の付着物のかき落としと類似の効果が生ずるので
はないかと考えられる。
第１図に本発明の一実施例の磁気ディスクの基板の部分
断面図、平面図、その部分拡大図を示す。
断面図、平面図、その部分拡大図を示す。
本実施例はスパッタ、メツキ等で磁性膜を形成するいわ
ゆる薄膜ディスクに関する。
ゆる薄膜ディスクに関する。
外径１３０ｍｍ、内径４０ｍｍ、厚さ１ 、９ｎｕｉの
アルミニウム基板上に、無電解メツキ法でＮ１−Ｐメツ
キを１５μｍ程度の厚みに施した後、ポリッシングによ
りＲａ５ｎｍ程度の膜面とする。この基板を５Ｏｒρｍ
で回転させながら、２インチ幅のポリエチレンベースフ
ィルム上に平均粒径約６μｍのホワイトアルミナの砥粒
を結着させた研摩テープを一定力で基板に押し付け、基
板の半径方向に速さ８００＋ｕ＋／ｍｉｎで送りなから
テクスチャ加工を行なう。この時Ｒ３０ｍｍで基板の円
周方向、すなわち磁気ヘッドの走行方向と約５度の角度
を有する加工痕が形成される。なお、基板の回転数Ｎ
（ｐｒｍ）と研摩テープの移動速度Ｖ （ｍｍ／ ｍ１
ｎ）を変えることにより、テクスチャ加工痕の方向と基
板の円周方向とがなす角度（θ）を種々変更した基板を
製造することができた。
アルミニウム基板上に、無電解メツキ法でＮ１−Ｐメツ
キを１５μｍ程度の厚みに施した後、ポリッシングによ
りＲａ５ｎｍ程度の膜面とする。この基板を５Ｏｒρｍ
で回転させながら、２インチ幅のポリエチレンベースフ
ィルム上に平均粒径約６μｍのホワイトアルミナの砥粒
を結着させた研摩テープを一定力で基板に押し付け、基
板の半径方向に速さ８００＋ｕ＋／ｍｉｎで送りなから
テクスチャ加工を行なう。この時Ｒ３０ｍｍで基板の円
周方向、すなわち磁気ヘッドの走行方向と約５度の角度
を有する加工痕が形成される。なお、基板の回転数Ｎ
（ｐｒｍ）と研摩テープの移動速度Ｖ （ｍｍ／ ｍ１
ｎ）を変えることにより、テクスチャ加工痕の方向と基
板の円周方向とがなす角度（θ）を種々変更した基板を
製造することができた。
これら種々の基板上に、それぞれＤＣスパッタリング法
により、基板温度１５０℃、Ａｒ圧１０ｍＴｏｒｒ、
ＤＣ投入電力５Ｗ／ａｎ”でＣｒ下地膜を２００ｎｍの
厚さに形成した。さらに同条件でＣｏｏ、 。
により、基板温度１５０℃、Ａｒ圧１０ｍＴｏｒｒ、
ＤＣ投入電力５Ｗ／ａｎ”でＣｒ下地膜を２００ｎｍの
厚さに形成した。さらに同条件でＣｏｏ、 。
Ｎ ｉ、 、 、の合金ターゲットを用いて厚さ４０ｎ
ｍの磁性膜を形成し、その上に同条件でカーボン保護膜
を形成し、デイツプ法で潤滑剤を塗布して磁気ディスク
を得た。
ｍの磁性膜を形成し、その上に同条件でカーボン保護膜
を形成し、デイツプ法で潤滑剤を塗布して磁気ディスク
を得た。
上記種々の値のθの磁気ディスクについて、それぞれク
ラス１０４の環境下で２００時間磁気ヘッドの浮上テス
トを行ない、磁気ヘッドの汚れ付着量を測定した。その
結果を第３図に示す。なお、上記環境は加速テストの環
境である。第３図に示されるように、上記θを３度以上
、好ましくは５度以上とすることにより、磁気ヘットの
汚れ付着量を減することができた。なお、０は１５度以
下であることが好ましい。また円周方向の磁気異方性の
制御効果を減じることなく、摺動信頼性を高めることが
できた。
ラス１０４の環境下で２００時間磁気ヘッドの浮上テス
トを行ない、磁気ヘッドの汚れ付着量を測定した。その
結果を第３図に示す。なお、上記環境は加速テストの環
境である。第３図に示されるように、上記θを３度以上
、好ましくは５度以上とすることにより、磁気ヘットの
汚れ付着量を減することができた。なお、０は１５度以
下であることが好ましい。また円周方向の磁気異方性の
制御効果を減じることなく、摺動信頼性を高めることが
できた。
本発明によれば、磁気ヘッドの汚れ付着物量を軽減でき
るので、磁気ディスクの耐摺動性の高めることができた
。
るので、磁気ディスクの耐摺動性の高めることができた
。
第１１ｍは１本発明の一実施例の磁気ディスクの基板の
部分断面図、平面図、その部分拡大図、第２図及び第３
図は本発明を説明するための図である。 １・・・アルミサブストレート ２・・・Ｎ１−Ｐメツキ ３・・・ヘッド走行方向 ４・・・テクスチャ加工痕 代理人弁理士 中 村 純之助 第
部分断面図、平面図、その部分拡大図、第２図及び第３
図は本発明を説明するための図である。 １・・・アルミサブストレート ２・・・Ｎ１−Ｐメツキ ３・・・ヘッド走行方向 ４・・・テクスチャ加工痕 代理人弁理士 中 村 純之助 第
Claims (1)
- １、基板面又は基板面上に設けられた下地膜面上に面粗
し加工痕を有し、該基板又は下地膜上に磁気記録膜を有
する磁気ディスクにおいて、上記加工痕の方向が基板の
円周方向と３度以上異なることを特徴とする磁気ディス
ク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22444188A JPH0273516A (ja) | 1988-09-09 | 1988-09-09 | 磁気ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22444188A JPH0273516A (ja) | 1988-09-09 | 1988-09-09 | 磁気ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0273516A true JPH0273516A (ja) | 1990-03-13 |
Family
ID=16813821
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22444188A Pending JPH0273516A (ja) | 1988-09-09 | 1988-09-09 | 磁気ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0273516A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5478622A (en) * | 1991-05-16 | 1995-12-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic disk |
-
1988
- 1988-09-09 JP JP22444188A patent/JPH0273516A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5478622A (en) * | 1991-05-16 | 1995-12-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic disk |
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