JPH04307410A - 磁気ディスク媒体及びその製造方法 - Google Patents
磁気ディスク媒体及びその製造方法Info
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- JPH04307410A JPH04307410A JP13173491A JP13173491A JPH04307410A JP H04307410 A JPH04307410 A JP H04307410A JP 13173491 A JP13173491 A JP 13173491A JP 13173491 A JP13173491 A JP 13173491A JP H04307410 A JPH04307410 A JP H04307410A
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は磁気ディスク装置の記録
媒体として用いられるＣＳＳ耐久性磁気ディスク媒体の
磁気ヘッド・クリーニング領域の表面形状ならびにその
製造方法に関する。
媒体として用いられるＣＳＳ耐久性磁気ディスク媒体の
磁気ヘッド・クリーニング領域の表面形状ならびにその
製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、磁気ディスク装置においては、そ
の起動・停止方式として、磁気ディスクの回転停止時に
は浮上型磁気ヘッドと磁気ディスク媒体が接触して設置
され、磁気ディスク装置の起動により磁気ディスク媒体
の回転数の上昇と共に浮上型磁気ヘッドスライダーで空
気の浮揚力により浮上し、通常の運転操作を行い、磁気
ディスク装置の停止時には磁気ディスクの回転数が下る
ことにより浮上型磁気ヘッドが磁気ディスク媒体上にラ
ンディングした後、接触停止するいわゆるコンタクト・
スタート・ストップ（ＣＳＳ）方式が主流であり、この
ＣＳＳ方式においては、磁気ヘッドとディスク媒体表面
とは接触，低速摺動，浮上による離反，低速摺動，接触
の各プロセスを経て運転される。このためＣＳＳを行な
う際の摩擦，摩耗に係る粉塵の発生も避けられない問題
となっており、又この摩擦，摩耗が原因でヘッド・クラ
ッシュが起こる事がある。そこで磁気記録領域を傷めず
、ＣＳＳ領域を通常磁気ディスク媒体の磁気記録領域の
内周側に取りＣＳＳ動作のみを行い、外周側は情報記録
を行う磁気記録領域として使用している。
の起動・停止方式として、磁気ディスクの回転停止時に
は浮上型磁気ヘッドと磁気ディスク媒体が接触して設置
され、磁気ディスク装置の起動により磁気ディスク媒体
の回転数の上昇と共に浮上型磁気ヘッドスライダーで空
気の浮揚力により浮上し、通常の運転操作を行い、磁気
ディスク装置の停止時には磁気ディスクの回転数が下る
ことにより浮上型磁気ヘッドが磁気ディスク媒体上にラ
ンディングした後、接触停止するいわゆるコンタクト・
スタート・ストップ（ＣＳＳ）方式が主流であり、この
ＣＳＳ方式においては、磁気ヘッドとディスク媒体表面
とは接触，低速摺動，浮上による離反，低速摺動，接触
の各プロセスを経て運転される。このためＣＳＳを行な
う際の摩擦，摩耗に係る粉塵の発生も避けられない問題
となっており、又この摩擦，摩耗が原因でヘッド・クラ
ッシュが起こる事がある。そこで磁気記録領域を傷めず
、ＣＳＳ領域を通常磁気ディスク媒体の磁気記録領域の
内周側に取りＣＳＳ動作のみを行い、外周側は情報記録
を行う磁気記録領域として使用している。
【０００３】従来の磁気ディスク媒体は非磁性Ａｌディ
スク媒体基板上に所定の膜厚のＮｉ−Ｐめっき膜を形成
させたＮｉ−Ｐ膜ディスク媒体基板をテープ研磨加工し
所定の表面粗さ０．０５μｍ Ｒｍａｘの同心円状，
異方性のない均一な凹部を形成し、次にスパッタリング
法でＣｒの下地膜を形成、さらに磁性金属Ｃｏ系膜層を
形成、その上カーボン保護膜層を形成し、次に全面に０
．０１５〜０．０３μｍの潤滑膜層を順次形成した。
スク媒体基板上に所定の膜厚のＮｉ−Ｐめっき膜を形成
させたＮｉ−Ｐ膜ディスク媒体基板をテープ研磨加工し
所定の表面粗さ０．０５μｍ Ｒｍａｘの同心円状，
異方性のない均一な凹部を形成し、次にスパッタリング
法でＣｒの下地膜を形成、さらに磁性金属Ｃｏ系膜層を
形成、その上カーボン保護膜層を形成し、次に全面に０
．０１５〜０．０３μｍの潤滑膜層を順次形成した。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】コンタクト・スタート
・ストップ（ＣＳＳ）方式と呼ばれる磁気ディスク媒体
と磁気ヘッドが接触状態のまま起動・停止する方式が採
用されている。この方式では磁気ディスク媒体上のＣＳ
Ｓ領域に磁気ヘッドが接触した状態で常に待機しており
、磁気ディスク装置を起動すると磁気ディスク媒体が回
転し、この回転に伴う空気流により磁気ヘッドが磁気デ
ィスク媒体面より浮上しアクセス駆動されて情報の記録
再生を行い、磁気ディスク装置が停止されると磁気ヘッ
ドが磁気ディスク媒体のＣＳＳ領域のある地点に着地し
、磁気ディスク媒体と接触した状態で維持される。しか
しこの方式では磁気ディスク媒体の磁気記録領域（メモ
リ部）で着地および浮上がなされなくなったが、磁気ヘ
ッドに着いた塵と、磁気ディスク媒体ＣＳＳ領域の塵や
潤滑剤ならびに水分が原因で衝撃的破損が起る事による
磁気ヘッド並びに磁気ディスク媒体の損傷が生じ、ＣＳ
Ｓ耐久性がいちじるしく落ちる問題を生じた。ＣＳＳ領
域で長期間にわたって接触吸着状態が継続した場合、塵
や潤滑剤，水分の作用も加味してＣＳＳ操作回数がさら
に増大する為故障の原因となり、磁気ヘッドと磁気ディ
スク媒体のＣＳＳ領域との衝撃回数が自然と増大する事
になり、やがて磁気ディスク装置の起動力が減少し、や
がて起動が不可能となる問題が生じる。そこで本発明の
目的は浮上安定性が高く、磁気ヘッド吸着問題もなく、
塵等潤滑剤による強い衝撃による損傷を少なく、ＣＳＳ
耐久性を向上させるためＣＳＳ領域と別に磁気ヘッド・
クリーニング領域をＣＳＳ領域より内周側に設け磁気記
録領域でのメモリ部の損傷を防ぎ、磁気ヘッドの塵を除
きたえず無塵状態にし、ＣＳＳ耐久性を持たせ、摩擦係
数の上昇を防ぎ、低浮上磁気ヘッド安定性を維持させる
目的でヘッド・クリーニング領域に潤滑膜層を持たせず
、保護膜層に、所定の微細な凹凸部を有する磁気ディス
ク媒体の製造法を提供するものである。
・ストップ（ＣＳＳ）方式と呼ばれる磁気ディスク媒体
と磁気ヘッドが接触状態のまま起動・停止する方式が採
用されている。この方式では磁気ディスク媒体上のＣＳ
Ｓ領域に磁気ヘッドが接触した状態で常に待機しており
、磁気ディスク装置を起動すると磁気ディスク媒体が回
転し、この回転に伴う空気流により磁気ヘッドが磁気デ
ィスク媒体面より浮上しアクセス駆動されて情報の記録
再生を行い、磁気ディスク装置が停止されると磁気ヘッ
ドが磁気ディスク媒体のＣＳＳ領域のある地点に着地し
、磁気ディスク媒体と接触した状態で維持される。しか
しこの方式では磁気ディスク媒体の磁気記録領域（メモ
リ部）で着地および浮上がなされなくなったが、磁気ヘ
ッドに着いた塵と、磁気ディスク媒体ＣＳＳ領域の塵や
潤滑剤ならびに水分が原因で衝撃的破損が起る事による
磁気ヘッド並びに磁気ディスク媒体の損傷が生じ、ＣＳ
Ｓ耐久性がいちじるしく落ちる問題を生じた。ＣＳＳ領
域で長期間にわたって接触吸着状態が継続した場合、塵
や潤滑剤，水分の作用も加味してＣＳＳ操作回数がさら
に増大する為故障の原因となり、磁気ヘッドと磁気ディ
スク媒体のＣＳＳ領域との衝撃回数が自然と増大する事
になり、やがて磁気ディスク装置の起動力が減少し、や
がて起動が不可能となる問題が生じる。そこで本発明の
目的は浮上安定性が高く、磁気ヘッド吸着問題もなく、
塵等潤滑剤による強い衝撃による損傷を少なく、ＣＳＳ
耐久性を向上させるためＣＳＳ領域と別に磁気ヘッド・
クリーニング領域をＣＳＳ領域より内周側に設け磁気記
録領域でのメモリ部の損傷を防ぎ、磁気ヘッドの塵を除
きたえず無塵状態にし、ＣＳＳ耐久性を持たせ、摩擦係
数の上昇を防ぎ、低浮上磁気ヘッド安定性を維持させる
目的でヘッド・クリーニング領域に潤滑膜層を持たせず
、保護膜層に、所定の微細な凹凸部を有する磁気ディス
ク媒体の製造法を提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は上記の磁気ディ
スク媒体のＣＳＳ領域での磁気ヘッドのランディング着
地，摺動からの浮上のくり返しによる塵，潤滑剤，水分
等の強い衝撃による損傷，長期接触による吸着減少等に
よる磁気ディスク起動しにくさの問題を解決するための
、磁気ディスク媒体のＣＳＳ領域とは異なった、内周側
に別の磁気ヘッド・クリーニング領域を設け、非磁性Ａ
ｌディスク媒体基板にＮｉ−Ｐめっき皮膜を形成した非
磁性Ｎｉ−Ｐディスク媒体基板を遊星運動研磨機でディ
スク媒体基板表面を０．１μｍ Ｒｍａｘ以下に研磨
加工し、非磁性ヘッド・クリーニング領域をそのままに
放置しそれ以外のいわゆる非磁性Ｎｉ−Ｐディスク媒体
のＣＳＳ領域・磁気記録領域にテープ研磨テクスチャー
加工を行いさらに微細な０．０５μｍ Ｒｍａｘ以下
の凹凸部を異方性なく形成した後Ｃｒ膜層、Ｃｏ系磁性
膜層、カーボン保護膜層を形成し、さらに潤滑膜層を形
成したのであるが、図１の１０に示すような特定の場所
であるヘッド・クリーニング領域をＣＳＳ領域の内周側
に設け、このヘッド・クリーニング領域の保護膜層を所
定の幅にわたって潤滑膜層が存在しないようにはからい
且、保護膜保護面に粗さ０．０８μｍ〜０．１０μｍ
Ｒｍａｘの凹凸部を有することを特徴とする磁気ディ
スク媒体の製造方法を提供するものである。又別の磁気
ディスク媒体はさらにヘッド・クリーニング領域にフラ
ティングあるいはミイリング操作で平面削りを行う加工
工程が非磁性Ｎｉ−Ｐディスク媒体のテープ研磨・テク
スチャー加工の行う前後いずれでも良く、溝削りは、図
３，図４に示す様に角度９０°，先端幅０．５μｍのダ
イヤモンド刃による深さ５μｍ、削り幅１０μｍ，溝ピ
ッチ１０μｍの螺旋状の溝を形成するか又は同心円状の
溝を形成した後、上記の様にＣｒ膜層，Ｃｏ系磁性膜層
，カーボン保護さらに潤滑膜層を形成した。しかし特別
な領域であるヘッド・クリーニング領域にのみ潤滑膜層
が存在せず、最終的にはこのヘッド・クリーニング領域
の保護膜層が粗さ０．１μｍ以下の凹凸部を形成した構
造平面上に加え、その１部を溝深さ３〜５μｍ，溝ピッ
チ５〜１０μｍ，溝幅８〜１０μｍの螺旋状の溝を形成
するか又は同心円状の溝を形成することによって磁気ヘ
ッドの塵，潤滑剤等を除去する目的を達成した。以上に
より、ＣＳＳ耐性を向上させることを特徴とする磁気デ
ィスク媒体の製造方法を提供するものである。
スク媒体のＣＳＳ領域での磁気ヘッドのランディング着
地，摺動からの浮上のくり返しによる塵，潤滑剤，水分
等の強い衝撃による損傷，長期接触による吸着減少等に
よる磁気ディスク起動しにくさの問題を解決するための
、磁気ディスク媒体のＣＳＳ領域とは異なった、内周側
に別の磁気ヘッド・クリーニング領域を設け、非磁性Ａ
ｌディスク媒体基板にＮｉ−Ｐめっき皮膜を形成した非
磁性Ｎｉ−Ｐディスク媒体基板を遊星運動研磨機でディ
スク媒体基板表面を０．１μｍ Ｒｍａｘ以下に研磨
加工し、非磁性ヘッド・クリーニング領域をそのままに
放置しそれ以外のいわゆる非磁性Ｎｉ−Ｐディスク媒体
のＣＳＳ領域・磁気記録領域にテープ研磨テクスチャー
加工を行いさらに微細な０．０５μｍ Ｒｍａｘ以下
の凹凸部を異方性なく形成した後Ｃｒ膜層、Ｃｏ系磁性
膜層、カーボン保護膜層を形成し、さらに潤滑膜層を形
成したのであるが、図１の１０に示すような特定の場所
であるヘッド・クリーニング領域をＣＳＳ領域の内周側
に設け、このヘッド・クリーニング領域の保護膜層を所
定の幅にわたって潤滑膜層が存在しないようにはからい
且、保護膜保護面に粗さ０．０８μｍ〜０．１０μｍ
Ｒｍａｘの凹凸部を有することを特徴とする磁気ディ
スク媒体の製造方法を提供するものである。又別の磁気
ディスク媒体はさらにヘッド・クリーニング領域にフラ
ティングあるいはミイリング操作で平面削りを行う加工
工程が非磁性Ｎｉ−Ｐディスク媒体のテープ研磨・テク
スチャー加工の行う前後いずれでも良く、溝削りは、図
３，図４に示す様に角度９０°，先端幅０．５μｍのダ
イヤモンド刃による深さ５μｍ、削り幅１０μｍ，溝ピ
ッチ１０μｍの螺旋状の溝を形成するか又は同心円状の
溝を形成した後、上記の様にＣｒ膜層，Ｃｏ系磁性膜層
，カーボン保護さらに潤滑膜層を形成した。しかし特別
な領域であるヘッド・クリーニング領域にのみ潤滑膜層
が存在せず、最終的にはこのヘッド・クリーニング領域
の保護膜層が粗さ０．１μｍ以下の凹凸部を形成した構
造平面上に加え、その１部を溝深さ３〜５μｍ，溝ピッ
チ５〜１０μｍ，溝幅８〜１０μｍの螺旋状の溝を形成
するか又は同心円状の溝を形成することによって磁気ヘ
ッドの塵，潤滑剤等を除去する目的を達成した。以上に
より、ＣＳＳ耐性を向上させることを特徴とする磁気デ
ィスク媒体の製造方法を提供するものである。
【０００６】
【実施例】（実施例１）次に本発明の実施例について図
面を参照して説明する。図１は、本発明の磁気ディスク
装置の磁気ディスク媒体の概要を示す。浮上型磁気ヘッ
ドは空気の剛性により０．２μｍと言う磁気ディスク媒
体との微小な空間を保ちつつ低浮上安定性を保ち待機し
ておりデータの書込み、読出し等の情報の記録・再生デ
ータの転送を行なうにはアクセス駆動制御によるアクセ
スアームの移動によって可動型磁気ヘッドを磁気ディス
ク媒体上の記憶位置（アドレス）の所定トラック番号（
シリンダー番号）上に持ってくる。この磁気ヘッドが所
定のトラック上に着て、今アクセスしようとする所定の
記憶装置，所定のアドレスのセクタ番号がこの磁気ヘッ
ドの下にきて始めて、データの転送が可能となる。
面を参照して説明する。図１は、本発明の磁気ディスク
装置の磁気ディスク媒体の概要を示す。浮上型磁気ヘッ
ドは空気の剛性により０．２μｍと言う磁気ディスク媒
体との微小な空間を保ちつつ低浮上安定性を保ち待機し
ておりデータの書込み、読出し等の情報の記録・再生デ
ータの転送を行なうにはアクセス駆動制御によるアクセ
スアームの移動によって可動型磁気ヘッドを磁気ディス
ク媒体上の記憶位置（アドレス）の所定トラック番号（
シリンダー番号）上に持ってくる。この磁気ヘッドが所
定のトラック上に着て、今アクセスしようとする所定の
記憶装置，所定のアドレスのセクタ番号がこの磁気ヘッ
ドの下にきて始めて、データの転送が可能となる。
【０００７】磁気ディスク媒体のシリンダ数の内、デー
タ記録用以外にセクタディスクというもう一つ別のイン
ディックス・ディスクが磁気ディスク媒体の最も外側の
トラック（０又は１）に設けられており、これにアクセ
スの基準点を検出するためのインデックスマークという
刻み目が入っている。なお最も内側のトラック（ｍ）付
近ｍ＋１，ｍ，ｍ−１には予備のディスクが設けられて
いる。そこで本発明の磁気ヘッド・クリーニング領域は
最も内側のトラック（ｍ）８付近の予備トラック（ｍ＋
１，ｍ，ｍ−１）の内、ｍ−１付近にコンタクト・スタ
ート・ストップ領域を設け、これとは異なった内周側に
別のトラックｍ又はｍ＋１付近に磁気ヘッド・クリーニ
ング領域（１１）を設け、ＣＳＳ領域（１０）での塵や
潤滑剤，水分，摩擦物が原因で衝撃的磁気ヘッドが磁気
ディスク媒体の損傷，起動装置のトラブルの問題の解決
を目的としてＣＳＳ耐久性を向上させる目的で磁気ヘッ
ド・クリーニング領域の塵，潤滑剤，摩擦物の除去する
目的が主眼となり以降の磁気ディスク媒体の製造方法を
説明して行く。
タ記録用以外にセクタディスクというもう一つ別のイン
ディックス・ディスクが磁気ディスク媒体の最も外側の
トラック（０又は１）に設けられており、これにアクセ
スの基準点を検出するためのインデックスマークという
刻み目が入っている。なお最も内側のトラック（ｍ）付
近ｍ＋１，ｍ，ｍ−１には予備のディスクが設けられて
いる。そこで本発明の磁気ヘッド・クリーニング領域は
最も内側のトラック（ｍ）８付近の予備トラック（ｍ＋
１，ｍ，ｍ−１）の内、ｍ−１付近にコンタクト・スタ
ート・ストップ領域を設け、これとは異なった内周側に
別のトラックｍ又はｍ＋１付近に磁気ヘッド・クリーニ
ング領域（１１）を設け、ＣＳＳ領域（１０）での塵や
潤滑剤，水分，摩擦物が原因で衝撃的磁気ヘッドが磁気
ディスク媒体の損傷，起動装置のトラブルの問題の解決
を目的としてＣＳＳ耐久性を向上させる目的で磁気ヘッ
ド・クリーニング領域の塵，潤滑剤，摩擦物の除去する
目的が主眼となり以降の磁気ディスク媒体の製造方法を
説明して行く。
【０００８】まず、非磁性Ａｌディスク媒体基板に０．
２〜０．４μｍに制御したＮｉ−Ｐめっき膜層を形成さ
せた非磁性Ｎｉ−Ｐディスク媒体基板の表面粗さ０．０
５μｍ Ｒｍａｘ以下にテープ研磨機で研磨し同心円
状の微細な粗さすなわち凹部の溝形成を行い、次にＡｒ
雰囲気でスパッタリング法により０．２〜０．４μｍの
Ｃｒ下地膜層形成し、次に同様な方法でＡｒ雰囲気でス
パッタリング法で操作し、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ，Ｃｏ−Ｎ
ｉ系磁性膜層を形成、次にカーボン保護膜層を形成し、
最終的には磁気ディスク媒体の表面粗さ０．０５μｍ
Ｒｍａｘ以下でスピンコート法でふっ素系オイル潤滑
剤パーフロロアルチルエーテルを塗布し０．００１５〜
０．００３μｍの均一な潤滑膜を磁気ヘッド・クリーニ
ング領域には塗布しないで、この領域以外のすなわちＣ
ＳＳ領域磁気記録領域に形成させた。 （実施例２）次に前記非磁性Ｎｉ−Ｐディスク媒体基板
１の全表面をテープ研磨機でテクスチャー加工を行い表
面粗さ０．１μｍ Ｒｍａｘ以下に研磨した後磁気ヘ
ッド・クリーニング領域トラックｍ＋１付近を残して他
の領域であるＣＳＳ領域，磁気記録領域，シリンダーア
ドレス，最も外円周側のトラックであるトラックアドレ
ス（０又は１）をさらに平坦性を出すため、テープ研磨
機でのテクスチャー加工で表面粗さ０．０５μｍ Ｒ
ｍａｘ以下に研磨した。
２〜０．４μｍに制御したＮｉ−Ｐめっき膜層を形成さ
せた非磁性Ｎｉ−Ｐディスク媒体基板の表面粗さ０．０
５μｍ Ｒｍａｘ以下にテープ研磨機で研磨し同心円
状の微細な粗さすなわち凹部の溝形成を行い、次にＡｒ
雰囲気でスパッタリング法により０．２〜０．４μｍの
Ｃｒ下地膜層形成し、次に同様な方法でＡｒ雰囲気でス
パッタリング法で操作し、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ，Ｃｏ−Ｎ
ｉ系磁性膜層を形成、次にカーボン保護膜層を形成し、
最終的には磁気ディスク媒体の表面粗さ０．０５μｍ
Ｒｍａｘ以下でスピンコート法でふっ素系オイル潤滑
剤パーフロロアルチルエーテルを塗布し０．００１５〜
０．００３μｍの均一な潤滑膜を磁気ヘッド・クリーニ
ング領域には塗布しないで、この領域以外のすなわちＣ
ＳＳ領域磁気記録領域に形成させた。 （実施例２）次に前記非磁性Ｎｉ−Ｐディスク媒体基板
１の全表面をテープ研磨機でテクスチャー加工を行い表
面粗さ０．１μｍ Ｒｍａｘ以下に研磨した後磁気ヘ
ッド・クリーニング領域トラックｍ＋１付近を残して他
の領域であるＣＳＳ領域，磁気記録領域，シリンダーア
ドレス，最も外円周側のトラックであるトラックアドレ
ス（０又は１）をさらに平坦性を出すため、テープ研磨
機でのテクスチャー加工で表面粗さ０．０５μｍ Ｒ
ｍａｘ以下に研磨した。
【０００９】さらにＡｒ雰囲気中でスパッタリング法に
よりＣｒ下地膜層０．２μｍ〜０．４μｍ次に問題をス
パッタリング法でＣｏ−Ｎｉ−Ｐ，又はＣｏ−Ｎｉ−Ｃ
ｒ系磁性膜層を０．０２〜０．０６μｍ形成し、さらに
カーボン保護膜層を０．０４〜０．０６μｍ形成し、次
にスピンコート法でふっ素系オイルパープロロアルキル
ポリエーテルを均一に０．００１５〜０．００３μｍの
均一な潤滑膜を磁気ヘッド・クリーニング領域以外につ
まりＣＳＳ領域，磁気記録領域（シリンダーアドレス）
最も外円周側のトラックであるトラックアドレス（０又
は１）に塗布し最終的には磁気記録領域，ＣＳＳ領の平
坦性により粗さ０．０５μｍＲｍａｘより粗い０．１μ
ｍ Ｒｍａｘの粗さを有すカーボン保護膜層のみで潤
滑膜のない磁気ヘッド・クリーニング領域を有する磁気
ディスク媒体の製造方法を得た。
よりＣｒ下地膜層０．２μｍ〜０．４μｍ次に問題をス
パッタリング法でＣｏ−Ｎｉ−Ｐ，又はＣｏ−Ｎｉ−Ｃ
ｒ系磁性膜層を０．０２〜０．０６μｍ形成し、さらに
カーボン保護膜層を０．０４〜０．０６μｍ形成し、次
にスピンコート法でふっ素系オイルパープロロアルキル
ポリエーテルを均一に０．００１５〜０．００３μｍの
均一な潤滑膜を磁気ヘッド・クリーニング領域以外につ
まりＣＳＳ領域，磁気記録領域（シリンダーアドレス）
最も外円周側のトラックであるトラックアドレス（０又
は１）に塗布し最終的には磁気記録領域，ＣＳＳ領の平
坦性により粗さ０．０５μｍＲｍａｘより粗い０．１μ
ｍ Ｒｍａｘの粗さを有すカーボン保護膜層のみで潤
滑膜のない磁気ヘッド・クリーニング領域を有する磁気
ディスク媒体の製造方法を得た。
【００１０】（実施例３）次に非磁性Ａｌディスク媒体
基板にＮｉ−Ｐめっき膜処理した非磁性Ｎｉ−Ｐディス
ク媒体基板１の表面全体をテープ研磨機で表面粗さ０．
０５μｍ Ｒｍａｘ以下にテクスチャー加工し平坦性
を持たせ、図３に示す先端形状幅０．５μｍ，角度９０
°のダイヤモンド刃を使用し表面粗さ０．０５μｍ
Ｒｍａｘの非磁性Ｎｉ−Ｐディスク媒体基板を２００ｒ
ｐｍ回転速度で平面削り速度４ｍｍ／ｍｉｓで、図４に
示す溝の深さ５μｍ，溝幅１０μｍ，溝ピッチ１０μｍ
の螺旋状の溝をＣＳＳ領域の内側のトラックｍからｍ＋
１の方向につまり磁気クリーニング領域の外周円側から
内周側に形成する。その上でＡｒ雰囲気中でスパッタリ
ング法によりＣｒ下地膜層０．２μｍ〜０．４μｍを形
成し、次にＣｏ−Ｎｉ−Ｐ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ系磁性膜
を同様のスパッタリング法により０．０２〜０．０６μ
ｍ形成しさらにＥＣＲスパッタリング法でカーボン保護
膜層０．０４〜０．０６μｍ形成し、さらに磁気ヘッド
・クリーニング領域を除いた領域にスピンコート法でふ
っ素オイルパープロロアルキルエーテルを塗布し、０．
００１５〜０．０００３μｍ潤滑膜層を形成してなる磁
気ディスク媒体を製造した。
基板にＮｉ−Ｐめっき膜処理した非磁性Ｎｉ−Ｐディス
ク媒体基板１の表面全体をテープ研磨機で表面粗さ０．
０５μｍ Ｒｍａｘ以下にテクスチャー加工し平坦性
を持たせ、図３に示す先端形状幅０．５μｍ，角度９０
°のダイヤモンド刃を使用し表面粗さ０．０５μｍ
Ｒｍａｘの非磁性Ｎｉ−Ｐディスク媒体基板を２００ｒ
ｐｍ回転速度で平面削り速度４ｍｍ／ｍｉｓで、図４に
示す溝の深さ５μｍ，溝幅１０μｍ，溝ピッチ１０μｍ
の螺旋状の溝をＣＳＳ領域の内側のトラックｍからｍ＋
１の方向につまり磁気クリーニング領域の外周円側から
内周側に形成する。その上でＡｒ雰囲気中でスパッタリ
ング法によりＣｒ下地膜層０．２μｍ〜０．４μｍを形
成し、次にＣｏ−Ｎｉ−Ｐ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ系磁性膜
を同様のスパッタリング法により０．０２〜０．０６μ
ｍ形成しさらにＥＣＲスパッタリング法でカーボン保護
膜層０．０４〜０．０６μｍ形成し、さらに磁気ヘッド
・クリーニング領域を除いた領域にスピンコート法でふ
っ素オイルパープロロアルキルエーテルを塗布し、０．
００１５〜０．０００３μｍ潤滑膜層を形成してなる磁
気ディスク媒体を製造した。
【００１１】（実施例４）次に非磁性Ａｌディスク媒体
基板にＮｉ−Ｐめっき処理した非磁性Ｎｉ−Ｐディスク
媒体基板を従来の遊星運動型研磨機で全面を０．１０μ
ｍ Ｒｍａｘ以下の粗さに研磨した後加圧ローラ（図
示していない）によって研磨テープを非磁性Ｎｉ−Ｐデ
ィスク媒体基板の表面に押圧し、この基板を回転させる
ことで表面粗さ０．０５μｍ Ｒｍａｘにテクスチャ
ー加工を行う、このテクスチャー加工は磁気ヘッド・ク
リーニング領域と言う特定の場所に所定幅にわたってト
レッドパタンの本数を増やし密にすると、その領域のみ
テクスチャー加工を重点的に行う事も出来る。さらに実
施例３と同様に、Ａｒ雰囲気中でスパッタリング法によ
りＣｒ下地膜層０．２〜０．４μｍを形成し、。次にＣ
ｏ−Ｎｉ−Ｐ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ系磁性膜をスパッタリ
ング法により０．０２〜０．０６μｍ形成。さらにＥＣ
Ｒスパッタリング法でカーボン保護膜層０．０４〜０．
０６μｍ形成し、次に磁気ヘッド・クリーニング領域を
除いた領域にスピンコート法でふっ素オイルパープロロ
アルキルエーテルを塗布し、０．００１５〜０．００３
μｍの潤滑膜層を形成し、最終的には潤滑膜のない表面
粗さ０．１μｍのカーボン保護膜層をする磁気ヘッド・
クリーニング領域を有する磁気ディスク媒体の製造を行
った。
基板にＮｉ−Ｐめっき処理した非磁性Ｎｉ−Ｐディスク
媒体基板を従来の遊星運動型研磨機で全面を０．１０μ
ｍ Ｒｍａｘ以下の粗さに研磨した後加圧ローラ（図
示していない）によって研磨テープを非磁性Ｎｉ−Ｐデ
ィスク媒体基板の表面に押圧し、この基板を回転させる
ことで表面粗さ０．０５μｍ Ｒｍａｘにテクスチャ
ー加工を行う、このテクスチャー加工は磁気ヘッド・ク
リーニング領域と言う特定の場所に所定幅にわたってト
レッドパタンの本数を増やし密にすると、その領域のみ
テクスチャー加工を重点的に行う事も出来る。さらに実
施例３と同様に、Ａｒ雰囲気中でスパッタリング法によ
りＣｒ下地膜層０．２〜０．４μｍを形成し、。次にＣ
ｏ−Ｎｉ−Ｐ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ系磁性膜をスパッタリ
ング法により０．０２〜０．０６μｍ形成。さらにＥＣ
Ｒスパッタリング法でカーボン保護膜層０．０４〜０．
０６μｍ形成し、次に磁気ヘッド・クリーニング領域を
除いた領域にスピンコート法でふっ素オイルパープロロ
アルキルエーテルを塗布し、０．００１５〜０．００３
μｍの潤滑膜層を形成し、最終的には潤滑膜のない表面
粗さ０．１μｍのカーボン保護膜層をする磁気ヘッド・
クリーニング領域を有する磁気ディスク媒体の製造を行
った。
【００１２】（実施例５）次に実施例２と同様の方法で
、非磁性Ｎｉ−Ｐディスク媒体基板１の表面全体をテー
プ研磨機を用いて表面粗さ０．１μｍ Ｒｍａｘ以下
のテクスチャー加工を行い同心円状の微細な溝つまり凹
部を形成し磁気ヘッド・クリーニング領域１０を除いた
さらに外周円側の領域つまりＣＳＳ領域９磁気記録領域
（シリンダーアドレス［０〜ｍ］）をテープ研磨機でよ
り平坦化するため表面粗さ０．０５μｍ Ｒｍａｘ以
下にテクスチャー加工を行った。
、非磁性Ｎｉ−Ｐディスク媒体基板１の表面全体をテー
プ研磨機を用いて表面粗さ０．１μｍ Ｒｍａｘ以下
のテクスチャー加工を行い同心円状の微細な溝つまり凹
部を形成し磁気ヘッド・クリーニング領域１０を除いた
さらに外周円側の領域つまりＣＳＳ領域９磁気記録領域
（シリンダーアドレス［０〜ｍ］）をテープ研磨機でよ
り平坦化するため表面粗さ０．０５μｍ Ｒｍａｘ以
下にテクスチャー加工を行った。
【００１３】さらにＣｒ下地膜層をＡｒ雰囲気中でスパ
ッタリング法により０．２〜０．４μｍ形成し、次にス
パッタリング法で同様にＣｏ−Ｎｉ−Ｐ，Ｃｏ−Ｎｉ−
Ｃｒ系磁性膜層を０．０２〜０．０６μｍ形成し、さら
にＥＣＲスパッタリング法でカーボン保護膜層を０．０
４〜０．０６μｍ形成し、このカーボン保護膜層を有す
る磁気ディスク媒体を回転させながら、ふっ素系パープ
ロロアルキルポリエーテル潤滑剤を含浸させた不織面を
ヘッド・クリーニング領域にのみ押し当てた後、フロン
洗浄を行ったカーボン保護膜層を有する磁気ディスクに
スピンコート法で磁気ヘッド・クリーニング領域の外円
周側からふっ素系オイルパープロロアルキルポリエーテ
ルを０．００１５〜０．００３μｍに均一の膜層に塗布
し、磁気記録領域（シリンダーアドレス）とＣＳＳ領域
に塗布した潤滑膜の厚さを０．００１５〜０．００３μ
ｍとし磁気ヘッ・ クリーニング領域の潤滑膜の厚さ
は約１／５の０．００３〜０．０００６μｍを有する磁
気ディスク媒体を得た。
ッタリング法により０．２〜０．４μｍ形成し、次にス
パッタリング法で同様にＣｏ−Ｎｉ−Ｐ，Ｃｏ−Ｎｉ−
Ｃｒ系磁性膜層を０．０２〜０．０６μｍ形成し、さら
にＥＣＲスパッタリング法でカーボン保護膜層を０．０
４〜０．０６μｍ形成し、このカーボン保護膜層を有す
る磁気ディスク媒体を回転させながら、ふっ素系パープ
ロロアルキルポリエーテル潤滑剤を含浸させた不織面を
ヘッド・クリーニング領域にのみ押し当てた後、フロン
洗浄を行ったカーボン保護膜層を有する磁気ディスクに
スピンコート法で磁気ヘッド・クリーニング領域の外円
周側からふっ素系オイルパープロロアルキルポリエーテ
ルを０．００１５〜０．００３μｍに均一の膜層に塗布
し、磁気記録領域（シリンダーアドレス）とＣＳＳ領域
に塗布した潤滑膜の厚さを０．００１５〜０．００３μ
ｍとし磁気ヘッ・ クリーニング領域の潤滑膜の厚さ
は約１／５の０．００３〜０．０００６μｍを有する磁
気ディスク媒体を得た。
【００１４】以上の実施例１〜５により製造された各磁
気ディスク媒体と従来法により製造された磁気ディスク
媒体とのＣＳＳ耐久試験の結果を図２に示した。このＣ
ＳＳ耐久試験は、従来法により製造された磁気ディスク
媒体はＣＳＳ領域のみでＣＳＳ操作を行った。次に実施
例１〜５によって製造された磁気ディスク媒体はＣＳＳ
領域で１０００回ＣＳＳ操作を行った度に磁気ヘッド・
クリーニング領域１０で２回ＣＳＳ操作を行った。又Ｃ
ＳＳ耐久試験にはＡｌ２ Ｏ３−ＴｉＣ焼結体製のコア
の荷重１５ｇのワトラヌジンドル型磁気ヘッドを使用し
た。
気ディスク媒体と従来法により製造された磁気ディスク
媒体とのＣＳＳ耐久試験の結果を図２に示した。このＣ
ＳＳ耐久試験は、従来法により製造された磁気ディスク
媒体はＣＳＳ領域のみでＣＳＳ操作を行った。次に実施
例１〜５によって製造された磁気ディスク媒体はＣＳＳ
領域で１０００回ＣＳＳ操作を行った度に磁気ヘッド・
クリーニング領域１０で２回ＣＳＳ操作を行った。又Ｃ
ＳＳ耐久試験にはＡｌ２ Ｏ３−ＴｉＣ焼結体製のコア
の荷重１５ｇのワトラヌジンドル型磁気ヘッドを使用し
た。
【００１５】以上の結果から表面粗さは０．０５μｍ
Ｒｍａｘよりは表面粗さ０．１μｍＲｍａｘの方が平
坦度を失ず吸着現象を防ぐ事になり又、テープ加工より
も遊星加工が良好である事が明らかになり、さらに潤滑
膜厚が存在するよりも潤滑膜層がない磁気ヘッド・クリ
ーニング領域の存在効果は、従来の潤滑膜を形成したＣ
ＳＳ領域の表面粗さ０．０５μｍ ＲｍａｘのＣＳＳ
耐久性効果よりもはるかに上まわる。磁気ディスク媒体
の繰り返しＣＳＳ操作による摩擦係数の上昇は従来の１
／３〜１／２に抑えられる。
Ｒｍａｘよりは表面粗さ０．１μｍＲｍａｘの方が平
坦度を失ず吸着現象を防ぐ事になり又、テープ加工より
も遊星加工が良好である事が明らかになり、さらに潤滑
膜厚が存在するよりも潤滑膜層がない磁気ヘッド・クリ
ーニング領域の存在効果は、従来の潤滑膜を形成したＣ
ＳＳ領域の表面粗さ０．０５μｍ ＲｍａｘのＣＳＳ
耐久性効果よりもはるかに上まわる。磁気ディスク媒体
の繰り返しＣＳＳ操作による摩擦係数の上昇は従来の１
／３〜１／２に抑えられる。
【００１６】
【発明の効果】以上のことから磁気ディスク媒体の極端
な平坦化は接触吸着現象の原因となるし、物理的機械的
に粗した突起凹凸部はＣＳＳ領域での磁気ヘッドスライ
ダー及び磁気ヘッドの薄膜の接触摺動運動塵による衝撃
摩耗の原因でヘッドクラッシュが起ることもある。
な平坦化は接触吸着現象の原因となるし、物理的機械的
に粗した突起凹凸部はＣＳＳ領域での磁気ヘッドスライ
ダー及び磁気ヘッドの薄膜の接触摺動運動塵による衝撃
摩耗の原因でヘッドクラッシュが起ることもある。
【００１７】本発明の様に磁気ディスク媒体のＣＳＳ領
域の最終表面の平坦化を失なわず、適度な凹凸部が吸着
現象を防止し、磁気ディスク装置の起動による磁気ヘッ
ドの接触摺動を短時間に終了し浮上待機する。なお塵，
潤滑，水分等の磁気ヘッドからの除去によるＣＳＳ耐久
性磁気記録膜層の損傷の防止ができ、ヘッド・クリーニ
ング領域の設定はさらにＣＳＳ耐久性の向上と高記録密
度化，高速アクセス化，高転送レート化に伴う低浮上磁
気ヘッドを可能にする磁気ディスク媒体の製造方法を提
供し効果を上げた。
域の最終表面の平坦化を失なわず、適度な凹凸部が吸着
現象を防止し、磁気ディスク装置の起動による磁気ヘッ
ドの接触摺動を短時間に終了し浮上待機する。なお塵，
潤滑，水分等の磁気ヘッドからの除去によるＣＳＳ耐久
性磁気記録膜層の損傷の防止ができ、ヘッド・クリーニ
ング領域の設定はさらにＣＳＳ耐久性の向上と高記録密
度化，高速アクセス化，高転送レート化に伴う低浮上磁
気ヘッドを可能にする磁気ディスク媒体の製造方法を提
供し効果を上げた。
【００１８】以上から磁気ヘッドの繰返しＣＳＳ操作に
よる摩擦係数の上昇は従来の１／３〜１／２になる効果
を示した。
よる摩擦係数の上昇は従来の１／３〜１／２になる効果
を示した。
【図１】本発明の実施例における磁気ディスク媒体の部
分断面図及び平面図である。
分断面図及び平面図である。
【図２】本発明の実施例におけるＣＳＳ試験の結果と従
来通りのＣＳＳ試験の結果の比較図を示したものである
。
来通りのＣＳＳ試験の結果の比較図を示したものである
。
【図３】本発明の請求項４の実施例を製造する為に必要
な研磨機の構成を示す図である。
な研磨機の構成を示す図である。
【図４】本発明の請求項４の実施例を製造する。
１ 非磁性Ｎｉ−Ｐ膜ディスク媒体基板２ Ｃｒ下
地膜層 ３ Ｃｏ系磁性膜層 ４ カーボン保護膜層 ５ 潤滑膜層 ６ 最も外側のトラック（０） ７ 最も内側のトラック（ｍ） ８ 駆動孔 ９ コンタクト・スタート・ストップ１０ 磁気ヘ
ッド・クリーニング領域１１ ｎセクタアドレス １２ シリンダ・アドレス｛０，１，・・・，ｍ｝１
３ ダイヤモンド刃 １４ 磁気ディスク内周方向 １５ 溝ピッチ １６ 溝幅 １７ 溝の深さ
地膜層 ３ Ｃｏ系磁性膜層 ４ カーボン保護膜層 ５ 潤滑膜層 ６ 最も外側のトラック（０） ７ 最も内側のトラック（ｍ） ８ 駆動孔 ９ コンタクト・スタート・ストップ１０ 磁気ヘ
ッド・クリーニング領域１１ ｎセクタアドレス １２ シリンダ・アドレス｛０，１，・・・，ｍ｝１
３ ダイヤモンド刃 １４ 磁気ディスク内周方向 １５ 溝ピッチ １６ 溝幅 １７ 溝の深さ
Claims (7)
- 【請求項１】コンタクト・スタート・ストップ方式を採
用している磁気ディスク装置における磁気ディスク媒体
において、コンタクト・スタート・ストップ領域と異な
る磁気ヘッド・クリーニング領域を有する磁気ディスク
媒体。 - 【請求項２】請求項１記載の磁気ディスク媒体における
磁気ヘッド・クリーニング領域に潤滑剤が塗布されてい
ることを、特徴とする磁気ディスク媒体。 - 【請求項３】請求項１記載の磁気ディスク媒体における
磁気ヘッド・クリーニング領域にテープ研磨によるラク
スチャー加工処理した同心円状の微細な凹部の溝を有す
ることを特徴とする磁気ディスク媒体の製造方法。 - 【請求項４】請求項１記載の磁気ディスク媒体における
磁気ヘッド・クリーニング領域に、螺旋状の微細な溝を
有することを特徴とする磁気ディスク媒体の製造方法。 - 【請求項５】請求項１記載の磁気ヘッド媒体における前
記磁気ヘッド・クリーニング領域に遊星運動型研磨機に
よって、非磁性Ｎｉ−Ｐディスク媒体基板に所定の微細
な凹凸部を形成した状態を残し、さらに、その上コンタ
クト・スタート・ストップ領域，磁気記録領域をテープ
研磨機によりさらに滑らかに研磨し所定の凹凸部を有す
ることを特徴とする磁気ディスク媒体。 - 【請求項６】請求項１記載の磁気ディスク媒体における
コンタクト・スタート・ストップ領域に、請求項５記載
の方法で遊星運動型研磨により形成した所定の凹凸部よ
りさらに滑かなＣＳＳ領域・磁気記録領域をテープ研磨
した事を特徴とする磁気ディスク媒体。 - 【請求項７】請求項５記載の磁気ディスク媒体の製造方
法において、磁気ヘッド・クリーニング領域に遊星運動
型研磨機により非磁性Ｎｉ−Ｐディスク媒体基板に所定
の微細な凹凸部を形成し、さらに他の領域すなわちコン
タクト・スタート・ストップ領域，磁気記録領域をテー
プ研磨機によりさらに滑かに研磨した所定の凹凸部を形
成し、さらにその上Ｃｒ膜層、Ｃｏ系磁性膜層カーボン
保護膜層を形成し最終的にはコンタクト・スタート・ス
トップ領域，磁気記録領域には潤滑膜を有し、潤滑膜の
ない保護膜層に微細な凹凸部を形成する磁気ヘッド・ク
リーニング領域を有することを特徴とする磁気ディスク
媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13173491A JPH04307410A (ja) | 1991-04-03 | 1991-04-03 | 磁気ディスク媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13173491A JPH04307410A (ja) | 1991-04-03 | 1991-04-03 | 磁気ディスク媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04307410A true JPH04307410A (ja) | 1992-10-29 |
Family
ID=15064950
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13173491A Pending JPH04307410A (ja) | 1991-04-03 | 1991-04-03 | 磁気ディスク媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04307410A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6088199A (en) * | 1997-05-15 | 2000-07-11 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Magnetic disk for self-cleaning a disk drive recording head |
| US6252742B1 (en) | 1997-07-02 | 2001-06-26 | Fujitsu Limited | Disk drive and floating head slider with means for minimizing dust accumulation thereon |
| JP2012033236A (ja) * | 2010-07-30 | 2012-02-16 | Toshiba Corp | 磁気ディスク装置およびスライダ制御方法 |
-
1991
- 1991-04-03 JP JP13173491A patent/JPH04307410A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6088199A (en) * | 1997-05-15 | 2000-07-11 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Magnetic disk for self-cleaning a disk drive recording head |
| US6252742B1 (en) | 1997-07-02 | 2001-06-26 | Fujitsu Limited | Disk drive and floating head slider with means for minimizing dust accumulation thereon |
| JP2012033236A (ja) * | 2010-07-30 | 2012-02-16 | Toshiba Corp | 磁気ディスク装置およびスライダ制御方法 |
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