JPH04168621A - 潤滑組成物およびそれを用いた電子部品 - Google Patents
潤滑組成物およびそれを用いた電子部品Info
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- JPH04168621A JPH04168621A JP29485790A JP29485790A JPH04168621A JP H04168621 A JPH04168621 A JP H04168621A JP 29485790 A JP29485790 A JP 29485790A JP 29485790 A JP29485790 A JP 29485790A JP H04168621 A JPH04168621 A JP H04168621A
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 13
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 title abstract 4
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 28
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 37
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 33
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 33
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 claims description 24
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 23
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 11
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 claims description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 9
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 4
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 abstract description 2
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 abstract 4
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 abstract 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 21
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 11
- BOSAWIQFTJIYIS-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloro-2,2,2-trifluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(Cl)(Cl)Cl BOSAWIQFTJIYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 3
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 3
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 3
- 235000005956 Cosmos caudatus Nutrition 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 239000002480 mineral oil Substances 0.000 description 2
- 235000010446 mineral oil Nutrition 0.000 description 2
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 238000013481 data capture Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-O triethylammonium ion Chemical compound CC[NH+](CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Lubricants (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明は、高被覆率で低摩擦係数であり、撥水。
撥油性を備えたフッ素系化合物の潤滑組成物、およびそ
れを用いた電子部品に関する。
れを用いた電子部品に関する。
［従来の技術］
磁気記録媒体は、大容量の情報記憶再生装置の情報記録
に用いられている。これら磁気記録媒体は、いずれも記
録容量の増大が期待されると同時に、長時間の使用に耐
え得る信頼性が要求される。
に用いられている。これら磁気記録媒体は、いずれも記
録容量の増大が期待されると同時に、長時間の使用に耐
え得る信頼性が要求される。
高記録密度を必要とする磁気記録媒体には薄膜磁性媒体
型が適用されている。特に、高記録密度とデータの高速
取り込みを必要とする磁気ディスク装置では、記憶容量
の増大により、ヘッドとディスクとの間隔がますます狭
くなり、それに伴ってヘッドとディスクの接触摺動の確
率が高（なり、耐摺動性の向上が望まれている。
型が適用されている。特に、高記録密度とデータの高速
取り込みを必要とする磁気ディスク装置では、記憶容量
の増大により、ヘッドとディスクとの間隔がますます狭
くなり、それに伴ってヘッドとディスクの接触摺動の確
率が高（なり、耐摺動性の向上が望まれている。
また、磁気テープなどの磁気記録媒体においても耐摺動
性の向」−が必要なのは云うまでもない。
性の向」−が必要なのは云うまでもない。
このため、磁気記録媒体の最外表面に設けられる潤滑層
は過酷な摺動条件に耐え得る性能が要求される。さらに
、潤滑層は磁性層の酸化や腐食を防止する効果も要求さ
れ、該表面を緻密に被覆することができるものが望まれ
る。
は過酷な摺動条件に耐え得る性能が要求される。さらに
、潤滑層は磁性層の酸化や腐食を防止する効果も要求さ
れ、該表面を緻密に被覆することができるものが望まれ
る。
こうした磁気記録媒体の潤滑層にはフッ素系化合物が用
いられている。フッ素系化合物は、その低表面エネルギ
ーから低摩擦性や撥水性、撥油性であると云う特性を有
する。該フッ素系化合物によって構成される潤滑層は、
吸着性の高いフッ素系化合物を塗布し、化学的に固定す
る方法が提案されている（米国特許第４，１２０，９９
５号明細書、特開昭５１−３６１７１号、同５９−２０
３２３９号、同６０−３８７３０号、同５９−１７２１
５９号、同６１−３９９１９号、同６０−］０９０２８
号、同６０−１０１７１７号、同６０−１０１７１５号
、同６０−２４２５１８号、同６Ｃ１−２０２５３３号
、同６０−２４６０２０号、同６１−１０４３１８号、
同６２−４２３１６号同６３−２２５９１８号、同６３
〜２２０４２０号公報）。
いられている。フッ素系化合物は、その低表面エネルギ
ーから低摩擦性や撥水性、撥油性であると云う特性を有
する。該フッ素系化合物によって構成される潤滑層は、
吸着性の高いフッ素系化合物を塗布し、化学的に固定す
る方法が提案されている（米国特許第４，１２０，９９
５号明細書、特開昭５１−３６１７１号、同５９−２０
３２３９号、同６０−３８７３０号、同５９−１７２１
５９号、同６１−３９９１９号、同６０−］０９０２８
号、同６０−１０１７１７号、同６０−１０１７１５号
、同６０−２４２５１８号、同６Ｃ１−２０２５３３号
、同６０−２４６０２０号、同６１−１０４３１８号、
同６２−４２３１６号同６３−２２５９１８号、同６３
〜２２０４２０号公報）。
フッ素系化合物の被覆層を形成する手法としては、単分
子膜を形成し得るラングミュア−プロジェット法が知ら
れている。また、大量塗布には浸漬塗布法が適している
が、高い表面被覆率を得るためには高濃度の溶液を必要
とする。
子膜を形成し得るラングミュア−プロジェット法が知ら
れている。また、大量塗布には浸漬塗布法が適している
が、高い表面被覆率を得るためには高濃度の溶液を必要
とする。
［発明が解決しようとする課題］
こうした、磁気記録媒体などにおいて、フッ素系化合物
の潤滑層に要求される耐摺動性と防食性とを両立させる
ためには、該化合物を緻密に被覆する必要がある。
の潤滑層に要求される耐摺動性と防食性とを両立させる
ためには、該化合物を緻密に被覆する必要がある。
高分子量のフッ素系化合物を用いれば、少量でも該化合
物のフッ索鎖が表面を緻密に被覆し、その表面エネルギ
ーを低下して、低摩擦性、撥水性、撥油性を付与するこ
とができると考えられるが、本発明者らの検討によれば
、低濃度溶液では摩擦特性が満足できても十分緻密に表
面を被覆することができないし、また、高濃度溶液では
フッ素系化合物の凝集によって均一な被覆が得難いこと
が分かった。
物のフッ索鎖が表面を緻密に被覆し、その表面エネルギ
ーを低下して、低摩擦性、撥水性、撥油性を付与するこ
とができると考えられるが、本発明者らの検討によれば
、低濃度溶液では摩擦特性が満足できても十分緻密に表
面を被覆することができないし、また、高濃度溶液では
フッ素系化合物の凝集によって均一な被覆が得難いこと
が分かった。
一方、分子量の小さなフッ素系化合物は、高濃度溶液で
も均一な被覆層が得られ、低濃度溶液でも比較的よい被
覆を形成できる傾向があるが、十分な低摩擦特性のもの
が得られないと云う問題があるこよが分かった。
も均一な被覆層が得られ、低濃度溶液でも比較的よい被
覆を形成できる傾向があるが、十分な低摩擦特性のもの
が得られないと云う問題があるこよが分かった。
上記の課題を解決するためには高分子量のフッ素系化合
物の特性と、低分子量のフッ素系化合物の特性を合わせ
持つ潤滑層の形成が必要である。
物の特性と、低分子量のフッ素系化合物の特性を合わせ
持つ潤滑層の形成が必要である。
本発明の目的は、比較的低濃度でも高い表面被覆率を示
し、良好な摩擦特性、撥水性、撥油性を有する潤滑層を
形成できる潤滑組成物を提供することにある。
し、良好な摩擦特性、撥水性、撥油性を有する潤滑層を
形成できる潤滑組成物を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、上記潤滑組成物を用いて緻
密な潤滑層を設けた電子部品を提供することにある。
密な潤滑層を設けた電子部品を提供することにある。
［Ｂ題を解決するための手段］
前記目的を解決する本発明の要旨は、平均分子量の差が
５００以上ある平均分子量の異なる２種以上のフッ素系
化合物を含むことを特徴とする潤滑組成物およびそれを
用いた電子部品にある。
５００以上ある平均分子量の異なる２種以上のフッ素系
化合物を含むことを特徴とする潤滑組成物およびそれを
用いた電子部品にある。
本発明の前記フッ素系化合物とは、例えば、Ｆ ＣＣＦ
（ＣＦ 、） ＣＦ ２０ ）ｍ Ｃ２Ｆ 、−
Ｆ （Ｃｓ Ｆ ｓ Ｏ） ｍ （ＣＦ １０ ）
ｎ （ＣＦ ２） ｐ−−（ＣＦ２０）ｍ−（Ｃ２
Ｆ、０）ｎ−（Ｃ，Ｆ２Ｏ）、−ＣＦ２−等のパーフロ
ロポリオキシアルキル基またはパーフロロポリオキシア
ルキレン基と、炭化水素基を結合したものである。こう
した化合物としては、Ｒｆ−ＣＯＯＨ Ｒｆ−ＣＯＮＨ−Ｃ，Ｈ６−８１（ＯＣ２Ｈ８）。
（ＣＦ 、） ＣＦ ２０ ）ｍ Ｃ２Ｆ 、−
Ｆ （Ｃｓ Ｆ ｓ Ｏ） ｍ （ＣＦ １０ ）
ｎ （ＣＦ ２） ｐ−−（ＣＦ２０）ｍ−（Ｃ２
Ｆ、０）ｎ−（Ｃ，Ｆ２Ｏ）、−ＣＦ２−等のパーフロ
ロポリオキシアルキル基またはパーフロロポリオキシア
ルキレン基と、炭化水素基を結合したものである。こう
した化合物としては、Ｒｆ−ＣＯＯＨ Ｒｆ−ＣＯＮＨ−Ｃ，Ｈ６−８１（ＯＣ２Ｈ８）。
Ｒｆ Ｃ０ＮＨｃｇＨＬ Ｓ １（ＯＣ２Ｈ−）３
Ｒｆ −ＣＯＮＨ−Ｃ，Ｈ４−Ｃ，Ｈ，−３ｉ （ＯＣ
，Ｈ５）。
Ｒｆ −ＣＯＮＨ−Ｃ，Ｈ４−Ｃ，Ｈ，−３ｉ （ＯＣ
，Ｈ５）。
Ｒｆ ＣＨ２ＯＳ＋（ＯＣ＋Ｈｉ）３Ｒｆ −ＣＯＮ
Ｈ−Ｃ，Ｈ６−６ｉ −（ＯＣＲ，）。
Ｈ−Ｃ，Ｈ６−６ｉ −（ＯＣＲ，）。
Ｒｆ −ＣＯＮＨ−Ｃ，Ｈ６−８ｉ −（ＯＣ２Ｈ，）
２Ｒｆ Ｃｏｏ Ｓ ｉ （ＯＣＴＩ３）＋Ｒｆ−
ＣＯＯＣ２Ｈ，−８ｉ （ＯＣＨ，）。
２Ｒｆ Ｃｏｏ Ｓ ｉ （ＯＣＴＩ３）＋Ｒｆ−
ＣＯＯＣ２Ｈ，−８ｉ （ＯＣＨ，）。
（Ｃ２Ｈ，０）３Ｓ ｉ−Ｃ，Ｈ６−ＮＨＣＯ−Ｒｆ−
−ＣＯＮＨ−Ｃ，Ｈ６−８ｉ （ＯＣ２Ｈ，）！（Ｃ２
１１，Ｏ）、Ｓ １−Ｏ−ＣＨ２−Ｒｆ−ＣＨ２０Ｓ
ｊ （ＱＣ：ｚＨｓ：ｈ （ＣＨｓ Ｏ）３ Ｓ ｉ ００ ＣＲｆ
−ＣＯＯ８ｌ（ＯＣＨ３）ｓ （ＣＨ３０）ｉ−３ｊ−Ｃ，Ｈ６−ＮＨＣＯ−Ｒｆ−−
ＣＯＮＨ−Ｃ，Ｈ６−８ｉ −（ＯＣＨ，）。
−ＣＯＮＨ−Ｃ，Ｈ６−８ｉ （ＯＣ２Ｈ，）！（Ｃ２
１１，Ｏ）、Ｓ １−Ｏ−ＣＨ２−Ｒｆ−ＣＨ２０Ｓ
ｊ （ＱＣ：ｚＨｓ：ｈ （ＣＨｓ Ｏ）３ Ｓ ｉ ００ ＣＲｆ
−ＣＯＯ８ｌ（ＯＣＨ３）ｓ （ＣＨ３０）ｉ−３ｊ−Ｃ，Ｈ６−ＮＨＣＯ−Ｒｆ−−
ＣＯＮＨ−Ｃ，Ｈ６−８ｉ −（ＯＣＨ，）。
（Ｃ，Ｈ，Ｏ）、−８１−Ｃ３Ｈｅ−ＮＨＣＯ−Ｒｆ−
−ＣＯＮＨ−Ｃ，Ｈ６−８ｉ −（ＯＣ２Ｈ，）。
−ＣＯＮＨ−Ｃ，Ｈ６−８ｉ −（ＯＣ２Ｈ，）。
（ＣＨｓＯ）ｘｓｌ ＯＣＯＲｆ−
−ＣＯＯ−８１（ＯＣＨ＝）２
（ＣＨ，Ｏ）！Ｓ ｉ−Ｃ，Ｈ４０ＣＯ−Ｒｆ−−ＣＯ
ＯＣ２Ｈ４−８１（ＯＣＨ３）２等がある。
ＯＣ２Ｈ４−８１（ＯＣＨ３）２等がある。
前記において高分子量のフッ素系化合物と低分子量のフ
ッ素系化合物は、その分子量差が５００以上あるものを
２種以上混合して用いることにより本発明の目的を達成
することができる。
ッ素系化合物は、その分子量差が５００以上あるものを
２種以上混合して用いることにより本発明の目的を達成
することができる。
これにより、高分子量のフッ素系化合物単独では実現で
きなかった高表面被覆率と、低分子量のフッ素系化合物
単独で実現でなかった低摩擦係数を両立した潤滑組成物
および該潤滑層を設けた磁気記録媒体等の電子部品を提
供することができる。
きなかった高表面被覆率と、低分子量のフッ素系化合物
単独で実現でなかった低摩擦係数を両立した潤滑組成物
および該潤滑層を設けた磁気記録媒体等の電子部品を提
供することができる。
［作用コ
高分子量のフッ素系化合物と低分子量のフッ素系化合物
を混合させたことにより、両者の特性を両立した潤滑層
が得られるのは、第１図の模式図に示すように高分子量
のフッ素系化合物の分子と低分子量のフッ素系化合物の
分子とが混在し、潤滑表面に固定され、相乗効果を生ず
るためと推定される。
を混合させたことにより、両者の特性を両立した潤滑層
が得られるのは、第１図の模式図に示すように高分子量
のフッ素系化合物の分子と低分子量のフッ素系化合物の
分子とが混在し、潤滑表面に固定され、相乗効果を生ず
るためと推定される。
［実施例コ
以下、本発明を実施例により詳述する。
なお、本実施例において用いたフッ素系化合物と、それ
を用いた潤滑組成物の配合比を第１表に示す。
を用いた潤滑組成物の配合比を第１表に示す。
〔実施例 １〜５〕
エポキシ樹脂（シェル石油化学社製、商品名・ＥＰ−１
００４＞４．４ｇ、硬化剤としてフェノール系樹脂であ
るマルカリンカーＭ［丸首石油化学（株）製］３．０ｇ
、硬化促進剤としてトリエチルアンモニウムカルボール
塩〔北興化学（株）製。
００４＞４．４ｇ、硬化剤としてフェノール系樹脂であ
るマルカリンカーＭ［丸首石油化学（株）製］３．０ｇ
、硬化促進剤としてトリエチルアンモニウムカルボール
塩〔北興化学（株）製。
商品名：ＴＥＡ−Ｋ］０．０４ｇをメチルエチルケトン
１３５０ｇをｎ−ブチルセロソルブアセテート１５０ｇ
の混合溶剤に溶解し、溶液［Ｉ］を作成した。
１３５０ｇをｎ−ブチルセロソルブアセテート１５０ｇ
の混合溶剤に溶解し、溶液［Ｉ］を作成した。
次に、 ５．２５インチのＡ１合金ディスク表面にＮ１
−Ｐ層を設け、その上にＣｒ層、更にその上にＮ１−Ｇ
ｏの磁性層を５０ｎｍ厚さに蒸着し、カーボンスパッタ
層を設けた該ディスク面に前記溶液［Ｉ］を浸漬塗布し
、膜厚１０〜３０ｎｍの被膜を形成した。次いで、８０
℃で３０分子備加熱後、２３０℃、１時間加熱して硬化
させた。
−Ｐ層を設け、その上にＣｒ層、更にその上にＮ１−Ｇ
ｏの磁性層を５０ｎｍ厚さに蒸着し、カーボンスパッタ
層を設けた該ディスク面に前記溶液［Ｉ］を浸漬塗布し
、膜厚１０〜３０ｎｍの被膜を形成した。次いで、８０
℃で３０分子備加熱後、２３０℃、１時間加熱して硬化
させた。
次に上北基板に、第１表のＮｏ、１〜５をトリクロロト
リフロロエタン（商品名フロンソルベント５−３）に溶
解した溶液を浸漬塗布した後、１２０℃で１０分加熱し
て基板１〜５を得た。
リフロロエタン（商品名フロンソルベント５−３）に溶
解した溶液を浸漬塗布した後、１２０℃で１０分加熱し
て基板１〜５を得た。
こうして得られた基板１〜５上のフッ素系化合物の表面
被覆率を評価した。なお、表面被覆率はＰＴＦＥ （ポ
リテトラフルオロエチレン）を１００％とした時の水の
接触角から測定したちので次式により求めた。
被覆率を評価した。なお、表面被覆率はＰＴＦＥ （ポ
リテトラフルオロエチレン）を１００％とした時の水の
接触角から測定したちので次式により求めた。
Ｈ−”［（ｃ ｏ ｓθ、−ｃｏｓθ３）／（ｃｏｓθ
２−ＣＯ２Ｏ３）〕×１００ 但し、 Ｈ：表面被覆率 θ３．改質した表面の接触角 θ３：基板の接触角 θ、： ＰＴＦＥの接触角 さらに、基板１〜５の耐摺動性と摩擦特性をビンオンデ
ィスクタイプの摩擦試験機によって測定した。測定は上
部静止摺動子としてＲ３０の球面を有する透明サファイ
ヤ〔（株）京セラ製〕を用い、滑り速度２０ｍ／ｓ、垂
直荷重２０ｇ、雰囲気温度２５℃、相対湿度５０％ＲＨ
以下の条件で連続摺動した場合のディスクがクラッシュ
するまでの摺動回数と平均摩擦係数を求めた。
２−ＣＯ２Ｏ３）〕×１００ 但し、 Ｈ：表面被覆率 θ３．改質した表面の接触角 θ３：基板の接触角 θ、： ＰＴＦＥの接触角 さらに、基板１〜５の耐摺動性と摩擦特性をビンオンデ
ィスクタイプの摩擦試験機によって測定した。測定は上
部静止摺動子としてＲ３０の球面を有する透明サファイ
ヤ〔（株）京セラ製〕を用い、滑り速度２０ｍ／ｓ、垂
直荷重２０ｇ、雰囲気温度２５℃、相対湿度５０％ＲＨ
以下の条件で連続摺動した場合のディスクがクラッシュ
するまでの摺動回数と平均摩擦係数を求めた。
これらの結果を第２表に示す。
第 ２ 表
〔実施例 ６〕
５．２５インチのＡ２合金ディスクの表面にγ−Ｆｅｚ
ｅｓ （Ｐｆ １ｚｅｒ社製：商品名ＭＯ２２２８）１
５０重量部、エポキシ樹脂４５重量部、フェノール樹脂
３５重量部およびビニル樹脂２０重量部をシクロへキサ
ノン４００篤量部を加え、ボールミルにより充分に混練
した塗料をスピンコードにより塗布し、２３０℃で約３
時間硬化処理し、塗布媒体を作成した。
ｅｓ （Ｐｆ １ｚｅｒ社製：商品名ＭＯ２２２８）１
５０重量部、エポキシ樹脂４５重量部、フェノール樹脂
３５重量部およびビニル樹脂２０重量部をシクロへキサ
ノン４００篤量部を加え、ボールミルにより充分に混練
した塗料をスピンコードにより塗布し、２３０℃で約３
時間硬化処理し、塗布媒体を作成した。
次に、上記の塗布媒体に第１表Ｎ０１６をトリクロロト
リフロロエタンに溶解した溶液を浸漬塗布した後、１２
０℃で１０分加熱して塗布媒体６を得た。
リフロロエタンに溶解した溶液を浸漬塗布した後、１２
０℃で１０分加熱して塗布媒体６を得た。
該塗布媒体６の表面のフッ素系化合物の表面被覆率と耐
摺動性、摩擦特性を前記実施例１と同様に測定した。こ
れらの結果を第２表に示す。
摺動性、摩擦特性を前記実施例１と同様に測定した。こ
れらの結果を第２表に示す。
〔実施例 ７〕
酸化亜鉛粉末（平均粒径０．５μｍ）（高純度化学研究
社製）７０重量％と４０℃の粘度が１１０ｍｍ２／ｓの
鉱油（コスモ石油社製）３０重量％を混合してサーマル
コンパウンド［ｍｌを得た。
社製）７０重量％と４０℃の粘度が１１０ｍｍ２／ｓの
鉱油（コスモ石油社製）３０重量％を混合してサーマル
コンパウンド［ｍｌを得た。
一方、第１表Ｎ００７をトリクロロトリフロロエタンに
溶解した溶液を、第３図に示す半導体装モジュール冷却
構造体の中間熱伝導ブロック３と熱伝導ブロック２との
接触摺動面に刷毛塗りした後、１２０℃で１０分加熱し
て半導体装モジュール冷却構造体を作成した。
溶解した溶液を、第３図に示す半導体装モジュール冷却
構造体の中間熱伝導ブロック３と熱伝導ブロック２との
接触摺動面に刷毛塗りした後、１２０℃で１０分加熱し
て半導体装モジュール冷却構造体を作成した。
該半導体装モジュールの半導体チップ２に次に、上記の
塗布媒体に第１表Ｎ０８６をトリクロロトリフロロエタ
ンに溶解した溶液を浸漬塗布した後、１２０℃で１０分
加熱して塗布媒体６を得た。
塗布媒体に第１表Ｎ０８６をトリクロロトリフロロエタ
ンに溶解した溶液を浸漬塗布した後、１２０℃で１０分
加熱して塗布媒体６を得た。
該塗布媒体６の表面のフッ素系化合物の表面被覆率と耐
摺動性、摩擦特性を前記実施例１と同様に測定した。
摺動性、摩擦特性を前記実施例１と同様に測定した。
これらの結果を第２表に示す。
〔実施例 ７〕
酸化亜鉛粉末（平均粒径０．５μｍ）（高純度化学研究
社製）７０重量％と４０℃の粘度が１１０ｍｍ２／ｓの
鉱油（コスモ石油社製）３０重量％を混合してサーマル
コンパウンド［ｍｌを得た。
社製）７０重量％と４０℃の粘度が１１０ｍｍ２／ｓの
鉱油（コスモ石油社製）３０重量％を混合してサーマル
コンパウンド［ｍｌを得た。
一方、第１表Ｎｏ、７をトリクロロトリフロロエタンに
溶解した溶液を、第３図に示す半導体装モジュール冷却
構造体の中間熱伝導ブロック３と熱伝導ブロック２との
接触摺動面に刷毛塗りした後、１２０℃で１０分加熱し
て先導体実装モジュール冷却構造体を作成した。
溶解した溶液を、第３図に示す半導体装モジュール冷却
構造体の中間熱伝導ブロック３と熱伝導ブロック２との
接触摺動面に刷毛塗りした後、１２０℃で１０分加熱し
て先導体実装モジュール冷却構造体を作成した。
該半導体装モジュールの半導体チップ２に５０００回の
通電試験を行い、熱変形によって摺動する熱伝導用中間
ブロック３と熱伝導ブロック６との接触面での摩耗粉の
発生状況を観察した。
通電試験を行い、熱変形によって摺動する熱伝導用中間
ブロック３と熱伝導ブロック６との接触面での摩耗粉の
発生状況を観察した。
その結果、該接触部には摩耗粉等は認められず良好な摩
擦特性が得られることが分かった。
擦特性が得られることが分かった。
〔比較例 １〜２〕
実施例１で用いたエポキシ樹脂とフェノール樹脂からな
る樹脂膜を塗布硬化させたディスクに、第１表のＮｏ、
８．Ｎｏ、９のフッ素系化合物をｌ・リクロロトリフロ
ロエタンに溶解させた溶液を浸漬塗布した後、１２０℃
で１０分加熱してディスクを得た。
る樹脂膜を塗布硬化させたディスクに、第１表のＮｏ、
８．Ｎｏ、９のフッ素系化合物をｌ・リクロロトリフロ
ロエタンに溶解させた溶液を浸漬塗布した後、１２０℃
で１０分加熱してディスクを得た。
該ディスク面上のフッ素系化合物の表面被覆率と耐摺動
性、摩擦特性を実施例１と同様の方法で評価した。
性、摩擦特性を実施例１と同様の方法で評価した。
結果を第２表に示す。
〔比較例 ３〕
実施例６で用いたγ−Ｆｅ２ｅｓを分散させた塗布媒体
に第１表のＮｏ、１０のトリクロロトリフロロエタン溶
液を浸漬塗布した後、１２０℃で１０分加熱して塗布媒
体を得た。
に第１表のＮｏ、１０のトリクロロトリフロロエタン溶
液を浸漬塗布した後、１２０℃で１０分加熱して塗布媒
体を得た。
該塗布媒体上のフッ素系化合物Ｎｏ、１０の表面被覆率
と耐摺動性、摩擦特性を実施例１と同様の方法で評価し
た。
と耐摺動性、摩擦特性を実施例１と同様の方法で評価し
た。
結果を第２表に示す。
第２表の結果から明らかなように、比較例１〜３の高分
子量のフッ素系化合物単独の場合は耐摺動性、摩擦特性
は良好であるが表面被覆率が小さく、逆に低分子量のフ
ッ素系化合物単独の場合は表面被覆率は高いが耐摺動性
、摩擦特性が劣る。
子量のフッ素系化合物単独の場合は耐摺動性、摩擦特性
は良好であるが表面被覆率が小さく、逆に低分子量のフ
ッ素系化合物単独の場合は表面被覆率は高いが耐摺動性
、摩擦特性が劣る。
一方、実施例１〜６では表面被覆率が高（、耐摺動性が
優れ、平均摩擦係数も小さく優れた摩擦特性を有してい
る。
優れ、平均摩擦係数も小さく優れた摩擦特性を有してい
る。
第２表の実施例１〜６および比較例１〜３の結果をまと
めて示すと第２図の様になる。
めて示すと第２図の様になる。
第２図から明らかなように、高分子量のフッ素系化合物
に低分子量のフッ素系化合物ら混合させることにより、
摩擦係数が小さく、７かつ、高表面被覆率を有する潤滑
層が形成され、両者のそれぞれの特長を備えた潤滑層を
得ることができる。
に低分子量のフッ素系化合物ら混合させることにより、
摩擦係数が小さく、７かつ、高表面被覆率を有する潤滑
層が形成され、両者のそれぞれの特長を備えた潤滑層を
得ることができる。
〔比較例 ４〕
実施例７で用いた半導体装モジコール冷却構造体を用い
、第１表のＮｏ、１１フッ素系化合物のトリクロロトリ
フロロエタン溶液を、半導体装モジュール冷却構造体の
熱伝導用中間ブロック３と熱伝導ブロック２の接触面に
刷毛塗りした後、１２０℃で１０分加熱して該冷却構造
体を得た。
、第１表のＮｏ、１１フッ素系化合物のトリクロロトリ
フロロエタン溶液を、半導体装モジュール冷却構造体の
熱伝導用中間ブロック３と熱伝導ブロック２の接触面に
刷毛塗りした後、１２０℃で１０分加熱して該冷却構造
体を得た。
該半導体装モジュール冷却構造体を実施例７と同様に半
導体チップに５０００回の通電試験を行い、前記摺動部
の摩耗粉等の発生状況を調べた。
導体チップに５０００回の通電試験を行い、前記摺動部
の摩耗粉等の発生状況を調べた。
その結果、摩耗粉が多量に認められた。
［５！明の効果コ
本発明の分子量の異なるフッ素系化合物を混合した潤滑
組成物によって形成された潤滑層は、高い表面被覆率と
良好な摩擦特性を得ることができるので、これを用いる
ことにより、長寿命の電子部品を得ることができる。
組成物によって形成された潤滑層は、高い表面被覆率と
良好な摩擦特性を得ることができるので、これを用いる
ことにより、長寿命の電子部品を得ることができる。
また、該フッ素系化合物は撥水性、撥油性があり、こう
した電子部品の汚損を防止する効果があ
した電子部品の汚損を防止する効果があ
第１図は本発明の表面改質剤の固着状況を示す模式図、
第２図は本発明の表面改質剤の配合比と表面被覆率およ
び摩擦係数との関係を示すグラフ第３図は半導体装モジ
ュール冷却構造体の模式断面図である。 ｌ・・・基板、２・・高分子量のフッ素系化合物分子、
３・・低分子量のフッ素系化合物分子、１１・・基板、
１２・半導体チップ、１３・・・熱伝導用中間ブロック
、１４・・接続はんだポール、１５・・ばね、１６・・
伝熱ブロック、１７・・冷却水ユニット、１８・ピン、
１９・・潤滑層。 第１図 第２図 低分子量フッ素系化合物の混合率（重量％）第３図 １８・・・ピン、１９・・・潤滑層
第２図は本発明の表面改質剤の配合比と表面被覆率およ
び摩擦係数との関係を示すグラフ第３図は半導体装モジ
ュール冷却構造体の模式断面図である。 ｌ・・・基板、２・・高分子量のフッ素系化合物分子、
３・・低分子量のフッ素系化合物分子、１１・・基板、
１２・半導体チップ、１３・・・熱伝導用中間ブロック
、１４・・接続はんだポール、１５・・ばね、１６・・
伝熱ブロック、１７・・冷却水ユニット、１８・ピン、
１９・・潤滑層。 第１図 第２図 低分子量フッ素系化合物の混合率（重量％）第３図 １８・・・ピン、１９・・・潤滑層
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、平均分子量の差が５００以上ある平均分子量の異な
る２種以上のフッ素系化合物を含むことを特徴とする潤
滑組成物。 ２、平均分子量の差が５００以上ある平均分子量の異な
る２種以上のフッ素系化合物を含み、該フッ素系化合物
中の高分子量のフッ素系化合物が２０〜８０重量％に対
し低分子量のフッ素系化合物が８０〜２０重量％である
ことを特徴とする潤滑組成物。 ３、前記フッ素系化合物がＲｆ−Ｒで表され、Ｒｆはパ
ーフロロポリオキシアルキル基またはパーフロロポリオ
キシアルキレン基、Ｒが−ＣＯＯＨ基、アルコキシシラ
ン基または下式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＿１は２価のアルキレン基、アリール基、Ｒ＿
２、Ｒ＿３、Ｒ＿４は、−ＣＨ＿３、−Ｃ＿２Ｈ＿５、
−ＯＨ、−ＯＣＨ＿３、−ＯＣ＿２Ｈ＿５を示し、これ
らは同じでも異なっていてもよい。）で表されるフッ素
系化合物であることを特徴とする請求項１または請求項
２記載の潤滑組成物。 ４、非磁性基材上に磁性層、該磁性層上に形成された潤
滑層を有する磁気記録媒体において、前記潤滑層が平均
分子量の差が５００以上ある平均分子量の異なる２種以
上のフッ素系化合物を含む潤滑層で構成されていること
を特徴とする磁気記録媒体。 ５、非磁性基材上に磁性層、該磁性層上に形成された潤
滑層を有する磁気記録媒体において、前記潤滑層が平均
分子量の差が５００以上ある平均分子量の異なる２種以
上のフッ素系化合物を含み、該フッ素系化合物中の高分
子量のフッ素系化合物が２０〜８０重量％に対し低分子
量のフッ素系化合物が８０〜２０重量％である潤滑層で
構成されていることを特徴とする磁気記録媒体。 ６、半導体素子を搭載した基板と、該半導体素子の冷却
手段を有する伝熱ブロックと、前記半導体素子と前記伝
熱ブロックとの間に在って摺動可能に設けられた熱伝導
用中間ブロックを備えた半導体実装モジュールにおいて
、 前記熱伝導用中間ブロック摺動面に平均分子量の差が５
００以上ある平均分子量の異なる２種以上のフッ素系化
合物を含む潤滑層が形成されていることを特徴とする半
導体実装モジュール。 ７、半導体素子を搭載した基板と、該半導体素子の冷却
手段を有する伝熱ブロックと、前記半導体素子と前記伝
熱ブロックとの間に在って摺動可能に設けられた熱伝導
用中間ブロックを備えた半導体実装モジュールにおいて
、 前記熱伝導用中間ブロック摺動面に平均分子量の差が５
００以上ある平均分子量の異なる２種以上のフッ素系化
合物を含み、該フッ素系化合物中の高分子量のフッ素系
化合物が２０〜８０重量％に対し低分子量のフッ素系化
合物が８０〜２０重量％である潤滑層形成されているこ
とを特徴とする半導体実装モジュール。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29485790A JPH04168621A (ja) | 1990-10-31 | 1990-10-31 | 潤滑組成物およびそれを用いた電子部品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29485790A JPH04168621A (ja) | 1990-10-31 | 1990-10-31 | 潤滑組成物およびそれを用いた電子部品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04168621A true JPH04168621A (ja) | 1992-06-16 |
Family
ID=17813153
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29485790A Pending JPH04168621A (ja) | 1990-10-31 | 1990-10-31 | 潤滑組成物およびそれを用いた電子部品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04168621A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6700735B2 (en) * | 2001-07-27 | 2004-03-02 | International Business Machines Corporation | Disk drive lubricant reservoir systems and lubricants used therein |
| WO2010038773A1 (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-08 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク及びその製造方法 |
| WO2019188973A1 (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-03 | Jnc株式会社 | 組成物、放熱部材、電子機器、および組成物の製造方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPS62102418A (ja) * | 1985-10-29 | 1987-05-12 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPH02153996A (ja) * | 1988-09-19 | 1990-06-13 | Ausimont Srl | ペルフルオロポリエーテル化合物を含んで成り、金属の塑性加工における潤滑剤として好適な液体水性組成物 |
| JPH02163195A (ja) * | 1988-12-16 | 1990-06-22 | Tdk Corp | 有機膜、磁気記録媒体、磁気ヘッドおよび磁気記録再生方法 |
| JPH03130918A (ja) * | 1989-07-11 | 1991-06-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1990
- 1990-10-31 JP JP29485790A patent/JPH04168621A/ja active Pending
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| US9177586B2 (en) | 2008-09-30 | 2015-11-03 | WD Media (Singapore), LLC | Magnetic disk and manufacturing method thereof |
| US9984715B2 (en) | 2008-09-30 | 2018-05-29 | WD Media, LLC | Magnetic disk and manufacturing method thereof |
| WO2019188973A1 (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-03 | Jnc株式会社 | 組成物、放熱部材、電子機器、および組成物の製造方法 |
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