JPS62291724A - 磁気デイスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ３、発明の詳細な説明 〔産業上の利用分野〕 本発明は、高密度磁気記録用の磁気ディスクに係り、特
に磁気ヘッドの低浮上性に好適なディスク表面を有する
磁気ディスクに関する。

〔従来の技術〕

従来の磁気ディスクは、特開昭５３−１２３９０６号に
記載のように、平滑な円形基板表面に同心円状に微細な
溝を作って粗面とし、この粗面上ｉこ磁性膜を被着した
高密度磁気記録用の磁気ディスクとなっていた。これに
よってディスク円周方向にはＲｎ５ａｚＯ，１μｍの平
滑性が維持され、記録再生にそれ程支障はなく、ディス
ク半径方向に多数の凹凸ができているのでヘッドとディ
スクとの吸着が回避できると述べられている。しかしな
がら、磁気ディスクの信頼性向上に対して最も重要であ
るヘッドとディスク間に生じるゴミの排除については配
慮されていなかった。即ち、高記録密度化に伴なうヘッ
ドとディスクとの隙間が狭小化し、磁気ヘッドのコンタ
クトスタートストップによって生じるヘッドあるいはデ
ィスク表面に生じる付着物、さらに浮遊塵埃の界在によ
り、ヘッドとディスク表面とで衝撃力が発生し、ヘッド
を支持しているバネやディスクの記録媒体面が損傷する
機会が多くなる。このため、ヘッドとディスク間での微
細粒子を排除あるいは回避するための溝が必要となる。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上記従来技術は、ヘッドとディスク間に界在する浮遊塵
埃やヘッドディスク摺動層、潤滑剤等の付着物を回避す
る点について配慮がされておらず、ヘッド浮上性の安定
化、ディスク表面の耐久信頼性に対して不充分である問
題があった。

例えば、ヘッドとディスク間の隙間は０．１−０．３μ
ｍと高記録密度化に伴ないますます狭くなり、高速回転
するディスクの雰囲気には、０．１μｍ以上の浮遊塵埃
が多数存在している。またディスク表面には液体あるい
は固体の保護潤滑剤が塗布されており、ヘッドの浮上特
性であるコンタクトスタート・ス。

トップ番こよるヘッドとディスクとの摺動作用番こよっ
て、ヘッドあるいはディスク表面には、お互化減耗され
た屑や潤滑剤の塊状物が付着する。このようにヘッドと
ディスクとの間に付着物や異物が存在すると、ヘッド浮
上安定性が欠け、記録再生に支障を及ぼし、さらに、デ
ィスクの高速回転によりヘッド支持系のジンバル等の可
撓性支持機構が破損を生じたり、へ、ド浮上不安定によ
りヘッドスライダによりディスク媒体面に衝撃力を及ぼ
し、媒体面が損傷を起こす等の問題があった。

本発明の目的は、従来技術の欠点をなくし、ヘッドディ
スク間に生じる異物や摺動層等を排除し、ヘッドの低浮
上安定性、ディスクの耐久信頼性を確保することにある
。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的は、ディスク表面に螺旋状の微細溝を形成する
ことによって達成される。

微細溝は、記録再生に支障が生じない程度に小さく、具
体的にはムαｘ　０．０２−０．１μｍの螺旋状の溝で
ある。この微細溝の形成方法は、研磨テープをディスク
表面に押圧し、ディスク円板を磁気ディスク装置におけ
るディスク回転方向と同一方向に回転駆動させ、研磨テ
ープをディスク円板の外周から内周さらに内周から外周
へと摺動させ、ディスク表面に寡旋状の微細溝を形成す
る。

〔作用〕

ディスク表面に形成した螺旋状の微細溝は、ヘッドとデ
ィスク間に生じた異物や摺動層あるいは浮遊塵埃などの
微細粒子を落し込み、ディスクの回転に伴って、螺旋状
の溝中をディスクの外周方向に移動させ、最終的には、
ディスク表面上から排除する。また、ヘッドに付着した
異物や潤滑剤等の塊状の付着物は、微細溝によって削除
され、削除した異物を上記と同様に螺旋状溝に捕え、デ
ィスク表面から排除する。これによって、ヘッドとディ
スク間に生じた異物や、浮遊塵埃のように瞬間的に界在
する異物等を常に排除し、付着物等の影響を削除するの
で、ヘッド浮上性が安定し、かつディスク媒体面へ、の
衝撃作用が減少するのでディスクの耐久信頼性が向上す
る。

〔実施例〕

本発明の一実施例を第１図、第２図により説明する。

第１図は、薄膜磁気ディスク表面に、第２図に示すよう
な断面形状の微細溝を形成した磁気ディスクである。こ
の螺旋状の微細溝は、例えば特開昭５４−２３２９４　
　に記されているような第３図に示すごとく、回転する
ディスク１表面に、研磨テープ２を介してコンタクトロ
ーラ３を押圧し、研磨テープ２を順次モータ４でリール
５に巻取りながら、ディスクの半径方向に往復摺動させ
ることによって形成することができる。このとき、ディ
スクの螺旋溝方向は、微細粒子を溝に沿って外周方向に
移動させる・方向に設定する。例えば、第１図のＡ方向
をディスクの回転方向とすれば、螺旋溝の方向は右回り
の方向とする。

実施例１゜ 外径１３０鱈、内径４０−９板厚１．９ｎのＭ基板６に
Ｎｉ−Ｐめっきフを厚さ１シ罵表面処理した、第４図に
示すめっき円板に対して、表面粗さＲｍαＸ≦０．０１
μｍに表面研磨した後、アルミナ砥粒す４０００の研磨
テープを用い、円板をＡ方向に回転させ、加圧力４Ｋｌ
ｆにて押圧しながら研磨テープを円板の半径方向に往復
摺動させる。めっき円板表面には第１図に示すようなＡ
方向の螺旋状のＲｙａ□＝０．０４−Ｊ、０６μｍの微
細溝が形成される。このめっき円板に、第５図に示すご
とく酸化鉄８を厚さ約０．２μ罵スパツタし、・さらに
フッ素系潤滑剤９を塗布する。このときの表面形状は、
めっき円板面とほとんど変化がなく、螺旋状の微細溝が
表面に形成されている。この磁気ディスクにおいて、螺
旋状の微細溝の形成方向に沿って微細粒子が外周方向に
移動するようにディスクを回転させて磁気ヘッドを浮上
高さ０．２μｍにて浮上させ、ディスク面上を往復シー
クさせた所、ヘッド浮上変動が少なく、ヘッドやディス
ク表面に対する付着物が少なく、浮上特性が大巾に向上
した。またヘッドの吸着も生じなかった。これによって
ディスク表面に対するダメージも低減し、磁気ディスク
の耐久信頼性が向上した。才た読出再生に対する支障も
ほとんどなかった。

実施例２゜ 表面粗さＲ，ａｘ≦０．０１μｍに表面研磨しためつき
円板７に、上述したように螺旋状微細溝を形成した後、
第６図に示すとと（Ｃｏ−Ｎｊ系磁性媒体１０を厚さ０
．０８μｍスパッタ形成し、さらにカーボン膜１１を厚
さ０．０３μ鵡スパツタ形成した。８気ディスク表面に
は、断面形状がＲｍａｘ＝０．０４−０．０６μｍ　の
微細溝が維持され、上述と同じように磁気ヘッドの浮上
特性は良好であり、ヘッド表面の付着物はほとんど読め
られなかった。

実施例３゜ 表面粗さＲｒｎαＸ≦０．０１μｍに表面研磨したＮｉ
−Ｐ　系めっき円板７に、第７図に示すごとく酸化鉄磁
性媒体８をスパッタ形成し、さらにカーボン膜１１をス
パッタ形成した後、ダイヤモンド砥粒１μｍの研磨テー
プを用い、実施例１と同様に表面仕上した。

円板表面にはＲｙＡａｘ＝ｏ、ｏ　２−０．０３μ扉の
螺旋状の極微細溝が形成されていた。この磁気ディスク
を螺旋状の溝に沿ってディスクの外周方向へ微細粒子が
移動する方向に回転させ、磁気ヘッドを浮上高さ０２μ
ｍにて浮上させ、ディスク面上を往復シークさせた所、
ヘッド浮上変動が少なく、またヘッド表面の付着物も少
なく浮上特性が向上した。さらに、ディスクとヘッドと
の吸着も発生せず、コンタクトスタート・ストップ特性
も向上した。

実施例４゜ 表面粗さＲａａｘ＜０１１μｍに機械加工した成田板６
上に、第８図に示すごとく磁性粉１２及びＡｋ　Ｏｓ微
粉末１３を混練したエポ本ジフェノール樹脂１４を塗布
した磁気ディスク表面を、アルミナ砥粒す４０００の研
暦子−プを用いて、実施例１と同様に表面加工し、螺旋
状の微細溝を形成した後、フッ素系潤ｔ；７剤９を塗布
した。螺旋状の溝方向にディスクを回転させ、磁気ヘッ
ドを浮上および往復シークさらにコンタクトスタート・
ストップさせた所、ヘッド表面の付着物は大巾に低減し
、ディスク表面のり゛メ−ジも少なく、さらにヘッドの
吸着も生じず、ヘッド浮上特性、ディスクの耐久信頼性
が向上した。

磁気ディスクの高記録密度化に伴い、磁気へ。

ドとディスク表面との浮上隙間は狭くなり、該隙間は０
．２−０．３μｍである。該隙間が０．２μｍのとき、
ヘッド浮上マージン、ヘッドの浮上変動、ディスク表面
のうねり成分、ディスク表面の凹凸の形成ばらつきを考
慮し、高信頼性の観点からディスク表面の凹凸は０．０
６μｍ以下が望ましい。更に、粘着防止対策のためにデ
ィスク表面の凹凸は０，０２μｍ以上が望ましい。

〔発明の効果〕

本発明によれば、磁気ディスク表面に螺旋状の微細溝が
形成されているので、ヘッドとディスク間に生じたヘッ
ドディスク摺動層や潤滑剤等の塊状付着物を回避するこ
とができ、また浮遊塵埃等の微細粒子がヘッドとディス
ク間に瞬間的に界在した場合に、微細溝に回避すること
ができ、しかも、微細溝の螺旋方向に沿ってディスクが
回転するので、微細溝に回避した異物は溝内をディスク
外周へ移動し、ディスク表面上に再現することなくディ
スク面上から排除される。これによって、ヘッドの浮上
特性が向上し、またディスク表面のダメージが低減する
ので磁気ディスクの１久信頼性が大巾に向上する。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の磁気ディスク表面上の微細溝を示す
説明図、第２図は微細溝の断面形状、第３図は本発明を
具現化する一製造方法、第４図はディスク円板の断面図
、第５図、麩６図、紀７図および第８図は本発明の実施
例を示すディスク表面の一部の断面図である。 １・・・磁気ディスク　　　２・・・研磨テープ３・・
・コンタクトローラ　６・・・Ｍ円板７・・・Ｎｉ−Ｐ
系めっき　　　８・・・酸化鉄硼性媒体９・・・フッ素
系潤滑剤　　１０・・・（’　ｏ　−Ｎ　ｉ系磁性媒体
１１・・・カーボンｌ　　　　　１２・・・磁性粉１３
・・・微粉末 １４・・・エポキシフェノール樹脂 代理人　弁理士　　小　川　勝　男 発　ｌ　口 第２　閃 躬づ　圀 ／１．−７ｓ岨八ナイて）　　　２−１−ｖｌらシブ　
　　　トて護７７）口っ４４図 珊Ｓ図 ５！″ｉ６図 イア図 Ｇ、Ａｎ箒系（１４エポキシ７エｌ−ル杼目１７　　Ｎ
ｉ−Ｐ系メツＡ ８酸化鉄値性謀Ｉ朱

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、円形基板表面に微細な溝を形成した磁気ディスクに
   おいて、該微細溝が、ディスク表面に螺旋状に形成され
   ていることを特徴とする磁気ディスク。 ２、該円形基板上にＮｉ−Ｐ系めっき処理がされており
   、該めっき表面に該螺旋状の微細溝が形成されており、
   該めっき表面上に磁性媒体が形成されていることを特徴
   とする特許請求の範囲第１項記載の磁気ディスク。 ３、該磁性媒体が、酸化鉄磁性媒体であることを特徴と
   する特許請求の範囲第２項記載の磁気ディスク。 ４、該磁性媒体が、Ｃｏ−Ｎｉ系磁性媒体であることを
   特徴とする特許請求の範囲第２項記載の磁気ディスク。 ５、該磁性媒体表面上に、保護膜が形成されていること
   を特徴とする特許請求の範囲第２項記載の磁気ディスク
   。 ６、該保護膜が、カーボン膜であることを特徴とする特
   許請求の範囲第５項記載の磁気ディスク。 ７、該保護膜が、フッ素系潤滑剤であることを特徴とす
   る特許請求の範囲第５項記載の磁気ディスク。 ８、該円形基板上に、Ｎｉ−Ｐ系めっき処理がされてお
   り、該めっき表面上に磁性媒体が形成されており、該磁
   性媒体表面上に保護膜が形成されており、該保護膜表面
   に該螺旋状の微細溝が形成されていることを特徴とする
   特許請求の範囲第１項記載の磁気ディスク。 ９、該保護膜が、カーボン膜であることを特徴とする特
   許請求の範囲第８項記載の磁気ディスク。 １０　該円形基板上に、磁性粉及びＡｌ＿２Ｏ＿３微粉
   末を混練したエポキシフェノール樹脂が塗布されており
   、該エポキシフェノール樹脂表面に該螺旋状の微細溝が
   形成されており、該エポキシフェノール樹脂表面にフッ
   素系潤滑剤が塗布されていることを特徴とする特許請求
   の範囲第１項記載の磁気ディスク。 １１　該微細溝の凹凸が０．０６μｍ以下であることを
   特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気ディスク。