JPH02201727A - 記録媒体潤滑材およびその製造方法 - Google Patents
記録媒体潤滑材およびその製造方法Info
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- JPH02201727A JPH02201727A JP2140789A JP2140789A JPH02201727A JP H02201727 A JPH02201727 A JP H02201727A JP 2140789 A JP2140789 A JP 2140789A JP 2140789 A JP2140789 A JP 2140789A JP H02201727 A JPH02201727 A JP H02201727A
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Landscapes
- Lubricants (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、情報産業分野等に応用される記録媒体潤滑材
およびその製造方法に関するものである。
およびその製造方法に関するものである。
従来の技術
記録媒体は、現在基板上に直接記録層をメツキ法、スパ
ッタリング法、真空蒸着法、イオンブレーティング法等
によって形成する金属薄膜型記録媒体の開発が活発であ
る。
ッタリング法、真空蒸着法、イオンブレーティング法等
によって形成する金属薄膜型記録媒体の開発が活発であ
る。
前記の金属薄膜型媒体では、信号の記録再生の際、ヘッ
ド等と接触して摩擦や摩耗を生じ、摩耗粉や損傷が発生
する。このため、記録層そのものまたはその表面を処理
することによって、耐摩擦、耐摩耗性の改良を行うなど
の種々の改善がなされている。このため従来、高級脂肪
酸やフッ素系ポリマー等を単独又は表面処理剤を記録層
上に積層している(特開昭59−172159号公報)
。
ド等と接触して摩擦や摩耗を生じ、摩耗粉や損傷が発生
する。このため、記録層そのものまたはその表面を処理
することによって、耐摩擦、耐摩耗性の改良を行うなど
の種々の改善がなされている。このため従来、高級脂肪
酸やフッ素系ポリマー等を単独又は表面処理剤を記録層
上に積層している(特開昭59−172159号公報)
。
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記従来例では、スペーシングロスのため
に潤滑層はそんなに厚く設けることができない。従って
、確かに走行性にやや改良が見られるものの、やがては
剥離したりあるいは変質するなどの現象が見られるなど
不十分な点を有している。
に潤滑層はそんなに厚く設けることができない。従って
、確かに走行性にやや改良が見られるものの、やがては
剥離したりあるいは変質するなどの現象が見られるなど
不十分な点を有している。
本発明は記録層と潤滑層との結合力及び潤滑層分子の結
合力を高めフッ素基の表面低エネルギー化により、耐摩
耗、摩擦特性に優れかつ防湿性にすぐれた記録媒体潤滑
材を提供することを目的としている。
合力を高めフッ素基の表面低エネルギー化により、耐摩
耗、摩擦特性に優れかつ防湿性にすぐれた記録媒体潤滑
材を提供することを目的としている。
課題を解決するための手段
基板上に設けた記録層の表面部にフッ素含をのアルキル
シランからなる潤滑層を形成する。
シランからなる潤滑層を形成する。
作 用
前記フッ素含有のアルキルシランは、記録層と強固に結
合しまたアルキルシラン自身がポリマー化し、かつフッ
素基を表面に配向させることにより耐摩耗、摩擦性、お
よび防湿性にすぐれた潤滑膜を実現する。
合しまたアルキルシラン自身がポリマー化し、かつフッ
素基を表面に配向させることにより耐摩耗、摩擦性、お
よび防湿性にすぐれた潤滑膜を実現する。
フッ素含有アルキルシランはラングミュア−プロジェッ
ト法あるいは吸着法により形成するとシラン基を基板に
配向しやすい。このように形成された膜は、加水分解に
よりそのSt部が記録層表面と共有結合を生じかつシラ
ンどうしがカップリングし、記録層表面に強固なポリマ
ー化された膜を形成する。またフッ素基の低エネルギー
化により水滴の付着を低減する効果も生じる。その結果
潤滑層のせん断応力が大きくなって、繰り返し回数に対
する耐摩耗性が向上し、しかも摩擦特性の小さくかつ防
湿性にすぐれた潤滑層が実現する。
ト法あるいは吸着法により形成するとシラン基を基板に
配向しやすい。このように形成された膜は、加水分解に
よりそのSt部が記録層表面と共有結合を生じかつシラ
ンどうしがカップリングし、記録層表面に強固なポリマ
ー化された膜を形成する。またフッ素基の低エネルギー
化により水滴の付着を低減する効果も生じる。その結果
潤滑層のせん断応力が大きくなって、繰り返し回数に対
する耐摩耗性が向上し、しかも摩擦特性の小さくかつ防
湿性にすぐれた潤滑層が実現する。
従って、フッ素含有アルキルシランのLB膜は単分子層
でも十分な効果を得、また6〜14までの炭素数の中で
全てまたは部分的にフッ素基置換されたフッ素含有アル
キルシランはLB膜を作製し易く、その効果も大きい。
でも十分な効果を得、また6〜14までの炭素数の中で
全てまたは部分的にフッ素基置換されたフッ素含有アル
キルシランはLB膜を作製し易く、その効果も大きい。
特に、LH,IH。
2H,2H−パーフロロデシルアミド−プロピルトリエ
トキシシラン、IH,IHパーフロロデシルアミド−プ
ロピルトリエトキシシラン、パーフロロデシルアミド−
プロピルトリエトキシシランはLB膜として取扱いやす
くかつカップリングも起こり易いのでその効果も大きい
。
トキシシラン、IH,IHパーフロロデシルアミド−プ
ロピルトリエトキシシラン、パーフロロデシルアミド−
プロピルトリエトキシシランはLB膜として取扱いやす
くかつカップリングも起こり易いのでその効果も大きい
。
実施例
図は、本発明の一実施例における記録媒体の断面図であ
る。図に於て1は基板、2は記録層、3はフッ素含有ア
ルキルシランの潤滑層である。
る。図に於て1は基板、2は記録層、3はフッ素含有ア
ルキルシランの潤滑層である。
本実施例の記録媒体に使用し得る基板1としては、ポリ
アミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリカーボネー
ト、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリ酢酸セルロース、およびポリ塩化ビニ
ル等の高分子材料、非磁性金属材料、ガラス、磁器等の
セラミック材料等周知の材料からなるフィルム、板等が
ある。
アミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリカーボネー
ト、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリ酢酸セルロース、およびポリ塩化ビニ
ル等の高分子材料、非磁性金属材料、ガラス、磁器等の
セラミック材料等周知の材料からなるフィルム、板等が
ある。
また記録層2を形成する磁性材料としては、Fe1 C
o、Niから選ばれる少なくとも1種以」二の金属、ま
たはこれらとMn1Cr、、、 Ti1PNY1 S
m1 Bi等またはこれらの酸化物を組み合わせた合金
があり中でもC01Cr1 Niから選ばれる少なくと
も2種以上の元素で構成される記録層2は高い磁気異方
性エネルギーを有していることや耐食性などで好ましく
、これらは真空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレ
ーティング法、メツキ法等の方法で形成させることがで
きる。なお本発明に述べる記録層2は当然前記以外の組
成に限定されないことは言うまでもない。
o、Niから選ばれる少なくとも1種以」二の金属、ま
たはこれらとMn1Cr、、、 Ti1PNY1 S
m1 Bi等またはこれらの酸化物を組み合わせた合金
があり中でもC01Cr1 Niから選ばれる少なくと
も2種以上の元素で構成される記録層2は高い磁気異方
性エネルギーを有していることや耐食性などで好ましく
、これらは真空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレ
ーティング法、メツキ法等の方法で形成させることがで
きる。なお本発明に述べる記録層2は当然前記以外の組
成に限定されないことは言うまでもない。
本発明において、潤滑層3に用いるフッ素含有アルキル
シランは下記に示す一般式で表せる。
シランは下記に示す一般式で表せる。
R+ St Ra
R1−R4はフッ素含有のアルキル基あるいはアミノ基
、カルボキシル基、エーテル結合を含むアルキル基を少
なくとも1つ以上有し、他がハロゲン、アルコキシ基、
アセトキシ基、ヒドロキシ基を含む。なかでもR1は炭
素数が6〜14であり、その全てまたは部分的にフッ素
で置換されたアルキル基、あるいはアミノ基、カルボキ
シル基、エーテル結合を含むアルキル基を有する構造が
よい。
、カルボキシル基、エーテル結合を含むアルキル基を少
なくとも1つ以上有し、他がハロゲン、アルコキシ基、
アセトキシ基、ヒドロキシ基を含む。なかでもR1は炭
素数が6〜14であり、その全てまたは部分的にフッ素
で置換されたアルキル基、あるいはアミノ基、カルボキ
シル基、エーテル結合を含むアルキル基を有する構造が
よい。
フッ素含有アルキルシランは、IH,LH,2H。
2H−パーフロロデシルアミド−プロピルトリエトキシ
シラン、IH,IH−パーフロロデシルアミド−プロピ
ルトリエトキシシラン、パーフロロデシルアミド−プロ
ピルトリエトキシシラン等が一例であり、本発明で述べ
るフッ素含有アルキルシランは当然前記以外に限定され
ない。
シラン、IH,IH−パーフロロデシルアミド−プロピ
ルトリエトキシシラン、パーフロロデシルアミド−プロ
ピルトリエトキシシラン等が一例であり、本発明で述べ
るフッ素含有アルキルシランは当然前記以外に限定され
ない。
以上述べたような潤滑層3を記録層2上に形成すること
により走行性に優れた記録媒体を得る。
により走行性に優れた記録媒体を得る。
そしてこれらの厚みは信号の記録再生からみれば薄けれ
ば薄いほど良い。以下、実施例を詳述する。
ば薄いほど良い。以下、実施例を詳述する。
実施例I
IH,IH,2H,2H−パーフロロデシルアミド−プ
ロピルトリエトキシシランをCo−0r磁性金属のイン
ゴット上に、表1に示す条件でラングミュア−ブロジェ
ット(LB)法によって1層累積した(サンプルNo、
1)。そしてこれと未処理(サンプルNo、3)および
従来からよく知られているステアリン酸((St)サン
プルNo、2)と比較した。
ロピルトリエトキシシランをCo−0r磁性金属のイン
ゴット上に、表1に示す条件でラングミュア−ブロジェ
ット(LB)法によって1層累積した(サンプルNo、
1)。そしてこれと未処理(サンプルNo、3)および
従来からよく知られているステアリン酸((St)サン
プルNo、2)と比較した。
表1
これらの試料で摩擦試験を行い、初期と50paSS後
のμにを調べた。これを表2に示す。
のμにを調べた。これを表2に示す。
表2
なお、摩擦子は10mm角の5UJ2、荷重10 g
fz 走行速度1.0mm/sで行った。
fz 走行速度1.0mm/sで行った。
表2に示すように、確かにSt(サンプルNo、2)で
はμに:0.13→0.33であることから未処理(サ
ンプルNo、3)よりも改良はなされているものの、若
干μには上昇し摩耗性が不十分で筋を含む傷が生じてい
た。これに対し、フッ素含有シランで処理したサンプル
No、lはμにも小さくかつ平滑であり耐摩耗性にすぐ
れていた。
はμに:0.13→0.33であることから未処理(サ
ンプルNo、3)よりも改良はなされているものの、若
干μには上昇し摩耗性が不十分で筋を含む傷が生じてい
た。これに対し、フッ素含有シランで処理したサンプル
No、lはμにも小さくかつ平滑であり耐摩耗性にすぐ
れていた。
このことから、本実施例に用いたようなフッ素含有アル
キル基あるいはアミン基、カルボキシル基、エーテル結
合を含むアルキル基を有し、かつ他がアルコキシ基のよ
うなアルキルシランで形成して潤滑層3を形成すると耐
摩耗、低摩擦性に有な記録媒体が得られる。
キル基あるいはアミン基、カルボキシル基、エーテル結
合を含むアルキル基を有し、かつ他がアルコキシ基のよ
うなアルキルシランで形成して潤滑層3を形成すると耐
摩耗、低摩擦性に有な記録媒体が得られる。
実施例2
次にフッ素含有アルキルシランをIH,IH−パーフロ
ロアミド−プロピルトリエトキシシラン(サンプルNo
、4)、パーフロロアミ、ドープロピルトリエトキシシ
ラン(サンプルNo 、5) 、I H91H,2H,
2H−パーフロロドデシルアミド−プロピルトリエトキ
シシラン(サンプルNo、6)を用いて試料作製し、未
処理(サンプルNo、7)との効果を比較した。
ロアミド−プロピルトリエトキシシラン(サンプルNo
、4)、パーフロロアミ、ドープロピルトリエトキシシ
ラン(サンプルNo 、5) 、I H91H,2H,
2H−パーフロロドデシルアミド−プロピルトリエトキ
シシラン(サンプルNo、6)を用いて試料作製し、未
処理(サンプルNo、7)との効果を比較した。
これらを摩擦試験機で耐摩耗性を調べ、試験条件は摩擦
子に6RSUJ2を用いた以外は実施例1と同様である
。この時100000passまでのμにを比較し表面
観察もおこなった。その結果を表3に示した。
子に6RSUJ2を用いた以外は実施例1と同様である
。この時100000passまでのμにを比較し表面
観察もおこなった。その結果を表3に示した。
表3
表3に示すように、記録層2上にフッ素含有アルキルシ
ラン系化合物を形成した試料はどれも100000pa
ssの走行回数においてもμには<0.1で小さくまた
傷の発生もほとんど見られない等耐摩耗性にすぐれてい
ることがわかる。
ラン系化合物を形成した試料はどれも100000pa
ssの走行回数においてもμには<0.1で小さくまた
傷の発生もほとんど見られない等耐摩耗性にすぐれてい
ることがわかる。
したがって本実施例より、フッ素含有アルキルシランで
記録層2上に潤滑層3を形成することによって結合力が
強くかつ剥離が小さくなり、膜の凝集力とフッ素基の表
面エネルギーの低下が耐摩耗性を向上していることがわ
かる。
記録層2上に潤滑層3を形成することによって結合力が
強くかつ剥離が小さくなり、膜の凝集力とフッ素基の表
面エネルギーの低下が耐摩耗性を向上していることがわ
かる。
実施例3
パーフロロ康デシルアミドープロピルトリエトキシシラ
ンを表4に示す方法で製膜した。
ンを表4に示す方法で製膜した。
LB法は実施例1に示す条件で累積した。吸着法は、上
記物質の5x10−2Mのベンゼン中に攪はんしながら
基板を浸漬し、20分後に引き上げた後、クロロホルム
と純水で洗浄した後乾燥させて作製した。スピンコード
法により、吸着法に用いた溶液をガラスピペットで5c
c採取し、塗布工程を200Orpm、20秒、乾燥工
程を300 Or pm120秒で基板に塗布した後乾
燥して作製した。
記物質の5x10−2Mのベンゼン中に攪はんしながら
基板を浸漬し、20分後に引き上げた後、クロロホルム
と純水で洗浄した後乾燥させて作製した。スピンコード
法により、吸着法に用いた溶液をガラスピペットで5c
c採取し、塗布工程を200Orpm、20秒、乾燥工
程を300 Or pm120秒で基板に塗布した後乾
燥して作製した。
以上の試料を初期のμにとその経時変動状態を表4に示
す。
す。
表4
スピンコード法で作製した試料は、μにの初期で0.2
0と高かったばかりでなく、<りかえしの状態において
もμにの変動が大きく非常に不安定な走行を示していた
。これに対し、LB法、吸着法ではともに初期のμにも
<0.1と小さくまた、μにの変動もみられなかった。
0と高かったばかりでなく、<りかえしの状態において
もμにの変動が大きく非常に不安定な走行を示していた
。これに対し、LB法、吸着法ではともに初期のμにも
<0.1と小さくまた、μにの変動もみられなかった。
このことはおそらく、スピンコードだとシラン基が基板
1に配向せず、また分子同士の架橋状態もよくないから
であろうと考えられる。
1に配向せず、また分子同士の架橋状態もよくないから
であろうと考えられる。
したがって以上の実施例に見られるように、フッ素含有
のアルキルシラン系化合物をLB法または吸着法で積層
すると、安定した潤滑性能を有する記録媒体が得られる
。
のアルキルシラン系化合物をLB法または吸着法で積層
すると、安定した潤滑性能を有する記録媒体が得られる
。
実施例4
厚み25μmのポリイミドフィルム上に、連続蒸着法で
Co−Cr(原子吸光法によって確認した組成比、Co
: Cr=8: 2wt%)を厚み1トキシシランを
LB法で作製した。
Co−Cr(原子吸光法によって確認した組成比、Co
: Cr=8: 2wt%)を厚み1トキシシランを
LB法で作製した。
試験条件はGI?5UJ2、P=10gf1v=1 、
Ornm/sで評価した。これを表5に示す。
Ornm/sで評価した。これを表5に示す。
表5
潤滑材未処理の媒体は初期から摩擦は高くスティックス
リップの現象が見られ501)ass後においては傷が
激しく生じていた。これに対し上記潤滑材を積層した記
録媒体はμにが小さくかつ走行後も傷がほとんどないか
あっても痕跡程度で摩耗性にすぐれていた。以上のよう
に、フッ素含有のアルキルシラン系化合物を形成し作製
して得た記録媒体は摩擦・摩耗性にすぐれた特性を有す
ることが本実施例から認められる。
リップの現象が見られ501)ass後においては傷が
激しく生じていた。これに対し上記潤滑材を積層した記
録媒体はμにが小さくかつ走行後も傷がほとんどないか
あっても痕跡程度で摩耗性にすぐれていた。以上のよう
に、フッ素含有のアルキルシラン系化合物を形成し作製
して得た記録媒体は摩擦・摩耗性にすぐれた特性を有す
ることが本実施例から認められる。
発明の効果
本発明によると、記録層の表面にフッ素含有アルキルシ
ランを形成した潤滑層を形成することにより、記録層と
強固に結合することによりまたフッ素基の表面配向によ
り防湿性にすぐれた記録媒体を提供される。
ランを形成した潤滑層を形成することにより、記録層と
強固に結合することによりまたフッ素基の表面配向によ
り防湿性にすぐれた記録媒体を提供される。
図は本発明の一実施例における記録媒体の断面図である
。 1−フッ素含有アルキルシランの潤滑Jl、2−記録層
、3−基 板。
。 1−フッ素含有アルキルシランの潤滑Jl、2−記録層
、3−基 板。
Claims (5)
- (1)記録層上の潤滑層を形成する記録媒体潤滑材であ
って、下記に示すアルキルシラン ▲数式、化学式、表等があります▼ (R_1〜R_4は、フッ素含有のアルキル基あるいは
アミノ基、カルボキシル基、エーテル結合を含むアルキ
ル基を少なくとも1つ以上有し、他がハロゲン、アルコ
キシ基、アセトキシ基、ヒドロキシ基を含む) からなることを特徴とする記録媒体潤滑材。 - (2)R_1が炭素数6〜14であり、全てまたは部分
的にフッ素基を有することを特徴とする請求項1記載の
記録媒体潤滑材。 - (3)フッ素含有アルキルシランが1H,1H,2H,
2H−パーフロロデシルアミド−プロピルトリエトキシ
シラン、1H,1H−パーフロロデシルアミド−プロピ
ルトリエトキシシラン、パーフロロデシルアミド−プロ
ピルトリエトキシシランであることを特徴とする請求項
1記載の記録媒体潤滑材。 - (4)フッ素含有アルキルシランをラングミュア−ブロ
ジェット法により形成することを特徴とする請求項1記
載の記録媒体潤滑材の製造方法。 - (5)含有アルキルシランを吸着法により形成すること
を特徴とする請求項1記載の記録媒体潤滑材の製造方法
。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1021407A JP2644873B2 (ja) | 1989-01-31 | 1989-01-31 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
US07/417,483 US5039555A (en) | 1988-10-12 | 1989-10-05 | Method of preparing lubricant for recording media |
EP19890118884 EP0363924A3 (en) | 1988-10-12 | 1989-10-11 | Lubricant for recording media and preparation method of lubricating layer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1021407A JP2644873B2 (ja) | 1989-01-31 | 1989-01-31 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02201727A true JPH02201727A (ja) | 1990-08-09 |
JP2644873B2 JP2644873B2 (ja) | 1997-08-25 |
Family
ID=12054182
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1021407A Expired - Lifetime JP2644873B2 (ja) | 1988-10-12 | 1989-01-31 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2644873B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4484106B2 (ja) * | 2004-12-14 | 2010-06-16 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | ナノ構造の直線溝又は螺旋溝を有する有機薄膜体及びその製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6243823A (ja) * | 1985-08-21 | 1987-02-25 | Nec Corp | 磁気記録媒体 |
JPS62154219A (ja) * | 1985-12-26 | 1987-07-09 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体 |
JPS62257623A (ja) * | 1986-04-30 | 1987-11-10 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気デイスク |
-
1989
- 1989-01-31 JP JP1021407A patent/JP2644873B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6243823A (ja) * | 1985-08-21 | 1987-02-25 | Nec Corp | 磁気記録媒体 |
JPS62154219A (ja) * | 1985-12-26 | 1987-07-09 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体 |
JPS62257623A (ja) * | 1986-04-30 | 1987-11-10 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気デイスク |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2644873B2 (ja) | 1997-08-25 |
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