JPH02198001A - 磁気記録再生方法、磁気記録媒体および浮上型磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、潤滑作用および保護作用を有する保護潤滑膜
を有する磁気記録媒体および磁気ヘッドと、これらを用
いる磁気記録再生方法とに関する。

〈従来の技術〉 計算棲等に用いられる磁気ディスク駆動装置には、剛性
基板上に磁性層を設層したハードタイプの磁気ディスク
と浮上型磁気ヘッドとが用いられている。

このような磁気ディスク駆動装置においては、従来、塗
布型の磁気ディスクが用いられていたが、磁気ディスク
の大容量化に伴い、磁気特性、記録密度等の点で有利な
ことから、スパッタ法等の気相成膜法等により設層され
る連続薄膜型の磁性層を有する薄膜型磁気ディスクが用
いられるようになっている。

薄膜型磁気ディスクとしては、ＡＩ２系のディスク状金
属板にＮ１−Ｐ下地層をめっきにより設層するか、ある
いはこの金属板表面を酸化してアルマイトを形成したも
のを基板とし、この基板上にＣｒ層、Ｃｏ−Ｎｉ等の金
属磁性層、さらにＣ等の保護潤滑膜をスパッタ法により
順次設層して構成されるものが一般的である。

しかし、Ｃｏ−Ｎｉ等の金属磁性層は耐食性が低く、さ
らに硬度が低（、信頼性に問題が生じる。　これに対し
、特開昭６２−４３８１９号公報に記載されているよう
な酸化鉄を主成分とする磁性薄膜は化学的に安定なため
腐食の心配がな（、また、充分な硬度を有している。

一方、浮上型磁気ヘッドは浮力を発生するスライダを有
する磁気ヘッドであり、コアがスライダと一体化された
コンポジットタイプのもの、あるいはコアがスライダを
兼ねるモノリシックタイプのものが通常用いられる。

さらに、これらの他、高密度記録が可能であることから
、いわゆる薄膜型の浮上型磁気ヘッドが注目されている
。　薄膜型の浮上型磁気ヘッドは、基体上に磁極層、ギ
ャップ層、コイル層などを気相成膜法等により形成した
ものである。　このような薄膜型の浮上型磁気ヘッドで
は、基体がスライダとしてはだら（。

これらの浮上型磁気ヘッドにおいて、スライダは、各種
フェライト、八β＊　Ｏｓ　　Ｔ　ｉ　Ｃ１ＺｒＯ，、
ＳｉＣ，Ａ４２Ｎ等の各種セラミックスから構成される
。

浮上型磁気ヘッドを用いる磁気ディスク装置では、コン
タクト・スタート・ストップ（ＣＳＳ）時に浮上型磁気
ヘッドの浮揚面（スライダの磁気ディスク側表面）と磁
気ディスクが接触する。　このとき、磁気ディスクおよ
び浮上型磁気ヘッドにキズの発生、破損などが生じたり
、あるいは磁気ディスクへの浮上型磁気ヘッドの吸着が
生じ易い。　このため、磁気ディスクあるいは磁気ヘッ
ド表面に種々の保護膜あるいは潤滑膜を設ける提案がな
されている。

特に、酸化鉄はＣｏ−Ｎｉ等の金属に比べ硬度が高いた
め、特開昭６２−４３８１９号公報に記載されているよ
うな酸化鉄磁性層を有する磁気ディスクでは、例え磁気
ディスク表面に潤滑膜あるいは保護膜を設けてあっても
Ｃ８Ｓの繰り返しによりヘッド浮揚面がキズつき易く、
また、ヘッドとディスクの間の摩擦が増大し易い。　こ
のため、このような組み合わせにおいては、潤滑膜ある
いは保護膜構成材料の選択には注意を要する。

また、酸化鉄磁性層を有する磁気ディスクとＭｎ−Ｚｎ
フェライト製基体を有する浮上型ヘッドとを組み合わせ
て用いる場合、Ｍ　ｎ　−Ｚｎフェライトの硬度が酸化
鉄の硬度よりも低いため、このような問題は一層顕著と
なる。

さらに、酸化鉄磁性層を有する薄膜型磁気ディスクに対
し、Ｍ　ｎ　−Ｚ　ｎフェライトより硬度の高いＡ　４
２　ｍ　Ｏｎ　−Ｔ　ｆ　Ｃ、Ｚ　ｒ　ＯｚＳｉＣ，Ａ
ｊ２Ｎなどの基体を有する浮上型磁気ヘッドを用いる場
合、前記のような問題はある程度解消するが、このよう
な磁気ディスクおよび浮上型磁気ヘッドの組み合わせに
おいては、磁性層およびスライダのいずれもが高い硬度
を有するため、より高い潤滑および保護効果が必要とな
る。　特に、高密度配録を行なうために薄膜型の浮上型
磁気ヘッドを用いる場合、上記問題はより顕著となる。

すなわち、薄膜型の浮上型磁気ヘッドを用いる磁気ディ
スク駆動装置では、高密度配録を行なうために磁気ディ
スクと磁気ヘッドとの間隔（フライングバイト）を極め
て小さく設定できるので、磁気ディスクの振動あるいは
駆動装置外部からの衝撃などにより磁気ディスクと浮上
型磁気ヘッドとの接触事故が生じたり、また、フライン
グバイトが小さい場合、Ｃ８Ｓ時に磁気ヘッドおよび磁
気ディスクが受ける被害がより大きくなるからである。

特に、特開昭６２−４３８１９号公報に記載されている
ような酸化鉄を主成分とする圃性薄膜を有する磁気ディ
スクは、表面が鏡面化されたガラス基板を使用しており
、磁性層の表面粗さが非常に小さなものとなっている。

　このため、好適な保護膜を選定しないと磁気ディスク
と磁気ヘッドとの間の摩擦が太き（なり、Ｃ８Ｓ等の際
に磁気ヘッドがスティックスリップしたり、吸着したり
するという問題を生じる。　このため、このような組み
合わせにおいても、潤滑膜あるいは保護膜構成材料の選
択には注意を要する。

以上に挙げたような浮上型磁気ヘッドおよび磁気記録媒
体に設けられる保護潤滑膜には、種々の潤滑剤が用いら
れている。

〈発明が解決しようとする課題〉 しかし、従来の保護潤滑膜では十分な保護潤滑効果は得
られない。

また、従来の保護潤滑膜では、磁気記録媒体あるいは磁
気ヘッドに薄くしかも均一に成膜することは困難である
。　このため、初期と走行後における磁気記録媒体と磁
気ヘッドとの間の摩擦が大幅に変動し、スティックスリ
ップが発生したりし、保護潤滑効果はいっそう劣化する
。

本発明の目的は、磁気記録媒体と磁気ヘッドとの間の摩
擦が小さ（、かつ、耐久走行中でのその変動が少なく、
つまりスティックスリップが発生しにくく、磁気記録媒
体への磁気ヘッドの吸着が発生しに（く、しかも磁気ヘ
ッドおよび磁気記録媒体にキズあるいは破損が生じに（
い磁気記録媒体および磁気ヘッドと、これらを用いる磁
気記録再生方法とを提供することにある。

く課題を解決するための手段〉 このような目的は、下記（１）〜（１２）の本発明によ
り達成される。

（１）剛性基板上に磁性層を有する磁気記録媒体に、浮
上型磁気ヘッドを用いて記録および再生を行う方法であ
って、 前記磁性層上上よび／または前記浮上型磁気ヘッドの少
なくとも浮揚面上に、下記一般式［Ｉ］で示される化合
物の保護潤滑膜を有する１ことを特徴とする磁気記録再
生方法。

一般式［１１ （上記一般式［Ｉ］において、 Ｒ３およびＲ２は、それぞれ、炭素原子数４〜３６のア
ルキル基を表わし、 Ｌは、３価の基を表わし、 Ｚは、カルボキシ基もしくはその塩、または水酸基を表
わす、） （２）前記浮上型磁気ヘッドが、薄膜型の浮上型磁気ヘ
ッドである上記（１）に記載の磁気記録再生方法。

（３）前記磁性層が酸化鉄を主成分とする磁性薄膜であ
り、前記浮上型磁気ヘッドの少なくとも浮揚面がビッカ
ース硬度１０００以上のセラミックス材料から構成され
ているものである上記（１）または（２）に記載の磁気
記録再生方法。

（４）前記磁性層表面と前記浮上型磁気ヘッドの浮揚面
との距離が０．１−以上である上記（１）ないしく３）
のいずれかに記載の磁気記録再生方法。

（５）前記保護潤滑膜がラングミュア・ブロジェット法
または塗布法により成膜されたものである上記（１）な
いしく４）のいずれかに記載の磁気記録再生方法。

（６）前記保護潤滑膜が単分子層である上記（５）に記
載の磁気記録再生方法。

（７）剛性基板上に磁性層を有する磁気記録媒体であっ
て、 前記磁性層が酸化鉄を主成分とする磁性薄膜であり、前
記磁性層上に、融点３０’Ｃ以上のアルコールの保護潤
滑膜を有することを特徴とする磁気記録媒体。

（８）前記剛性基板がガラスから構成されるものである
上記（７）に記載の磁気記録媒体。

（９）少なくとも浮揚面がビッカース硬度１０００以上
のセラミックス材料から構成されており、少なくとも前
記浮揚面上に、融点３０℃以上のアルコールの保護潤滑
膜を有することを特徴とする薄膜型の浮上型磁気ヘッド
。

（１０）前記セラミックス材料が／ＩＩ２．Ｏ，−Ｔｉ
Ｃを主成分とするセラミックス、Ｚ　ｒ　Ｏ諺を主成分
とするセラミックス、ＳｉＣを主成分とするセラミック
スまたはＡ４２Ｎを主成分とするセラミックスである上
記（９）に記載の磁気ヘッド。

（１１）前記セラミックス材料がＡ１１ｚＯｓ−ＴｉＣ
を主成分とするセラミックス、ＳｉＣを主成分とするセ
ラミックスまたはＡＪ２Ｎを主成分とするセラミックス
である上記（９）または（１０）に記載の磁気ヘッド。

（１２）前記セラミックス材料がＡ　Ｑ　ｓ　Ｏ＊Ｔｉ
Ｃを主成分とするセラミックスである上記（９）ないし
く１１）のいずれかに記載の磁気ヘッド。

〈作用〉 本発明では、磁気記録媒体の磁性層上および／または浮
上型磁気ヘッドの少なくとも浮揚面上に、所定の親水性
化合物の保護潤滑膜を有する。　このため、磁気記録媒
体と磁気ヘッドとの間の摩擦係数が低く、摩擦の変化も
少なく、安定に走行性を保つことができる。　しかも摩
擦変動が少ないため、耐久走行中でのスティックスリッ
プが発生しに＜（磁気ヘッドの媒体への接触時に媒体お
よびヘッドの破損、媒体表面へのヘッドの吸着が生じに
くい。

特に、磁気記録媒体の磁性層が酸化鉄を主成分とするも
のであり、かつ、磁気ヘッドの基体がビッカース硬度１
０００以上のセラミックス材料から構成されている場合
は、磁性層と磁気ヘッドとの硬度差が少く、摩擦力が絶
えず安定しているため、耐久走行中でスティックスリッ
プが発生しにり＜、磁性層および磁気ヘッドのいずれも
が破損しにくい。

さらに、本発明に用いる保護潤滑膜は、薄くしかも均一
な成膜を行なうことができる。　　このため、走行中あ
るいは耐久走行後の摩擦変動が少なくなり、良好な記録
再生を行うことができる。

〈具体的構成〉 本発明では、磁気記録媒体の磁性層上および／または浮
上型磁気ヘッドの少なくとも浮揚面上に保護潤滑膜を有
する。

この保護潤滑膜に用いる化合物は、上記−般式［Ｉ］で
示される化合物の１種以上である。

上記一般式［Ｉ］において、Ｒ，およびＲ２は、それぞ
れ炭素原子数４〜３６のアルキル基を表わすが、特にＣ
７Ｈｓｎ−＋　−（ｎ　＝　６〜３６、より好ましくは
ｎ＝８〜３６）で示される直鎖の飽和アルキル基である
ことが好ましい。

また、Ｒ１とＲ２とは互いに異なるものであってもよい
が、通常同一であることが好ましい。

Ｌは、３価の基を表わすが、特に好ましいものとしては
、 ＼ ＣＨ− ノ を挙げることができる。

そして、Ｚは、カルボキシ基、あるいはその塩（例えば
金属塩、アンモニウム塩）、水酸基を表わす。

以下に、一般式［Ｎで示される化合物の具体例を挙げる
。　なお、下記において、ｎは上記と同義である。

（１）ＣｎＨ２ｎ。

＼ ＣＨ−ＣＯＯＮ−Ｈ ／ Ｃｎ　　Ｈ１ｎ＊　１ （２）　　Ｃｎ　Ｈａ−、ｔ ＼ ＣＨＣＨ，Ｃ０ＯＨ ／ Ｃｎ　　Ｈ＊ｎ＊＋ ／ Ｃｍ　　Ｈ＊＊＊。

（５）　　Ｃ，Ｈ□、。

＼ ＣＨＣＨＩ　　ＯＨ ／ Ｃｎ　　Ｈｘｌｌ＊＋ なお、上記（１）〜（４）は塩体であってもよい。

これらの化合物は、菌体細胞膜構成成分として天然に存
在するものがある他、ＴｅｔｒａｈｙｄｒｏｎＬｅｔｔ
ｅｒｓ　４９４８９９（１９８７）や、日本化学会第５
７秋季大会Ｉ　Ｆ４３４．２１１Ｈ３５（１９８８）等
に従い、容易に合成することができる。

そして、保護潤滑膜には、これら化合物の１種あるいは
２種以上が用られる。　このため、均一な薄膜を形成す
ることができる。

しｎ　ｆｉｚｎ＋＋ＬＪ 本発明において保護潤滑膜の厚さは４〜３００人程度で
あることが好ましい。　　４人未満では十分な本発明の
効果が得られず特に耐久性が劣り、３００人をこえると
吸着が発生し、磁気ヘッドのクラッシュを起こす場合が
ある。　なお、より好ましい膜厚は４〜１００人であり
、さらに好ましい膜厚は４〜８０人であり、さらに好末
しい膜厚は５〜４０人であり、さらに好ましい膜厚は１
０〜３０人である。　そして、特に単分子層からなるも
のが好ましい。

保護潤滑膜の形成方法に特に制限はなく、ラングミュア
・ブロジェット（ＬＢ）法、塗布法等から適当に選択す
ればよい。

例えば、ＬＢ法を用いる場合、被着体基板（磁気記録媒
体または浮上型磁気ヘッド）を水相中に浸漬する。　次
いで、前記化合物の展開溶液を所定量水相に均一に落と
し、単分子膜を展開する。

次に、表面圧が所定の張力となるまで気液界面を圧縮し
た後、一定圧を保つように界面を圧縮しなから被着体基
板を所定の速度で水相中からほぼ垂直に上昇させて、被
着体基板上に単分子膜を移し取る。　次いで、付着した
水を必要に応じ乾燥させる。　さらに、必要に応じ、同
じ操作を繰り返すことによって累積膜を得る。

累積数は１〜２０層程度、より好ましくは１〜５層程度
、特に好ましくは１層、すなわち単分子層であることが
好ましい。

なお、被着体基板表面に疎水性、あるいは親水性の処理
を行い、この上にＬＢ法により有機膜を形成してもよい
。

疎水処理はＬＢ法や気相法等により行なうことができ、
この場合、脂肪酸、エステル、アルコール等の１種以上
を用いることが好ましい。

また、親木処理はプラズマ法、スパッタ法、溶剤、イオ
ンボンバード、逆スパツタリング等により行なえばよい
。

ＬＢ法において展開する溶液の溶媒とじては、炭化水素
系（キシレン、ベンゼン等）、ハロゲン化炭化水素系（
クロロホルム等の塩素化物溶剤、フロン等のフッ素化物
溶剤等）、ニトロ化炭化水素系（ニトロベンゼン等）、
アルコール類系（エチルアルコール、メチルアルコール
、プロピルアルコール等）、ケトン類系（アセトン等）
　複素環化合物系（キノリン等）、アミン類系、エーテ
ル類系、エステル類系、酸類系などが挙げられる。

本発明の保護潤滑膜はこのようなＬＢ法の他、塗布法な
どによって成膜することもできる。

塗布法を用いる場合、塗布溶液としては上記ＬＢ法にお
ける展開溶液を用いることができる。　また、塗布方法
は、スピンコード、ディッピング、スプレーコート等を
適宜選択すればよい。

保護潤滑膜を塗布法により形成する場合、その好ましい
膜厚範囲は前記ＬＢ法によるものと同様である。

本発明に用いる磁気記録媒体は、剛性基板上に酸化鉄を
主成分とする薄膜磁性層を有する。

剛性基板の材質に特に制限はないが、下地層などを設層
する必要がなく製造工程が簡素になること、また、研磨
が容易で表面粗さの制御が簡単であることから、本発明
ではガラスを用いることが好ましい。

ガラスとしては、強化ガラスを用いることが好ましい。

　このようなガラスとしては、特開昭６２−４３８１９
号公報に記載されているような表面強化ガラスが挙げら
れる。

剛性基板の表面粗さ（Ｒｍａｘ）は、１００Å以下であ
ることが好ましい。　このような表面粗さは、例えば、
特開昭６２−４３８１９号公報に記載されているような
メカノケミカルポリッシングなどにより得ることができ
る。　なお、Ｒｍａｘは５０Å以下であることがさらに
好ましい。　本発明では薄膜磁性層をこの基板上に直接
設層するため、磁性層の表面粗さは、基板の表面粗さと
ほぼ等しくなる。　基板の表面粗さを上記範囲内とすれ
ば、磁性層表面と浮上型磁気ヘッドの浮揚面との距離を
０１１戸以下に保って記録および再生を行なうことがで
き、高密度記録が可能となる。　そして、本発明では磁
性層上および／または磁気ヘッドの浮揚面に前述した保
護潤滑膜を有するため、媒体と磁気ヘッドとが接触した
場合でも磁気ヘッドの吸着や媒体および磁気ヘッド表面
のキズが生じない。

ガラス基板の材質に特に制限はなく、ホウケイ酸ガラス
、アルミノケイ酸ガラス、石英ガラス、チタンケイ酸ガ
ラス等のガラスから適当に選択することができる。　た
だし、特開昭６２−４３８１９号公報に記載されている
ようなメカノケミカルポリッシングにより表面平滑化を
行なう場合、結晶質を含まないガラスを用いることが好
ましい。　これは、メカノケミカルポリッシングにより
結晶粒界が比較的早く研磨されてしまい、上記のような
Ｒｗａｘが達成できないからである。

剛性基板の形状および寸法に特に制限はないが、通常、
ディスク状とされ、厚さは０．５〜５ｍｍ程度、直径は
２５〜３００ｎ＋ｍ程度である。

剛性基板上には、酸化鉄を主成分とする磁性薄膜が成膜
され、磁性１とされる。

磁性層の層厚は、生産性、磁気特性等を考慮して、５０
０〜３０００人程度とすることが好ましい。

磁性層の成膜は公知の気相成膜法等により行なえばよい
が、スパッタ法、特に反応性スパッタ法を用いることが
好ましい。

なお、磁性層中には、成膜雰囲気中に含まれるＡｒ等が
含有されていてもよい。

このようにして得られる磁性層の表面粗さは、剛性基板
の表面粗さとほぼ等しいものである。

なお、このようにして設層される磁性層は、特開昭６２
−４３８１９号公報に記載されている。

このような方法の他、本発明では、蒸着法、めっき法に
より酸化鉄を主成分とする薄膜を形成する方法、あるい
は薄膜形成後に熱処理を施す方法等によって磁性層を設
層してもよい。

このような磁性層上に、前述した保護潤滑膜が成膜され
る。

次に、本発明の磁気ヘッドについて説明する。

本発明の磁気ヘッドは、そのフロント面（浮揚面）に前
述した保護潤滑膜を有する。

本発明の磁気ヘッドは、ハードタイプの磁気記録媒体と
組み合わされて使用される浮上型磁気ヘッドに適用され
た場合、高い効果を発揮する。

本発明は、公知のコンポジット型の浮上型磁気ヘッド、
モノリシック型の浮上型磁気ヘッド等に適用された場合
でも高い効果を発揮するが、特に、薄膜型の浮上型磁気
ヘッドに適用された場合に、極めて高い効果を示す。

以下、薄膜型の浮上型磁気ヘッドについて説明する。

第１図に、本発明の磁気ヘッドの好適実施例である薄膜
型の浮上型磁気ヘッドを示す。

第１図に示される浮上型磁気ヘッドｌは、基体２上に、
絶縁層３１、下部磁極層４１゜ギャップＪｉ１５、絶縁
層３３、コイル層６、絶縁層３５、上部磁極層４５およ
び保護層７を順次有する。

本発明では、このような浮上型磁気ヘッド１の少なくと
もフロント面、すなわち浮揚面に、前述した保護潤滑膜
１１を有する。

コイル層６の材質には特に制限はな（、通常用いられる
ＡＩ２．、Ｃｕ等の金属を用いればよい。

コイルの巻回パターンや巻回密度についても制限はなく
、公知のものを適宜選択使用すればよい。　例えば巻回
パターンについては、図示のスパイラル型の他、積層型
、ジグザグ型等いずれであってもよい。

また、コイル層６の形成にはスパック法、めっき法等の
各種気相被着法を用いればよい。

本発明において、基体２はビッカース硬度１０００以上
のセラミックス材料から構成される。

このようなセラミックス材料としては、ＡＪ２ｔ　Ｏｍ
　−Ｔ　ｉ　Ｃを主成分とするセラミックス、Ｚ　ｒ　
Ｏ＊を主成分とするセラミックス、ＳｉＣを主成分とす
るセラミックスまたはＡＪ２Ｎを主成分とするセラミッ
クスが好適である。　また、これらには、添加物として
Ｍｇ。

Ｙ％ＺｒＯ，、Ｔｉｅ、等が含有されていてもよい。

これらのうち、本発明に特に好適なものは、Ａｌ２１０
ｎ　−Ｔ　Ｉ　Ｃを主成分とするセラミックス、ＳＩＣ
を主成分とするセラミックスまたはＡｌＮを主成分とす
るセラミックスであり、これらのうち最も好適なものは
、酸化鉄を主成分とする薄膜磁性層の硬度との関係が最
適であることから、Ａβ、Ｏ，−Ｔｉｃを主成分とする
セラミックスである。

下部および上部磁極層４１．４５の材料としては、従来
公知のものはいずれも使用可能であり、例えばパーマロ
イ、センダスト、Ｃｏ系非晶質磁性合金等を用いること
ができる。

磁極は通常、図示のように下部磁極層４１および上部磁
極層４５として設けられ、下部磁極層４１および上部磁
極層４５の間にはギャップ層５が形成される。

ギャップ層５は、Ａｌ２ｔＯｓ、５ｔＯｓ等公知の種々
の材料であってよい。

これら磁極層４１．４５およびギャップ層５のパターン
、膜厚等は公知のいずれのものであってもよい。

さらに、図示例ではコイル層６はいわゆるスパイラル型
としてスパイラル状に上部および下部磁極層４１．４５
間に配設されており、コイル層６と上部および下部磁極
層４１．４５間には絶縁層３３．３５が設層されている
。

また下部磁極層４１と基体２間には絶縁層３１が設層さ
れている。

絶縁層の材料としては従来公知のものはいずれも使用可
能であり、例えば、薄膜作製をスパッタ法により行なう
ときには、ＳｆＯ，、ガラス、Ａ　Ｑ　ａ　Ｏｓ等を用
いることができる。

また、上部磁極４５上には保護層７が設層されている。

　保護層の材料としては従来公知のものはいずれも使用
可能であり、例えばＡ２ｍ０ｗ等を用いることができる
。　また、これらに各種樹脂コート層等を積層してもよ
い。

このような浮上型磁気ヘッドの製造工程は、通常、薄膜
作成とパターン形成とによって行なわれる。

各層の薄膜作成には、上記したように、従来公知の技術
である気相被着法、例えば真空蒸着法、スパッタ法、あ
るいはメツキ法等を用いればよい。

浮上型磁気ヘッドの各層のパターン形成は、従来公知の
技術である選択エツチングあるいは選択デポジションに
より行なうことができる。

エツチングとしてはウェットエツチングやドライエツチ
ングにより行なうことができる。

また、保護潤滑膜１１は、前述した方法により成膜すれ
ばよい。

保護潤滑膜が成膜された浮上型磁気ヘッドは、アーム等
の従来公知のアセンブリーと組み合わせて使用される。

〈実施例〉 以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。

［実施例１］ 〈磁気ヘッドの形成〉 スパッタ法によりＡρ＊０ｓ−Ｔｉｃ基体上に薄膜を形
成し、ドライエツチングによってパターンを形成した後
、スライダ構造として磁気ヘッドを得た。　このＡ２ｍ
０ｗ−ＴｉＣ基体のビッカース硬度は２２００であった
。

く磁気ヘッドへの保護潤滑膜形成〉 上記磁気ヘッドに保護潤滑膜を形成するに際しては、下
記表１に示される化合物を用い、以下の通りとした。

ドライエツチングによるパターン形成後に、少なくとも
浮揚面（フロント面）に保護潤滑膜を成膜した。

保護潤滑膜を構成する化合物ならびに保護潤滑膜の成膜
方法および膜厚を、表１に示す。

なお、保護潤滑膜をＬＢ法により成膜した場合は、ＬＢ
膜の累積数を併記した。　また、膜厚の測定は、ＥＳＣ
Ａにより行なった。

また、表１に示す保護潤滑膜成膜方法の詳細は、下記の
通りである。

（ＬＢ法） 表１に示す化合物の１０−４モル／Ｉ２クロロホルム溶
液を調製し、展開溶液とした。

まず、水相中に被処理基板（磁気ヘッ ド）を浸漬した後、展開溶液を水相表面に均一に落し、
単分子膜を展開した。

次に、表面圧が所定圧となるまで界面を圧縮し、被処理
基板を一定の速度でほぼ垂直に上昇させて被処理基板上
に単分子膜を移し取り、さらに被処理基板の下降および
上昇を繰り返して単分子膜を累積し、保護潤滑膜とした
。

（塗布法） 表１に示す化合物のクロロホルム溶液を塗布溶液とした
。　濃度は、ディッピングの場合０．１ｗｔ％とじ、ス
ピンコードの場合０゜２ｗｔ％とした。

このようにして作製された磁気ヘッドをアームと組合わ
せて、空気ベアリング型の浮上型磁気ヘッドを作製した
。

（磁気ディスクの形成〉 外径１３０　ａｍ、内径４０ｍｍ、厚さ１．９ｍｍのア
ルミノケイ酸ガラス板に化学強化処理を施した。　化学
強化処理は、４５０℃の溶融硝酸カリウムに１０時間浸
漬することにより行なった。

次いで、このガラス板表面をメカノケミカルポリッシン
グにより平滑化し、磁気ディスク基板とした。　メカノ
ケミカルポリッシングには、コロイダルシリカを含む研
磨液を用いた。　磁気ディスク基板の表面粗さ（Ｒｍａ
ｘ）は９０人であった。

次いで、Ｆｅをターゲットとし、Ａｒ：０２＝５０　：
　５０でｌ　Ｏ−”Ｔｏｒｒの雰囲気中で反応性スパッ
タを行ない、２０００人のα−Ｆｅ２０ｓ膜を成膜した
。　次に、水素気流中で３６０℃にて２時間還元処理を
行なってＦ　ｅ　ｓ　Ｏ４膜とした後、空気中で３１０
℃にて１時間酸化を行ない、γ−Ｆｅａｒｓの磁性層と
した。　この磁性層のＲｍａｘは１００人であった。

く磁気ディスクへの保護潤滑膜形成） 上記磁気ディスクの磁性層上に保護潤滑膜を成膜した磁
気ディスクを作製した。

保護潤滑膜を構成するアルコールならびに保護潤滑膜の
成膜方法および膜厚を、表１に示す。　表１に示す成膜
方法は、上記磁気ヘッドの場合と同様である。

以上のようにして得られた浮上型磁気ヘッドと磁気ディ
スクとを表１に示すように組み合わせて、浮上型磁気ヘ
ッドと磁気ディスク間の初期および耐久走行後の摩擦な
らびに吸着を測定した。　耐久走行は２０℃、６０％Ｒ
Ｈの条件下で、ｌ１００ｒｐにて６０分間接触走行させ
ることにより行ない、摩擦はｌ　ｒｐｍ回転時の動摩擦
係数で表わした。

結果を表１に示す。

［比較例１］ 保護潤滑膜を有していない浮上型磁気ヘッドおよび磁気
ディスクを、実施例１と同様にして作製した。

これらについて、実施例１と同様な測定を行なった。

結果を表１に示す。

表１に示される結果から、本発明では、１時間もの長時
間走行でも摩擦が安定していることがわかる。

なお、耐久走行後の磁気ディスク表面および浮上型磁気
ヘッド浮揚面のキズを１００倍の光学顕微鏡を用いて観
察したところ、実施例１の組み合わせにおいてはどちら
にもキズが認められなかったのに対し、比較例では両方
ともキズの発生が認められた。

［実施例２］ 実施例１で作製したγ−Ｆｅ２０ｓ磁性層上に保護潤滑
膜を有する磁気ディスクおよびＡβ−０ａＴｉＣ基体上
に保護潤滑膜を有する浮上型磁気ヘッドを用い、フライ
ングバイト０．１−以下で３６０　Ｏｒｐｍにて５分間
高速摺動試験を行なった。

高速摺動試験後の磁気ディスク表面および浮上型磁気ヘ
ッド浮揚面のキズを、１００倍の光学顕微鏡を用いて観
察した。

結果を表２に示す。

［実施例３］ ディスク状のＡＩ２板上にＮ１−Ｐ下地層をめっきによ
り設層し、この下地層上にＣｒ層、Ｃｏ−Ｃｒ磁性層、
Ｃからなる保護膜および上記実施例１で用いた保護潤滑
膜を順次成膜してハードタイプの磁気ディスクを作製し
た。

また、実施例１で用いたビッカース硬度２２００のＡ忍
ｇｏｚ−Ｔｉｃ基体に換え、ビッカース硬度７００のＭ
ｎ−Ｚｎフェライト製基体を用い、この上に実施例１で
用いた保護潤滑膜を成膜して薄膜型の浮上型磁気ヘッド
を作製した。

このようにして得られた磁気ディスクおよび浮上型磁気
ヘッドを組み合わせ、実施例２と同様な観察を行なった
。　また、この磁気ディスクおよび浮上型磁気ヘッドを
、それぞれ実施例２に記載の浮上型磁気ヘッドおよび磁
気ディスクと組み合わせ、同様な観察を行なった。

結果を表２に示す。

表 組合せ Ｎｏ。

浮上型磁気ヘッド 基体　　　　　　　キズ 磁気ディスク 磁性層　　　　キズ １　　　Ａｊ２２０ａ　　ＴｔＣ無　　７−　Ｆ　ｅ　
＊　Ｏｓ　　　無２　　Ａ℃２０ｓ　−Ｔｉｃ　　　無
　　Ｃｏ−Ｃｒ　　　　有３Ｍｎ−Ｚｎフェライト　有
　　Ｔ　　Ｆｅａ　Ｏｓ　　　無４Ｍｎ−Ｚｎフェライ
ト　有　　Ｃｏ−Ｃｒ　　　　有なお、これらの組み合
わせの他、ビッカース硬度２２００以上のＡＱＮ製基体
および同様な硬度を有するＳｉＣ製基体を有する浮上型
磁気ヘッドを用いて実施例２と同様な高速摺動試験を行
なったところ、キズの発生は認められなかった。　また
、ビッカース硬度１３００のＺｒＯｘ製基体を有する浮
上型磁気ヘッドを用いて同様な測定を行なったところ、
磁気ヘッド浮揚面にわずかにキズの発生が認められたが
、実用上は問題とならない程度であった。

また、結果は表２のとおりであるが、 Ｎｏ、４のＭ　ｎ　−Ｚ　ｎフェライト、Ｃｏ−Ｃｒの
組合わせで、ヘッド浮上量を０．２戸としたところ、磁
気ヘッド、磁気ディスクの両者ともキズは発生せず、本
発明の効果のあることがわかった。

［実施例４］ 上記実施例１で作製した浮上型磁気ヘッドおよび磁気デ
ィスクを用いてＣ８Ｓ試験を行なったところ、摩擦変動
、吸着などに関して極めて良好な結果が得られた。

以上の実施例の結果から、本発明の効果が明らかである
。

〈発明の効果〉 本発明では、薄く、しかも均一な保護潤滑膜を形成する
ことができる。

従って、酸化鉄を主成分とする磁性層を有する磁気記録
媒体と、ビッカース硬度１０００以上のセラミックス材
料から構成される基体を有する薄膜型の浮上型磁気ヘッ
ドとを組合せて用いた場合でも、本発明によれば、磁気
記録媒体および磁気ヘッド間の摩擦が小さ（、かつ、そ
の変動が小さく、そのためスティックスリップが発生し
にくく、また、磁気記録媒体への磁気ヘッドの吸着が発
生しに（い、　このため、耐久走行を行なった場合、安
定した走行が得られ、磁気記録媒体および磁気ヘッドの
双方のキズの発生や、スティックスリップを防止できる
。

５・・・ギャップ層 ６・・・コイル層 ７・・・保護層 １１・・・保護潤滑膜

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の磁気ヘッドの好適実施例である薄膜
型の浮上型磁気ヘッドを示す部分断面図である。 符号の説明 ｌ・・・浮上型磁気ヘッド ２・・・基体 ３１．３３．３５・・・絶縁層 ４１・・・下部磁極層 ４５・・・上部磁極層

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. （１）剛性基板上に磁性層を有する磁気記録媒体に、浮
   上型磁気ヘッドを用いて記録および再生を行う方法であ
   って、 前記磁性層上および／または前記浮上型磁気ヘッドの少
   なくとも浮揚面上に、下記一般式［ I ］で示される化
   合物の保護潤滑膜を有することを特徴とする磁気記録再
   生方法。 一般式［ I ］ ▲数式、化学式、表等があります▼ ｛上記一般式［ I ］において、 Ｒ＿１およびＲ＿２は、それぞれ、炭素原子数４〜３６
   のアルキル基を表わし、 Ｌは、３価の基を表わし、 Ｚは、カルボキシ基もしくはその塩、または水酸基を表
   わす。｝
2. （２）前記浮上型磁気ヘッドが、薄膜型の浮上型磁気ヘ
   ッドである請求項１に記載の磁気記録再生方法。
3. （３）前記磁性層が酸化鉄を主成分とする磁性薄膜であ
   り、前記浮上型磁気ヘッドの少なくとも浮揚面がビッカ
   ース硬度１０００以上のセラミックス材料から構成され
   ているものである請求項１または２に記載の磁気記録再
   生方法。
4. （４）前記磁性層表面と前記浮上型磁気ヘッドの浮揚面
   との距離が０．１μｍ以上である請求項１ないし３のい
   ずれかに記載の磁気記録再生方法。
5. （５）前記保護潤滑膜がラングミュア・ブロジェット法
   または塗布法により成膜されたものである請求項１ない
   し４のいずれかに記載の磁気記録再生方法。
6. （６）前記保護潤滑膜が単分子層である請求項５に記載
   の磁気記録再生方法。
7. （７）剛性基板上に磁性層を有する磁気記録媒体であっ
   て、 前記磁性層が酸化鉄を主成分とする磁性薄膜であり、前
   記磁性層上に、融点３０℃以上のアルコールの保護潤滑
   膜を有することを特徴とする磁気記録媒体。
8. （８）前記剛性基板がガラスから構成されるものである
   請求項７に記載の磁気記録媒体。
9. （９）少なくとも浮揚面がビッカース硬度 １０００以上のセラミックス材料から構成されており、
   少なくとも前記浮揚面上に、融点３０℃以上のアルコー
   ルの保護潤滑膜を有することを特徴とする薄膜型の浮上
   型磁気ヘッド。
10. （１０）前記セラミックス材料がＡｌ＿２Ｏ＿３−Ｔｉ
    Ｃを主成分とするセラミックス、ＺｒＯ＿２を主成分と
    するセラミックス、ＳｉＣを主成分とするセラミックス
    またはＡｌＮを主成分とするセラミックスである請求項
    ９に記載の磁気ヘッド。
11. （１１）前記セラミックス材料がＡｌ＿２Ｏ＿３−Ｔｉ
    Ｃを主成分とするセラミックス、ＳｉＣを主成分とする
    セラミックスまたはＡｌＮを主成分とするセラミックス
    である請求項９または１０に記載の磁気ヘッド。
12. （１２）前記セラミックス材料がＡｌ＿２Ｏ＿３−Ｔｉ
    Ｃを主成分とするセラミックスである請求項９ないし１
    １のいずれかに記載の磁気ヘッド。