JPH02163195A

JPH02163195A - 有機膜、磁気記録媒体、磁気ヘッドおよび磁気記録再生方法

Info

Publication number: JPH02163195A
Application number: JP31792388A
Authority: JP
Inventors: Masaharu Nishimatsu; 西松　正治; Jiyouichirou Ezaki; 江崎　城一朗; Haruyuki Morita; 治幸森田; Kazumasa Fukuda; 一正福田; Yoshiyori Kobayashi; 小林　由縁
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1988-12-16
Filing date: 1988-12-16
Publication date: 1990-06-22

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

〈産業上の利用分野〉本発明は、潤滑作用および保護作用を有する有機膜と、
この有機膜を有する磁気記録媒体および磁気ヘッドと、
これらを用いる磁気記録再生方法とに関する。〈従来の技術〉計算機等に用いられる磁気ディスク駆動装置には、剛性
基板上に磁性層を設層したハードタイプの磁気ディスク
と浮上型磁気ヘッドとが用いられている。このような磁気ディスク駆動装置においては、従来、塗
布型の磁気ディスクが用いられていたが、磁気ディスク
の大容量化に伴い、磁気特性、記録密度等の点で有利な
ことから、スパッタ法等の気相成膜法等により設層され
る連続薄膜型の磁性層を有する薄膜型磁気ディスクが用
いられるようになっている。薄膜型磁気ディスクとしては、Ａｌ１系のディスク状金
属板にＮ１−Ｐ下地層をめっきにより設層するか、ある
いはこの金属板表面を酸化してアルマイトを形成したも
のを基板とし、この基板上にＣｒ層、Ｃｏ−Ｎｉ等の金
属磁性層、さらにＣ等の保護潤滑膜をスパッタ法により
順次設層して構成されるものが一般的である。しかし、Ｇｏ−Ｎｉ等の金属磁性層は耐食性が低く、さ
らに硬度が低く、信頼性に問題が生じる。　これに対し
、特開昭６２−４３８１９号公報に記載されているよう
な酸化鉄を主成分とする磁性薄膜は化学的に安定なため
腐食の心配がな（、また、充分な硬度を有している。一方、浮上型磁気ヘッドは浮力を発生するスライダを有
する磁気ヘッドであり、コアがスライダと一体化された
コンポジットタイプのもの、あるいはコアがスライダを
兼ねるモノリシックタイプのものが通常用いられる。さらに、これらの他、高密度記録が可能であることから
、いわゆる薄膜型の浮上型磁気ヘッドが注目されている
。　薄膜型の浮上型磁気ヘッドは、基体上に磁極層、ギ
ャップ層、コイル層などを気相成膜法等により形成した
ものである。　このような薄膜型の浮上型磁気ヘッドで
は、基体がスライダとしてはたらく。これらの浮上型磁気ヘッドにおいて、スライダは、各種
フェライト、ＡＡ　ｘ　Ｏｓ　−Ｔ　ｉ　Ｃ１Ｚ　ｒ　
Ｏ＊、ＳｉＣ，ＡＡＮ等の各種セラミックスから構成さ
れる。浮上型磁気ヘッドを用いる磁気ディスク装置では、コン
タクト・スタート・ストップ（ＣＳＳ）時に浮上型磁気
ヘッドの浮揚面（スライダの磁気ディスク側表面）と磁
気ディスクが接触する。　このとき、磁気ディスクおよ
び浮上型磁気ヘッドにキズの発生、破損などが生じたり
、あるいは磁気ディスクへの浮上型磁気ヘッドの吸着が
生じ易い。　このため、磁気ディスクあるいは磁気ヘッ
ド表面に種々の保護膜あるいは潤滑膜を設ける提案がな
されている。特に、酸化鉄はＣｏ−Ｎｉ等の金属に比べ硬度が高いた
め、特開昭６２−４３８１９号公報に記載されているよ
うな酸化鉄磁性層を有する磁気ディスクでは、例え磁気
ディスク表面に潤滑膜あるいは保護膜を設けてあっても
Ｃ８Ｓの繰り返しによりヘッド浮揚面がキズつき易（、
また、ヘッドとディスクの間の摩擦が増大し易い。　こ
のため、このような組み合わせにおいては、潤滑膜ある
いは保護膜構成材料の選択には注意を要する。また、酸化鉄磁性層を有する磁気ディスクとＭｎ−Ｚｎ
フェライト製基体を有する浮上型ヘッドとを組み合わせ
て用いる場合、Ｍｎ−Ｚｎフェライトの硬度が酸化鉄の
硬度よりも低いため、このような問題は一層顕著となる
。さらに、酸化鉄磁性層を有する薄膜型磁気ディスクに対
し、Ｍ　ｎ　−Ｚ　ｎフェライトより硬度の高いＡｎｚ
　０ｓ−Ｔｉｃ、ＺｒＯ２、ＳｉＣ，ＡβＮなどの基体
を有する浮上型磁気ヘッドを用いる場合、上記のような
問題はある程度解消するが、このような磁気ディスクお
よび浮上型磁気ヘッドの組み合わせにおいては、磁性層
およびスライダのいずれもが高い硬度を有するため、よ
り高い潤滑および保護効果が必要となる。　　特に、高
密度記録を行なうために薄膜型の浮上型磁気ヘッドを用
いる場合、上記問題はより顕著となる。すなわち、薄膜型の浮上型磁気ヘッドを用いる磁気ディ
スク駆動装置では、高密度記録を行なうために磁気ディ
スクと磁気ヘッドとの間隔（フライングハイド）を極め
て小さく設定できるので、磁気ディスクの振動あるいは
駆動装置外部からの衝撃などにより磁気ディスクと浮上
型磁気ヘッドとの接触事故が生じたり、また、フライン
グバイトが小さい場合、Ｃ８Ｓ時に磁気ヘッドおよび磁
気ディスクが受ける被害がより大きくなるからである。特に、特開昭６２−４３８１９号公報に記載されている
ような酸化鉄を主成分とする磁性薄膜を有する磁気ディ
スクは、表面が鏡面化されたガラス基板を使用しており
、磁性層の表面粗さが非常に小さなものとなっている。　このため、好適な保護膜を選定しないと磁気ディスク
と磁気ヘッドとの間の摩擦が大きくなり、Ｃ８Ｓ等の際
に磁気ヘッドがスティックスリップしたり、吸着したり
するという問題を生じる。　このため、このような組み
合わせにおいても、潤滑膜あるいは保護膜構成材料の選
択には注意を要する。上記したような酸化鉄を主成分とする磁性薄膜を有する
磁気ディスクと、硬度の高いＡ　Ａ　２０３−　Ｔ　ｉ
　Ｃ、Ｚ　ｒ　０２　、　Ｓ　ｉ　Ｃ１ＡρＮ等の基体
を有する薄膜型の浮上型磁気ヘッドとの組み合わせに特
に好適な保護潤滑膜に関して、本発明者らは昭和６３年
１２月１４日付の特許願（１）において提案を行なって
いる。これに記載されている保護潤滑膜は、パーフルオロアル
キレンを有するポリエーテルおよび／またはその誘導体
を含有するものである。〈発明が解決しようとする課題〉しかし、ハードタイプの磁気ディスク装置における磁気
ディスクおよび磁気ヘッドの保護および潤滑に対する要
求は厳しく、さらに性能の優れた保護潤滑膜が望まれて
いる。本発明はこのような事情からなされたものであり、Ｃ８
Ｓ時に磁気記録媒体と磁気ヘッドとの間の摩擦が小さく
、かつ、その変動が少なく、磁気記録媒体への磁気ヘッ
ドの吸着が発生しにく（、磁気ヘッドおよび磁気記録媒
体にキズあるいは破損が生じにくい磁気記録媒体および
磁気ヘッドと、これらを用いる磁気記録再生方法と、主
として磁気記録媒体の保護潤滑膜あるいは磁気ヘッドの
保護潤滑膜として用いられてこのような効果を実現する
潤滑効果および保護効果が高い有機膜とを提供すること
を目的とする。く課題を解決するための手段〉このような目的は、下記（１）〜（１５）の本発明によ
り達成される。（１）パーフルオロアルキレンを有するポリエーテルお
よび／またはその誘導体と、融点が３０℃以上である両
親媒性化合物とを含有することを特徴とする有機膜。（２）前記両親媒性化合物が、下記式で表わされる化合
物を含む上記（１）に記載の有機膜。式％式％（ただし、Ｘは内部にエーテル結合（−０−）および／
またはエステル結合（−ＣＯＯ−または−〇〇〇−）を
１または２以上有してもよいアルキレン基であって、そ
の総炭素数をｍとしたときｎ十ｍ≧９である。　また、
Ｚは親水性基を表わす。）（３）前記式においてｍ≧８かつｍ≧ｎである上記（２
）に記載の有機膜。（４）前記両親媒性化合物が、脂肪酸、エステルおよび
アルコールの１種以上を含む上記（１）ないしく３）の
いずれかに記載の有機膜。（５）剛性基板上に磁性層を有し、この磁性層上に上記
（１）ないしく４）のいずれかに記載の有機膜を保護潤
滑膜として有することを特徴とする磁気記録媒体。（６）前記磁性層が酸化鉄を主成分とする連続薄膜型の
磁性層である上記（５）に記載の磁気記録媒体。（７）前記剛性基板がガラスから構成される上記（５）
または（６）に記載の磁気記録媒体。（８）上記（１）ないしく４）のいずれかに記載の有機
膜を、少なくともフロント面に有することを特徴とする
磁気ヘッド。（９）浮上型磁気ヘッドである上記（８）に記載の磁気
ヘッド。（１０）少な（とも浮揚面がビッカース硬度１０００以
上のセラミックス材料から構成されている上記（９）に
記載の磁気ヘッド。（１１）前記セラミックス材料がＡ　４２　ａ　Ｏａ−
ＴｉＣを主成分とするセラミックス、ＺｒＯｚを主成分
とするセラミックス、ＳｉＣを主成分とするセラミック
スまたはＡ４２Ｎを主成分とするセラミックスである上
記（９）または（１０）に記載の磁気ヘッド。（１２）前記セラミックス材料がＡｆｉ　、　Ｏ。 −ＴｉＣを主成分とするセラミックス、ＳｉＣを主成分
とするセラミックスまたはＡ４２Ｎを主成分とするセラ
ミックスである上記（９）ないしく１１）のいずれかに
記載の磁気ヘッド。（１３）前記セラミックス材料がＡｊ２　、　Ｏ。 −ＴｉＣを主成分とするセラミックスである上記（９）
ないしく１２）のいずれかに記載の磁気ヘッド。（１４）薄膜型の浮上型磁気ヘッドである上記（９）な
いしく１３）のいずれかに記載の磁気ヘッド。（１５）上記（５）ないしく７）のいずれかに記載の磁
気記録媒体に上記（９）ないしく１４）のいずれかに記
載の磁気ヘッドにより記録および再生を行なう方法であ
って、前記磁性層表面と前記浮上型磁気ヘッドの浮揚面
との距離が０．１μｍ以下であることを特　　される化
合物を含有することにより、磁気記録徴とする磁気記録
再生方法。　　　　　　　　　　媒体への磁気ヘッドの
吸着が防止される。〈作用〉〈具体的構成〉本発明の有機膜は、パーフルオロアルキレンを有するポ
リエーテルおよび／またはその誘導体と、融点が３０℃
以上である両親媒性化合物とを含有する。パーフルオロアルキレンを有するポリエーテルおよび／
またはその誘導体は潤滑効果および保護効果が高く、さ
らに、これに加えて、融点が３０℃以上である両親媒性
化合物を含有させることにより有機膜の成膜を均一に行
なうことができる。従って、有機膜を磁気記録媒体あるいは磁気ヘッドに適
用した場合、耐久走行後の摩擦変動が少なくなり、また
、耐久走行中のスティックスリップ現象の発生がない。さらに、両親媒性化合物として上記式で表わ以下、本発
明の具体的構成を詳細に説明する。本発明の有機膜は、パーフルオロアルキレンを有するポ
リエーテルおよび／またはその誘導体を含有する。本発明において、パーフルオロアルキレンを有するポリ
エーテルおよび／またはその誘導体に特に制限はないが
、下記式（■）、で表わされるものが好ましい。式（Ｉ）Ａｔ　−Ｂ１　（−Ｌｆｌ　−０÷ｔ、ｆ２−Ｂ２−Ａ
２上記式（Ｉ）において、Ａ１およびＡ２は、−Ｆ、−
Ｈｌ−ＣＯｏＺ、−ＣＯＯＲまたは置換もしくは非置換
の１価の芳香族基を表わす。　ただし、Ｚは−Ｈまたは
１価のカチオンを、Ｒはアルキル基を表わす。Ａ１　とＡ２とは、同一であっても異なっていてもよい
。Ｚで表わされる１価のカチオンとしては、Ｎａ４．Ｋ”
、ＬＬ”、ＮＨ４”などが挙げられるが、ＺとしてはＨ
が好ましい。Ｒとしては、−ＣＨ３、−Ｃ２Ｈ５などが挙げられる。芳香族基の置換基としては、アルキル基、アルコキシ基
等である。Ｂ１およびＢ２は、−ＣＨ、Ｏ− −ＣＨ−ＯＣＨ＊−または−ＣＦ　、０−−ＣＯＮＨ−
あるいは単なる結合手を表わす。Ｂ１　と８２とは、同一であっても異なっていてもよい
。ＬｆｌおよびＬＬ２は、パーフルオロアルキレン基を表
わす。Ｌｆｉおよびｔ、ｆ２としては、−ＣＦ２−ＣＦ２　　
ＣＦ２　−１−ＣＦ　　（ＣＦ３　　）−ＣＦ　（ＣＦ
３　）ＣＦ２−などが挙げられる。Ｌｆｌ　とＬＬ２とは、同一であっても異なっていでも
よい。ｐは正の整数を表わし、好ましくは１〜］、　ＯＯｌよ
り好ましくは２〜８０程度である。ｐが２以上の場合、各ｔ、ｆ２は同一であっても異なっ
ていてもよい。　また、この場合、−ｆｌ−Ｌｆｊ−０
＋はブロック縮合体であってもよくランダム縮合体であ
ってもよい。なお、Ａ１およびＡ２のいずれにもＺやＲが存在する場
合、それらは互いに同一であっても異なっていてもよい
。上記式（Ｉ）で表わされる化合物のうち、好ましいもの
を以下に示す。ＨＯＣＩ（、−ＣＦＩ−ＫＣ，Ｆ、−０±−モＣＦ、−
０＋Ｆ、−Ｃ１（、−０Ｈｎ　　　　　　　　　ｍ（Ｉ−２）ＣＨ，０ＣＯ−ＣＦＩ−０−ｆ−Ｃ２Ｆ４−０−）−（
−ＣＦＩ−〇　）−ＣＦ２−ＣＯＯＣＨＩｎ　　　　　
　　　　ｍ（Ｉ−３）ＨｏｏＣ−ＣＦＩ−０モＣ２Ｆ４−０）−（−ＣＦ２−
０−）−ＣＦ２−ＣＯＯＨｎ　　　　　　　　　ｍ（Ｉ−４１ＣＦｘ−０（−ＣＦ　（ＣＦＪ　ＣＦｚ−０＋＋ＣＦｚ
−０ザＦ３（Ｉ−５１Ｆ（−ＣＦ（ＣＦ、）ＣＦ、−０−）−ＣＦ（ＣＦ３）
ＣＯＯＨｎ（Ｉ−６１Ｆ−（−ＣＦ　（ＣＦ、）ＣＦ、−０＋−ＣＦ２ＣＦ、
−ＣＯＯＨｎ（Ｉ−７）Ｆ（−Ｃ，Ｆ、−０＋−ＣＦ、−ＣＦ３（Ｉ−８）これらの化合物において、ｎは１〜５０であることが好
ましく、ｎ＋ｍは２〜１００程度であることが好ましい
。上記各式で表わされる化合物は、分子量１００〜２００
００程度、動粘度１０〜５０００ｃＳＴ　（２０℃）程
度であるが、特に、分子量１０００〜１００００、動粘
度１０〜４０００ｃＳＴ　（２０℃）であることが好ま
しい。上記各式で表わされる化合物のうち、さらに好ましいも
のは、式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）、（Ｉ−３）　　　（
Ｉ−５）　、　（Ｉ−６）（Ｉ−８）で表わされる化合
物であり、特に好ましいものは、（Ｉ−１）、（Ｉ−２
）（Ｉ−３）、（Ｉ−８）で表わされる化合物である。なお、本発明では、上記式（Ｉ）で表わされる化合物の
うち、あるいはこれらに加え、欧州特許公開０１６５６
４９号公報、同０１６５６５０号公報、米国特許第３２
７４２３９号明細書、同第４２６７２３８号明細書、同
第４２６８５５６号明細書、特公昭６０−１０３６８号
公報に記載されているようなパーフルオロアルキレンを
有するポリエーテルおよび／またはその誘導体も、好ま
しく用いることができる。これらの化合物は公知の方法に従い合成すればよいが、
市販のものを用いることもできる。具体的に、商品名を挙げると、デュポン社製ＫＲＹＴＯＸ、モンテフルオス社製Ｆｏｍ
ｂｌｉｎなどがある。本発明において、上記式（Ｉ）で表わされる化合物は、
有機膜中に２種以上含有されていてもよい。パーフルオロアルキレンを有するポリエーテルおよび／
またはその誘導体に加えて有機膜に含有される両親媒性
化合物は、融点が３０℃以上、好ましくは３９℃以上、
より好ましくは５０℃以上のものである。このような両親媒性化合物としては、下記式（ＩＩ）で
表わされる化合物、脂肪酸、アルコールおよびエステル
から選択される１種以上を用いることが好ましく、特に
、下記式（ＩＩ）で表わされる化合物と、脂肪酸、アル
コールおよびエステルから選択される１種以上の化合物
とを併用することが好ましい。式（ＩＩ）ＣｎＦ、、、、−Ｘ−Ｚ上記式（ＩＩ）において、Ｘは内部にエーテル結合（−
０−）および／またはエステル結合（−ＣＯＯ−または
−〇Ｃ０−）を１または２以上有してもよいアルキレン
基であって、その総炭素数をｍとしたとき、ｎ＋ｍ≧９
、特に１０、好ましくは１２、より好ましくは１６であ
ればよく、ｎ、ｍの下限は１であればよい。上記式（ＩＩ）についてさらに詳述すると、ｍ≧８かつ
ｍ≧ｎであることが好ましい。この場合ｍの上限に特に制限はないが、通常、３６以下
、特に２４以下であることが好ましい。またｍ＝８であるが、好ましくはｍ＝１０、またはｍ＝
１２、より好ましくはｍ＝１６である。また、有機膜はラングミュア・プロジェット（以下、Ｌ
Ｂと略称する）法により成膜されることが好ましいが、
ｍ＝ｎとするのはｍ　＜　ｎとすると安定なＬＢ膜が得
られにくいからである。前記式（ＩＩ）において、ｎは１〜１４の整数であるこ
とが好ましく、より好ましくは１〜１０、さらに好まし
くは４〜１０の整数であることが好ましい。　ｎが１以
上であると潤滑効果が高く、また、ＬＢ膜の耐久性が向
上する。　ｎが１５以上であると、ＬＢ膜化が困難とな
り累積膜が得られにくい。なお、ｎ＋ｍは１１〜５０であることが好ましい。前記式（ＩＩ）において、Ｚは親水性基を表わす。本発明において好適に用いられる親水性基としては、−
ＣＯＯＨｌ　Ｓｏｗ　Ｈｌ−ＯＨ１−５ｏ　４Ｈ１−Ｐ
Ｏ４Ｈ１等、あるいはこれらのアルカリ金属塩、アンモ
ニウム塩等であり、これらのうち特に−ＣＯＯＨあるい
はその塩が、酸化鉄を主成分とする磁性層への吸着性の
良さの点で好ましい。このような化合物の好適な具体例としては、Ｃ４Ｆ　ｓ
　（ＣＨｚ）＋。Ｃ００ＨＣ４Ｆ　＊　（ＣＨ２）　１６ＣＯＯＨＣ４Ｆ　−（Ｃ
Ｈ２）２４ＣＯＯＨＣａＦｌ、（ＣＨ−）＋０ＣＯＯＨＣ，Ｆ、、（ＣＨ，）、□Ｃ００ＨＣ８Ｆｌ？　（ＣＨ２）　＋ａＣＯＯＨＣ８Ｆ１．（Ｃ
Ｈ２）　１ｓｃＯＯＨＣａ　Ｆ　＋　−（ＣＨｘ　）　＊□Ｃ００ＨＣ，Ｆ、
、（ＣＨ，ｉ、Ｃ００ＨＣ１゜Ｆ、、　（ＣＨｉ　）　、。Ｃ００ＨＣＩＯＦ！
１（ＣＨ２）１６Ｃ００ＨＣ１゜Ｆ−１（ＣＨａ）　、−ＣＯＯＨＣ８゜Ｆａ＋（
ＣＨ−）ｚ−ＣＯＯＨＣ、Ｆ、、（ＣＨ，）、ＣＯＯ（ＣＨ，）、　　Ｃ００
ＨＣ−Ｆ　ｌ、（ＣＨ−）　　−０（ＣＨｇ）　　−Ｃ
ＯＯＨ等が挙げられる。また、下記の化合物も好適に用いることができる。Ｃ，Ｆ、、（ＣＨ２）、Ｃ００Ｈ１Ｃ４Ｆ、（ＣＨ，）　　１ｌＣＯＯＨ１Ｃ，Ｆ、、（Ｃ
Ｈ，）　　４０　（ＣＨ２）４Ｃ００Ｈ１Ｃ，Ｆ、、（
ＣＨ２）、４ＣＯＯＨ１Ｃ，Ｆ、、（ＣＨ，）　　４ＣＯＯＨ１Ｃ４Ｆ、（ＣＨ
，）、□Ｃ０ＯＨなお、上記化合物の金属塩、あるいは、上記化合物に対
応するスルホン酸、リン酸およびスルホン酸塩、リン酸
塩等も同様に好適に用いることができる。このような化合物は公知の方法に従い合成すればよく、
また市販のものを用いてもよい。また、本発明においては、前記式（ＩＩ）で示される化
合物であってｍ、ｎ、Ｘ、Ｚ等が異なる化合物を二種以
上用いてもよい。なお本発明において前記式（ＩＩ）で示される化合物で
ｎ≦ｍ≦２．５ｎであるものの有機膜中での含有量が２
ｏｗｔ％以上である場合、ＬＢ膜形成に際して、後述す
る累積後に乾燥を必要としない。　このため、このよう
な化合物を用いる場合、さらに生産性が向上する。脂肪酸としては１価ないし多価の飽和脂肪酸、持に１価
の直鎖飽和脂肪酸が挙げられる。このような化合物の好適な具体例としては、ＣＨ，（Ｃ
Ｈ２）、。（１：ｏＯＨ２ＣＨ、（ＣＨ２）、２ＣＯＯＨ１ＣＨ３（ＣＨ，）、４ＣＯＯＨ１ＣＨＩ　　（ｃＨｗ）１６ｃＯＯＨ１ＣＨ−（ＣＨ２）　、ａＣ：０ＯＨ１ＣＨ−（ＣＨｚ　）　−０ＣＯＯＨ１ＣＨ＝　　（ＣＨ２）　２□Ｃ０ＯＨ等が挙げられる。なお、これらの具体例として上記に挙げた化合物の金属
塩、あるいは、上記化合物に対応するスルホン酸、リン
酸およびスルホン酸塩、リン酸塩等も同様に好適に用い
ることができる。また、これらの他、天然脂肪酸としては、１．２−ヒド
ロキシステアリン酸やラノリン脂肪酸等や、各種合成脂
肪酸、脂肪酸誘導体等も使用可能である。アルコールとしては、１価の飽和アルコールが好適であ
る。例えば、直鎖飽和１価アルコールの好適な具体的例とし
ては、ＣＨｓ　（ＣＨ＊　）　３ｍ０Ｈ１ＣＨ！　　（ＣＨａ　）　、５ＯＨ１ＣＨｓ　（ＣＨ＊）　ｌ？０Ｈ１ＣＨｓ　（ＣＨ＊　）＋−０Ｈ１ＣＨｓ　（ＣＨ−）　−＋ＯＨ等が挙げられる。これらの他、１価ないし多価の天然アルコール、合成ア
ルコール等も好適に使用できる。エステルとしては、１価ないし多価の飽和脂肪酸と、１
価ないし多価の飽和アルコールとのエステルが好適であ
る。好適な具体的例としては、ＣＨ，（ＣＨ，）、、Ｃ００ＣＨ，、ＣＨｓ　（ＣＨｍ　）＋６ＣＯＯＣＨｓ、ＣＨ−（ＣＨ
ｚ）　１６ＣＯＯＣＨｓ、ＣＨ、（ＣＨ、）、、Ｃ００
ＣＨａ、ＣＨ−（ＣＨａ）ａ−ＣＯＯＣＨｓ、ＣＨ−（ＣＨａ）　、−ＣＯＯＣ２８ａ、ＣＨ、（ＣＨ
、）、４ＣＯＯＣ２Ｈ。等が挙げられる。上記した各化合物の有機膜中での好ましい含有量比を以
下に示す。パーフルオロアルキレンを有するポリエーテルおよび／
またはその誘導体二両親媒性化合物＝９：１〜１：９で
あることが好ましく、特に７：３〜３ニアであることが
好ましい。これらの化合物の総含有１１よ、有機膜全体の５０〜ｌ
ｏｏｗｔ％程度であることが好ましい。本発明において有機膜の厚さに特に制限はな（、有機膜
の用途によって適当な膜厚を選択すればよい。　例えば
、磁気記録媒体の磁性層上に設ける保護潤滑膜あるいは
磁気ヘッドフロント面に設ける保護潤滑膜として有機膜
を用いる場合、成膜方法および使用化合物によっても異
なるが、４〜３００人程度であることが好ましい。　４
人未満では十分な本発明の効果が得られず特に耐久性が
劣り、３００人を超えると吸着が発生し、磁気ヘッドの
クラッシュを起こす場合がある。　なお、より好ましい
膜厚は４〜１００人であり、さらに好ましい膜厚は４〜
８０人である。有機膜の形成方法に特に制限はなく、ラングミュア・プ
ロジェット（ＬＢ）法、塗布法等から適当に選択すれば
よい。例えば、ＬＢ法を用いる場合、被着体基板（例えば、磁
気記録媒体、浮上型磁気ヘッド等）を水相中に浸漬し、
次いで上記化合物を含有する展開溶液を所定量水相に均
一に落とし、単分子膜を展開する。次に、表面圧が所定の張力となるまで気液界面を圧縮し
た後、一定圧を保つように界面を圧縮しなから被着体基
板を所定の速度で水相中からほぼ垂直に上昇させて、被
着体基板上に単分子膜を移し取る。　次いで、付着した
水を必要に応じ乾燥させる。　さらに、必要に応じ、同
じ操作を繰り返すことによって累積膜を得る。累積数は１〜２０程度であることが好ましい。なお、展開溶液の溶媒としては、一般にフロン、クロロ
ホルム等のハロゲン系溶媒等が用いられる。有機膜の形成を塗布法により行なう場合、磁気記録媒体
に対してはスピンコード、ディッピング、スプレーコー
ト等を用いればよ（、浮上型磁気ヘッドに対してはディ
ッピング等を用いればよい。本発明の磁気記録媒体は、剛性基板上に磁性層を有する
。磁性層に特に制限はなく、公知の塗布型磁性層、連続薄
膜型磁性層のいずれに対しても本発明は効果を発揮する
が、特に、酸化鉄を主成分とする連続薄膜型の磁性層に
対し、本発明は高い効果を示す。以下、酸化鉄を主成分とする連続薄膜型の磁性層を有す
る磁気記録媒体について説明する。剛性基板の材質に特に制限はないが、下地層などを設層
する必要がなく製造工程が簡素になること、また、研磨
が容易で表面粗さの制御が簡単であることから、本発明
ではガラスを用いることが好ましい。ガラスとしては、強化ガラスを用いることが好ましい。　このようなガラスとしては、特開昭６２−４３８１９
号公報に記載されているような表面強化ガラスが挙げら
れる。剛性基板の表面粗さ（Ｒ＋ｗａｘ）は、１００Å以下で
あることが好ましい、　このような表面粗さは、例えば
、特開昭６２−４３８１９号公報に記載されているよう
なメカノケミカルポリッシングなどにより得ることがで
きる。　なお、Ｒｗａｘは５０Å以下であることがさら
に好ましい、　連続薄膜型の磁性層はこの基板上に直接
設層されるため、磁性層の表面粗さは基板の表面粗さと
ほぼ等しくなる。　基板の表面粗さを上記範囲内とすれ
ば、磁性層表面と浮上型磁気ヘッドの浮揚面との距離を
０．１ａｍ以下に保って記録および再生を行なうことが
でき、高密度記録が可能となる。ガラス基板の材質に特に制限はなく、ホウケイ酸ガラス
、アルミノケイ酸ガラス、石英ガラス、チタンケイ酸ガ
ラス等のガラスから適当に選択することができる。　た
だし、特開昭６２−４３８１９号公報に記載されている
ようなメカノケミカルポリッシングにより表面平滑化を
行なう場合、結晶質を含まないガラスを用いることが好
ましい。　これは、メカノケミカルポリッシングにより
結晶粒界が比較的早く研磨されてしまい、上記のような
Ｒｍａｘが達成できないからである。剛性基板の形状および寸法に特に制限はないが、通常、
ディスク状とされ、厚さは０．５〜５ｍｍ程度、直径は
２５〜３００ｍｍ程度である。剛性基板上には、酸化鉄を主成分とする磁性薄膜が成膜
され、磁性層とされる。磁性層の１厚は、生産性、磁気特性等を考慮して、５０
０〜３０００人程度とすることが好ましい。磁性層の成膜は公知の気相成膜法等により行なえばよい
が、スパッタ法、特に反応性スパッタ法を用いることが
好ましい。なお、磁性層中には、成膜雰囲気中に含まれるＡｒ等が
含有されていてもよい。このようにして得られる磁性層の表面粗さは、剛性基板
の表面粗さとほぼ等しいものである。なお、このようにして設層される磁性層は、特開昭６２
−４３８１９号公報に記載されている。気相成膜法の他、本発明では、蒸着法、めっき法により
酸化鉄を主成分とする薄膜を形成する方法、あるいは薄
膜形成後に熱処理を施す方法等によって磁性層を設層し
てもよい。このような磁性層上に、前述した有機膜が保護潤滑膜と
して形成される。なお、磁性Ｍ上に保護潤滑膜を成膜した後。保護潤滑膜上を研磨してもよい。本発明の有機膜は、酸化鉄を主成分とするこのような連
続薄膜型の磁気記録媒体の他、Ｃ０−Ｎｉ等の金属気相
成長膜磁性層や金属めっき膜磁性層を有する連続薄膜型
の磁気記録媒体、あるいは酸化鉄を用いた公知の塗布型
磁気記録媒体などの保護潤滑膜としても好適である。次に、本発明の磁気ヘッドについて説明する。本発明の磁気ヘッドは、そのフロント面（浮揚面）に前
述した有機膜を有する。本発明の磁気ヘッドは、ハードタイプの磁気記録媒体と
組み合わされて使用される浮上型磁気ヘッドに適用され
た場合、高い効果を発揮する。本発明は、公知のコンポジット型の浮上型磁気ヘッド、
モノリシック型の浮上型磁気ヘッド等に適用された場合
でも高い効果を発揮するが、特に、薄膜型の浮上型磁気
ヘッドに適用された場合に、極めて高い効果を示す。以下、薄膜型の浮上型磁気ヘッドについて説明する。第１図に、本発明の磁気ヘッドの好適実施例である薄膜
型の浮上型磁気ヘッドを示す。第１図に示される浮上型磁気ヘッド１は、基体２上に、
絶縁層３１、下部磁極層４１、ギャップ層５、絶縁層３
３、コイル層６、絶縁層３５、上部磁極層４５および保
護層７を順次有する。本発明では、このような浮上型磁気ヘッドｌの少なくと
もフロント面、すなわち浮揚面に、前述した有機膜を保
護潤滑膜１１として有する。コイル層６の材質には特に制限はなく、通常用いられる
Ａｌ２、Ｃｕ等の金属を用いればよい。コイルの巻回パターンや巻回密度についても制限はな（
、公知のものを適宜選択使用すればよい。　例えば巻回
パターンについては図示のスパイラル型の他、積層型、
ジグザグ型等いずれであってもよい。また、コイル層６の形成にはスパッタ法等の各種気相被
着法を用いればよい。基体２はＭ　ｎ　−Ｚ　ｎフェライト等の公知の材料か
ら構成される。本発明の磁気ヘッドを、酸化鉄を主成分とする連続薄膜
型の磁性層を有する磁気記録媒体に対して用いろ場合、
基体２は、ビッカース硬度１０００以上のセラミックス
材料から構成されることが好ましい。　このように構成
することにより、本発明の磁気ヘッドの効果はさらに顕
著となる。ビッカース硬度１０００以上のセラミックス材料として
は、Ａｌ２１０ｉ−ＴｉＣを主成分とするセラミックス
、ＺｒＯｚを主成分とするセラミックス、ＳｉＣを主成
分とするセラミックスまたはＡβＮが好適である。　ま
た、これらには、添加物としてＭｇ、Ｙ、ＺｒＯｘ、Ｔ
　ｉ　Ｏｘ等が含有されていてもよい。これらのうち、本発明に特に好適なものは、Ａｌ２０　
ｓ　−Ｔ　ｉ　Ｃを主成分とするセラミックス、ＳｉＣ
を主成分とするセラミックスまたはＡ４２Ｎを主成分と
するセラミックスであり、これらのうち最も好適なもの
は、酸化鉄を主成分とする薄膜磁性層の硬度との関係が
最適であることから、Ａρａ　Ｏａ　−Ｔ　ｉ　Ｃを主
成分とするセラミックスである。下部および上部磁極層４１．４５の材料としては、従来
公知のものはいずれも使用可能であり、例えばパーマロ
イ、センダスト、ＣＯ系非晶質磁性合金等を用いること
ができる。磁極は通常、図示のように下部磁極ｆｉ４１および上部
磁極層４５として設けられ、下部磁極層４１および上部
磁極！１１４５の間にはギャップＭ５が形成される。ギャップＭ５は、Ａ　Ｑ　２０　ｓ、ＳｉＯ□等公知の
材料であってよい。これら磁極層４１．４５およびギャップ層５のパターン
、膜厚等は公知のいずれのものであってもよい。さらに、図示例ではコイル層６はいわゆるスパイラル型
としてスパイラル状に上部および下部磁極層４１．４５
間に配設されており、コイル層６と上部および下部磁極
層４１．４５間には絶縁Ｍ３３．３５が設層されている
。また下部磁極層４１と基体２間には絶縁層３１が設層さ
れている。絶縁層の材料としては従来公知のものはいずれも使用可
能であり、例えば、薄膜作製をスパッタ法により行なう
ときには、５ｉＯａ、ガラス、Ａ１．Ｏ，等を用いるこ
とができる。また、上部磁極４５上には保護層７が設層されている。　保護層の材料としては従来公知のものはいずれも使用
可能であり、例えばＡｆｉ、Ｏ，等を用いることができ
る。　また、これらに各種樹脂コート層等を積層しても
よい。このような薄膜型の浮上型磁気ヘッドの製造工程は、通
常、薄膜作成とパターン形成とから構成される。上記各層を構成する薄膜の作成には、上記したように、
従来公知の技術である気相被着法、例えば真空蒸着法、
スパッタ法、あるいはメツキ法等を用いればよい。浮上型磁気ヘッドの各層のパターン形成は、従来公知の
技術である選択エツチングあるいは選択デポジションに
より行なうことができる。エツチングとしてはウェットエツチングやドライエツチ
ングを用いることができる。また、保護潤滑膜１１は、前述したＬＢ法、塗布法等に
より成膜すればよい。このような浮上型磁気ｌ＼ラッド、アーム等の従来公知
のアセンブリーと組み合わせて使用される。〈実施例〉以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。［実施例１］く磁気ヘッドの形成）スパッタ法によりＡｆｉ　ｘ　Ｏｓ　−Ｔ　ｉ　Ｃ基体
上に薄膜を形成し、ドライエツチングによってパターン
を形成した後、スライダ構造として磁気ヘッドを得た。　なお、Ａβｔｏｓ−ＴｉＣ基体のビッカース硬度は２
２００であった。く磁気ヘッドへの保護潤滑膜形成〉上記磁気ヘッドに保護潤滑膜を形成するに際しては、以
下の通りとした。ドライエツチングによるパターン形成後に、少な（とも
浮揚面（フロント面）に保護潤滑膜を成膜した。保護潤滑膜を構成する化合物およびそれらの量比（モル
比）ならびに保護潤滑膜の成膜方法および膜厚を、表１
に示す。　なお、保護潤滑膜をＬＢ法により成膜した場
合は、ＬＢ膜の累積数を併記した。　また、膜厚の測定
は、ＥＳＣＡにより行なった。表１に示される化合物は前記した化合物および下記に示
す化合物から選択したものであり、表１にはその番号を
示した。　また、前記式（Ｉ）で表わされる化合物につ
いては、平均分子量を併記した。　なお、前記式（Ｉ）
で表わされる化合物は、動粘度１０〜４０００ｃＳＴ（
２０℃）のものを用いた。

【使用化合物】

（ＩＩ−１）Ｃ、Ｆ、、（ＣＨ２）、、Ｃ００Ｈ（、ｎ　−２）Ｃ，Ｆ、（ＣＨ２）、。Ｃ００Ｈ（ｎ−３）Ｃ，Ｆ、、（ＣＨ，）、。Ｃ００Ｈ（ＩＩ　−４）Ｃ，ＦＩ７　（ＣＨ，）　　１６ｃＯＯＨ（ｉＩ　−５
）Ｃ，Ｆ、？　（ＣＨ，）、、Ｃ００Ｈ（ＩＩＩ−１）ＣＨ３（ＣＨ，）、。Ｃ００Ｈ（ＩＩＩ　−２）ＣＨｓ　　（ＣＨ２）　　＋ａＣＯＯＨ（ＩＩＩ−３）ＣＨ，（ＣＨ２）　　１４ｃＯＯＨ（ＩＩＩ　−４）ＣＨｓ　　（ＣＨ２）　　１６ｃＯＯＨ（ＩＶ−１）ＣＨ，（ＣＨ２）２．Ｃ００ＣＨ３（ＩＶ−２）ＣＨ３（ＣＨ−）　　、ａＣＯＯＣ２Ｈ−（Ｖ−１）ＣＨ，（ＣＨ，）　　、、０８表１に示す保護潤滑膜成膜方法の詳細は、下記の通りで
ある。（ＬＢ法）表１に示す化合物の１０−４モル／Ｃフロン溶液を調製
し、展開溶液とした。まず、水相中に被処理基板（磁気ヘッド）を浸漬した後、展開溶液を水相表面に均一に落し、
単分子膜を展開した。次に、表面圧が所定圧となるまで界面を圧縮し、被処理
基板を一定の速度でほぼ垂直に上昇させて被処理基板上
に単分子膜を移し取り、さらに被処理基板の下降および
上昇を繰り返して単分子膜を累積し、保護潤滑膜とした
。（塗布法）表１に示す化合物のフロン溶液を塗布溶液とした。　濃
度は、ディッピングの場合０．１ｗｔ％とじ、スピンコ
ードの場合０．５ｗｔ％とした。このようにして作製された磁気ヘッドをアームと組合わ
せて、空気ベアリング型の浮上型磁気ヘッドを作製した
。く磁気ディスクの形成〉外径１３０ｍｍ、内径４０ｍｍ、厚さ１．９ｍｍのアル
ミノケイ酸ガラス板に化学強化処理を施した。　化学強
化処理は、４５０℃の溶融硝酸カリウムに１０時間浸漬
することにより行なった。次いで、このガラス板表面をメカノケミカルポリッシン
グにより平滑化し、磁気ディスク基板とした。　メカノ
ケミカルポリッシングには、コロイダルシリカを含む研
磨液を用いた。　磁気ディスク基板の表面粗さ（Ｒｍａ
ｘ）は９０人であった。次いで、Ｆｅをターゲットとし、Ａ　ｒ　：　０２＝５
０　：　５０の１０−”Ｔｏｒｒの雰囲気中において反
応性スパックを行ない、２０００人のα−Ｆｅｚｅｓ膜
を成膜した。　次に、水素気流中で３６０℃にて２時間
還元処理を行なってＦ　ａ　ｘ　Ｏ４膜とした後、空気
中で３１０℃にて１時間酸化を行ない、γ−Ｆｅ２ｅｇ
の磁性層とした。　この磁性層のＲｍａｘは１００人で
あった。〈磁気ディスクへの保護潤滑膜形成〉上記磁気ディスクの磁性層上に保護潤滑膜を成膜した磁
気ディスクを作製した。保護潤滑膜を構成する化合物ならびに保護潤滑膜の成膜
方法および膜厚を、表１に示す。表１に示す成膜方法は、上記磁気ヘッドの場合と同様で
ある。以上のようにして得られた浮上型磁気ヘッドおよび磁気
ディスクの保護潤滑膜の成膜の均一性を、１００倍の光
学顕微鏡により観察した。結果を表１に示す。　なお、表１に示す評価は、 ○：良好 △：やや良好 ×：不均一である。次に、浮上型磁気ヘッドと磁気ディスクとを表１に示す
ように組み合わせて、浮上型磁気ヘッドと磁気ディスク
間の初期および耐久走行後の摩擦を測定した。　耐久走
行は２０°Ｃ１６０％ＲＨの条件下で、１１００ｒｐに
て３０分間接触走行させることにより行ない、摩擦はｌ
ｒｐｍ回転時の動摩擦係数で表わした。結果を、表１に示す。［比較例１］前記式（Ｉ）で表わされる化合物のみを含有する保護潤
滑膜を形成した浮上型磁気ヘッドおよび磁気ディスクを
、実施例１と同様にして作製した。これらについて、実施例１と同様な測定を行なった。結果を表１に示す。なお、表１に示す組み合わせでは、浮上型磁気ヘッドの
磁気ディスクへの吸着はみられなかった。［実施例２］実施例１で作製したビッカース硬度２２００のＡＡ　、
　Ｏ、−Ｔ　ｉ　Ｃ基体を有する浮上型磁気ヘッドおよ
びγ−Ｆ　ｅ　２０３磁性層を有する磁気ディスクを用
い、フライングハイド０．　１ＬＬｍ以下で３６００ｒ
ｐｍにて５分間高速摺動試験を行なった。高速摺動試験後の磁気ディスク表面および浮上型磁気ヘ
ッド浮揚面のキズを、１００倍の光学顕微鏡を用いて観
察した。結果を表２に示す。［実施例３］ディスク状のＡβ板上にＮ１−Ｐ下地層をめっきにより
設層し、この下地層上にＣｒ層、Ｃｏ−Ｃｒ磁性層、Ｃ
からなる保護膜および上記実施例１で用いた保護潤滑膜
を順次成膜してハードタイプの磁気ディスクを作製した
。また、実施例１で用いたビッカース硬度２２００のＡβ
ｘｏ＊　　Ｔｉｃ基体に換え、ビッカース硬度７００の
Ｍｎ−Ｚｎフェライト製基体を用い、この上に実施例１
で用いた保護潤滑膜を成膜して薄膜型の浮上型磁気ヘッ
ドを作製した。このようにして得られた磁気ディスクおよび浮上型磁気
ヘッドを組み合わせ、実施例２と同様な観察を行なった
。　また、この磁気ディスクおよび浮上型磁気ヘッドを
、それぞれ実施例２に記載の浮上型磁気ヘッドおよび磁
気ディスクと組み合わせ、同様な観察を行なった。結果を表２に示す。表　　　　２２　　　　　ＡＬ　Ｏｓ　−Ｔｉｃ　　　無　　Ｃｏ−
Ｃｒ　　　　有３　　　　　Ｍ　ｎ　−Ｚ　ｎフェライ
ト　有　　Ｙ　−Ｆ　ｅ　ｔ　Ｏ３無４Ｍｎ−Ｚｎフェ
ライト　有　　Ｃｏ−Ｃｒ　　　　有なお、これらの組
み合わせの他、ビッカース硬度２２００以上のＡｊ２Ｎ
１５基体および同様な硬度を有するＳｉＣ製基体を有す
る浮上型磁気ヘッドを用いて上記と同様な高速摺動試験
を行なったところ、キズの発生は認められなかった。　
さらに、ビッカース硬度１３０ｏのＺｒＯｚ製基体を有
する浮上型磁気ヘッドを用いて同様な測定を行なったと
ころ、磁気ヘッド浮揚面にわずかにキズの発生が認めら
れたが、実用上は問題とならない程度であった。［実施例４］実施例１で作製した浮上型磁気ヘッドおよび磁気ディス
クを用いてＣ８Ｓ試験を行なったところ、摩擦変動、吸
着などに関して極めて良好な結果が得られた。以上の実施例の結果から、本発明の効果が明らかである
。〈発明の効果〉本発明によれば、磁気記録媒体および磁気ヘッド間の摩
擦が小さく、かつ、その変動が小さく、また、磁気記録
媒体への磁気ヘッドの吸着が発生しにくい。　このため
、Ｃ８Ｓ時あるいは磁気ヘッドと磁気記録媒体との接触
時にも双方にキズが発生しにくくなる。また、本発明を、酸化鉄を主成分とする磁性層を有する
連続薄膜型の磁気記録媒体と、ビッカース硬度１０００
以上のセラミックス材料から構成される基体を有する薄
膜型の浮上型磁気ヘッドに適用し、これらを組合わせて
用いた場合、上記効果は特に優れたものとなる。また、本発明で使用するパーフルオロアルキレンを有す
るポリエーテルおよび／またはその誘導体を含有する保
護潤滑膜は、酸化鉄を主成分とする磁性層への接着性が
高く、保護潤滑膜の効果の持続性が高い。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の磁気ヘッドの好適実施例である薄膜
型の浮上型磁気ヘッドを示す部分断面図である。Ｆ　Ｉ　Ｇ、１符号の説明１・・・浮上型磁気ヘッド２・・・基体３１．３３．３５・・・絶縁層４１・・・下部磁極層４５・・・上部磁極層５・・・ギャップ層６・・・コイル層７・・・保護層１１・・・保護潤滑膜

Claims

【特許請求の範囲】

（１）パーフルオロアルキレンを有するポリエーテルお
よび／またはその誘導体と、融点が３０℃以上である両
親媒性化合物とを含有することを特徴とする有機膜。
（２）前記両親媒性化合物が、下記式で表わされる化合
物を含む請求項１に記載の有機膜。式Ｃ＿ｎＦ＿２＿ｎ＿＋＿１−Ｘ−Ｚ（ただし、Ｘは内部にエーテル結合（−Ｏ−）および／
またはエステル結合（−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−）を
１または２以上有してもよいアルキレン基であって、そ
の総炭素数をｍとしたときｎ＋ｍ≧９である。また、Ｚ
は親水性基を表わす。）
（３）前記式においてｍ≧８かつｍ≧ｎである請求項２
に記載の有機膜。
（４）前記両親媒性化合物が、脂肪酸、エステルおよび
アルコールの１種以上を含む請求項１ないし３のいずれ
かに記載の有機膜。
（５）剛性基板上に磁性層を有し、この磁性層上に請求
項１ないし４のいずれかに記載の有機膜を保護潤滑膜と
して有することを特徴とする磁気記録媒体。
（６）前記磁性層が酸化鉄を主成分とする連続薄膜型の
磁性層である請求項５に記載の磁気記録媒体。
（７）前記剛性基板がガラスから構成される請求項５ま
たは６に記載の磁気記録媒体。
（８）請求項１ないし４のいずれかに記載の有機膜を、
少なくともフロント面に有することを特徴とする磁気ヘ
ッド。
（９）浮上型磁気ヘッドである請求項８に記載の磁気ヘ
ッド。
（１０）少なくとも浮揚面がビッカース硬度１０００以
上のセラミックス材料から構成されている請求項９に記
載の磁気ヘッド。
（１１）前記セラミックス材料がＡｌ＿２Ｏ＿３−Ｔｉ
Ｃを主成分とするセラミックス、ＺｒＯ＿２を主成分と
するセラミックス、ＳｉＣを主成分とするセラミックス
またはＡｌＮを主成分とするセラミックスである請求項
９または１０に記載の磁気ヘッド。
（１２）前記セラミックス材料がＡｌ＿２Ｏ＿３−Ｔｉ
Ｃを主成分とするセラミックス、ＳｉＣを主成分とする
セラミックスまたはＡｌＮを主成分とするセラミックス
である請求項９ないし１１のいずれかに記載の磁気ヘッ
ド。
（１３）前記セラミックス材料がＡｌ＿２Ｏ＿３−Ｔｉ
Ｃを主成分とするセラミックスである請求項９ないし１
２のいずれかに記載の磁気ヘッド。
（１４）薄膜型の浮上型磁気ヘッドである請求項９ない
し１３のいずれかに記載の磁気ヘッド。
（１５）請求項５ないし７のいずれかに記載の磁気記録
媒体に請求項９ないし１４のいずれかに記載の磁気ヘッ
ドにより記録および再生を行なう方法であって、前記磁性層表面と前記浮上型磁気ヘッドの浮揚面との距
離が０．１μｍ以下であることを特徴とする磁気記録再
生方法。