JPS605423A - 連続磁性膜型磁気記録媒体 - Google Patents
連続磁性膜型磁気記録媒体Info
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- JPS605423A JPS605423A JP58113517A JP11351783A JPS605423A JP S605423 A JPS605423 A JP S605423A JP 58113517 A JP58113517 A JP 58113517A JP 11351783 A JP11351783 A JP 11351783A JP S605423 A JPS605423 A JP S605423A
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- magnetic recording
- recording medium
- magnetic
- lubricant
- protective film
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/726—Two or more protective coatings
- G11B5/7262—Inorganic protective coating
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24628—Nonplanar uniform thickness material
- Y10T428/24669—Aligned or parallel nonplanarities
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明番Ｊ、磁気ディスク装置等に使用される磁気記録
媒体に関し、特にＣＳＳタイプの浮上磁気ヘッドを使用
する磁気記録再生装置用磁気記録媒体の改良に関する。
媒体に関し、特にＣＳＳタイプの浮上磁気ヘッドを使用
する磁気記録再生装置用磁気記録媒体の改良に関する。
（技術の背景〕
データ処理装置などに使用される磁気ディスク装置は、
近年急激なデータ記録密度の向」二、大容量化が進み、
また高速性、経済性の点から装置は小型化の伸開にある
。このような高記録重度の要求に伴い、記録媒体が、従
来の塗布膜から連続磁性膜に変わりつつある。
近年急激なデータ記録密度の向」二、大容量化が進み、
また高速性、経済性の点から装置は小型化の伸開にある
。このような高記録重度の要求に伴い、記録媒体が、従
来の塗布膜から連続磁性膜に変わりつつある。
即ち従来は磁性粉を合成樹脂なとのノ＼インダに混入し
、これをアルミニウム基板にスピンコードして塗布膜を
形成し、磁気記録媒体の磁性膜を構成している。これに
対し、連続磁性膜は、鉄や鉄−コハルト系合金などの磁
性材料を、スノくツクや蒸着、メソギなどの手法で基板
上に形成するもので、バインダ（結合剤）を含まないの
で連続的な磁性膜（連続磁性媒体）と呼ばれている。こ
の連続磁性膜は、従来の塗布膜のように合成樹脂などの
バインダを含む非連続磁性膜に比して磁気特性が良く、
製造工程も簡単になる。また記録密度も格段と向上し、
高記録密度媒体として優れた特性を有するものが得られ
ており、特にフェライト酸化膜は、材質的にも硬く、更
に耐蝕性が良く、磁気記録媒体としては非席に良好なも
のとして評価されている。
、これをアルミニウム基板にスピンコードして塗布膜を
形成し、磁気記録媒体の磁性膜を構成している。これに
対し、連続磁性膜は、鉄や鉄−コハルト系合金などの磁
性材料を、スノくツクや蒸着、メソギなどの手法で基板
上に形成するもので、バインダ（結合剤）を含まないの
で連続的な磁性膜（連続磁性媒体）と呼ばれている。こ
の連続磁性膜は、従来の塗布膜のように合成樹脂などの
バインダを含む非連続磁性膜に比して磁気特性が良く、
製造工程も簡単になる。また記録密度も格段と向上し、
高記録密度媒体として優れた特性を有するものが得られ
ており、特にフェライト酸化膜は、材質的にも硬く、更
に耐蝕性が良く、磁気記録媒体としては非席に良好なも
のとして評価されている。
ところで従来の磁気ディスク装置と同様にこの連続磁性
膜を使用した磁気ディスク装置にも、Ｃ３Ｓ （Ｃｏｎ
ｔａｃｔ ５ｔａｒｔ ５ｔｏｐ）方式が採用される。
膜を使用した磁気ディスク装置にも、Ｃ３Ｓ （Ｃｏｎ
ｔａｃｔ ５ｔａｒｔ ５ｔｏｐ）方式が採用される。
従って通雷は磁気ヘッドがディスク面から浮上して読書
きを行なうが、磁気記録媒体の回転開始時および停止時
のように浮上刃が発生しない状態では、磁気記録媒体表
面と磁気ヘッドのスライダーが接触し摺動する。そのた
め磁気ヘッドが摺動接触するヘットランディングゾーン
の磁気記録媒体表面が摩耗して、摩耗４５）が磁気記録
媒体の全面に拡散し、ヘッドクラッシュを引き起す原因
となる。
きを行なうが、磁気記録媒体の回転開始時および停止時
のように浮上刃が発生しない状態では、磁気記録媒体表
面と磁気ヘッドのスライダーが接触し摺動する。そのた
め磁気ヘッドが摺動接触するヘットランディングゾーン
の磁気記録媒体表面が摩耗して、摩耗４５）が磁気記録
媒体の全面に拡散し、ヘッドクラッシュを引き起す原因
となる。
したがって磁気記録媒体表面の摩耗を極力防止すること
が必要となる。
が必要となる。
この磁気記録層の摩耗を防止するために従来から、次の
ような方法が採用されている。
ような方法が採用されている。
■磁気記録層表面に、磁気ヘッドと磁気記録層との距離
があまり大きくならない程度の厚さで、酸化シリ：ｌン
（ＳｉＯｚ ）や樹脂などの保護膜を設ける。
があまり大きくならない程度の厚さで、酸化シリ：ｌン
（ＳｉＯｚ ）や樹脂などの保護膜を設ける。
■磁気ヘットの接触摺動の際の摩耗を軽減するために、
磁気記録層上もしくは保護股上に潤滑剤を塗布して、磁
気ヘッドスライダ−の滑りをよくする。
磁気記録層上もしくは保護股上に潤滑剤を塗布して、磁
気ヘッドスライダ−の滑りをよくする。
■潤滑剤を塗布すると、潤滑剤で磁気ヘットスライダー
が磁気記録媒体面に粘着し、磁気記録媒体が回転開始す
る際に、磁気ヘットの支持機構を破損したり−・ソドク
ラソシュを招く恐れがある。
が磁気記録媒体面に粘着し、磁気記録媒体が回転開始す
る際に、磁気ヘットの支持機構を破損したり−・ソドク
ラソシュを招く恐れがある。
そのためこの粘着を防止する目的で、第１図（イ）に示
す、Ｌ・）に、磁気記録層１上に設りられた保護膜２の
表面に無数の突起３・・・を設ける。突起３・・・間の
隙間に潤滑剤が含浸され、スライダーと磁気記録媒体間
の潤滑剤膜が薄くなるので、粘着が解消され、また平滑
な面に比べて摩擦係数も小さくなる。なお４はアルミニ
ウム基板、５はその表面に形成されたアルマイ１−１ｍ
である。
す、Ｌ・）に、磁気記録層１上に設りられた保護膜２の
表面に無数の突起３・・・を設ける。突起３・・・間の
隙間に潤滑剤が含浸され、スライダーと磁気記録媒体間
の潤滑剤膜が薄くなるので、粘着が解消され、また平滑
な面に比べて摩擦係数も小さくなる。なお４はアルミニ
ウム基板、５はその表面に形成されたアルマイ１−１ｍ
である。
■磁気記録層１の保護膜２として、多孔膜を使用するか
、フォトエツチングなどの手法で保護膜表面に微小な孔
６・・・を設けて、潤滑剤を含浸する。
、フォトエツチングなどの手法で保護膜表面に微小な孔
６・・・を設けて、潤滑剤を含浸する。
ところがこれらの手法はいずれも、次のような問題を有
している。即ち■のようにｆｌ’ｉ純に保護膜を設ける
だけでは、摩耗を防止できない。基板のアルマイト面は
鏡面に仕上げられ、その上に磁性膜を設けるため、磁性
膜表面も鏡面状態の極めて平？？１な面になる。したが
って磁性股上の保護膜も４Ｚ ｌｈで、磁気ヘッドが浮
上しないで保護膜と摺動接触している状態では、保護膜
が摩耗することにより塵埃が発生し、致命的な障害であ
るヘッドクラッシュを誘発する恐れがある。
している。即ち■のようにｆｌ’ｉ純に保護膜を設ける
だけでは、摩耗を防止できない。基板のアルマイト面は
鏡面に仕上げられ、その上に磁性膜を設けるため、磁性
膜表面も鏡面状態の極めて平？？１な面になる。したが
って磁性股上の保護膜も４Ｚ ｌｈで、磁気ヘッドが浮
上しないで保護膜と摺動接触している状態では、保護膜
が摩耗することにより塵埃が発生し、致命的な障害であ
るヘッドクラッシュを誘発する恐れがある。
■のように潤滑剤を塗布してｌｈりをよ（すれば、初期
の間は摩擦係数が小さく有効であるが、経時的に／ｒ８
？ｈ剤が消耗すると、潤滑作用が低下し、摩耗粉が発生
ずる。かといって多量の潤滑剤を塗布すると、磁気記録
媒体が停止しスライダーと接触している際に、潤？ｆｉ
剤でスライダーが磁気記録媒体面に粘７γｉするの゛乙
次に磁気記録媒体が回転開始するときに、磁気ヘッドが
急・激に磁気記録媒体面から引き剥がされる際の衝撃で
ヘン１クラツシユを招いたり、磁気ヘッドを支持してい
るジンバルを破損したすする恐れがある。
の間は摩擦係数が小さく有効であるが、経時的に／ｒ８
？ｈ剤が消耗すると、潤滑作用が低下し、摩耗粉が発生
ずる。かといって多量の潤滑剤を塗布すると、磁気記録
媒体が停止しスライダーと接触している際に、潤？ｆｉ
剤でスライダーが磁気記録媒体面に粘７γｉするの゛乙
次に磁気記録媒体が回転開始するときに、磁気ヘッドが
急・激に磁気記録媒体面から引き剥がされる際の衝撃で
ヘン１クラツシユを招いたり、磁気ヘッドを支持してい
るジンバルを破損したすする恐れがある。
■のよ・）に磁気記録媒体面に無数の突起３・・・を設
ければ、突起の隙間に潤滑剤が含浸されるので、■の手
法における問題はある程度軽減されるが、遠心力で外側
に流動して消失し、含浸剤を安定して保持できない。従
って潤滑剤の寿命が短かく、長期使用に耐えることがで
きない。
ければ、突起の隙間に潤滑剤が含浸されるので、■の手
法における問題はある程度軽減されるが、遠心力で外側
に流動して消失し、含浸剤を安定して保持できない。従
って潤滑剤の寿命が短かく、長期使用に耐えることがで
きない。
■のように保護膜を多孔質にすれば、潤滑剤は移動し３
！Ｉｔ ＜潤滑剤の持ちは良くなるが、保護膜表面が平
滑なため、摺動時の耐摩耗性が低下する。
！Ｉｔ ＜潤滑剤の持ちは良くなるが、保護膜表面が平
滑なため、摺動時の耐摩耗性が低下する。
またマスクを使用してバターニングする１法では、目標
の１μｍ程度の孔を形成することは不ｉｉＪ能で、１０
μｍ程度の大きなものしか得られない。
の１μｍ程度の孔を形成することは不ｉｉＪ能で、１０
μｍ程度の大きなものしか得られない。
（発明の目的）
本発明は、従来の磁気記録媒体におけるこのような問題
を解消し、潤滑剤の持ぢが良く、かつ耐摩耗性にも優れ
た磁気記録媒体を実現することを目的とする。
を解消し、潤滑剤の持ぢが良く、かつ耐摩耗性にも優れ
た磁気記録媒体を実現することを目的とする。
この目的を達成するために講した本発明による技術的手
段は、基板上に形成された磁気記録層上に保護膜を設け
た磁気記録媒体であって、上記保護膜の表面に、ある中
間レベルより高い微小な突起と該中間レベルより窪んだ
微小な凹部をそれぞれ無数に備え、かつ該凹部中に潤滑
剤を含んだ構成を採っている。この突起や凹部は段イ１
き形状のものでもよい。各突起の高さは一定である必要
はなく、各凹部の深さも一定である必要はない。
段は、基板上に形成された磁気記録層上に保護膜を設け
た磁気記録媒体であって、上記保護膜の表面に、ある中
間レベルより高い微小な突起と該中間レベルより窪んだ
微小な凹部をそれぞれ無数に備え、かつ該凹部中に潤滑
剤を含んだ構成を採っている。この突起や凹部は段イ１
き形状のものでもよい。各突起の高さは一定である必要
はなく、各凹部の深さも一定である必要はない。
またこのような構成を得るために本発明は、基板上に形
成された磁気記録層上に、珪素（Ｓｉ）を含む溶剤と易
熱分解性ないし易熱蒸発性の物質を含む混合液を塗布し
た後、焼付けることによって、混合液の硬化と易熱分解
性ないし易熱蒸発性の物質の分解、蒸発を同時に行なわ
せる方法を採っている。易熱分１す？性ないし易熱蒸発
性の物質としζは、流動パラフィンが適している。この
方法によれば、流動パラフィンの蒸発した痕跡が四部や
突起となり、また流動パラフィンの添加量や成分などを
適当に選択することにより、流動パラフィンの蒸発痕跡
の深さや突起の高さが種々な凹凸を形成することで、無
数の様々な突起と凹部を得ることができる。
成された磁気記録層上に、珪素（Ｓｉ）を含む溶剤と易
熱分解性ないし易熱蒸発性の物質を含む混合液を塗布し
た後、焼付けることによって、混合液の硬化と易熱分解
性ないし易熱蒸発性の物質の分解、蒸発を同時に行なわ
せる方法を採っている。易熱分１す？性ないし易熱蒸発
性の物質としζは、流動パラフィンが適している。この
方法によれば、流動パラフィンの蒸発した痕跡が四部や
突起となり、また流動パラフィンの添加量や成分などを
適当に選択することにより、流動パラフィンの蒸発痕跡
の深さや突起の高さが種々な凹凸を形成することで、無
数の様々な突起と凹部を得ることができる。
次に本発明による磁気記録媒体が実際上どのように具体
化されるかを実施例で説明する。第２図磁気記録媒体の
第１実施例を示すもので、（イ）は断面図、（ロ）は拡
大断面図である。アルミニウム基板４の表面を酸化して
アルマイｌ−屓５を形成し、その表面に磁性膜１として
、γ−ｐｅＱ３などをスパッタなどの手法で設けである
。この磁性膜１の上に、無数の突起７・・・と凹部８・
・・が形成されている。Ｌは中間レベルであり、この中
間レベルしに対し、突起７・・・が火口状に隆起してお
り、球面状の凹部８・・・ば中間レベルＬにＸ＋ シ窪
んだ形状になっている。
化されるかを実施例で説明する。第２図磁気記録媒体の
第１実施例を示すもので、（イ）は断面図、（ロ）は拡
大断面図である。アルミニウム基板４の表面を酸化して
アルマイｌ−屓５を形成し、その表面に磁性膜１として
、γ−ｐｅＱ３などをスパッタなどの手法で設けである
。この磁性膜１の上に、無数の突起７・・・と凹部８・
・・が形成されている。Ｌは中間レベルであり、この中
間レベルしに対し、突起７・・・が火口状に隆起してお
り、球面状の凹部８・・・ば中間レベルＬにＸ＋ シ窪
んだ形状になっている。
第３図、第４図は本発明の他の実施例を説明するために
、磁気記録媒体の表面状態を４９式的に示したもので、
（イ）は断面図、（ロ）は部分断面斜視図である。磁性
膜１上に設けた保護膜２には、無数の突起７・・・と無
数の凹部８・・・が形成されている。第３図でば、突起
７・・・の総てが一定の形状および高さになっており、
凹部８・・・も総で一定形状および一定深さになってい
る。これに対し第４図の場合は、突起７ａで示されるよ
うに、突起が段イ１き形状になっている。同様に、途中
から深さを変えて凹部８・・・も段付き形状としてもよ
い。
、磁気記録媒体の表面状態を４９式的に示したもので、
（イ）は断面図、（ロ）は部分断面斜視図である。磁性
膜１上に設けた保護膜２には、無数の突起７・・・と無
数の凹部８・・・が形成されている。第３図でば、突起
７・・・の総てが一定の形状および高さになっており、
凹部８・・・も総で一定形状および一定深さになってい
る。これに対し第４図の場合は、突起７ａで示されるよ
うに、突起が段イ１き形状になっている。同様に、途中
から深さを変えて凹部８・・・も段付き形状としてもよ
い。
突起７ｂは、他の突起７．７ａより低くなっζおり、こ
のように突起の高さばまぢまぢであっても差支えない。
のように突起の高さばまぢまぢであっても差支えない。
また各凹部８・・・の深さも一定である必要はない。
このように、ある中間レベルから突出した無数の突起と
中間レベルより窪んだ無数の四部を備えた構成になって
いる。そのため 独立した無数の凹部８・・・中に潤滑
剤が含浸されるので、潤ｌｈ剤の移動はなく、安定して
保持される。その結果長３ｖ】にわたっ゛ζ潤滑作用が
維持され、保護膜の摩耗による１９耗１′５）の発生が
防止される。また少々の摩耗粉が発生しても、無数の凹
部８・・・中や突起７・・・間に埋没するので、ヘソド
クラソシｊ−の要因とはならない。
中間レベルより窪んだ無数の四部を備えた構成になって
いる。そのため 独立した無数の凹部８・・・中に潤滑
剤が含浸されるので、潤ｌｈ剤の移動はなく、安定して
保持される。その結果長３ｖ】にわたっ゛ζ潤滑作用が
維持され、保護膜の摩耗による１９耗１′５）の発生が
防止される。また少々の摩耗粉が発生しても、無数の凹
部８・・・中や突起７・・・間に埋没するので、ヘソド
クラソシｊ−の要因とはならない。
各突起７・・・、７ａ・・・の頂端と磁気へ・ノドスラ
イダーが慴動接触するので、第１図（ロ）のように保護
膜２が平滑なためにスライターが保護膜にぴったり密着
するものに比べて、摩Ｉ察係数か小さく摩耗が軽減され
る。
イダーが慴動接触するので、第１図（ロ）のように保護
膜２が平滑なためにスライターが保護膜にぴったり密着
するものに比べて、摩Ｉ察係数か小さく摩耗が軽減され
る。
次に第２図のように火口状に隆起した突起と球面状凹部
を無数に有する保護膜を（りるための具体的方法を説明
する。第２図で説明したようにアルマイトＩＮ Ｓ上に
磁性膜１として、γ−１’ｅＯ：＋なとを蒸着などの手
法で設りた後、次の順に処理を行なう。
を無数に有する保護膜を（りるための具体的方法を説明
する。第２図で説明したようにアルマイトＩＮ Ｓ上に
磁性膜１として、γ−１’ｅＯ：＋なとを蒸着などの手
法で設りた後、次の順に処理を行なう。
（１）混合波の塗布：この磁性膜１の」二に、次のよう
に珪素（Ｓｉ）と流動パラフィンを含む混合液をＬ ０
００ ｒ ｐ ｍでスピンコードする。
に珪素（Ｓｉ）と流動パラフィンを含む混合液をＬ ０
００ ｒ ｐ ｍでスピンコードする。
ポリシルセスキオキサン（ラダ一部分が比較的少ないも
の）に属するシリコン樹脂でガラスレジン（オーエンス
イリノイス社の商標）と呼ばれるもの： ２％ 酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル：５０％キ
シレン：１７％ 酢酸エチル：３１％ 流動パラフィン’ ＜？［ｆｆｆｌ）０．３％（２）焼
付け：混合液塗布後、２００℃〜３５０℃で１〜５時間
焼イ１けを行なう。
の）に属するシリコン樹脂でガラスレジン（オーエンス
イリノイス社の商標）と呼ばれるもの： ２％ 酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル：５０％キ
シレン：１７％ 酢酸エチル：３１％ 流動パラフィン’ ＜？［ｆｆｆｌ）０．３％（２）焼
付け：混合液塗布後、２００℃〜３５０℃で１〜５時間
焼イ１けを行なう。
その結果中間レベルＬから突出した突起７・・・と中間
レベルＬより窪んだ凹部８・・・が形成される。
レベルＬより窪んだ凹部８・・・が形成される。
即ち上記組成の混合液を塗布すると、第５図（イ）のよ
うに、混熱蒸発性物質である流動パラフィンがａで示す
ように球状になり、かつ各流動パラフィンの球ａ・・・
同士がはじき合うため、無数の流動パラフィンの球ａ・
・・が混合液ｂＪ二に発生ずる。
うに、混熱蒸発性物質である流動パラフィンがａで示す
ように球状になり、かつ各流動パラフィンの球ａ・・・
同士がはじき合うため、無数の流動パラフィンの球ａ・
・・が混合液ｂＪ二に発生ずる。
混合液すは、流動パラフィンの球ａと表面張力で吸着さ
れるため、流動パラフィンの球ａとの接触部は球状の窪
みができ、かつ該窪みの外周は火口状に隆起する。従っ
て焼イ１けを行なゲζ、混ｉ’ｉ ！（νｂを硬化さ・
ｌると、混合液す中の酢酸エチレングリコールモノエチ
ルエーテルやキシレン、酢酸エチルなどは分解蒸発し、
かつガラスレジン中の５ｉ（Ｏｆｆ） ｔが変化してＳ
ｉＯ２のみが残り、５ｉ０２保護膜２が形成される。ま
た焼イ」け時に、混熱蒸発性物質である球状の流動パラ
フィンａは容易に分解蒸発するので、その痕跡が火口庇
状の球面凹部８と火り縁状の隆起部７としζ残る。球面
凹部８は、中間レベルＬより窪んでおり、また隆起部か
らなる突起７ば、中間レベルＬより突出している。
れるため、流動パラフィンの球ａとの接触部は球状の窪
みができ、かつ該窪みの外周は火口状に隆起する。従っ
て焼イ１けを行なゲζ、混ｉ’ｉ ！（νｂを硬化さ・
ｌると、混合液す中の酢酸エチレングリコールモノエチ
ルエーテルやキシレン、酢酸エチルなどは分解蒸発し、
かつガラスレジン中の５ｉ（Ｏｆｆ） ｔが変化してＳ
ｉＯ２のみが残り、５ｉ０２保護膜２が形成される。ま
た焼イ」け時に、混熱蒸発性物質である球状の流動パラ
フィンａは容易に分解蒸発するので、その痕跡が火口庇
状の球面凹部８と火り縁状の隆起部７としζ残る。球面
凹部８は、中間レベルＬより窪んでおり、また隆起部か
らなる突起７ば、中間レベルＬより突出している。
実際に行なった実施例では、アルミニウム基板上の２μ
ｍの研削されたアルマイト膜上に、磁性月相α−Ｆｅ２
０３を０．２μｍスパッタし、還元酸化処理して磁性膜
を作成した。その保護膜として、ＳｉＯ＋ （５０人）
をスパッタした肱の上に、上記組成の混合液を、膜厚が
約８００人となるように塗布し、３００°Ｃで１時間焼
付は後、弗素化オイルをフロリナートで０．０３％に希
釈した液を潤滑剤とし、て塗布し、磁気ディスクを得た
。この磁気ディスク媒体を、従来の加速評価方法である
高速高荷重逆回転試験を行なうと、５０回以上の強度を
示した。
ｍの研削されたアルマイト膜上に、磁性月相α−Ｆｅ２
０３を０．２μｍスパッタし、還元酸化処理して磁性膜
を作成した。その保護膜として、ＳｉＯ＋ （５０人）
をスパッタした肱の上に、上記組成の混合液を、膜厚が
約８００人となるように塗布し、３００°Ｃで１時間焼
付は後、弗素化オイルをフロリナートで０．０３％に希
釈した液を潤滑剤とし、て塗布し、磁気ディスクを得た
。この磁気ディスク媒体を、従来の加速評価方法である
高速高荷重逆回転試験を行なうと、５０回以上の強度を
示した。
従来の磁気ディスク媒体が１度も耐えられなかったこと
に比べると、保護膜の強度が格段と向上しており、磁気
ヘッドのＣＳＳ動作を頻繁に繰り返しても、保護膜が損
傷することはない。またタライトソクス（デュポン社の
商標）などの弗素化オイルは、従来の連続磁性膜には、
強度や摩擦などの点から、塗布不可能であったが、本発
明の方法で凹凸処理された保護膜には塗布可能となった
。
に比べると、保護膜の強度が格段と向上しており、磁気
ヘッドのＣＳＳ動作を頻繁に繰り返しても、保護膜が損
傷することはない。またタライトソクス（デュポン社の
商標）などの弗素化オイルは、従来の連続磁性膜には、
強度や摩擦などの点から、塗布不可能であったが、本発
明の方法で凹凸処理された保護膜には塗布可能となった
。
しかも粘着を起さず且つ耐震摩耗性にも冨んでいる。
なお上記の！ｌ： 酸エチレングリコールモノエチルエ
ーテルやキシレン、酢酸エチルなどの溶剤を組め替える
ことにより、その使用溶剤の沸点の違いで、保護膜の表
面形状および膜厚が、多種多様となり、また添加する流
動パラフィンの重量の多少でも、変化可能である。溶剤
としては、上記のほかに、メチルイソブチルケトン、ジ
アセトンアルコール、ブタノール、エアミル゛フルコー
ル、シクロヘキサノール等が使用できる。ガラスレジン
は、エタノールと酢酸エチルの溶媒の中のミラノール構
造をもつＳｉ （０１１） ４を主成分とする珪素化合
物であり、珪素（Ｓｉ）を含む溶剤である。
ーテルやキシレン、酢酸エチルなどの溶剤を組め替える
ことにより、その使用溶剤の沸点の違いで、保護膜の表
面形状および膜厚が、多種多様となり、また添加する流
動パラフィンの重量の多少でも、変化可能である。溶剤
としては、上記のほかに、メチルイソブチルケトン、ジ
アセトンアルコール、ブタノール、エアミル゛フルコー
ル、シクロヘキサノール等が使用できる。ガラスレジン
は、エタノールと酢酸エチルの溶媒の中のミラノール構
造をもつＳｉ （０１１） ４を主成分とする珪素化合
物であり、珪素（Ｓｉ）を含む溶剤である。
この実施例の応用として、磁性膜１の」二にスパッタで
ＳｉＯｚを５０〜３００人程度被着させてから、上記の
処理を行なうと、磁気ヘソｌの粘着を更に改善すること
ができる。
ＳｉＯｚを５０〜３００人程度被着させてから、上記の
処理を行なうと、磁気ヘソｌの粘着を更に改善すること
ができる。
次に突起と凹部を有する磁気記録媒体の製造方法の別の
実施例を、第６図に基づい°ζ］二稈順に説明する。
実施例を、第６図に基づい°ζ］二稈順に説明する。
ｆｌｌ Ｓ ｉ Ｏンスパソタ：アルミニウム基（及の
アルマイト層上に設いられた磁性膜１の」二に、耐摩耗
性に富んだＳｉＯｒなどの保護膜２をスパッタなとの手
法で形成する。
アルマイト層上に設いられた磁性膜１の」二に、耐摩耗
性に富んだＳｉＯｒなどの保護膜２をスパッタなとの手
法で形成する。
（２）マスク成Ｈ’Ａ：この保護膜２の１−に、ｌ液性
のポリウレタンゴムの溶液をコートし、界面活性剤入り
のフレオン溶液でゴムを変形さ・ｌ、焼伺りて、ゴムの
マスク９を形成する。
のポリウレタンゴムの溶液をコートし、界面活性剤入り
のフレオン溶液でゴムを変形さ・ｌ、焼伺りて、ゴムの
マスク９を形成する。
（３）コニツチング二次にこのゴＪオ９をマスクにし゛
こ、フロンガス（ＣＦ＋ カス）でトライエノーｙ−ン
クを行ない、保護膜２のゴムマスク９・・・の下に隠れ
た部分２１・・・のみを残す。
こ、フロンガス（ＣＦ＋ カス）でトライエノーｙ−ン
クを行ない、保護膜２のゴムマスク９・・・の下に隠れ
た部分２１・・・のみを残す。
（４）マスク拭き取り：ン合剤でゴムマスク９を拭き取
るごとにより、突起２１・・・が形成される。
るごとにより、突起２１・・・が形成される。
（５１ＳｉＯｚスパッタ：こうして形成された突起２１
・・・上に、ＳｉＯｒをスパッタなどの手法で５０人程
度被着させて、５ｉＯｚ １ｍ １０を形成する。
・・・上に、ＳｉＯｒをスパッタなどの手法で５０人程
度被着させて、５ｉＯｚ １ｍ １０を形成する。
（６）マスク成膜：再度前記のゴムマスク作成と同し要
領で、ポリウレタンゴムをコー１− Ｌ、変形させた後
、焼付けを行なって、ゴムマスク１１を形成する。
領で、ポリウレタンゴムをコー１− Ｌ、変形させた後
、焼付けを行なって、ゴムマスク１１を形成する。
（７）エツチング：１：ライエソチングを行なって、ゴ
ムマスク１１・・・の回りの薄膜を取り去り、次工程の
ＳｉＯ２の密着を良くする。
ムマスク１１・・・の回りの薄膜を取り去り、次工程の
ＳｉＯ２の密着を良くする。
（８１ＳｉＯｚスパッタ：ゴムマスク１１の上から５ｉ
０２をスパッタして、ＳｉＯ２Ｍ １２を形成する。
０２をスパッタして、ＳｉＯ２Ｍ １２を形成する。
このとき、ＳｉＯ２層１２は、（６）工程の凹部１３上
に直接被着された層１２ａ、凹部１３上のゴムマスク１
１の上に被着されたｍ １２ ｂ、（６）工程の突起２
１上に１１°１接破■された層１２Ｃ１該突起２１上の
ゴムマスク１１の上に被着された１ｍ １２ （］とな
る。
に直接被着された層１２ａ、凹部１３上のゴムマスク１
１の上に被着されたｍ １２ ｂ、（６）工程の突起２
１上に１１°１接破■された層１２Ｃ１該突起２１上の
ゴムマスク１１の上に被着された１ｍ １２ （］とな
る。
（９）マスク剥ＭＥ ： ＳｉＯｒ スパッタ部を拭い
て、こｌ′ムマスク１１・・・を強制的に拭き取る。す
ると、（６）工程の凹部１３上のゴムマスク１１を除去
した後に残った凹部１３が最も深く、次は（６）工程の
四部１３上に直接被着された層１２ａが深い。そして（
６）工程の突起２１上に直接被着された層１２ｃが最も
高（、次は該突起２１上のコムマスク１１を除去した後
に残った部分、即ち突起２１の頂端が高い。したがって
（６）工程の凹部１３上に直接被着されたＭ Ｉ ２
ａを中間レヘハ用、とすると、四部１３と、最も高い突
起１２ｃ、次に高い突起２１および段付きの突起１２ｅ
を備えた構成となる。この段伺きの突起１２ｅは、（６
）工程の突起２１の一部にゴムマスク１１が付着したた
めに、該ゴムマスク１１の除去後に、段が伺いたもので
ある。
て、こｌ′ムマスク１１・・・を強制的に拭き取る。す
ると、（６）工程の凹部１３上のゴムマスク１１を除去
した後に残った凹部１３が最も深く、次は（６）工程の
四部１３上に直接被着された層１２ａが深い。そして（
６）工程の突起２１上に直接被着された層１２ｃが最も
高（、次は該突起２１上のコムマスク１１を除去した後
に残った部分、即ち突起２１の頂端が高い。したがって
（６）工程の凹部１３上に直接被着されたＭ Ｉ ２
ａを中間レヘハ用、とすると、四部１３と、最も高い突
起１２ｃ、次に高い突起２１および段付きの突起１２ｅ
を備えた構成となる。この段伺きの突起１２ｅは、（６
）工程の突起２１の一部にゴムマスク１１が付着したた
めに、該ゴムマスク１１の除去後に、段が伺いたもので
ある。
（１０）清掃：溶剤で残留マスクなどを除去し、浄化す
る。
る。
（１１）潤滑剤塗布；最後に潤滑剤１４を塗布すると、
４１沿剤１４が、凹部１３中や突起１’２ｃ・・・間に
含浸され、安定して保持される。したがって潤ｊｆｌ剤
１４は少しずつスライダーとの接触部に供給され、潤滑
剤の伺き過ぎによる粘着が解消され、摩擦係数やＣＳＳ
強度も向上する。
４１沿剤１４が、凹部１３中や突起１’２ｃ・・・間に
含浸され、安定して保持される。したがって潤ｊｆｌ剤
１４は少しずつスライダーとの接触部に供給され、潤滑
剤の伺き過ぎによる粘着が解消され、摩擦係数やＣＳＳ
強度も向上する。
こうして出来上がった磁気記録媒体の表面形状は、（１
）の工程における５ｉＯｚ Ｉ晋２の膜厚ｘ ＋ 、（
８１の工程におけるＳｉＯｉ ＩＦ５１２の膜厚ｘ２に
より、次の３つの形状となる。
）の工程における５ｉＯｚ Ｉ晋２の膜厚ｘ ＋ 、（
８１の工程におけるＳｉＯｉ ＩＦ５１２の膜厚ｘ２に
より、次の３つの形状となる。
（ａｌ：Ｘ１＝Ｘ２の場合は、第３図のように、突起７
・・・の高さと凹部８・・・の深さが等しい凹凸となる
。
・・・の高さと凹部８・・・の深さが等しい凹凸となる
。
（ｂｌ： ｘｌ ＞ｘ２＝ｘＩ＜Ｘ２の場合は、第４図
の突起７ａ、７ｂのように、高さの異なる突起ができる
。ＸＩ ＞Ｘ２の場合は、凹部８が浅く突起７ｂが高く
なるが、ｘｌ〈ｘ２の場合は、凹部８が深く突起７ｂが
低くなる。また突起７ａで示されるように、段付きの突
起も形成される。
の突起７ａ、７ｂのように、高さの異なる突起ができる
。ＸＩ ＞Ｘ２の場合は、凹部８が浅く突起７ｂが高く
なるが、ｘｌ〈ｘ２の場合は、凹部８が深く突起７ｂが
低くなる。また突起７ａで示されるように、段付きの突
起も形成される。
なお（５）工程のＳｉ０２スパツタは、（１０１の浄化
工程の次に行なうこともできる。
工程の次に行なうこともできる。
このように１液性のポリウレタンゴムの表面張力を利用
することにより、簡単にザブミクロン（０，３〜数μ１
Ｔｌ）の微小マスクを作成することができ、且つエツチ
ングおよびリフトオフ法を併用することにより、無数の
突起を容易に形成できる。
することにより、簡単にザブミクロン（０，３〜数μ１
Ｔｌ）の微小マスクを作成することができ、且つエツチ
ングおよびリフトオフ法を併用することにより、無数の
突起を容易に形成できる。
そのため従来の平消面と違って、磁気ヘット′と磁気デ
ィスク円板との粘着現象が確実に軽減され、摩擦係数も
小さくなる。またゴムの濃度やスピンコード条件、スピ
ン回数などを適宜選択すれば、小突起、大突起、小凹部
、大凹部、またはそれぞれの組合・Ｕにより、第７図（
イ）（ロ）のように、突起や四部のサイズ、密度、形状
なども自由に選定できる。エツチングされる保護膜の厚
みにより、突起のｉｎ＋さ、凹部の深さも容易に制御で
き、エツチング時間を変化させることで、多くの段差を
も７た凹凸が形成される。またゴムを変形させる界面活
性剤入りフレオン溶液のスピン回数で、凹凸の密度も自
由に変化できる。
ィスク円板との粘着現象が確実に軽減され、摩擦係数も
小さくなる。またゴムの濃度やスピンコード条件、スピ
ン回数などを適宜選択すれば、小突起、大突起、小凹部
、大凹部、またはそれぞれの組合・Ｕにより、第７図（
イ）（ロ）のように、突起や四部のサイズ、密度、形状
なども自由に選定できる。エツチングされる保護膜の厚
みにより、突起のｉｎ＋さ、凹部の深さも容易に制御で
き、エツチング時間を変化させることで、多くの段差を
も７た凹凸が形成される。またゴムを変形させる界面活
性剤入りフレオン溶液のスピン回数で、凹凸の密度も自
由に変化できる。
このように突起の高さおよび凹部の深さを色々変えるこ
とによって、多段構成とする方が好ましい。第８図は段
数を更に増やす製造方法の実施例を示すものである。（
１）工程から（４）工程までは、第６図の製造方法と同
じなため、（５）工程以降を説明する。
とによって、多段構成とする方が好ましい。第８図は段
数を更に増やす製造方法の実施例を示すものである。（
１）工程から（４）工程までは、第６図の製造方法と同
じなため、（５）工程以降を説明する。
（５）マスク成１模：突起２１上に前記の要領でゴムマ
スク１５を形成する。
スク１５を形成する。
（６）エツチング：このゴムマスク１５の上からドライ
エツチングを行なって、ゴムマスク１５の陰になる部分
以外をエツチングする。この場合エツチング時間を、前
記（３）の工程におけるエツチングの１／３とする。
エツチングを行なって、ゴムマスク１５の陰になる部分
以外をエツチングする。この場合エツチング時間を、前
記（３）の工程におけるエツチングの１／３とする。
（７）マスク成膜：前記のゴムマスク１５を除去しない
で、新にゴムマスク１６を形成する。
で、新にゴムマスク１６を形成する。
（８）エツチング：そして前記（３）の工程におけるエ
ツチングの１／３の時間エツチングを行なう。
ツチングの１／３の時間エツチングを行なう。
（９）マスク成膜：再度ゴムマスク１７を追加形成する
。
。
００）エツチング：そして先のゴムマスク１５．１６お
よび今回のゴムマスク１７の」二から１ライエツチング
を行なう。最後に溶剤でゴムマスク１５．１６．１７を
除去する。
よび今回のゴムマスク１７の」二から１ライエツチング
を行なう。最後に溶剤でゴムマスク１５．１６．１７を
除去する。
したがって（５）工程で形成されたゴムマスク１５の下
の、仝くエツチングが行なわれない突起２１ａが最も高
く、２回目の（７）工程で形成されたコ゛ムマスク１６
の下の突起２１ｂが次に高くなる。そして（９１工程で
最後に形成されたゴムマスク１７の下の突起２１Ｃが３
番目に高い。ゴムマスク１５．１６．１７のいずれの陰
にもならず、総てのエツチング工程でエツチングされた
突起２１ｄが最も低くなる。なお各突起ｚｉａ、２１ｂ
、２ＩＣ１２１ｄの間の部分１３が凹部８となる。
の、仝くエツチングが行なわれない突起２１ａが最も高
く、２回目の（７）工程で形成されたコ゛ムマスク１６
の下の突起２１ｂが次に高くなる。そして（９１工程で
最後に形成されたゴムマスク１７の下の突起２１Ｃが３
番目に高い。ゴムマスク１５．１６．１７のいずれの陰
にもならず、総てのエツチング工程でエツチングされた
突起２１ｄが最も低くなる。なお各突起ｚｉａ、２１ｂ
、２ＩＣ１２１ｄの間の部分１３が凹部８となる。
第９図１はこうして作成した磁気記録媒体表面の斜視図
で、最も高い突起２１ａの高さが３００人、２番目に１
１“１ｊい突起２１ｂの高さが２００人、量も低い突起
２１（、が１００人であった。また凹部１３の深さは、
５００人であった。各突起および四部の径は、２〜３ｐ
Ｈ程度となった。
で、最も高い突起２１ａの高さが３００人、２番目に１
１“１ｊい突起２１ｂの高さが２００人、量も低い突起
２１（、が１００人であった。また凹部１３の深さは、
５００人であった。各突起および四部の径は、２〜３ｐ
Ｈ程度となった。
このようにし−ζマスク成膜とトノチングの回数を増や
・Ｕば、段数を自由に増やすことができ、また強度的に
も向上する。その後第６図の（６）以降の工程をたどる
と、 突起数：マスク成膜とエツチング回数：ｎ凹部数： １ となる。
・Ｕば、段数を自由に増やすことができ、また強度的に
も向上する。その後第６図の（６）以降の工程をたどる
と、 突起数：マスク成膜とエツチング回数：ｎ凹部数： １ となる。
実験的には、突起が３段、四部が１段で、計６段の形状
まで行なった。
まで行なった。
以上のように本発明によれば、基板上に形成された磁気
記録層の表面に、ある中間レベルより高い微小な突起と
該中間レベルより窪んだ微小な四部をそれぞれ無数に形
成し、かつ該凹部中に潤滑剤を含ませた構成を採ってい
る。そのため潤滑剤が各四部中に独立して安定保持され
、γＩｕｌ消剤が長期にわたって安定し一ζ磁気ヘット
との１晋動面に供給される。また潤滑剤が多過ぎるため
に発生ずる潤滑剤の粘着現象も解消される。しかも磁気
ヘッドスライダ−との接触部は、無数の突起の】■面な
ため、平滑な面と違って摩擦係数が小さく、摩耗粉の発
生が防止される。保護膜はＳｉＯ２で構成できるので、
特願昭５７−８４３８３号の発明のような樹脂製の保護
膜に比べてＣＳＳ強度も充分である。
記録層の表面に、ある中間レベルより高い微小な突起と
該中間レベルより窪んだ微小な四部をそれぞれ無数に形
成し、かつ該凹部中に潤滑剤を含ませた構成を採ってい
る。そのため潤滑剤が各四部中に独立して安定保持され
、γＩｕｌ消剤が長期にわたって安定し一ζ磁気ヘット
との１晋動面に供給される。また潤滑剤が多過ぎるため
に発生ずる潤滑剤の粘着現象も解消される。しかも磁気
ヘッドスライダ−との接触部は、無数の突起の】■面な
ため、平滑な面と違って摩擦係数が小さく、摩耗粉の発
生が防止される。保護膜はＳｉＯ２で構成できるので、
特願昭５７−８４３８３号の発明のような樹脂製の保護
膜に比べてＣＳＳ強度も充分である。
またこのように凹凸のついた保護膜を得るのに、磁気記
録ＩＨ上に珪素（Ｓｔ）を含む溶剤と流動パラフィンの
ような易熱分解性ないし易熱蒸発性の物質を含む混合液
を塗布した後、Ｖε付けるごとによって、混合液の硬化
と易熱分解性ないし易熱蒸発性の物ηの分解、蒸発を同
時に行なわ−Ｕ°る方法を採っ′Ｃいる。従って混合液
の塗布と焼（（］リノどりで、流りＪパラフィンの蒸発
した痕跡による凹凸が形成され、極めて簡単に前記のよ
うに凹凸の伺いた保護膜を得ることができる。
録ＩＨ上に珪素（Ｓｔ）を含む溶剤と流動パラフィンの
ような易熱分解性ないし易熱蒸発性の物質を含む混合液
を塗布した後、Ｖε付けるごとによって、混合液の硬化
と易熱分解性ないし易熱蒸発性の物ηの分解、蒸発を同
時に行なわ−Ｕ°る方法を採っ′Ｃいる。従って混合液
の塗布と焼（（］リノどりで、流りＪパラフィンの蒸発
した痕跡による凹凸が形成され、極めて簡単に前記のよ
うに凹凸の伺いた保護膜を得ることができる。
第１し１は従来の磁気記録媒体の表面状態を示ず部分１
１Ｊｉ面♀ｚ１視図、第２図以下は本発明による磁気記
録媒体の実施例を示すもので、第２図は磁気記録媒体の
表面状態の一例を示すｌＵｉ面図、第３図、第４図は秘
多気記録媒体の他の表面状態を示す断面図と部うｌ断面
斜視図、第５図は磁気記録媒体の製造方法を示す断面図
、第６図と第８図は磁気記録媒体の他の製造方法を示す
工程図、第７図と第９図は磁気記録媒体の他の表面状態
を示す斜視図である。 図において、１は磁性膜、２は保護膜、４はアルミニウ
ム基板、５はアルマイト層、７．７ａ、７ｂは突起、８
は凹部、ａは流動パラフィンの球、ｂは混合液、９．１
１はゴムマスクをそれぞれ示す。 特許出願人 富士通株式会社 代理人 弁理士 青 柳 稔
１Ｊｉ面♀ｚ１視図、第２図以下は本発明による磁気記
録媒体の実施例を示すもので、第２図は磁気記録媒体の
表面状態の一例を示すｌＵｉ面図、第３図、第４図は秘
多気記録媒体の他の表面状態を示す断面図と部うｌ断面
斜視図、第５図は磁気記録媒体の製造方法を示す断面図
、第６図と第８図は磁気記録媒体の他の製造方法を示す
工程図、第７図と第９図は磁気記録媒体の他の表面状態
を示す斜視図である。 図において、１は磁性膜、２は保護膜、４はアルミニウ
ム基板、５はアルマイト層、７．７ａ、７ｂは突起、８
は凹部、ａは流動パラフィンの球、ｂは混合液、９．１
１はゴムマスクをそれぞれ示す。 特許出願人 富士通株式会社 代理人 弁理士 青 柳 稔
Claims (2)
- （１）基板上に形成された磁気記録層上に保護膜を設け
た磁気記録媒体であって、上記保護膜の表面に、ある中
間レベルより高い微小な突起と該中間レベルより窪んだ
微小な凹部をそれぞれ無数に備え、かつ該凹部中に潤滑
剤を含んでいることを特徴とする磁気記録媒体。 - （２）基板上に形成された磁気記録層上に保護膜を設け
た磁気記録媒体を製造する際に、該磁気記録層上に珪素
（Ｓｔ）を含む溶剤と易熱分解性ないし易熱蒸発性の物
質を含む混合液を塗布した後、焼付けることによって、
混合液の硬化と易熱分解性ないし易熱蒸発性の物質の分
解、蒸発を同時に行なわせることを特徴とする磁気記録
媒体の製造方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58113517A JPS605423A (ja) | 1983-06-22 | 1983-06-22 | 連続磁性膜型磁気記録媒体 |
| CA000456920A CA1251360A (en) | 1983-06-22 | 1984-06-19 | Magnetic recording medium and production processes thereof |
| US06/623,259 US4664963A (en) | 1983-06-22 | 1984-06-21 | Magnetic recording medium and production processes thereof |
| AU29721/84A AU551438B2 (en) | 1983-06-22 | 1984-06-21 | Magnetic recording medium |
| DE8484304232T DE3480239D1 (en) | 1983-06-22 | 1984-06-22 | Magnetic recording media |
| EP84304232A EP0130063B1 (en) | 1983-06-22 | 1984-06-22 | Magnetic recording media |
| US06/899,130 US4675075A (en) | 1983-06-22 | 1986-08-22 | Magnetic recording production processes |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58113517A JPS605423A (ja) | 1983-06-22 | 1983-06-22 | 連続磁性膜型磁気記録媒体 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5044090A Division JPH0648536B2 (ja) | 1990-03-01 | 1990-03-01 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS605423A true JPS605423A (ja) | 1985-01-12 |
| JPH0312372B2 JPH0312372B2 (ja) | 1991-02-20 |
Family
ID=14614344
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58113517A Granted JPS605423A (ja) | 1983-06-22 | 1983-06-22 | 連続磁性膜型磁気記録媒体 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US4664963A (ja) |
| EP (1) | EP0130063B1 (ja) |
| JP (1) | JPS605423A (ja) |
| AU (1) | AU551438B2 (ja) |
| CA (1) | CA1251360A (ja) |
| DE (1) | DE3480239D1 (ja) |
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| CN102289858A (zh) * | 2010-06-17 | 2011-12-21 | 日立欧姆龙金融系统有限公司 | 纸币处理装置 |
Families Citing this family (20)
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