KR100201034B1 - 공기 베어링 표면에 있는 슬라이더 및 박막 마그네틱 헤드를 위한 초박막 실리콘 내마모성 코팅 - Google Patents
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- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 64
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 57
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 25
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 25
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title claims description 22
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title description 6
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims abstract description 30
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 48
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 8
- 230000000712 assembly Effects 0.000 claims description 5
- 238000000429 assembly Methods 0.000 claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract description 9
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 1
- 230000002301 combined effect Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000004447 silicone coating Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/10—Structure or manufacture of housings or shields for heads
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- G11—INFORMATION STORAGE
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/255—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features comprising means for protection against wear
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
- G11B5/3106—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing where the integrated or assembled structure comprises means for conditioning against physical detrimental influence, e.g. wear, contamination
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/60—Fluid-dynamic spacing of heads from record-carriers
- G11B5/6005—Specially adapted for spacing from a rotating disc using a fluid cushion
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- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/4902—Electromagnet, transformer or inductor
- Y10T29/49021—Magnetic recording reproducing transducer [e.g., tape head, core, etc.]
- Y10T29/49032—Fabricating head structure or component thereof
- Y10T29/49036—Fabricating head structure or component thereof including measuring or testing
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- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/4902—Electromagnet, transformer or inductor
- Y10T29/49021—Magnetic recording reproducing transducer [e.g., tape head, core, etc.]
- Y10T29/49032—Fabricating head structure or component thereof
- Y10T29/49036—Fabricating head structure or component thereof including measuring or testing
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Abstract
단일층 내마모성 코팅이 마그네틱헤드 어셈블리에 대해 제공되었다. 단일층은 30~75Å 범위의 두께를 갖는 실리콘 또는 실리콘 기반의 재료가 된다. 단일층은 DC 마그네트론을 사용한 단일 피착 단계에 의해 형성되었다. 단일층 내마모성 코팅은 마그네틱 헤드 어셈블리의 내마모성을 향상시키고 공간 손실을 크게 일으키지 않고서 마그네틱 헤드의 하나 또는 그 이상의 감지 소자를 보호한다.
Description
본 발명은 슬라이더 및 박막 마그네틱 헤드 소자용의 내마모성 코팅에 관한 것인데, 더 자세하게는 다중 층 박막 내마모성 코팅과 필적하는 단일 박막 실리콘 기반의 내마모성 코팅에 관한 것이다.
마그네틱 헤드는 회전 디스크 표면 위에 있는 트랙에 정보를 기록 및 판독하기 위한 디스크 드라이브에 사용된다. 마그네틱 헤드는 슬라이더 내에(또는 그 위에) 제공되고, 슬라이더는 다음으로 서스펜션 상에 장착된다. 서스펜션은 액츄에이터(actuator) 위에 장착되는데, 이 액츄에이터는 마그네틱 헤드를 마그네틱 디스크 위의 트랙에 위치시킨다. 디스크가 회전함에 따라, 회전하는 디스크와 슬라이더의 공기 베어링 표면(Air Bearing Surface, ABS) 사이에서 공기압이 발생된다. 서스펜션의 로딩 힘이 공기압에 대항하여 힘의 균형을 이뤄주어, 마그네틱 헤드가 디스크가 회전함에 따라 디스크 표면으로부터 0.075 ㎛의 크기 정도로 약간 거리를 두고 배치되도록 한다. 그 간격이 좁아지면 좁아질수록 마그네틱 헤드로 얻을 수 있는 영역 밀도(areal density)가 커진다. 영역 밀도는 마그네틱 헤드가 디스크 표면위에서 평방 인치당 판독할 수 있는 비트 수이다.
명백히, 헤드 대 디스크 공간 간격은 어떠한 특정 헤드에 대해서도 영역 밀도의 한계를 부여한다. 헤드가 디스크 표면과 접촉할 수 있다고 가정하여 이론적으로 획득 가능한 영역 밀도와 임의의 헤드 대 디스크 공간 간격에서 획득 가능한 영역 밀도 사이의 차이가 공간 손실(spacing loss)이라고 지칭되는 데이타 기억 능력의 손실을 나타낸다. 물론, 디스크 표면과 접촉을 이루는 헤드는 공간 손실이 전혀 없다. 그러나, 이렇게 접촉하려면, 헤드에 대해 불가능한 피복을 이뤄져야 하는 요구를 낳는다.
공간 손실은 헤드의 감지 소자를 보호하기 위해 헤드의 ABS에 가해지는 내마모성 코팅에 의해 또한 야기된다. 예를 들어, 조립된 헤드는 유도형 기입 헤드부와 MR 판독 헤드부를 포함한다. 기입 헤드부의 감지 소자는 갭에 의해 분리된 한 쌍의 폴 팁(pole tip)을 포함하고, 판독 헤드부의 감지 소자는 MR 센서를 포함한다. 슬라이더의 이륙 및 착륙시 디스크 표면과의 접촉은 조립된 마그네틱 헤드의 감지 소자를 마멸시킬 수 있다. 감지 소자의 마멸은 이들 수명을 단축시키고 헤드 수행성의 열화를 일으킨다. 따라서, 마그네틱 헤드에게 내마모성 코팅을 제공하는 기술이 계발되었다. 본 기술 분야에서의 절박한 필요는 공간 손실을 최소화하기 위해 내마모성 코팅을 가능한 한 얇게 만드는 것이다.
공통으로 허여된 미국 특허 5,175,658에 삼중 층 내마모성 코팅이 개시되었다. 슬라이더의 레일과 그 위에 장착된 마그네틱 헤드의 감지 소자를 도포하는 제1층은 10~50Å 두께의 실리콘 접착층이다. 다음 층은 비정질 수화 탄소로 된 50~1000Å 두께의 층이 된다. 최종 층은 슬라이더의 ABS를 형성하는데, 그 두께가 50Å인 실리콘 층이다. 양수인에 의해 사용된 또다른 보호 코팅은 두개의 층을 포함한다. 즉, 10Å 두께의 실리콘 접착층과 비정질 수화 탄소로 된 35Å 두께의 최종 층이다.
이런 내마모성 코팅을 형성하려면 각 층을 형성키 위해 스퍼터링 공정을 실시해야 한다. 따라서, 삼중 층의 코팅을 갖는 '658 특허는 세단계의 스퍼터링 공정을 요구하고, 이중 층 코팅은 두 단계를 요구한다. 각각의 스퍼터링 단계가 제조 비용을 점점 증가시킨다는 것을 쉽게 알 수 있다. 내마모성 코팅이 단일 스퍼터링 단계로서 수행될 수 있는 것이 바람직하다. 미국 특허 5,323, 283은 단일 스퍼터링 단계에 의해 가해지는 단일층 피복 코팅을 사용한다. 단일층 내마모성 코팅은 실리콘 이산화물로 된 175~225Å의 층이 된다. 이 단일 층의 두께가 공간 손실을 줄이기 위해 가능한 대로 얇아지는 것이 바람직스럽다.
따라서, 종래 기술의 내마모성 코팅에 비해 최소한의 이상적 공간 손실만을 제공하는 단일층 내마모성 코팅에 대한 절박한 필요가 존재한다.
우리는 실리콘 기반의 재료로 만들어지고 두께 30~75Å의 단일층으로 구성된 내마모성 코팅이 상기 언급한 45Å 두께의 이중 층 내마모성 코팅과 필적할만한 결과를 제공한다는 것을 발견하였다. 서로의 두께가 필적할만하므로 공간 손실도 비슷하다. 이중 층 내마모성 코팅과 비교하여 단일 내마모성 실리콘 코팅 층의 접착력 대 1000 단위의 접촉 개시 및 중지(Contact Start and Stop, CSS) 주기 사이의 관계를 결정하기 위해 테스트가 시행되었다. 각각의 CSS 주기 동안 슬라이더는 디스크 위에서 이륙하고 착륙한다. 이륙 동안, ABS와 디스크 사이의 마찰이 접착력으로 정의되고 착륙시의 마찰보다 더 크다. 수많은 CSS 주기가 지난 후 접착력이 비교적 일정하게 유지되는 것이 중요하다. 본 발명의 단일 실리콘 층 내마모성 코팅에 대해 일곱번의 테스트가 수행되었고, 이중 층 내마모성 코팅에 대해서는 네번의 테스트가 수행되었다. 20,000 CSS 주기가 지난 후에, 단일 실리콘 층 내마모성 코팅과 이중 층 내마모성 코팅의 접착력이 근본적으로 동일하였다. 따라서, 공간 손실에 크게 영향을 끼치지 않고서 이중 층 피착으로 획득될 수 있는 것과 거의 동일한 내마모성이 단일층 피착으로도 이제 획득될 수 있다.
본 발명의 목적은 슬라이더에게 매우 고기능의 저가격 내마모성 코팅을 제공하는 것이다.
본 발명의 추가 목적은 공간 손실을 증가시키지 않고서 슬라이더에서 내마모성 코팅을 형성해주는 단순 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또다른 목적 및 추가 이점은 부수 도면을 참조하여 제시된 다음의 설명을 읽어볼 때 명백해질 것이다.
제1도는 전형적인 마그네틱 디스크 드라이브의 등치 예시도.
제2도는 제1도에 예시된 마그네틱 디스크 드라이브의 측면도.
제3도는 본 발명의 단일층 내마모성 코팅을 갖는 슬라이더의 등치 예시도.
제4도는 제3도의 ABS도.
제5도는 제3도의 꼬리 에지도.
제6도는 웨이퍼 레벨에서의 마그네틱 헤드 어셈블리의 로우 및 칼럼의 구성을 예시한 등치도.
제7도는 제3도에 도시된 웨이퍼로부터 단면이 노출된 로우 레벨에서의 마그네틱 헤드 어셈블리의 등치예시도.
제8도는 종래 기술의 삼중 층 내마모성 코팅의 형성을 도시한 마그네틱 헤드 어셈블리의 로우의 꼬리 에지도.
제9도는 이중 층 내마모성 코팅의 형성을 예시한 것을 제외하고 제8도와 유사한 도면.
제10도는 가장 바람직스런 내마모성 코팅이 단일층 실리콘으로부터 형성될 수 있는 것을 제외하고 제9도와 유사한 도면.
제11도는 제10도에 도시된 마그네틱 헤드 어셈블리의 로우를 패턴화하는 것과 관계된 프로세스 단계를 도시한 도면.
제12도는 제11도에 도시된 마그네틱 헤드 어셈블리의 로우를 다이스한 후의 단일 마그네틱 헤드 어셈블리의 꼬리 에지도이며 평면 Ⅳ-Ⅳ를 따라 취하고 제4도에 도시된 어셈블리의 ABS 도면임.
제13도 및 제14도는 1000 단위의 CSS 사이클과 그램 단위의 접착력의 관계에 대해 본 발명을 테스트한 결과를 도시한 그래프.
제15도는 1000 단위의 CSS 사이클과 그램 단위의 접착력의 관계에 대해 이중층 피복 코팅의 테스트 결과를 예시한 그래프.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
44 : 마그네틱 헤드 어셈블리 57 : 슬라이더
58, 60 : 제1 및 제2 표면 66, 68 : 제1 및 제2 측면
70 : 마그네틱 헤드 72 : 내모마성 코팅
전체 도면을 통해 유사 참조 번호는 유사 또는 비슷한 부분을 표지하는 도면을 이제 참조하면, 제1도 및 제2도에 디스크 스택 어셈블리(32) 및 헤드 스택 어셈블리(34)를 포함하는 마그네틱 디스크 드라이브(30)이 예시되었다. 디스크 스택 어셈블리(32)는 스핀들(38) 위에 장착된 다수의 이중 측면 마그네틱 디스크(36)을 포함한다. 스핀들(38)은 모터 제어부(42)에 의해 제어되는 모터(40)에 의해 회전된다. 헤드 스택 어셈블리(34)는 다수의 마그네틱 헤드 어셈블리(44)를 포함하고, 각각의 마그네틱 헤드 어셈블리는 개별 서스펜션(46) 위에 장착된다. 서스펜션(46)은 액츄에이터 암(actuator arm)(48)에 장착되고, 이 암(48)은 액츄에이터 스핀들(50)에 장착된다. 액츄에이터 스핀들(50)은 처리 회로(54)에 의해 제어되는 보이스 코일 모터(52)에 의해 회전된다. 처리 회로(54)는 마그네틱 헤드 어셈블리(44)가 디스크(32)상에서 선정된 원형 정보 트랙을 따라 회전되도록 한다. 처리 회로(54)는 또한 마그네틱 헤드 어셈블리가 정보를 원형 트랙에 기입할 때 정보 신호를 마그네틱 헤드 어셈블리(44)로 전송하고, 마그네틱 헤드 어셈블리가 원형 트랙으로부터 정보 신호를 판독할 때 마그네틱 헤드 어셈블리로부터 정보를 수신한다.
디스크(36)이 정적 상태일 때, 각각의 서스펜션(46)은 개별 마그네틱 헤드 어셈블리가 개별 디스크(36)의 표면과 접촉하게 되도록 바이어스한다. 디스크(36)이 회전될 때, 바이어스 힘은 디스크로부터 0.075㎛ 정도로 약간 떨어져 있는 각각의 마그네틱 헤드 어셈블리의 공기 베어링 표면(ABS)을 받쳐주는 공기의 얇은 쿠션(공기 베어링) 힘에 의해 상쇄되어 균형을 이루게 된다. 이런 간격은 마그네틱 헤드 어셈블리가 수용할 수 없을 정도로 마모되는 것을 방지하기 위해 필요하다. 간격이 커질수록, 헤드의 비트 밀도는 작아진다는 것을 인지해야 한다. 따라서, 공간 손실을 최소화하기 위해 할 수 있는 한 공간 간격을 작게 하는 것이 바람직스럽다. 공간 손실을 일으키는 또다른 요인은 마그네틱 헤드 어셈블리를 도포하고 ABS를 형성하는 내마모성 코팅이다.
제3도, 제4도 및 제5도는 본 발명의 마그네틱 헤드 어셈블리(44)를 예시하는데, 이는 공간 손실을 크게 일으키지 않는 초박막 내마모성 코팅을 포함한다. 제3도에 도시된 대로 마그네틱 헤드 어셈블리(44)는 제1 및 제2 표면(58 및 60)을 구비한 슬라이더(56)을 포함하는데, 각각의 표면은 선두 및 꼬리 에지(62 및 64)와 제1 및 제2 측면(66 및 68)에 의해 경계지워진다. 표면(60)은 상기 언급한 공기 쿠션 상에서 지지되는 ABS를 형성한다. 마그네틱 헤드(70)은 꼬리 에지(64)의 근처에 로케이트되고, ABS 에서 노출된 감지 소자(71)을 포함한다. 배경 기술에서 설명되었듯이, 마그네틱 헤드(70)은 하나 이상의 감지 소자를 포함한다.
하나 또는 그 이상의 마그네틱 헤드의 감지 소자가 마모를 방지하기 위해 내마모성 코팅(72)로 도포되는 것이 중요하다. 감지 소자가 마모되었을 때, 그 길이가 짧아지는데, 이는 트랜스퍼 기능에 있어서 수용할 수 없는 변화를 일으킬 수 있다. 내마모성 코팅을 제공하는 또다른 이유는 부식으로부터 감지 소자를 보호하는 것이다. 내마모성 코팅은 슬라이더의 제1 표면(60)을 도포하여 공기 베어링 표면에게 좋은 내구성을 제공해준다.
내마모성 코팅(72)는 실리콘 기반 재료로 된 초박막 층이다. 30~75Å사이의 두께를 갖는 단일의 순수 실리콘 층이 상기 언급한 이중 층 내마모성 코팅의 것과 거의 필적할만한 내구성을 갖는다는 것이 발견되었다. 비교 결과가 이후 자세히 논의된다.
디스크를 마주보는 슬라이더의 영역은 한 쌍의 테이퍼(taper)-편평 측면 레일(76 및 78) 사이에 중앙 레일(74)를 제공하기 위해 전형적으로는 제4도에 예시된 대로 패턴화된다. 마그네틱 헤드(70)의 감지 소자(71)은 중앙 레일(74)의 꼬리 에지근처에 로케이트된다. 이런 많은 패턴이 있음을 인지해야 한다. 예를 들어, 꼬리 에지(64)에 마그네틱 헤드를 장착하기 위해 중앙 레일 대신에 아일랜드(island)가 사용될 수 있다. 또한, 측면 레일(76 및 78)은 슬라이더의 꼬리 에지까지 연장될 수 있는데, 슬라이더의 꼬리 에지에서 한 쌍의 마그네틱 헤드가 장착된다. 그렇지만, 제4도에 예시된 패턴에 대해서, 상기 언급한 내마모성 코팅(72)는 중앙 레일(74) 및 감지 소자(71)의 표면 및 측면 레일(76 및 78)의 표면을 도포하여 슬라이더의 ABS에게 좋은 내마모성을 제공하여 주고 감지 소자(71)을 보호해 준다. 제5도는 마그네틱 디스크(36)의 표면 위에서 공기 베어링 위에 지지된 슬라이더(56)을 예시하였다. 공간 손실은 공기 베어링(부유 높이)의 두께와 내마모성 코팅(72)의 두께의 복합 효과로 일어난다. 본 발명은 한 피착 단계에서 형성될 수 있는 최소 두께의 내마모성 코팅(72)를 제공한다.
제6도, 제7도 및 제10도에서 제12도는 본 발명의 마그네틱 헤드 어셈블리(44)를 제조하는 예시적 방법을 도시하였다. 제6도는 웨이퍼 레벨에서의 마그네틱 헤드 어셈블리의 구성을 예시하였다. 제7도, 제10도 및 제11도는 로우(row) 레벨에서의 구성을 예시하였다. 제12도는 제3도 에서 제5도에 도시된 것과 동일한 구성에 따른 단일 마그네틱 헤드 어셈블리를 예시하였다. 제8도 및 제9도는 다중 층 내마모성 코팅을 갖는 마그네틱 헤드 어셈블리의 구성을 예시하였다.
제6도에서 알루미늄과 티타늄 탄화물(Al2O3/TiC)의 혼합물인 웨이퍼 기판(100)이 도시되었다. 다수의 박막 층(102)가 마그네틱 헤드 어셈블리(44)의 로우(row) 및 칼럼(column)을 형성하기 위해 웨이퍼(100) 위에 피착되었다. 웨이퍼(100)과 박막층(102)는 다이스되어 (절단되어) 마그네틱 헤드 어셈블리의 로우로 만들어지는데, 한 로우(104)가 제7도에 예시되었다. 로우(104)의 ABS 측이 이후 접혀져서(lapping) 감지 소자(71)이 피크 수행을 위한 선정된 높이를 갖게 된다. 접혀진 후, 로우(104)의 ABS 측은 내마모성 코팅의 피착을 위해 준비된다. 세개의 개별 층을 포함하는 종래 기술의 내마모성 코팅(72)는 제8도에 예시된 대로 세단계의 피착 공정에 의해 형성된다. 제1층은 실리콘으로 된 10~50Å 두께의 접착층이다. 다음 층은 비정질 수화 탄소로 된 50Å 두께의 층이고, 최종 층은 실리콘으로 된 50Å 두께의 층이다. 단지 두개의 층만을 사용하는 또다른 내마모성 코팅(72)가 제9도에 예시되었다. 그 결과는 제8도에 도시된 종래의 내마모성 코팅에 비해 공간 손실이 작아지고 한 단계의 피착 공정이 감소된다. 제9도의 내마모성 코팅(72)는 실리콘으로 된 10Å의 접착 층과 비정질 수화 탄소로 된 35Å 두께의 층을 포함한다. 제9도의 실시예에서 공간 손실이 작아졌으나, 추가의 피착 단계는 제조 비용을 증가시킨다. 제9도에 도시된 이중 층 내마모성 코팅의 것과 필적할 수 있는 내마모성을 갖춘 단일층 내마모성 코팅을 형성하기 위해 단일 피착 단계를 사용하는 것이 바람직스럽다.
제10도에서, 제9도에 도시된 이중 층 내마모성 코팅의 것과 필적할 수 있는 내마모 특성을 갖는 단일 층 내마모성 코팅(72)를 형성하기 위한 단일 피착 단계가 사용되었다. 이는 실리콘 기반의 재료로 된 30~75Å 두께의 단일층을 스퍼터링하여 성취되었다. 양호한 스퍼터링은 DC 마그네트론에 의해 이뤄졌다. 이런 유형의 피착은 실리콘 기반의 고밀도 층을 낳았다. 제11도에서, ABS를 레일(74, 76 및 78)로 패턴화하기 위한 목적으로 포토레지스트 층(120)이 내마모성 코팅(72)의 상부에 형성되었다. 포토레지스트(120)은 레일이 형성되어야 할 영역을 보호하며, 반응성 이온 에칭(RIE)와 같은 에칭이 레일을 형성하기 위해 사용되었다. 제12도에서 포토레지스트(120)은 용매 내에서 용해되어 두 개의 측면 레일(76 및 78) 사이에 중앙 레일(74)이 남겨지도록 한다. 제12도의 평면 Ⅳ-Ⅳ를 따른 시야는 제4도에 도시된 시야로 귀결된다.
제14도 및 제15도는 그램 단위의 접착력 대 천 단위의 접촉 시작 및 정지 주기의 결과를 도시한 표이다. 제13도 및 제14도의 각각의 차트는 30~75Å 사이의 두께를 갖는 단일 실리콘 층 내마모성 코팅을 구비한 세개의 마그네틱 헤드 어셈블리를 테스트한 결과를 도시하였다. 단일 실리콘 층 내마모성 코팅이 순수 실리콘을 DC 마그네트론으로 스퍼터링하여 형성되었다. 순수 실리콘 층의 스퍼터링은 실리콘 기반의 층을 스퍼터링하는 데에 양호한다. 제13도 및 제14도에서 20,000 주기 후에도 접착력이 약 2그램 정도로 일정하게 유지된다는 것이 보여졌다. 제15도는 10Å 두께의 실리콘 접착층과 35Å 두께의 비정질 수화 탄소 층을 포함하는 이중 층 내마모성 코팅을 테스트한 결과를 도시한 차트이다. 20,000 주기 후에, 이중층 내마모성 코팅의 접착력은 약 2 그램으로 일정하게 유지되었다. 따라서, 본 발명은 공간 손실을 증가시키지 않고서 단일층 내마모성 코팅으로서 이중층 내마모성 코팅과 실질적으로 동일한 결과를 성취할 수 있었다.
명백하게, 본 발명에 대한 또 다른 실시예 및 변형이 상기 개시된 내용을 볼 때 본 발명의 기술자에 의해 이뤄질 수 있다. 따라서, 본 발명은 상기 상세한 설명 및 부수 도면과 연결하여 볼 때 모든 그런 실시예 및 변형을 포함하는 다음의 청구범위에 의해서만 제한된다.
Claims (16)
- 마그네틱 헤드 어셈블리에 있어서, 선두 및 꼬리 에지 표면(leading and trailing edge surfaces)과 제1 및 제2 측면 표면에 의해 경계지워진 제1 및 제2 표면을 구비한 슬라이더, 상기 슬라이더의 꼬리 에지 표면에 인접하고 상기 제1 표면에 적어도 하나의 자속 발산 및/또는 자속 수용 감지 소자를 구비한 마그네틱 헤드, 및 상기 감지 소자 및 상기 제1 표면을 직접 도포하는 단일층으로 구성되고, 공기 베어링(air bearing) 표면을 형성하는 내마모성 코팅(wear coating)을 포함하고, 상기 단일층은 30에서 75Å의 범위의 두께를 갖고 실리콘 또는 실리콘 기반의 재료로 된 마그네틱 헤드 어셈블리.
- 제1항에 청구된 마그네틱 헤드 어셈블리를 포함하는 마그네틱 매체 드라이브에 있어서, 하우징, 마그네틱 헤드 어셈블리를 받쳐주기 위해 상기 하우징에 장착된 지지대, 마그네틱 헤드와 관련된 변환 관계에 따라 상기 마그네틱 헤드를 지나치도록 마그네틱 매체를 이동시키기 위해 상기 하우징에 장착된 매체 이동 수단, 상기 마그네틱 헤드를 이동 마그네틱 매체에 대해 다중 위치로 이동시켜 상기 마그네틱 매체 상의 다중 트랙에 대해 신호를 처리하기 위해 상기 지지대에 접속된 위치 조정 수단, 및 상기 마그네틱 헤드, 상기 마그네틱 매체 이동 수단 및 상기 위치 조정 수단에 접속되어, 상기 마그네틱 헤드에 대해 신호를 제어하고 처리하고, 상기 마그네틱 매체의 이동을 제어하고, 및 상기 마그네틱 헤드의 위치를 제어하기 위한 제어 수단을 포함하는 마그네틱 매체 드라이브.
- 제1항에 있어서, 상기 슬라이더는 Al2O3/TiC인 마그네틱 헤드 어셈블리.
- 제1항에 있어서, 상기 슬라이더의 상기 제1 표면은 다수의 레일로 패턴화되고, 상기 마그네틱 헤드는 상기 레일 중 하나에 장착되고, 각각의 레일은 상기 레일이 상기 공기 베어링 표면을 집합적으로 형성하도록 하기 위해 상기 단일층의 일부 영역에 의해 도포된 마그네틱 헤드 어셈블리.
- 제1항에 있어서, 상기 단일층은 DC 마그네트론에 의해 스퍼터된 마그네틱 헤드 어셈블리.
- 제5항에 있어서, 상기 슬라이더의 상기 제1 표면은 다수의 레일로 패턴화되고, 상기 마그네틱 헤드는 상기 레일 중 하나에 장착되고, 상기 레일들이 상기 공기 베어링 표면을 집합적으로 형성하도록 하기 위해 상기 각각의 레일은 상기 단일층의 일부 영역에 의해 도포되어 있는 마그네틱 헤드 어셈블리.
- 제6항에 있어서, 상기 슬라이더는 Al2O3/TiC인 마그네틱 헤드 어셈블리.
- 제7항에 청구된 마그네틱 헤드 어셈블리를 포함하는 마그네틱 매체 드라이브에 있어서, 하우징, 상기 마그네틱 헤드 어셈블리를 받쳐주기 위해 상기 하우징에 장착된 지지대, 마그네틱 헤드와 관련된 변환 관계에 따라 상기 마그네틱 헤드를 지나치도록 마그네틱 매체를 이동시키기 위해 상기 하우징에 장착된 매체 이동 수단, 상기 마그네틱 헤드를 이동 마그네틱 매체에 대해 다중 위치로 이동시켜 상기 마그네틱 매체 상의 다중 트랙에 대해 신호를 처리하기 위해 상기 지지대에 접속된 위치 조정 수단, 및 상기 마그네틱 헤드, 상기 마그네틱 매체 이동 수단 및 상기 위치 조정 수단에 접속되어, 상기 마그네틱 헤드에 대해 신호를 제어하고 처리하고, 상기 마그네틱 매체의 이동을 제어하고, 상기 마그네틱 헤드의 위치를 제어하기 위한 제어 수단을 포함하는 마그네틱 매체 드라이브.
- 마그네틱 헤드 어셈블리를 제작하는 방법에 있어서, 선두 및 꼬리 에지 표면과 제1 및 제2 측면 표면에 의해 경계지워진 제1 및 제2 표면을 구비한 슬라이더를 제공하는 단계, 상기 슬라이더의 꼬리 에지 표면에 인접하고 상기 제1 표면에 감지 소자를 구비한 마그네틱 헤드를 형성하는 단계, 및 상기 감지 소자 및 상기 제1 표면 위의 단일층으로 구성되고, 공기 베어링 표면을 형성하는 내마모성 코팅을 형성하는 단계를 포함하며, 상기 단일층은 30에서 75Å의 범위의 두께를 갖고 실리콘 또는 실리콘 기반의 재료로 된 층이 되는 마그네틱 헤드 어셈블리를 제작하는 방법.
- 제9항에 있어서, 상기 단일층 형성 후에 상기 슬라이더에게 최소한 내마모성층의 일부분에 의해 도포되는 최소한 하나의 레일을 제공하기 위해 상기 제1 표면을 패턴화하는 단계를 더 포함하는 마그네틱 헤드 어셈블리를 제작하는 방법.
- 제10항에 있어서, 상기 단일층을 형성하는 단계는 실리콘을 DC 마그네트론으로 스퍼터링하는 단계를 포함하는 마그네틱 헤드 어셈블리를 제작하는 방법.
- 마그네틱 헤드 어셈블리를 제작하는 방법에 있어서, 슬라이더 재료로 된 기판을 제공하는 단계, 상기 기판 위에 마그네틱 헤드의 로우 및 칼럼(rows and columns)을 형성하는 단계, 상기 기판의 연장된 기판 영역 위에서 상기 기판 및 상기 마그네틱 헤드를 마그네틱 헤드 어셈블리의 로우가 되도록 다이싱(dicing)하는 단계, 각각의 상기 마그네틱 헤드의 하나 또는 그 이상의 감지 소자의 크기를 정해주는 접혀진 표면을 형성하기 위해 상기 연장된 기판 영역 위에 상기 마그네틱 헤드의 로우를 접는(lapping) 단계, 상기 접혀진 표면 위에 순수 실리콘으로 이루어지며 30~75Å 범위의 두께를 갖는 단일층을 스퍼터링하는 단계, 및 마그네틱 어셈블리의 상기 로우를 개별 마그네틱 헤드 어셈블리가 되도록 다이싱하는 단계를 포함하는 마그네틱 헤드 어셈블리를 제작하는 방법.
- 제12항에 있어서, 상기 단일층을 스퍼터링하는 단계는 상기 감지 소자 위에 상기 순수 실리콘을 스퍼터링하는 단계를 포함하는 마그네틱 헤드 어셈블리를 제작하는 방법.
- 제13항에 있어서, 상기 단일층을 스퍼터링하는 단계 후에 각각의 슬라이더에게 상기 단일층의 일부분에 의해 도포된 최소한 하나의 레일을 제공하기 위해 상기 접혀진 패턴화하는 단계가 있는 마그네틱 헤드 어셈블리를 제작하는 방법.
- 제14항에 있어서, 상기 단일층을 스퍼터링하는 단계는 DC 마그네트론으로 스퍼터링하는 단계를 포함하는 마그네틱 헤드 어셈블리를 제작하는 방법.
- 제15항에 있어서, 상기 기판은 Al2O3/TiC인 마그네틱 헤드 어셈블리를 제작하는 방법.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/607,892 | 1996-02-27 | ||
| US08/607,892 US5808832A (en) | 1996-02-27 | 1996-02-27 | Ultrathin silicon wear coating for a slider and thin film magnetic head elements at an ABS |
| US8/607,892 | 1996-02-27 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970063056A KR970063056A (ko) | 1997-09-12 |
| KR100201034B1 true KR100201034B1 (ko) | 1999-06-15 |
Family
ID=24434141
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019960052778A KR100201034B1 (ko) | 1996-02-27 | 1996-11-08 | 공기 베어링 표면에 있는 슬라이더 및 박막 마그네틱 헤드를 위한 초박막 실리콘 내마모성 코팅 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5808832A (ko) |
| JP (1) | JPH09237406A (ko) |
| KR (1) | KR100201034B1 (ko) |
| SG (1) | SG49999A1 (ko) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6359754B1 (en) * | 1998-07-21 | 2002-03-19 | Seagate Technology Llc | Increased mechanical spacing through localized continuous carbon overcoat |
| US6477011B1 (en) * | 1998-08-24 | 2002-11-05 | International Business Machines Corporation | Magnetic recording device having an improved slider |
| US6583953B1 (en) | 1999-07-12 | 2003-06-24 | Mark Lauer | Silicon carbide overcoats for information storage systems and method of making |
| NL1015985C2 (nl) * | 2000-08-22 | 2002-03-11 | Onstream B V | Magneetkop. |
| US20030049496A1 (en) * | 2001-09-11 | 2003-03-13 | Pocker Daryl J. | Thin film protective layer with buffering interface |
| US7159301B2 (en) * | 2001-10-05 | 2007-01-09 | Headway Technologies, Inc. | Method of manufacturing a slider of a thin-film magnetic head |
| US8815060B2 (en) * | 2004-08-30 | 2014-08-26 | HGST Netherlands B.V. | Method for minimizing magnetically dead interfacial layer during COC process |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2559297B1 (fr) * | 1984-02-03 | 1990-01-12 | Commissariat Energie Atomique | Nouveau patin de vol pour tetes magnetiques d'enregistrement |
| JPS62192016A (ja) * | 1986-02-19 | 1987-08-22 | Alps Electric Co Ltd | 垂直磁気記録用磁気ヘツドおよびその製造方法 |
| US5136775A (en) * | 1989-01-19 | 1992-08-11 | Pioneer Electronic Corporation | Method of manufacturing a magnetic head having wear resisting films |
| US5055958A (en) * | 1989-03-31 | 1991-10-08 | Tdk Corporation | Surface-reinforced glass and magnetic head having surface-reinforced glass |
| US5175658A (en) * | 1990-12-27 | 1992-12-29 | International Buiness Machines Corporation | Thin film magnetic head having a protective coating and method for making same |
| JP3106210B2 (ja) * | 1991-03-29 | 2000-11-06 | ミネベア株式会社 | 浮動型磁気ヘッドスライダ |
| US5323583A (en) * | 1993-03-26 | 1994-06-28 | Frank Venegas, Jr. | Stanchion with sleeve and method of using same |
| US5336550A (en) * | 1993-05-18 | 1994-08-09 | Applied Magnetics Corporation | Carbon overcoat for magnetic head sliders |
-
1996
- 1996-02-27 US US08/607,892 patent/US5808832A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-11-08 KR KR1019960052778A patent/KR100201034B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1997
- 1997-01-08 SG SG1997000027A patent/SG49999A1/en unknown
- 1997-01-22 JP JP9009230A patent/JPH09237406A/ja active Pending
-
1998
- 1998-08-31 US US09/144,000 patent/US6023840A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR970063056A (ko) | 1997-09-12 |
| JPH09237406A (ja) | 1997-09-09 |
| US5808832A (en) | 1998-09-15 |
| SG49999A1 (en) | 1998-06-15 |
| US6023840A (en) | 2000-02-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |