JPH071541B2 - 磁気デイスク - Google Patents

磁気デイスク

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JPH071541B2
JPH071541B2 JP13362186A JP13362186A JPH071541B2 JP H071541 B2 JPH071541 B2 JP H071541B2 JP 13362186 A JP13362186 A JP 13362186A JP 13362186 A JP13362186 A JP 13362186A JP H071541 B2 JPH071541 B2 JP H071541B2
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disk
magnetic
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magnetic disk
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孝雄 中村
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、高密度磁気記録用の磁気ディスクに係り、特
に磁気ヘッドの低浮上性に好適なディスク表面を有する
磁気ディスクに関する。
〔従来の技術〕
従来の磁気ディスクは、特開昭53−123906号に記載のよ
うに、平滑な円形基板表面に同心円状に微細な溝を作っ
て粗面とし、この粗面上に磁性膜を被着した高密度磁気
記録用の磁気ディスクとなっていた。これによってディ
スク円周方向にはRmax0.1μmの平滑性が維持され、記
録再生にそれ程支障はなく、ディスク半径方向に多数の
凹凸ができているのでヘッドとディスクとの吸着が回避
できると述べられている。しかしながら、磁気ディスク
の信頼性向上に対して最も重要であるヘッドとディスク
間に生じるゴミの排除については配慮されていなかっ
た。即ち、高記録密度化に伴なうヘッドとディスクとの
隙間が狭小化し、磁気ヘッドのコンタクトスタートスト
ップによって生じるヘッドあるいはディスク表面に生じ
る付着物、さらに浮遊塵埃の界在により、ヘッドとディ
スク表面とで衝撃力が発生し、ヘッドを支持しているバ
ネやディスクの記録媒体面が損傷する機会が多くなる。
このため、ヘッドとディスク間での微細粒子を排除ある
いは回避するための溝が必要となる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記従来技術は、ヘッドとディスク間に界在する浮遊塵
埃やヘッドディスク摺動屑,潤滑剤等の付着物を回避す
る点について配慮がなされておらず、ヘッド浮上性の安
定化、ディスク表面の耐久信頼性に対して不充分である
問題があった。
例えば、ヘッドとディスク間の隙間は0.1〜0.3μmと高
記録密度化に伴ないますます狭くなり、高速回転するデ
ィスクの雰囲気には、0.1μm以上の浮遊塵埃が多数存
在している。またディスク表面には液体あるいは固体の
保護潤滑剤が塗布されており、ヘッドの浮上特性である
コンタクトスタート・ストップによるヘッドとディスク
との摺動作用によって、ヘッドあるいはディスク表面に
は、お互に減耗された屑や潤滑剤の塊状物が付着する。
このようにヘッドとディスクとの間に付着物や異物が存
在すると、ヘッド浮上安定性が欠け、記録再生に支障を
及ぼし、さらに、ディスクの高速回転によりヘッド支持
系のジンバルの可撓性支持機構が破損を生じたり、ヘッ
ド浮上不安定によりヘッドスライダによりディスク媒体
面に衝撃力を及ぼし、媒体面が損傷を起こす等の問題が
あった。
本発明の目的は、従来技術の欠点をなくし、ヘッドディ
スク間に生じる異物や摺動屑等を排除し、ヘッドの低浮
上安定性、ディスクの耐久信頼性を確保することにあ
る。
〔問題点を解決するための手段〕
上記目的は、ディスク表面に螺旋状の微細溝を形成する
ことによって達成される。
微細溝は、記録再生に支障が生じない程度に小さく、具
体的にはRmax0.02〜0.1μmの螺旋状の溝である。この
微細溝の形成方法は、研磨テープをディスク表面に押圧
し、ディスク円板を磁気ディスク装置におけるディスク
回転方向と同一方向に回転駆動させ、研磨テープをディ
スク円板の外周から内周さらに内周から外周へと摺動さ
せ、ディスク表面に螺旋状の微細溝を形成する。
〔作用〕
ディスク表面に形成した螺旋状の微細溝は、ヘッドとデ
ィスク間に生じた異物や摺動屑あるいは浮遊塵埃などの
微細粒子を落し込み、ディスクの回転に伴って、螺旋状
の溝中をディスクの外周方向に移動させ、最終的には、
ディスク表面上から排除する。また、ヘッドに付着した
異物や潤滑剤等の塊状の付着物は、微細溝によって削除
され、削除した異物を上記と同様に螺旋状溝に捕え、デ
ィスク表面から排除する。これによって、ヘッドとディ
スク間に生じた異物や、浮遊塵埃のように瞬間的に界在
する異物等を常に排除し、付着物等の影響を削除するの
で、ヘッド浮上性が安定し、かつディスク媒体面への衝
撃作用が減少するのでディスクの耐久信頼性が向上す
る。
〔実施例〕
本発明の一実施例を第1図,第2図により説明する。
第1図は、薄膜磁気ディスク表面に、第2図に示すよう
な断面形状の微細溝を形成した磁気ディスクである。こ
の螺旋状の微細溝は、例えば特開昭54−23294に記され
ているような第3図に示すごとく、回転するディスク1
表面に、研磨テープ2を介してコンタクトローラ3を押
圧し、研磨テープ2を順次モータ4でリール5に巻取り
ながら、ディスクの半径方向に往復摺動させることによ
って形成することができる。このとき、ディスクの螺旋
溝方向は、微細粒子を溝に沿って外周方向に移動させる
方向に設定する。例えば、第1図のA方向をディスクの
回転方向とすれば、螺旋溝の方向は右回りの方向とす
る。
実施例1. 外径30mm,内径40mm,板厚1.9mmのAl基板6にNi−Pめっ
き7を厚さ15μm表面処理した、第4図に示すめっき円
板に対して、表面粗さRmax0.01μmに表面研磨した
後、アルミナ砥粒♯4000の研磨テープを用い、円板をA
方向に回転させ、加圧力4Kgfにて押圧しながら研磨テー
プを円板の半径方向に往復摺動させる。めっき円板表面
には第1図に示すようなA方向の螺旋状のRmax=0.04〜
0.06μmの微細溝が形成される。このめっき円板に、第
5図に示す如く酸化鉄8を厚さ約0.2μmスパッタし、
さらにフッ素系潤滑剤9を塗布する。このときの表面形
状は、めっき円板面とほとんど変化がなく、螺旋状の微
細溝が表面に形成されている。この磁気ディスクにおい
て、螺旋状の微細溝の形成方向に沿って微細粒子が外周
方向に移動するようにディスクを回転させて磁気ヘッド
を浮上高さ0.2μmにて浮上させ、ディスク面上を往復
シークさせた所、ヘッド浮上変動が少なく、ヘッドやデ
ィスク表面に対する付着物が少なく、浮上特性が大巾に
向上した。またヘッドの吸着も生じなかった。これによ
ってディスク表面に対するダメージも低減し、磁気ディ
スクの耐久信頼性が向上した。また読出再生に対する支
障もほとんどなかった。
実施例2. 表面粗さRmax0.01μmに表面研磨しためっき円板7
に、上述したように螺旋状微細溝を形成した後、第6図
に示すごとくCo−Ni系磁性媒体10を厚さ0.08μmスパッ
タ形成し、さらにカーボン膜11を厚さ0.03μmスパッタ
形成した。磁気ディスク表面には、断面形状がRmax=0.
04〜0.06μmの微細溝が維持され、上述と同じように磁
気ヘッドの浮上特性は良好であり、ヘッド表面の付着物
はほとんど読められなかった。
実施例3. 表面粗さRmax0.01μmに表面研磨したNi−P系めっき
円板7に、第7図に示すごとく酸化鉄磁性媒体8をスパ
ッタ形成し、さらにカーボン膜11をスパッタ形成した
後、ダイヤモンド砥粒1μmの研磨テープを用い、実施
例1と同様に表面仕上した。円板表面にはRmax=0.02〜
0.03μmの螺旋状の極微細溝が形成されていた。この磁
気ディスクを螺旋状の溝に沿ってディスクの外周方向へ
微細粒子が移動する方向に回転させ、磁気ヘッドを浮上
高さ0.2μmにて浮上させ、ディスク面上を往復シーク
させた所、ヘッド浮上変動が少なく、またヘッド表面の
付着物も少なく浮上特性が向上した。さらに、ディスク
とヘッドとの吸着も発生せず、コンタクトスタート・ス
トップ特性も向上した。
実施例4. 表面粗さRmax0.01μmに機械加工したAl円板6上に、
第8図に示すごとく磁性粉12及びAl2O3微粉末13を混練
したエポキシフェノール樹脂14を塗布した磁気ディスク
表面を、アルミナ砥粒♯4000の研磨テープを用いて、実
施例1と同様に表面加工し、螺旋状の微細溝を形成した
後、フッ素潤滑剤9を塗布した。螺旋状の溝方向にディ
スクを回転させ、磁気ヘッドを浮上および往復シークさ
らにコンタクトスタート・ストップさせた所、ヘッド表
面の付着物は大巾に低減し、ディスク表面のダメージも
少なく、さらにヘッドの吸着も生じず、ヘッド浮上特
性、ディスクの耐久信頼性が向上した。
磁気ディスクの高記録密度化に伴い、磁気ヘッドとディ
スク表面との浮上隙間は狭くなり、該隙間は0.2〜0.3μ
mである。該隙間が0.2μmのとき、ヘッド浮上マージ
ン、ヘッドの浮上変動、ディスク表面のうねり成分、デ
ィスク表面の凹凸の形成ばらつきを考慮し、高信頼性の
観点からディスク表面の凹凸は0.06μm以下が望まし
い。更に、粘着防止対策のためにディスク表面の凹凸は
0.02μm以上が望ましい。
〔発明の効果〕
本発明によれば、磁気ディスク表面に螺旋状の微細溝が
形成されているので、ヘッドとディスク間に生じたヘッ
ドディスク摺動屑や潤滑剤等の塊状付着物を回避するこ
とができ、また浮遊塵埃等の微細粒子がヘッドとディス
ク間に瞬間的に界在した場合に、微細溝に回避すること
ができ、しかも、微細溝の螺旋方向に沿ってディスクが
回転するので、微細溝に回避した異物は溝内をディスク
外周へ移動し、ディスク表面上に再現することなくディ
スク面上から排除される。これによって、ヘッドの浮上
特性が向上し、またディスク表面のダメージが低減する
ので磁気ディスクの耐久信頼性が大巾に向上する。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の磁気ディスク表面上の微細溝を示す
説明図、第2図は微細溝の断面形状、第3図は本発明を
具体化する一製造方法、第4図はディスク円板の断面
図、第5図,第6図,第7図および第8図は本発明の実
施例を示すディスク表面の一部の断面図である。 1…磁気ディスク、2…研磨テープ 3…コンタクトローラ、6…Al円板 7…Ni−P系めっき、8…酸化鉄磁性媒体 9…フッ素系潤滑剤、10…Co−Ni系磁性媒体 11…カーボン膜、12…磁性粉 13…微粉末 14…エポキシフェノール樹脂

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】円形基板表面に微細な溝を形成した磁気デ
    ィスクにおいて、該微細溝が、ディスク表面に螺旋状に
    形成されていることを特徴とする磁気ディスク。
  2. 【請求項2】該円形基板上にNi−P系めっき処理がされ
    ており、該めっき表面に該螺旋状の微細溝が形成されて
    おり、該めっき表面上に磁性媒体が形成されていること
    を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の磁気ディス
    ク。
  3. 【請求項3】該磁性媒体が、酸化鉄磁性媒体であること
    を特徴とする特許請求の範囲第2項記載の磁気ディス
    ク。
  4. 【請求項4】該磁性媒体が、Co−Ni系磁性媒体であるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の磁気ディス
    ク。
  5. 【請求項5】該磁性媒体表面上に、保護膜が形成されて
    いることを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の磁気
    ディスク。
  6. 【請求項6】該保護膜が、カーボン膜であることを特徴
    とする特許請求の範囲第5項記載の磁気ディスク。
  7. 【請求項7】該保護膜が、フッ素系潤滑剤であることを
    特徴とする特許請求の範囲第5項記載の磁気ディスク。
  8. 【請求項8】該円形基板上に、Ni−P系めっき処理がさ
    れており、該めっき表面上に磁性媒体が形成されてお
    り、該磁性媒体表面上に保護膜が形成されており、該保
    護膜表面に該螺旋状の微細溝が形成されていることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載の磁気ディスク。
  9. 【請求項9】該保護膜が、カーボン膜であることを特徴
    とする特許請求の範囲第8項記載の磁気ディスク。
  10. 【請求項10】該円形基板上に、磁性粉及びAl2O3微粉
    末を混練したエポキシフェノール樹脂が塗布されてお
    り、該エポキシフェノール樹脂表面に該螺旋状の微細溝
    が形成されており、該エポキシフェノール樹脂表面にフ
    ッ素系潤滑剤が塗布されていることを特徴とする特許請
    求の範囲第1項記載の磁気ディスク。
  11. 【請求項11】該微細溝の凹凸が0.06μm以下であるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の磁気ディス
    ク。
JP13362186A 1986-06-11 1986-06-11 磁気デイスク Expired - Lifetime JPH071541B2 (ja)

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JP2762286B2 (ja) * 1988-12-27 1998-06-04 ティーディーケイ株式会社 磁気記録再生方法
JPH02208826A (ja) * 1989-02-08 1990-08-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd 薄膜型磁気ディスク

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