JPH08249637A

JPH08249637A - 磁気ディスクおよびその製造方法ならびに磁気ディスク装置

Info

Publication number: JPH08249637A
Application number: JP7047652A
Authority: JP
Inventors: Takao Nakamura; 孝雄中村; Takao Yonekawa; 隆生米川; Hiroaki Hagimae; 広明萩前; Mitsuyoshi Otake; 光義大竹; Kiyoshi Akamatsu; 潔赤松; Kenji Furusawa; 賢司古沢; Akira Kato; 彰加藤; Yuichi Kokado; 雄一小角; Heigo Ishihara; 平吾石原; Yoichi Inomata; 洋一猪股
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1995-03-07
Filing date: 1995-03-07
Publication date: 1996-09-27
Also published as: EP0731451A3; EP0731451A2; SG89235A1; CN1138187A

Abstract

(57)【要約】【目的】ＣＳＳ領域とデータ領域に区分けされた磁気
ディスクを記憶媒体とする磁気ディスク装置の高記憶容
量および高信頼性を実現する。【構成】磁気ディスク１の表面にＣＳＳ領域２とデー
タ領域３を設け、それぞれの領域への微粒子の選択的な
付着および当該微粒子をマスクとするエッチングを繰り
返すことにより、磁気ヘッドがＣＳＳするＣＳＳ領域２
にはＣＳＳ特性を向上させるため径が３μｍ以下で高さ
が１５〜３０ｎｍの凸部４ａを選択的に形成するととも
に、浮上高さを補うべく、高さ５〜１５ｎｍの凸部４ｂ
を混在させ、磁気ヘッドにより情報を読み書きするデー
タ領域３には磁気ヘッドの低浮上安定性を確保するため
高さ５〜１５ｎｍの凸部４ｃを選択的に形成した磁気デ
ィスク１、および当該磁気ディスク１を記憶媒体とする
磁気ディスク装置である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスクおよびそ
の製造技術ならびに磁気ディスク装置に関し、特に薄膜
磁気ディスクのヘッド浮上特性やＣＳＳ特性、さらには
ヘッド粘着などの耐摺動特性の改善に適用して有効な技
術に関する。

【０００２】

【従来の技術】たとえば、情報処理システムにおける外
部記憶装置の一種である磁気ディスク装置では、媒体で
ある磁気ディスクにおける情報の記録密度が、原理上、
磁気ディスクと磁気ヘッドの間隙（磁気ディスクに対す
る磁気ヘッドの浮上高さ）に逆比例する関係にあるた
め、装置当たりの記憶容量の増大、すなわち、媒体の高
記録密度化の要請に呼応して磁気ディスクに対する磁気
ヘッドの低浮上化が必須となっている。

【０００３】このため、最近の磁気ディスク装置では、
装置の停止時には磁気ヘッドがディスク表面上に接触し
て静置し、また装置の稼動時には磁気ヘッドは回転する
ディスク面上を0.１μｍ〜0.２μｍの非常に狭い隙間で
浮上する、いわゆるＣＳＳ（Contact-Start-Stop）機能
を有する。

【０００４】このようなＣＳＳ機能を備えた磁気ディス
ク装置では、稼働停止状態において磁気ディスク表面に
磁気ヘッドが接触した状態で静置されるため磁気ヘッド
の固着が懸念される。このため、従来、磁性膜や保護膜
をスパッタリングやめっきなどで形成する薄膜磁気ディ
スクの表面には、ＣＳＳ特性の改善やＣＳＳ時のヘッド
粘着を回避することを目的として、Ｎi −Ｐめっきを施
したアルミニウム合金基板表面に砥粒を用いたテクスチ
ャ加工により微細な凹凸を形成している。

【０００５】一方、高記録密度を達成するためには、磁
気ヘッドの低浮上化が必須であり、上述のテクスチャ加
工した磁気ディスク面の表面粗さを小さくし、磁気ヘッ
ドと磁気ディスク表面との接触を回避すべく、磁気ディ
スクの表面は鏡面研磨した加工面の表面粗さに近い状態
になっている。このように、磁気ヘッドの浮上隙間を小
さくするためには、テクスチャ加工した面の表面粗さを
小さくする必要があるが、このような表面形状の磁気デ
ィスクでは、ＣＳＳ時に磁気ヘッドは、ディスクとの接
触時に接触面積が増加することによって摩擦力が増大
し、著しい場合にはディスク表面に粘着を生じ、磁気デ
ィスクの起動時に磁気ヘッドの支持系の破損やディスク
駆動モータの回転不能を生じるなどの問題があった。

【０００６】磁気ヘッドがＣＳＳを行うＣＳＳ領域にお
けるヘッドの粘着を解決する技術として、従来より多く
のものが提唱されている。たとえば、その一つとして、
特開平４−２３２６１４号公報の技術では、磁気ディス
クの一部に磁気ヘッドのＣＳＳ領域を設定し、ＣＳＳ領
域のみに大きな凹凸の表面形状を形成している。しかし
ながら、これらの方法は、ＣＳＳ時のヘッド粘着を回避
するためにＣＳＳ領域を粗くすることのみを示している
にすぎない。

【０００７】また、特開平４−１３９６２１号公報で
は、上記の問題の対策として、ノズルから噴き出した圧
縮空気で細かい砥粒をＣＳＳ領域に吹き付け、表面粗さ
Ｒｍａｘ0.２μｍ程度に「なし地面」とし、さらに研磨
テープで研磨することにより、ＣＳＳ領域での吸着特性
を改善し、またＣＳＳ領域とＣＳＳ領域以外の領域での
段差を小さくすることにより、磁気ヘッドの浮上を安定
化させようとする技術が開示されている。

【０００８】さらに、磁気ディスクの表面に微細な凹凸
を形成する方法として、砥粒による凹凸形成に代わる技
術が幾つか開示されている。たとえば、特開平３−２５
２９２２号公報の技術では、磁気ディスク表面に多数の
表面平坦な凸部をドライエッチングによる方法で形成
し、当該方法にて形成される凸部の高さおよび幅の望ま
しい値、さらには凸部の密度、凸部の面積比等の望まし
い値を開示している。また、特開平５−３３４６６５号
公報の技術では、ＣＳＳ領域に割り当てられた磁気ディ
スクの内周部に従来の砥粒によるテクスチャ加工に代わ
る表面形成方法によって凸部を形成し、その凸部の高さ
を規定し、データ領域に割り当てられた外周部には砥粒
による微細溝を形成し、当該微細溝の平均ピッチおよび
最大高さの望ましい値を開示している。

【０００９】しかしながら、これらの技術は、いずれも
磁気ディスク装置のＣＳＳ領域におけるＣＳＳ機能の改
善とヘッド粘着回避、また、それぞれの領域における磁
気ヘッドの浮上特性を満足させる観点から、磁気ディス
ク表面に形成した表面凹凸の形状、すなわち凸部の高
さ、凸部の幅、ピッチ、凸部の面積比率、また表面凹凸
の最大高さや、凸部高さを個別に開示しているにすぎな
い。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、図２に
示すようなＮｉ−Ｐめっき処理した基板にＣr 膜、Ｃo
系磁性膜、カーボン保護膜などをスパッタ法で形成した
薄膜磁気ディスクに対して、ＣＳＳ機能を満足させるた
め、従来の砥粒を用いるＮｉ−Ｐめっき基板に凹凸を形
成する方法と異なり、保護膜に凹凸をドライエッチング
にて形成する方法を検討してきた。また、前述したよう
に磁気ディスク装置の最も重要な性能であるヘッドの低
浮上特性およびＣＳＳ特性を満足する磁気ディスクの表
面性状について、特開平２−２８５５１５号公報に示す
ように、テクスチャ加工処理した磁気ディスクの表面を
測定して得られた表面形状データを解析し、表面粗さや
断面形状の対称性、さらに磁気ヘッドとの接触状態を表
わす負荷比率を見い出し、磁気ディスク装置のＣＳＳ機
能の改善とヘッド粘着の回避、さらに磁気ヘッドの浮上
特性に対して、最適な表面形状を検討してきた。

【００１１】その過程で、これら従来のＣＳＳ領域とデ
ータ領域とに記録領域を区分けした磁気ディスクでは、
次に示すような課題があり、従来技術の水準では、必ず
しもＣＳＳ領域とデータ領域とに領域を区分けした方が
有利であるとは限らないことが明らかになった。

【００１２】すなわち、データ領域では、ヘッド浮上量
を低くできてもＣＳＳ領域では、表面粗さに起因した浮
上高さの限界があったため、装置に組み込む場合、浮上
量を低くすることができなかった。特に浮上基準面から
のヘッド浮上高さが３０ｎｍ以下の極低浮上領域では、
ＣＳＳ領域のヘッド粘着を回避し、ＣＳＳ接線力の低減
を担う凸部が浮上の阻害要因となっていた。

【００１３】このため、データ領域では、ヘッドが接触
しない浮上量でもＣＳＳ領域では、ヘッドとディスク表
面が接触し、起動、停止回数が増えるとヘッドクラッシ
ュに至る場合があった。

【００１４】従って、ＣＳＳ領域ではヘッド粘着を回避
し、ＣＳＳ特性を満足させ、かつデータ領域では低浮上
でのヘッド浮上安定性を確保するためには、ＣＳＳ領域
およびデータ領域での表面性状を相互に関連付けて精度
良く制御することが重要である。

【００１５】また、ＭＲ（磁気抵抗効果）ヘッドを用い
てＣＳＳ領域に情報を記録したり再生したりする場合、
再生時にＭＲ素子とディスク面上の凸部が接触すると、
サーマルアスペリティが発生してしまい、信号を復調で
きないことが懸念される。

【００１６】すなわち、サーマルアスペリティとは、Ｍ
Ｒ素子部とディスク上の突起物が接触することによりＭ
Ｒ素子部の接触した部分が発熱してＭＲ素子の抵抗値が
瞬間的に上昇する現象を言う。ＭＲ素子は、磁界による
抵抗値の変化を電気信号に変換する動作原理を用いてい
るため、発熱して抵抗値が変化しても同様に電気信号に
変換される。このため、再生信号に、ディスク面上の凸
部との接触に伴うスパイク状のノイズ信号が重畳してし
まい、信号を正確に復調することができなくなる。従っ
て、従来のままの表面性状では、ＭＲヘッドを用いてＣ
ＳＳ領域にサーボ、セクタ、シリンダー情報など、磁気
ディスク装置に必要な装置情報を記録することができな
かった。

【００１７】本発明の目的は、ＣＳＳ領域とデータ領域
を区別して使用する磁気ディスクにおいて、データ領域
における磁気ヘッドの低浮上でのヘッド浮上安定性を確
保するとともに、ＣＳＳ領域におけるヘッド粘着の回避
およびＣＳＳ特性の向上を実現することが可能な磁気デ
ィスクおよびその製造技術を提供することにある。

【００１８】本発明の他の目的は、ＣＳＳ領域とデータ
領域を区別して使用する磁気ディスクにおいて、ＣＳＳ
領域における凹凸の形成によるヘッド粘着の回避および
ＣＳＳ特性の向上およびデータ領域における磁気ヘッド
の極低浮上化と、ＣＳＳ領域とデータ領域との間におけ
る磁気ヘッドの円滑なシークを両立させることが可能な
磁気ディスクおよびその製造技術を提供することにあ
る。

【００１９】本発明のさらに他の目的は、磁気ヘッドの
安定な低浮上化による記録密度の向上を実現することが
可能な磁気ディスクおよびその製造方法を提供すること
にある。

【００２０】本発明のさらに他の目的は、ＣＳＳ領域に
おける凹凸の形成によるヘッド粘着の回避およびＣＳＳ
特性の向上と、ＣＳＳ領域における情報の円滑な記録お
よび再生とを両立させることが可能な磁気ディスクおよ
びその製造技術を提供することにある。

【００２１】本発明のさらに他の目的は、ＣＳＳ領域お
よびデータ領域の各々の表面性状が精度良く制御された
磁気ディスクを記録媒体として備えることにより、デー
タ領域における磁気ヘッドの低浮上でのヘッド浮上安定
性を確保による高記録密度の達成と、ＣＳＳ領域におけ
るヘッド粘着の回避およびＣＳＳ特性の向上による動作
の信頼性の確保とを実現することが可能な磁気ディスク
装置を提供することにある。

【００２２】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、磁気ヘッ
ドの浮上隙間が0.１μｍ以下を要求する高記録密度の磁
気ディスクに対し、磁気ディスク装置の起動時におい
て、磁気ヘッドと磁気ディスクの安定な摺動が要求され
るＣＳＳ機能の領域と、情報を読み書きし磁気ヘッドの
低浮上が要求されるデータ領域とを区分けし、ＣＳＳ領
域ではヘッド粘着を回避し、ＣＳＳ特性を満足する表面
凹凸形状を形成し、かつデータ領域では低浮上でのヘッ
ド浮上安定性を確保し、読み書き信号の入出力を安定化
させる表面凹凸形状を形成し、さらに、それぞれの領域
に形成した表面凹凸形状が、当該両領域の間を磁気ヘッ
ドがシークする際のヘッド浮上特性の信頼性を向上させ
る高記録密度の可能な磁気ディスク装置を見出した。

【００２３】すなわち、磁気ディスクのＣＳＳ領域に
は、ヘッド粘着を回避し、ＣＳＳ特性を満足する高さお
よび大きさの複数種の孤立した凸部を混在して形成し、
磁気ヘッドとの接触状態を表わす前記磁気ディスク表面
の断面曲線から得られる負荷曲線において、前記断面曲
線の頂部から５ｎｍの高さにおける負荷比率ＢＲ５が0.
１〜１０％である表面性状とし、データ領域には、ＣＳ
Ｓ領域より高さが小さく、かつヘッド浮上特性に適した
密度、大きさの凸部を形成する。さらに、磁気ヘッドの
シークにおけるヘッド浮上特性の安定性を確保するた
め、それぞれの領域での表面凹凸から決まる磁気ヘッド
から見たそれぞれの平均面において、ＣＳＳ領域での平
均面がデータ領域での平均面より高く、その差が１０ｎ
ｍ以下、望ましくは５ｎｍ以下であるように磁気ディス
クのＣＳＳ領域およびデータ領域に形成される凸部の性
状を制御する。

【００２４】たとえば、ＣＳＳ領域を内周部に形成し、
ＣＳＳ領域から外周部をデータ領域とする磁気ディスク
においては、ＣＳＳ領域における磁気ヘッドの粘着を回
避し、ＣＳＳの回数（一般に２０，０００回）を保証
し、ＣＳＳ時のヘッドがディスク上を摺動する際の接線
力の増大を抑制するため、凸部の高さを数十ｎｍ、凸部
の大きさを数μｍ、凸部の密度を数万個／mm²に精度良
く制御し、この領域での負荷比率ＢＲ５を0.１〜１０％
にする。また、データ領域においては、本発明者らのこ
れまでの研究開発から表面粗さが0.５ｎｍＲａ以下の鏡
面状態より、高さ数ｎｍの凸部を形成した表面状態の方
が磁気ヘッドの浮上特性が優れていることが判明してい
る。そこで、ＣＳＳ領域における凸部より小さく、かつ
高さの低い数ｎｍ以上の凸部をデータ領域に形成し、こ
のデータ領域の負荷比率ＢＲ５をＣＳＳ領域より小さ
く、またデータ領域での平均面がＣＳＳ領域での平均面
より低くなるように凸部の大きさおよび密度を設定す
る。

【００２５】このような、高さ、大きさおよび密度を精
度良く制御してディスク面に凸部を形成する一つの手段
として、たとえば、図３に示すように、カーボン保護膜
を薄膜形成した磁気ディスクのＣＳＳ領域の表面に、形
成する凸部の大きさに近似の微細な粒子を付着させ、こ
の微細粒子をマスクとしドライエッチングによって保護
膜を数ｎｍ除去し、次にデータ領域およびＣＳＳ領域の
表面に、形成する凸部の大きさに近似の微細な粒子を設
定密度になるように付着させ、同様にドライエッチング
して凸部を形成し、それぞれの領域の微細粒子を洗浄除
去して、ＣＳＳ領域およびデータ領域にそれぞれの微細
な凸部を形成する。

【００２６】磁気ディスク内周側にＣＳＳを行うＣＳＳ
領域を設け、データの記録再生を行うデータ領域とＣＳ
Ｓ領域に別々の表面形状を形成した磁気ディスクに本発
明を適用する場合の磁気ディスクの表面形状の断面モデ
ル図とヘッド浮上高さｈｆの関係を図２０に示す。ＣＳ
Ｓ領域には、２種類の高さの凸部（凸部Ａ、凸部Ｂ）が
ランダムに混在した状態で存在する。データ領域には、
１種類の高さの凸部Ｃがランダムに存在する。この凸部
Ｃの大きさ、高さ、密度は、磁気ヘッドの極低浮上化を
達成できるように最適に設定される。ＣＳＳ領域の高さ
が高い方の凸部Ａは、磁気ヘッドの粘着回避、およびＣ
ＳＳ時の接線力の低減のために最適化された高さ、密
度、径で形成される。また、ＣＳＳ領域の高さが低い方
の凸部Ｂは、平均面高さ、つまりヘッドの浮上基準面を
上昇させるために最適化された高さ、密度、径で形成さ
れる。

【００２７】データ領域の凸部Ｃの高さは、ＣＳＳ領域
の低い方の凸部Ｂと同じ高さとすれば、同一エッチング
プロセスで両者を同時に形成できるため、製造プロセス
の点では好都合であるが、両者を異なる高さにしてもよ
い。浮上基準面高さは、凸部Ｂの高さ、密度の制御によ
りデータ領域よりＣＳＳ領域の方を１０ｎｍ以内の範囲
で高く設定する。

【００２８】本発明の磁気ディスク装置においては、磁
気ヘッドの浮上高さｈｆは、データ領域では、凸部Ｃの
高さより高く、ＣＳＳ領域の凸部Ａの高さより低く設計
することが可能であり、データ領域における浮上信頼性
を確保しつつ、高密度記録が可能なヘッド浮上高さを実
現する。

【００２９】

【作用】ＣＳＳ領域に形成した高さ数十ｎｍ、大きさ数
μｍ、密度数万個／mm²、負荷比率ＢＲ５が0.１〜１０
％の凸部により、ＣＳＳ領域における磁気ヘッドの粘着
を回避し、ＣＳＳの回数（一般に２０，０００回）を保
証し、ＣＳＳ時にヘッドがディスク上を摺動する際の接
線力の増大を抑制する。また、データ領域に、高さがＣ
ＳＳ領域より低く、負荷比率ＢＲ５がＣＳＳ領域より小
さく、また平均面がＣＳＳ領域より低くなるように大き
さ、密度を設定した凸部を形成することにより、磁気ヘ
ッドの浮上隙間が0.１μｍ以下でヘッドの浮上特性が大
幅に向上し、さらにＣＳＳ領域とデータ領域の間のシー
クでのヘッド浮上安定性が著しく向上する。

【００３０】ＣＳＳ領域に高さの異なる２種類以上の凸
部を混在させて形成することで、磁気ヘッドの吸着回避
や接線力の低減のための凸部Ａと、ＣＳＳ領域の平均面
高さを決めるための凸部Ｂとを別々に制御できる。すな
わち、磁気ヘッドの吸着を回避し、ＣＳＳ時の接線力を
低減するするために、凸部Ａの高さ、密度、大きさなど
を最適化でき、ヘッド吸着の回避、接線力の低減が可能
である。更にヘッド吸着を回避する役割を担う凸部Ａ以
外の凸部Ｂは、平均面高さ２６ａを高くすることに寄与
し、浮上面を上げるように作用する。

【００３１】凸部の配置は、高さの異なる２種類以上の
凸部を混在させながらランダムに配置した方が良い。な
ぜなら、回転するディスク上に特定の配置パターンを持
つ凸部が存在すると、その上を浮上するヘッドが共振し
てしまう可能性があるためである。

【００３２】図２０に例示されるように、本発明では、
データ領域でのヘッドの浮上高さは、ＣＳＳ領域の凸部
Ａの高さより低くなる。通常、ＣＳＳ領域の凸部の高さ
より低い浮上量で浮上するヘッドは、ＣＳＳ領域にシー
クして侵入すると、ＣＳＳ領域の粘着を回避するために
設けられている高さの高い凸部Ａに強く接触し、ヘッド
の浮上安定性が損なわれ、ひいては、摺動事故に至る場
合がある。しかし、本発明の磁気ディスクでは、凸部Ｂ
の存在により、ＣＳＳ領域の浮上面２７ａがデータ領域
の浮上面２７ｂよりもδｈｆだけ高くなるために、ＣＳ
Ｓ領域の凸部Ａに連続的に強く接触することを回避する
ように作用する。

【００３３】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照しながら
詳細に説明する。

【００３４】（実施例１）図１（ａ）および（ｂ）は、
本発明の一実施例である磁気ディスクの一例を示す平面
図および略断面図であり、図２は、その一部を拡大して
示す断面図、図３は、その製造方法の一例を示すフロー
チャートである。

【００３５】また、図１１は、本発明の一実施例である
磁気ディスク装置の一部を破断して示す斜視図である。

【００３６】図１１に示すように、本実施例の磁気ディ
スク装置は、複数の磁気ディスク１と、これらを同軸か
つ平行な姿勢で支持して回転駆動するスピンドル２１
と、板バネ２２ａを介して先端部に磁気ヘッド１９を支
持し、ピボット軸２２ｂを中心として回動するヘッドア
ーム２２と、このヘッドアーム２２を揺動させることに
よって、磁気ヘッド１９を磁気ディスク１の径方向にお
ける位置決め動作を行うボイスコイルモータ２３と、全
体の制御を司るコントローラが搭載された制御基板２
４、等で構成されている。

【００３７】図１６は、本実施例の磁気ヘッド１９を示
す斜視図である。磁気ヘッド１９は、コアスライダ１９
ａと、このコアスライダ１９ａの磁気ディスク１に対向
する摺動面２０の一端に配置され、ディジタル信号を電
磁変換することによって磁気ディスク１に対する情報の
記録および再生を行うトランスデューサ１９ｂで構成さ
れ、摺動面２０には、回転する磁気ディスク１の表面に
形成される気流によって浮上力を発生するスライドレー
ル１９ｃが形成されている。

【００３８】コアスライダ１９ａのスライドレール１９
ｃによって発生する浮力は、板バネ２２ａから作用する
押圧力に拮抗して、磁気ヘッド１９の全体を磁気ディス
ク１の表面から極僅かな間隙で浮上させる値に設定され
ており、磁気ディスク１の停止時には、磁気ヘッド１９
は、磁気ディスク１の表面に密着した状態となる。

【００３９】すなわち、本実施例では、磁気ヘッド１９
は、磁気ディスク装置の起動時および停止時においてＣ
ＳＳ動作を行い、磁気ディスク１では、図１に例示した
ように、このＣＳＳ動作が行われるＣＳＳ領域２（第１
の領域）と、通常のデータが記録／再生されるデータ領
域３（第２の領域）に区分けされている。

【００４０】以下、図１〜図７を用いて、本実施例の磁
気ディスク１のＣＳＳ領域２およびデータ領域３での新
規な表面性状の形成方法について説明する。

【００４１】図１および図２に例示されるように、たと
えば、外径９５ｍｍ、内径２５ｍｍの磁気ディスク１
は、アルミニウム合金基板１０の表面にＮｉ−Ｐめっき
９、下地膜８、磁性膜７、保護膜６、潤滑膜５を多層に
形成した構造となっている。

【００４２】本実施例の場合、この磁気ディスク１の半
径１８ｍｍ〜２１ｍｍのＣＳＳ領域２に高さＨ_A＝２０
ｎｍ、大きさ0.５μｍ、密度１×１０⁵個／mm²の凸部
４ａ、および高さ１０ｎｍ、大きさ0.５μｍ、密度５×
１０⁴個／mm²の凸部４ｂを形成し、また半径２１ｍｍ
より外周部のデータ領域３には高さＨｃ＝１０ｎｍ、大
きさ0.５μｍ、密度５×１０⁴個／mm²の凸部４ｃを形
成している。

【００４３】このような構造の本実施例の磁気ディスク
１の作成方法を以下に示す。外径９５ｍｍ、内径２５ｍ
ｍ、厚さ0.８ｍｍのアルミニウム合金基板１０にＮｉ−
Ｐめっき９を形成し、さらに表面粗さ0.５ｎｍＲａ以下
に鏡面研磨した基板に、Ｃrの下地膜８、Ｃo 系の磁性
膜７、カーボン等からなる保護膜６をそれぞれ膜厚４０
ｎｍ，５０ｎｍおよび３０ｎｍにスパッタ法で形成す
る。この保護膜６の表面に微細な凹凸を形成するドライ
エッチング処理を施し、さらにフッ素系の潤滑剤を、た
とえば膜厚５ｎｍの厚さに塗布して、潤滑膜５を形成す
る。

【００４４】この保護膜６の表面をドライエッチングし
て、微細な前述の凸部４ａ〜４ｃを形成する方法を、図
３および図４、図５を参照しながら詳細に説明する。

【００４５】これらの図に示すように、本実施例では、
ＣＳＳ領域２に凸部４ａを形成する第１プロセスと、Ｃ
ＳＳ領域２およびデータ領域３に凸部４ｂおよび凸部４
ｃを形成する第２プロセスとによって保護膜６面に凹凸
を形成する。この各プロセスでは、保護膜６の表面に選
択的に微細なフッ素樹脂粒子１３によるマスクを形成
し、このフッ素樹脂粒子１３をマスクとするエッチング
によって凹凸を形成する。

【００４６】このようなフッ素樹脂粒子１３のマスクを
形成するための、フッ素樹脂粒子１３の塗布装置の一例
を図６に示す。この塗布装置は、フッ素樹脂粒子１３を
付着させる保護膜形成基板１２を保持し、回転させる回
転軸１７（回転駆動部は図示せず）、保護膜形成基板１
２の両面のＣＳＳ領域２よりも内側の領域、あるいはデ
ータ領域３をマスクするために保護膜形成基板１２の両
側に配置され、たとえばフッ素樹脂等で構成される一対
のマスク部材１１ａ，１１ｂ、フッ素樹脂粒子１３を微
細な粒径に分散させるフッ素樹脂粒子作成槽１８、フッ
素樹脂粒子１３を搬送する窒素ガス１４、フッ素樹脂粒
子１３を間欠的に噴射する噴射ノズル１５、フッ素樹脂
粒子１３に電荷を付加する印加電極１６から構成されて
いる。

【００４７】次に、上述の塗布装置を用いて、保護膜６
を薄膜形成した保護膜形成基板１２のＣＳＳ領域２およ
びデータ領域３にフッ素樹脂粒子１３を塗布し、微細な
凹凸を形成する方法の一例を以下に示す。

【００４８】保護膜形成基板１２を回転軸１７に固定
し、かつ該ディスクのＣＳＳ領域２を除き、内周および
外周部分をマスク部材１１ａ，１１ｂで覆う。一方、粒
径１μｍのフッ素樹脂粒子１３を有機溶剤に分散させ、
さらに窒素ガス１４の流れの中に噴霧し、窒素ガス１４
とともに噴射ノズル１５から流出するフッ素樹脂粒子１
３に印加電極１６により電荷を付加し、該保護膜形成基
板１２のマスク部材１１ａ，１１ｂ以外の部分、すなわ
ちＣＳＳ領域２にフッ素樹脂粒子１３を塗布する（図
４、ステップ９ａ）。

【００４９】次に、このフッ素樹脂粒子１３が付着した
保護膜形成基板１２を酸素によってドライエッチングす
る。この時、保護膜６の表面においてフッ素樹脂粒子１
３の付着した部位はエッチングされず、フッ素樹脂粒子
１３以外の部分がエッチング除去され、図７に示すよう
に保護膜形成基板１２のマスク部材１１ａ，１１ｂ以外
の部分、すなわちＣＳＳ領域２に、フッ素樹脂粒子１３
の位置および大きさに応じた微細な凹凸が形成される
（図４、ステップ９ｂ）。

【００５０】次に、図６に示した回転軸１７に再度、保
護膜形成基板１２を固定し、前述のＣＳＳ領域２よりも
内側の部分のみをマスク部材１１ａによってマスクし、
このマスク部材１１ａ以外の部分、すなわちＣＳＳ領域
２およびデータ領域３に前述と同様にフッ素樹脂粒子１
３を塗布する（図４、ステップ９ｃ）。さらに、この保
護膜形成基板１２を酸素により同様にドライエッチング
する（図５、ステップ９ｄ）。最後に、保護膜面に塗布
したフッ素樹脂粒子１３を純水によりスクラブ洗浄し、
保護膜形成基板１２の表面から除去する（図５、ステッ
プ９ｅ）。

【００５１】このように、フッ素樹脂粒子１３を塗布す
るプロセスおよびドライエッチングのプロセスをそれぞ
れ２回行うことによって、薄膜形成した保護膜形成基板
１２の表面には、ＣＳＳ領域２およびその外側のデータ
領域３には、図７に示すような凹凸を形成することがで
きる。

【００５２】ここで、それぞれの領域で形成された凹凸
形状を前述の凹凸を形成するプロセスの経過にしたがっ
てさらに詳細に説明する。ＣＳＳ領域２の凹凸は、おお
よそ高さ（Ｈ_A）が２０ｎｍの凸部４ａと、高さが１０
ｎｍの凸部４ｂから形成されている。高さが２０ｎｍの
凸部４ａは、最初にフッ素樹脂粒子１３が付着し、２度
のドライエッチングで浸食されることなく残存して形成
された凸部であり、また高さが１０ｎｍの凸部４ｂは、
ＣＳＳ領域２において最初のフッ素樹脂粒子１３の付着
工程でフッ素樹脂粒子１３は付着せずに最初のエッチン
グを受けた部分に、第２回目の付着工程でフッ素樹脂粒
子１３が付着し、このフッ素樹脂粒子１３が２回目のド
ライエッチングでのマスクとなり、浸食されることなく
残存して形成された凸部である。

【００５３】また、データ領域３での凹凸形状は、おお
よそ高さ（Ｈ_C）が１０ｎｍの凸部４ｃで形成され、こ
れは、マスク部材１１ｂで隠蔽されることによって、最
初のフッ素樹脂粒子１３の付着工程でフッ素樹脂粒子１
３は付着せずに、最初のエッチングを受けた部分に、第
２回目のフッ素樹脂粒子１３の付着工程でフッ素樹脂粒
子１３が付着し、このフッ素樹脂粒子１３がマスクとな
って２回目のエッチング工程で残存することによって形
成されたものである。

【００５４】凸部の高さは、保護膜６をエッチングする
酸素のガス圧力、パワー、エッチング時間などのドライ
エッチングの条件によって任意に制御することができ
る。図８に、エッチング時間と凸部の高さとの関係の一
例を示す。凸部の高さは、エッチング時間に反比例して
いることがわかる。本実施例では、凸部の高さ（すなわ
ち一回当たりの浸食深さ）が１０ｎｍになるエッチング
条件を用いた。また凸部の大きさや密度は、上述のプロ
セスから容易にわかるように、フッ素樹脂粒子１３の大
きさおよび保護膜６の表面に塗布する密度を制御するこ
とによって随意に精度良く制御することができる。

【００５５】図９に、フッ素樹脂粒子１３の径とエッチ
ングにより形成した凸部径との関係を示す。凸部径は、
フッ素樹脂粒子１３の径より若干小さくなるが、ほとん
ど近い径になり、フッ素樹脂粒子１３の大きさに比例し
ている。

【００５６】また、図１０に、フッ素樹脂粒子１３の塗
布条件である噴射ノズル１５からの噴射回数と保護膜６
の表面に付着したフッ素樹脂粒子１３の密度との関係を
示す。噴射ノズル１５からの噴射回数のほかに塗布する
保護膜形成基板１２の回転数、噴射ノズル１５からの距
離、塗布時間、さらにはマスク部材１１ａ，１１ｂの材
質などが塗布したフッ素樹脂粒子１３の密度に関係す
る。

【００５７】このように、凸部の大きさおよび密度は、
フッ素樹脂粒子１３の塗布条件によって容易に精度良く
制御することができる。本実施例では、データ領域３の
場合、粒径0.５μｍのフッ素樹脂粒子１３を用い、噴射
ノズル１５からの噴射回数５回、保護膜形成基板１２の
回転数５ｒｐｍ、噴射ノズル１５と保護膜形成基板１２
との距離４０ｍｍ、塗布時間１０ｓ、マスク部材１１
ａ，１１ｂの材質をフッ素樹脂とした条件で塗布し、形
成した凸部は大きさ0.５μｍ、密度５×１０⁴個／mm²
であった。また、ＣＳＳ領域２の場合には、他を同一の
条件とし、噴射ノズル１５からの噴射回数７回で、形成
した凸部は大きさ0.５μｍ、密度１×１０⁵個／mm²で
あった。

【００５８】また磁気ヘッド１９との接触状態を表わす
磁気ディスク１の表面の断面曲線から得られる負荷曲線
において、断面曲線の頂部から５ｎｍにおける負荷比率
ＢＲ５は、0.５〜1.２％であった。このＣＳＳ領域２お
よびデータ領域３に凹凸を形成した保護膜形成基板１２
に潤滑剤を塗布し、潤滑膜５を形成して磁気ディスク１
を作成した。

【００５９】上記の磁気ディスク１を、図１１に示す磁
気ディスク装置によって、図１６に示す磁気ヘッド１９
を用い、ヘッド浮上特性およびＣＳＳ特性、ヘッド粘着
の特性を調べた結果、非常に良好な結果が得られた。す
なわち、情報を読み書きするデータ領域３において磁気
ディスク１の表面上を浮上する磁気ヘッド１９の浮上隙
間が８０ｎｍで安定し、高記録密度を達成した。また磁
気ディスク装置の停止時に磁気ヘッド１９が静置するＣ
ＳＳ領域２においては、ヘッド粘着は生じず、ＣＳＳ時
でのＣＳＳ接線力も４０ｍＮ以下の非常に小さな摺動抵
抗であり、ＣＳＳ回数は１０⁵回以上であった。

【００６０】また、上記の磁気ディスク１のＣＳＳ領域
２とデータ領域３とで、磁気ヘッド１９がシークする場
合のヘッド浮上安定性を次に示す。

【００６１】保護膜形成基板１２のＣＳＳ領域２とデー
タ領域３に、フッ素樹脂粒子１３の粒径や、塗布密度を
変えてフッ素樹脂粒子１３のマスクを形成し、ドライエ
ッチングによってそれぞれの領域に種々の表面性状の微
細な凹凸を形成した。ここで、これらの凹凸表面の平均
線２６は図１９に示すように表面粗さ曲線ｆ（ｘ）に仮
想の直線を設定した場合、直線と表面粗さ曲線ｆ（ｘ）
（２５）とで囲まれる上部の成分（図中の点で示す領
域）と下部の成分（図中の斜線で示す領域）とが等しく
なる直線を平均線２６と表わす。したがって、ＣＳＳ領
域２およびデータ領域３の凹凸を示す図１７の表面形状
を示す図１８の表面粗さ曲線２５ａ，２５ｂから、ＣＳ
Ｓ領域２およびデータ領域３に異なる高さの凸部を形成
した場合、それぞれの平均線２６ａと２６ｂは、段差を
生じる。これらの段差は、凸部の高さ、大きさ、密度に
よって異なる。そこで、表１に示すように、種々の凸部
の表面をＣＳＳ領域２およびデータ領域３に形成し、そ
のときの段差を測定し、磁気ヘッド１９がシークした場
合の浮上安定性を調べた。

【００６２】

【表１】

【００６３】この結果、ＣＳＳ領域２とデータ領域３と
の段差は、１０ｎｍ以内（望ましくは５ｎｍ以内）の場
合、磁気ヘッド１９の浮上安定性が良いことがわかっ
た。

【００６４】このＣＳＳ領域２とデータ領域３との段差
が１０ｎｍ以内になるように、保護膜形成基板１２に形
成した凸部の高さについて、ドライエッチングのエッチ
ング時間を制御し、凸部の高さが０〜３０ｎｍの磁気デ
ィスク１を作成し、磁気ディスク装置のＣＳＳ特性、ヘ
ッド浮上特性を調べた。このときの凸部の大きさは0.５
μｍ、密度５×１０⁴個／mm²とし、また磁気ヘッド１
９との接触状態を表わす断面曲線の頂部から５ｎｍにお
ける負荷比率ＢＲ５は、0.５〜1.２％とした。図１２に
示すように、凸部の高さが大きくなるにしたがって、Ｃ
ＳＳ特性は向上し、反対にヘッド浮上特性は劣化するこ
とがわかる。また、凸部の高さが小さくなるにしたがっ
て、ＣＳＳ特性は悪くなり、ヘッド浮上特性は凸部高さ
が0.５ｎｍから３０ｎｍの範囲では向上するが、凸部高
さが0.５ｎｍ以下になると浮上特性は劣化する傾向にあ
る。ここで、磁気ディスク装置の記憶容量やアクセス時
間（要求する信号を読み出すまでに要する時間）、要求
されるＣＳＳ回数、磁気ディスク１を回転駆動するスピ
ンドル２１（モータ）のトルクや回転数などの装置性能
によって、要求されるＣＳＳ特性やヘッド浮上特性は異
なる。

【００６５】本磁気ディスク装置に要求されるＣＳＳ特
性およびヘッド浮上特性と、凸部高さとの関系の一例を
表２に示す。

【００６６】

【表２】

【００６７】ＣＳＳ特性およびヘッド浮上特性をともに
満足する凸部の高さは無く、ＣＳＳ特性を達成する凸部
の高さは２０ｎｍ以上であり、ヘッド浮上特性を達成す
る凸部の高さは５ｎｍ〜１０ｎｍであった。

【００６８】次に、保護膜形成基板１２に形成した凸部
の大きさについて、基板に塗布するフッ素樹脂粒子１３
の大きさを変え、ドライエッチングにより凸部径0.５μ
ｍ〜５μｍの凸部を形成した磁気ディスク１を作成し、
磁気ディスク装置のＣＳＳ特性を調べた。このときの凸
部は高さ２０ｎｍ、密度５×１０⁴個／mm²とした。図
１３に示すように、凸部径が大きくなるにしたがって、
ＣＳＳ接線力は増大し、またＣＳＳ接線力のばらつきも
大きくなった。さらに、凸部径が大きくなると、情報を
読み書きする磁気ヘッド１９による出力信号のノイズが
増大し、信号エラーになる場合が生じた。本磁気ディス
ク装置が要求するＣＳＳ特性および電気特性から、凸部
径は、４μｍ以下であった。また、出力信号のノイズを
含めた電気信号から、望ましくは１μｍ以下であった。

【００６９】保護膜形成基板１２に形成した凸部の密度
の影響を把握すべく、保護膜形成基板１２に塗布する粒
径１μｍのフッ素樹脂粒子１３の付着密度を変化させ
て、ドライエッチングにより形成した凸部の密度を、２
×１０⁴個／mm²〜２×１０⁶個／mm²に変化させた磁
気ディスク１を作成し、磁気ディスク装置のＣＳＳ特性
を調べた。このときの凸部の高さ２０ｎｍ、凸部径を１
μｍとした。

【００７０】図１４に示すように、凸部の密度が低くな
るにしたがって、ＣＳＳ接線力は低減する。また、凸部
の密度が著しく小さくなり、磁気ヘッド１９の摺動面に
存在しなくなるとＣＳＳ接線力のばらつきが顕著にな
り、ＣＳＳ特性を劣化させるので、凸部は磁気ヘッド１
９の摺動面２０の範囲内に少なくとも常に１つ以上存在
することが必要である。また、凸部の密度が高すぎる
と、ヘッド粘着力が大きくなり、磁気ディスク１の起動
時に、磁気ディスク１の回転不能や磁気ヘッド１９の損
傷などのトラブルが生じた。これらは、いずれも磁気ヘ
ッド１９の摺動面２０との接触状態に起因し、凸部の大
きさと凸部の密度とに関係する。すなわち、凸部径およ
び密度とともに、磁気ヘッド１９との接触状態を表わす
磁気ディスク１の表面性状を示す負荷比率ＢＲ５の評価
が必要である。この負荷比率ＢＲ５は、磁気ディスク１
の表面の凹凸形状を表わす負荷曲線から得られ、表面の
凸部の頂部から５ｎｍの切断面が該基準面に対する比率
を表す。

【００７１】そこで、この負荷比率ＢＲ５を用いて、Ｃ
ＳＳ特性を調べた。図１５に示すように、負荷比率ＢＲ
５が小さくなるにしたがって初期のＣＳＳ接線力は減少
することがわかる。すなわち、磁気ヘッド１９の摺動面
２０と接触する面積が少なくなり、磁気ヘッド１９との
摺動時の抵抗力が低減するためである。一方、磁気ヘッ
ド１９の摺動面２０との接触面が少ないと、ヘッド荷重
による面圧が大きくなり、磁気ディスク１の表面の凸部
の磨耗が激しくなる。したがって、図１５に示している
ように、負荷比率ＢＲ５が著しく小さくなると、ＣＳＳ
が２０，０００回後のＣＳＳ接線力は増大し、磁気ディ
スク装置の稼働中におけるヘッドクラッシュなどの問題
が生じる。

【００７２】以上の結果から、磁気ディスク１の表面の
凸部の形状は、磁気ディスク１のＣＳＳ領域２とデータ
領域３とで異なり、磁気ヘッド１９がＣＳＳするＣＳＳ
領域２では、凸部の高さは１５ｎｍ以上（望ましくは２
０ｎｍ以上）、凸部径４μｍ以下、凸部密度２×１０⁴
個／mm²〜５×１０⁵個／mm²、負荷比率ＢＲ５が0.１
〜１０％とし、また磁気ヘッド１９の浮上隙間を小さく
かつ安定な浮上性を要求されるデータ領域３では、凸部
の高さを５〜１５ｎｍ（望ましくは５〜１０ｎｍ）、凸
部径４μｍ以下、凸部密度２×１０⁴個／mm²〜５×１
０⁵個／mm²、負荷比率ＢＲ５がＣＳＳ領域での負荷比
率ＢＲ５より小さくした。

【００７３】このように、本実施例の表面性状を有する
磁気ディスク１によれば、ＣＳＳ領域２に高さ、径およ
び分布密度が制度良く制御された互いに孤立した比較的
高い凸部４ａを形成したことにより、ヘッド固着防止や
ＣＳＳ特性の向上を図れるとともに、データ領域３に形
成された低い凸部４ｃによる、当該データ領域３での磁
気ヘッド１９の安定した極低浮上化によるデータ記録密
度の増大を実現できる。

【００７４】また、後述の実施例２において詳述するよ
うに、ＣＳＳ領域２において高い凸部４ａと混在してラ
ンダムに形成された低い凸部４ｂの存在により、当該Ｃ
ＳＳ領域２における平均面高さが、データ領域３の平均
面高さよりも高くなるので、データ領域３からＣＳＳ領
域２にシークする磁気ヘッド１９の凸部４ａに対する接
触を回避して円滑なシークを実現できるとともに、ＣＳ
Ｓ領域２における磁気ヘッド１９の安定した浮上特性も
確保できる。

【００７５】このことは、たとえば、サーマルアスペリ
ティ等により、磁気ディスク１の表面に対する接触の悪
影響を受けやすい、ＭＲ素子を用いた磁気ヘッド１９に
よる、ＣＳＳ領域２への的確な情報の記録／再生が可能
なことを意味しており、たとえば、磁気ディスク装置の
仕様等の管理情報の記録にＣＳＳ領域２を有効に利用す
ることが可能となる。

【００７６】（実施例２）次に、ＣＳＳ領域２に形成す
る凸部の面積比率を変化させた場合、浮上基準面がどの
ように変化するかを確認した。このときの凸部高さは１
０ｎｍ、直径はほぼ２μｍ、密度を約２×１０³から３
×１０⁵個／mm²の範囲で変化させて面積比率を変え
た。

【００７７】ここで浮上基準面とは、ヘッド浮上高さを
表わすときの基準面であり、基板面が理想的な平面なら
ば、その面が浮上基準面となる。また、基板面に粗さが
ある場合、その粗さ面を平均化した面、すなわち平均面
高さが浮上基準面となる。また、凸部の面積比率とは、
磁気ディスク１上の単位面積当りに存在する凸部の合計
面積の比率で表わすこととする。磁気ディスク１の表面
の凹凸の底部からの平均面高さは、凸部高さと凸部面積
比率の積で表わせる。今回、凸部高さを１０ｎｍとした
ため、凸部面積比率に比例して平均面高さは上昇し、こ
れに伴い浮上基準面も平均面高さと同様に上昇し、１０
０％で１０ｎｍ上昇するはずである。

【００７８】結果を図２１に示す。凸部の面積比率を高
くすると浮上基準面（平均面高さ）がほぼ直線的に上昇
することが判る。

【００７９】この結果を元に最適な凸部をＣＳＳ領域２
に適用することで、浮上基準面を上昇させ、ＣＳＳ時に
も安定した浮上を確保することができた。まず、その製
造プロセスを以下に示す。基本的には、実施例１に例示
した図４、図５および図６の方法を用いた。

【００８０】保護膜形成基板１２に磁性膜７、カーボン
等の保護膜６を積層して構成される磁気ディスク１を、
内周部にＣＳＳ領域２だけが開口したマスク部材１１
ａ，１１ｂで覆い、この開口部のみにフッ素樹脂粒子１
３を所定の粒子密度なるよう塗布する。この後、酸素に
よるドライエッチングを行い磁気ディスク１の表面全体
の保護膜６を所定量エッチング除去し、ＣＳＳ接線力の
低減やヘッド粘着の回避を担う第１の凸部Ａ（２５ａ）
を形成する。

【００８１】フッ素樹脂粒子１３が付着した状態のまま
もう一度、この磁気ディスク１にＣＳＳ領域２のみが開
口したマスク部材１１ａ，１１ｂで覆い、当該ＣＳＳ領
域２のみにフッ素樹脂粒子１３を所定の面積比率になる
ように塗布する。たとえば、約４５％の面積比率になる
よう塗布時間を延長して塗布した。

【００８２】更に、ＣＳＳ領域２を選択的に露出させて
いたマスク部材１１ａ，１１ｂを外し、磁気ディスク１
の全面にマスク用のフッ素樹脂粒子１３を塗布する。こ
の時は、データ領域３の浮上基準面が上昇しない程度の
密度になるよう粗密度に塗布する。

【００８３】この磁気ディスク１に対して、再度、酸素
によるドライエッチングを施し第２の凸部Ｂ（２５
ｂ）、および凸部Ｃ（２５ｃ）を形成する。この後、フ
ッ素樹脂粒子１３をスクラブ洗浄除去して、カーボン保
護膜に図２０で示すような断面形状を示すＣＳＳ領域を
持つ磁気ディスク１を得た。

【００８４】以上の工程により比較的容易に所望の凹凸
の性状を有するＣＳＳ領域２が形成された磁気ディスク
１を得ることができる。この磁気ディスク１のＣＳＳ領
域２の凸部の密度分布は、図２２に示すとおり凸部Ａと
凸部Ｂが、それぞれ１５ｎｍ、１０ｎｍ程に明確に分離
して分布している。そして、凸部の密度は、凸部Ａが約
1.５×１０³個／mm²、凸部Ｂが約1.５×１０⁵個／mm
²である。

【００８５】従来の磁気ディスクにおける、ＣＳＳ領域
の負荷曲線を２種類上げる。図２６（ａ）は、ガラス基
板上に高さ１５ｎｍ程のドット状の凸部を形成したディ
スク用基板に記録用磁性膜、保護膜を形成した磁気ディ
スクの表面形状を特徴づける負荷曲線である。この表面
形状は、基板上にほぼ同一形状、同一高さの凸部（ドッ
ト）を印刷形成したものであるから、負荷比率が０から
５％程に一つだけのカ−ブを描く負荷曲線になる。この
ドットは、ヘッド粘着の回避やＣＳＳ接線力の低減を担
う凸部となる。しかし、浮上基準面を上昇させる役割を
担う機能は無い。

【００８６】一方、図２６（ｂ）は、ＮｉＰめっき基板
上に円周方向に微細な溝加工を施したＣＳＳ領域を持つ
ディスク用基板に、記録用磁性膜、保護膜を形成した磁
気ディスク上のＣＳＳ領域の表面形状を特徴づける負荷
曲線である。砥粒による微細な溝加工では、負荷曲線の
ＢＲ５ｎｍと平均面高さを独立して制御することは困難
である。

【００８７】本実施例の磁気ディスク１の内周側に設け
たＣＳＳ領域２の負荷曲線を図２３に示す。ヘッド粘着
の回避やＣＳＳ接線力の低減を担う凸部Ａと、ＣＳＳ領
域２における浮上基準面の上昇を担う凸部Ｂがランダム
に混在するために、負荷曲線が２段のステップ状のカー
ブを描くと言う特徴を有している。このカーブの１段
目、すなわち負荷比率が０から４％程の間の曲線は、凸
部Ａに起因する曲線であり、ＣＳＳ領域２におけるヘッ
ド粘着の回避、ＣＳＳ接線力の低減の役割を担う。また
このカーブの２段目は、ステップ状に表れ、負荷比率が
４５％程までの間の曲線は、凸部Ｂに起因する曲線であ
り、ある範囲に渡ってほぼ平坦な部分を示す。この部分
が磁気ヘッド１９の浮上基準面を上昇させる役割を担う
凸部Ｂを特徴付ける。

【００８８】ここで、本実施例のＣＳＳ領域２において
面積比率が４５％の場合、図２１から明らかなように浮
上基準面が約４ｎｍ〜５ｎｍ上昇する。このため、たと
えばヘッド浮上高さｈｆが２０ｎｍの場合、凸部Ａの高
さが２０ｎｍでもＣＳＳ領域２では、磁気ヘッド１９と
凸部Ａが連続接触することは無い。また凸部Ａは、密
度、面積比率が凸部Ｂより約１桁低いため、浮上基準面
にはほとんど寄与しない。本実施例では、凸部Ｂの高さ
が１０ｎｍとした場合であり、凸部Ｂの高さが異なる場
合、新たな凸部面積比率と浮上基準面高さの関係を求め
なければならない。このように、ＣＳＳ領域２において
異なる高さおよび密度の凸部を混在させた本発明の負荷
曲線は、上記に示した図２６（ａ）、図２６（ｂ）の従
来の磁気ディスクのＣＳＳ領域の表面形状から得られる
負荷曲線とは、明らかに異なるものである。

【００８９】ただし、本発明のＣＳＳ領域２を持つ磁気
ディスク１でも断面形状を最適な設定に選ばなければな
らない。たとえば、凸部Ａの面積比率が0.１〜１０％の
範囲ならば、ＣＳＳ接線力を低く抑えられるが、凸部Ｂ
との差が５ｎｍより小さいと上記範囲でもＣＳＳ接線力
は上昇する。従って、凸部Ａと凸部Ｂの高さの差は、５
ｎｍ以上が望ましい。また、凸部Ｂの面積比率が１０％
程では、磁気ヘッド１９の浮上基準面を上昇させる作用
は少ないが、面積比率を７０％より高くすると磁気ヘッ
ド１９の浮上基準面は上昇するが、ＣＳＳ接線力も上昇
する。

【００９０】なお、上述のように凸部Ａの高さ、密度、
面積比率と凸部Ｂの高さ、密度、面積比率は、広い範囲
で設定可能であるが、磁気ヘッド１９のＣＳＳ接線力や
浮上高さを考慮して、要求される仕様に適した最適値を
設定しなければならない。

【００９１】（実施例３）上述の実施例１および実施例
２では、ＣＳＳ領域２において最も高い凸部４ａ（Ａ）
と混在する凸部４ｂ（Ｂ）は、データ領域３における凸
部４ｃ（Ｃ）と同時に形成されるため、高さが凸部４ｃ
（Ｃ）とほぼ等しくなる。これに対して、この実施例３
では、ＣＳＳ領域２に形成する凸部Ｂとデータ領域３に
形成する凸部Ｃの高さが異なる表面形状の磁気ディスク
１を製造するプロセスと、この表面形状を持つ磁気ディ
スク１の新たな効果について説明する。

【００９２】表面形状は、一例として凸部Ａの高さを１
６ｎｍ、凸部Ｂの高さを８ｎｍ、凸部Ｃの高さを４ｎｍ
とし、各凸部の直径はほぼ２μｍ、密度は凸部Ａを約3.
５×１０³個／mm²、凸部Ｂを約1.５×１０⁵個／m
m²、凸部Ｃを約2.７×１０³個／mm²と設定してディ
スクを製造した。この時の凸部の面積比率は、凸部Ａが
約1.１％、凸部Ｂが約４７％、凸部Ｃが約0.８％とな
る。

【００９３】その製造プロセスを以下に示す。基本的に
は、実施例１および実施例２に例示した図４、図５およ
び図６の方法を用いる。

【００９４】まず、ディスク用基板に磁性記録膜、カー
ボン等からなる保護膜６を積層した磁気ディスク１を、
内周部にＣＳＳ領域２だけが開口するようにマスク部材
１１ａ，１１ｂで覆い、磁気ディスク１の表面のＣＳＳ
領域２に選択的にフッ素樹脂粒子１３を約3.５×１０³
個／mm²の粒子密度（面積比率約1.１％）で塗布する。
この時、塗布したフッ素樹脂粒子１３は、凸部Ａを形成
するマスクとなる。この後、酸素によるドライエッチン
グを行い磁気ディスク１の表面の保護膜６を８ｎｍエッ
チング除去し、ＣＳＳ接線力の低減やヘッド粘着の回避
を担う第１の凸部Ａを形成する。

【００９５】次に、以前のフッ素樹脂粒子１３が付着し
た状態のまま、もう一度、この磁気ディスク１にＣＳＳ
領域２のみが開口したマスク部材１１を覆い、ＣＳＳ領
域２のみにフッ素樹脂粒子１３を約1.５×１０⁵個／mm
²の粒子密度（面積比率約４７％）になるように塗布す
る。この後、酸素によるドライエッチングを行い、磁気
ディスク１の表面の保護膜６を更に４ｎｍエッチング除
去し、浮上基準面の上昇を担う第２の凸部Ｂを形成す
る。

【００９６】更に、ＣＳＳ領域形成用のマスク部材１１
ａ，１１ｂを外し、以前のフッ素樹脂粒子１３が付着し
た状態のまま、磁気ディスク１の保護膜６の全面にフッ
素樹脂粒子１３のマスクを約2.７×１０³個／mm²の粒
子密度（面積比率約0.８％）になるように塗布する。こ
の後、磁気ディスク１の保護膜６の全面を再度、酸素に
よるドライエッチングにより４ｎｍエッチング除去し、
第３の凸部Ｃを形成する。

【００９７】この後、保護膜６の表面のフッ素樹脂粒子
１３をスクラブ洗浄によって除去し、潤滑材を塗布し
て、保護膜６に図２４で示すような断面形状を示す磁気
ディスク１を得た。

【００９８】以上の工程により、ディスク表面に数種類
の異なる高さに制御された凸部を持つ磁気ディスク１を
得ることができる。

【００９９】本実施例の磁気ディスク１の内周側に設け
たＣＳＳ領域２の負荷曲線の一例を図２５に示す。ヘッ
ド粘着の回避やＣＳＳ接線力の低減を担う凸部Ａと、Ｃ
ＳＳ領域２で浮上基準面の上昇を担う凸部Ｂと、データ
領域３と同じ高さの凸部Ｃがランダムに混在するため
に、負荷曲線が３段のステップ状のカーブを描くと言う
特徴を有している。

【０１００】このカーブの１段目、すなわち負荷比率が
０から1.１％程の間の曲線は、凸部Ａに起因する曲線で
あり、ＣＳＳ領域２におけるヘッド粘着の回避、ＣＳＳ
接線力の低減の役割を担う。また負荷比率が４７％程ま
での間のにステップ状に現れる２段目の曲線は、凸部Ｂ
に起因する曲線であり、この部分がヘッドの浮上基準面
を上昇させる役割を担う凸部Ｂを特徴付ける。更に負荷
比率が５０％程に現れている肩状の曲線は、データ領域
に形成した凸部Ｃによるもので、ＣＳＳ領域２では、面
積比率が低いために磁気ヘッド１９の浮上に影響を及ぼ
すことはない。データ領域３に形成した凸部Ｃは、低い
浮上量（２５ｎｍ以下）でもヘッド浮上安定性を向上さ
せる効果があることが実験により確認されている。

【０１０１】図２５に示す本実施例の負荷曲線から、凸
部Ａと凸部Ｂと凸部Ｃを含めた負荷比率は、約４９％で
ある。実際に磁気ヘッド１９を浮上させ、ＣＳＳ領域２
の浮上基準面高さを測定したところ、凸部の面積比率と
凸部高さの積とほぼ等しい約４ｎｍの浮上基準面の上昇
が確認された。

【０１０２】このため、たとえばヘッド浮上高さｈｆが
１５ｎｍの場合、凸部Ａの高さが１６ｎｍでもＣＳＳ領
域２では、磁気ヘッド１９と凸部Ａが連続接触すること
は無い。

【０１０３】更に、データ領域３の凸部Ｃの高さは、Ｃ
ＳＳ領域２に形成される他の凸部から独立して制御が可
能であるため、データ領域３における磁気ヘッド１９の
浮上安定性を確保できる最小の高さに調整が可能であ
る。このため、データ領域３においては、磁気ヘッド１
９と凸部Ｃとの隙間が拡大し、つまり浮上マージンを大
きくすることができる。これは、磁気ディスク装置にと
ってヘッドクラッシュなどの摺動故障に対する信頼性向
上に寄与する。

【０１０４】次に比較例として、凸部Ｂと凸部Ｃを形成
しない磁気ディスクを製造し、本発明の磁気ディスクと
の摺動信頼性の比較を行った。両方の磁気ディスクとも
凸部Ａは、約3.５×１０³個／mm²の粒子密度（面積比
率約1.１％）、凸部高さ１６ｎｍで形成した。

【０１０５】ＣＳＳ領域２に磁気ヘッド１９を配置し、
磁気ディスク１を３００ｒｐｍで回転させて磁気ヘッド
１９と磁気ディスク１を連続接触摺動させて磁気ディス
ク１の摺動強度を比較した。この摺動条件では（回転数
が３００ｒｐｍ、線速度が0.６３ｍ／ｓ）、磁気ヘッド
１９は浮上せず、凸部Ａの上面を潤滑材を介して滑って
いる状態である。摺動強度の比較は、磁気ディスク１が
クラッシュに至るまでのパス回数とした。また、それぞ
れの磁気ディスク１の試験面数は、１０面で行った。

【０１０６】その結果、比較例として凸部Ｂと凸部Ｃを
形成しない磁気ディスク１の全ての面は、約２５，００
０から４０，０００パスてクラッシュに至った。一方、
本実施例の磁気ディスクは、１０面とも６０，０００パ
スを経過してもクラッシュには至らなかった。この理由
は、ＣＳＳ領域２で磁気ヘッド１９を支持している凸部
Ａの上面に、高さの異なる凸部Ｂ、凸部Ｃから潤滑材の
供給が行われているためと推定される。

【０１０７】このように、本発明の負荷曲線を持つ磁気
ディスク１は、従来の負荷曲線を持つ磁気ディスクとは
明らかに異なり、磁気ヘッド１９の低浮上量化、摺動強
度の向上などの優れた効果が得られる。

【０１０８】以上説明したように、本発明の上述の各実
施例によれば、磁気ディスクのＣＳＳ領域およびデータ
領域にそれぞれの機能に適した凸部を任意に形成してい
るので、この磁気ディスクを用いた磁気ディスク装置の
ＣＳＳ特性やヘッド粘着、かつ磁気ヘッドの低浮上特性
を向上させ、磁気ディスク装置の高記録密度かつ摺動信
頼性を大幅に改善できる。

【０１０９】すなわち、ＣＳＳ領域では磁気ヘッドとの
摺動信頼性を向上させるため、ＣＳＳ領域に形成する凸
部の高さはデータ領域より高くし、また磁気ヘッドとの
接触状態を表わす負荷比率ＢＲ５はデータ領域より大き
くし、ヘッド粘着を改善する。データ領域では、磁気ヘ
ッドの浮上特性を損なわない高さの凸部を形成し、磁気
ヘッドの摺動面に対して少なくとも１つ以上の凸部を形
成しているので、磁気ヘッドの浮上不安定時でのディス
ク表面への損傷を改善できる。

【０１１０】さらに、ＣＳＳ領域およびデータ領域での
凸部の高さ、大きさおよび密度を調整することによっ
て、磁気ヘッドから見た磁気ディスクの凸部を含めた平
均値の高さの差を１０ｎｍ以内にしているので、磁気ヘ
ッドがＣＳＳ領域とデータ領域との領域をシークする際
に、磁気ヘッドの浮上性を損なうことがなく、磁気ディ
スクの信頼性を大幅に改善することができた。

【０１１１】また、本発明の負荷曲線を示す表面形状を
持つＣＳＳ領域を磁気ディスクに設けることにより、Ｃ
ＳＳ領域の平均面高さは、データ領域の平均面高さより
高くすることができ、ＣＳＳ領域の浮上基準面をデータ
領域の浮上基準面高さより高くできる。即ち、ＣＳＳ領
域で浮上基準面が上昇することで、ＣＳＳ領域の凸部高
さからヘッド浮上高さまでの浮上マージンを広くするこ
とができる。このことは、ＣＳＳ領域おいて、磁気ヘッ
ドとＣＳＳ領域の凸部との接触頻度を低下させることに
なり、ＣＳＳの信頼性が向上する。特に浮上基準面から
のヘッド浮上高さが３０ｎｍ以下の極低浮上領域では、
ＣＳＳ領域の凸部の高さが浮上の阻害要因となりうる
が、本発明の磁気ディスクでは、ＣＳＳ領域の凸部でヘ
ッド粘着、ＣＳＳ時の接線力低減しつつ、３０ｎｍ以下
の低浮上が可能となった。さらに、データ領域での磁気
ヘッドの浮上量は、ＣＳＳ領域の凸部の高さ以下に低下
させることが可能であり、高密度記録が可能となった。

【０１１２】また、磁気ヘッドとしてＭＲヘッドを用い
た場合、ＣＳＳ領域でもＭＲヘッドとＣＳＳ領域の凸部
との接触に伴うサーマルアスペリティの発生を低減する
ことができるのでデータ領域と同様に情報を再生でき
る。

【０１１３】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。

【０１１４】たとえば、上述の各実施例の説明では、一
例として、磁気ディスクの表面の最上層の保護膜に、高
さ、径、さらには分布密度等が精度良く制御された凹凸
を形成する技術を例示したが、保護膜の下側の任意の各
層、あるいは下地の基板表面において、上述の制御され
た凹凸を形成し、この凹凸が磁気ディスクの表面形状に
反映されるように制御することも本発明に含まれる。

【０１１５】また、ＣＳＳ領域を磁気ディスクの内周部
に設定する場合を例に採って説明したが、磁気ディスク
の外周部あるいは内外周部に設定する構成も本発明に含
まれる。

【０１１６】さらに、上述の各実施例では保護膜として
カーボン膜を例にとって説明したが、ダイヤモンド状カ
ーボンやダイヤモンド膜、またＳi Ｏ₂、Ｓi Ｃなどの
酸化膜や炭化膜などの保護膜を用いてもよい。

【０１１７】

【発明の効果】本発明の磁気ディスクによれば、ＣＳＳ
領域とデータ領域を区別して使用する磁気ディスクにお
いて、データ領域における磁気ヘッドの低浮上でのヘッ
ド浮上安定性を確保するとともに、ＣＳＳ領域における
ヘッド粘着の回避およびＣＳＳ特性の向上を実現するこ
とができる、という効果が得られる。

【０１１８】また、本発明の磁気ディスクによれば、Ｃ
ＳＳ領域とデータ領域を区別して使用する磁気ディスク
において、ＣＳＳ領域における凹凸の形成によるヘッド
粘着の回避およびＣＳＳ特性の向上およびデータ領域に
おける磁気ヘッドの極低浮上化と、ＣＳＳ領域とデータ
領域との間における磁気ヘッドの円滑なシークを両立さ
せることができる、という効果が得られる。

【０１１９】また、本発明の磁気ディスクによれば、デ
ータ領域における磁気ヘッドの極低浮上化による記録密
度の向上を実現することができる、という効果が得られ
る。

【０１２０】また、本発明の磁気ディスクによれば、Ｃ
ＳＳ領域における凹凸の形成によるヘッド粘着の回避お
よびＣＳＳ特性の向上と、ＣＳＳ領域における情報の円
滑な記録および再生とを両立させることができる、とい
う効果が得られる。

【０１２１】また、本発明の磁気ディスクの製造方法に
よれば、ＣＳＳ領域とデータ領域を区別して使用する磁
気ディスクにおいて、データ領域における磁気ヘッドの
低浮上でのヘッド浮上安定性を確保するとともに、ＣＳ
Ｓ領域におけるヘッド粘着の回避およびＣＳＳ特性の向
上を実現することができる、という効果が得られる。

【０１２２】また、本発明の磁気ディスクの製造方法に
よれば、ＣＳＳ領域とデータ領域を区別して使用する磁
気ディスクにおいて、ＣＳＳ領域における凹凸の形成に
よるヘッド粘着の回避およびＣＳＳ特性の向上およびデ
ータ領域における磁気ヘッドの極低浮上化と、ＣＳＳ領
域とデータ領域との間における磁気ヘッドの円滑なシー
クを両立させることができる、という効果が得られる。

【０１２３】また、本発明の磁気ディスクの製造方法に
よれば、データ領域における磁気ヘッドの極低浮上化に
よる記録密度の向上を実現することができる、という効
果が得られる。

【０１２４】また、本発明の磁気ディスクの製造方法に
よれば、ＣＳＳ領域における凹凸の形成によるヘッド粘
着の回避およびＣＳＳ特性の向上と、ＣＳＳ領域におけ
る情報の円滑な記録および再生とを両立させることがで
きる、という効果が得られる。

【０１２５】本発明の磁気ディスク装置によれば、ＣＳ
Ｓ領域およびデータ領域の各々の表面性状が精度良く制
御された磁気ディスクを記録媒体として備えることによ
り、データ領域における磁気ヘッドの低浮上でのヘッド
浮上安定性を確保による高記録密度の達成と、ＣＳＳ領
域におけるヘッド粘着の回避およびＣＳＳ特性の向上に
よる動作の信頼性の確保とを実現することができる、と
いう効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】（ａ）および（ｂ）は、本発明の一実施例であ
る磁気ディスクの一例を示す平面図および略断面図であ
る。

【図２】本発明の一実施例である磁気ディスクの一部を
拡大して示す断面図である。

【図３】本発明の一実施例である磁気ディスクの製造方
法の一例を示すフローチャートである。

【図４】本発明の一実施例である磁気ディスクの製造方
法の一例を、図５と併せて、工程順に示す断面図であ
る。

【図５】本発明の一実施例である磁気ディスクの製造方
法の一例を、図４と併せて、工程順に示す断面図であ
る。

【図６】本発明の一実施例である磁気ディスクの製造方
法に用いられるフッ素樹脂粒子の塗布装置の一例を示す
概念図である。

【図７】本発明の一実施例である磁気ディスクの表面形
状の変化の一例を、プロセス順に示す概念図である。

【図８】本発明の一実施例である磁気ディスクの製造方
法におけるエッチング時間と凸部の高さとの関係の一例
を示す線図である。

【図９】本発明の一実施例である磁気ディスクの製造方
法におけるフッ素樹脂粒子の径と凸部の大きさとの関係
の一例を示す線図である。

【図１０】本発明の一実施例である磁気ディスクの製造
方法におけるフッ素樹脂粒子の噴射回数と凸部の密度と
の関係の一例を示す線図である。

【図１１】本発明の一実施例である磁気ディスク装置の
一部を破断して示す斜視図である。

【図１２】本発明の一実施例である磁気ディスクにおけ
る凸部の高さとＣＳＳ特性との関係の一例を示す線図で
ある。

【図１３】本発明の一実施例である磁気ディスクにおけ
る凸部の径とＣＳＳ接線力との関係の一例を示す線図で
ある。

【図１４】本発明の一実施例である磁気ディスクにおけ
る凸部の密度とＣＳＳ接線力との関係の一例を示す線図
である。

【図１５】本発明の一実施例である磁気ディスクの表面
性状を表す負荷比率ＢＲ５とＣＳＳ接線力との関係の一
例を示す線図である。

【図１６】本発明の一実施例である磁気ディスク装置に
備えられる磁気ヘッドの一例を示す斜視図である。

【図１７】本発明の一実施例である磁気ディスクにおけ
るＣＳＳ領域とデータ領域の平均面のレベルの差異の一
例を示す断面図である。

【図１８】本発明の一実施例である磁気ディスクにおけ
る表面粗さ曲線の一例を示す概念図である。

【図１９】表面粗さ曲線から平均面レベルを算出する方
法の一例を示す概念図である。

【図２０】本発明の一実施例である磁気ディスクにおけ
るＣＳＳ領域とデータ領域の断面形状の一例を模式的に
示すモデル図である。

【図２１】本発明の一実施例である磁気ディスクの製造
方法における凸部の面積比率と浮上基準面高さの関係の
一例を示す線図である。

【図２２】本発明の一実施例である磁気ディスクのＣＳ
Ｓ領域における凸部の分布密度の一例を示す説明図であ
る。

【図２３】本発明の一実施例である磁気ディスクのＣＳ
Ｓ領域における負荷曲線の一例を示す線図である。

【図２４】本発明の一実施例である磁気ディスクにおけ
るＣＳＳ領域とデータ領域の断面形状の一例を模式的に
示すモデル図である。

【図２５】本発明の一実施例である磁気ディスクのＣＳ
Ｓ領域における負荷曲線の一例を示す線図である。

【図２６】（ａ）および（ｂ）は、従来の磁気ディスク
のＣＳＳ領域の表面形状から得られる負荷曲線の一例を
示す線図である。

【符号の説明】

１…磁気ディスク、２…ＣＳＳ領域（第１の領域）、３
…データ領域（第２の領域）、４ａ…凸部（第１の凸
部）、４ｂ…凸部（第２の凸部）、４ｃ…凸部（第３の
凸部）、５…潤滑膜、６…保護膜、７…磁性膜、８…下
地膜、９…Ｎｉ−Ｐめっき、１０…アルミニウム合金基
板、１１…マスク部材、１２…保護膜形成基板、１３…
フッ素樹脂粒子、１４…窒素ガス、１５…噴射ノズル、
１６…印加電極、１７…回転軸、１８…フッ素樹脂粒子
形成槽、１９…磁気ヘッド、２０…磁気ヘッドの摺動
面、２５ａ…凸部Ａ（第１の凸部）、２５ｂ…凸部Ｂ
（第２の凸部）、２５ｃ…凸部Ｃ（第３の凸部）、２６
ａ…ＣＳＳ領域の平均面高さ、２６ｂ…データ領域の平
均面高さ、２７ａ…ＣＳＳ領域のヘッド浮上面、２７ｂ
…データ領域のヘッド浮上面。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者大竹光義神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者赤松潔神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者古沢賢司神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者加藤彰神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者小角雄一神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者石原平吾神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者猪股洋一神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者大浦正樹神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社日立製作所ストレージシステム事業部内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】互いに孤立した所定の高さの複数の第１
の凸部、および前記第１の凸部よりも低く互いに孤立し
た複数の第２の凸部からなる少なくとも２種類の凸部が
混在して形成された第１の領域と、前記第１の凸部より
も低く互いに孤立した複数の第３の凸部が形成された第
２の領域とを含むことを特徴とする磁気ディスク。
【請求項２】互いに孤立した所定の高さの複数の第１
の凸部、および前記第１の凸部よりも低く互いに孤立し
た複数の第２の凸部からなる少なくとも２種類の凸部が
混在して形成された第１の領域と、前記第１の凸部より
も低く互いに孤立した複数の第３の凸部が形成された第
２の領域とを含む磁気ディスクにおいて、前記第１の領域では前記第１の凸部の高さが１５ｎｍ〜
３０ｎｍ（望ましくは２０ｎｍ〜３０ｎｍ）、前記第１
の凸部の径が１０μｍ以下（望ましくは４μｍ以下）、
磁気ヘッドとの接触状態を表わす前記磁気ディスク表面
の断面曲線から得られる負荷曲線において、前記断面曲
線の頂部から５ｎｍの高さにおける負荷比率ＢＲ５が0.
１〜１０％であり、前記第２の領域では前記第３の凸部
の高さが５ｎｍ〜１５ｎｍ、前記第３の凸部の大きさが
１０μｍ以下（望ましくは４μｍ以下）、前記負荷比率
ＢＲ５が前記第１の領域での前記負荷比率ＢＲ５より小
であることを特徴とする磁気ディスク。
【請求項３】互いに孤立した所定の高さの複数の第１
の凸部、および前記第１の凸部よりも低く互いに孤立し
た複数の第２の凸部からなる少なくとも２種類の凸部が
混在して形成された第１の領域と、前記第１の凸部より
も低く互いに孤立した複数の第３の凸部が形成された第
２の領域とを含む磁気ディスクにおいて、前記第１および第２の領域の各々の表面の粗さを平均化
して得られる前記第１および第２の領域の各々の平均面
高さの差が、１０ｎｍ以下（望ましくは４ｎｍ以下）で
あることを特徴とする磁気ディスク。
【請求項４】請求項２記載の磁気ディスクにおいて、前記第１および第２の領域の各々の表面の粗さを平均化
して得られる前記第１および第２の領域の各々の平均面
高さの差が、１０ｎｍ以下（望ましくは４ｎｍ以下）で
あることを特徴とする磁気ディスク。
【請求項５】主面の少なくとも一部に微粒子を付着さ
せ前記微粒子をマスクとしてエッチングを行う操作を２
回以上繰り返すことを特徴とする磁気ディスクの製造方
法。
【請求項６】請求項５記載の磁気ディスクの製造方法
において、前記磁気ディスクの前記主面は、少なくとも
第１および第２の領域に区分けされ、前記第１の領域に所望の大きさの微粒子を所望の密度で
選択的に被着させる工程と、前記微粒子をマスクとして
前記第１および第２の領域をエッチングする工程と、前
記第１および第２の領域に所望の大きさの微粒子を所望
の密度で被着させる工程と、前記微粒子をマスクとして
前記第１および第２の領域をエッチングする工程とを含
む第１のプロセス、前記第１の領域に所望の大きさの微粒子を所望の密度で
選択的に被着させる工程と、前記微粒子をマスクとして
前記第１および第２の領域をエッチングする工程と、前
記第１の領域に所望の大きさの微粒子を所望の密度で選
択的に被着させる工程と、前記第１および２の領域に所
望の大きさの微粒子を所望の密度で被着させる工程と、
前記微粒子をマスクとして前記第１および第２の領域を
エッチングする工程とを含む第２のプロセス、前記第１の領域に所望の大きさの微粒子を所望の密度で
選択的に被着させる工程と、前記微粒子をマスクとして
前記第１および第２の領域をエッチングする工程と、前
記第１の領域に所望の大きさの微粒子を所望の密度で選
択的に被着させる工程と、前記微粒子をマスクとして前
記第１および第２の領域をエッチングする工程と、前記
第１および第２の領域に所望の大きさの微粒子を所望の
密度で被着させる工程と、前記微粒子をマスクとして前
記第１および第２の領域をエッチングする工程とを含む
第３のプロセス、の少なくとも一つを実行することを特
徴とする磁気ディスクの製造方法。
【請求項７】互いに孤立した所定の高さの複数の第１
の凸部、および前記第１の凸部よりも低く互いに孤立し
た複数の第２の凸部からなる少なくとも２種類の凸部が
混在して形成された第１の領域と、前記第１の凸部より
も低く互いに孤立した複数の第３の凸部が形成された第
２の領域とを備えた磁気ディスクと、前記磁気ディスク
を回転駆動するディスク駆動手段と、前記磁気ディスク
に対する情報の記録および再生動作を行う磁気ヘッド
と、前記磁気ヘッドを前記磁気ディスクの径方向の任意
の位置に位置決めする位置決め手段とを含み、前記第１
の領域において、前記磁気ヘッドの前記磁気ディスクに
対する接触状態と浮上状態との間を移行させるコンタク
ト・スタート・ストップ動作が行われ、前記第２の領域
において、浮上状態の前記磁気ヘッドによる前記情報の
記録および再生動作が行われることを特徴とする磁気デ
ィスク装置。