JPS6243823A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS6243823A JPS6243823A JP18473785A JP18473785A JPS6243823A JP S6243823 A JPS6243823 A JP S6243823A JP 18473785 A JP18473785 A JP 18473785A JP 18473785 A JP18473785 A JP 18473785A JP S6243823 A JPS6243823 A JP S6243823A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic recording
- protective film
- recording medium
- layer
- lubricating agent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Lubricants (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は金属薄膜型磁気記録媒体に関する〇（従来の技
術） 近年、フレキシブル磁気ディスク装置、オーディオ用磁
気テープ装置、ＶＴＲ用磁気テープ装置等を含めて各種
の磁気記録装置の高記録密度化。
術） 近年、フレキシブル磁気ディスク装置、オーディオ用磁
気テープ装置、ＶＴＲ用磁気テープ装置等を含めて各種
の磁気記録装置の高記録密度化。
高信頼性化が進められている。磁気配録における高記録
密度化は主として磁気記録媒体の磁性記録媒体の磁性層
の高保磁力化と薄層化とによって実現されるが、従来使
用されている磁性体微粒子を高分子バインダ中に分散さ
せたものを媒体上に塗布した構造のいわゆる塗布型磁気
記録媒体に比べて高保磁力化が容易で薄層化に適したＣ
ｏ−Ｎ＋金合金 Ｃｏ−Ｐｔ合金の蒸着膜或いはスパッ
タ膜等を ［用いる金属薄膜型磁気記録媒
体が注目されている。
密度化は主として磁気記録媒体の磁性記録媒体の磁性層
の高保磁力化と薄層化とによって実現されるが、従来使
用されている磁性体微粒子を高分子バインダ中に分散さ
せたものを媒体上に塗布した構造のいわゆる塗布型磁気
記録媒体に比べて高保磁力化が容易で薄層化に適したＣ
ｏ−Ｎ＋金合金 Ｃｏ−Ｐｔ合金の蒸着膜或いはスパッ
タ膜等を ［用いる金属薄膜型磁気記録媒
体が注目されている。
一方このような磁気記録媒体の回内方向に記録を行う従
来の長手記録方式に比較して、磁気記録媒体の厚さ方向
に残留磁化を形成して信号の記録を行う垂直磁気記録方
式は、高い記録密度が得られる点て最近特に衆目の的と
なっておりその記録媒体としてＣＯ−Ｃｒ 、Ｄ金の蒸
着膜またはスパッタ膜が研究されている。
来の長手記録方式に比較して、磁気記録媒体の厚さ方向
に残留磁化を形成して信号の記録を行う垂直磁気記録方
式は、高い記録密度が得られる点て最近特に衆目の的と
なっておりその記録媒体としてＣＯ−Ｃｒ 、Ｄ金の蒸
着膜またはスパッタ膜が研究されている。
こＪｌら篩密度磁気記録用金属薄膜型磁気記録媒体をフ
レキシブル磁気ディスク、磁気デーゾ等の回加性磁気記
録媒体として実用化するためには機械的耐久性を向上さ
せる８碩がある。一般にフレキシブル磁気ディスク装置
、騒気アーゾ装鰺では、イｉｊ号Ｕ）記録再生時には磁
気記録媒体と磁気ヘッドとは境界）Ｉｔ擦状、弗にある
０これは信号ｏ）ｊ己録杓生時には空気流により磁気ヘ
ッドを媒体上に浮上させているリジット出猟ディスクに
比べて苛酷な使用条件である。このような理由から磁気
記録装置のイ２籾性を実現するためには磁気記録媒体は
磁気ヘッドとの摺動に対する機械的耐久性に優れている
ことが要求される。
レキシブル磁気ディスク、磁気デーゾ等の回加性磁気記
録媒体として実用化するためには機械的耐久性を向上さ
せる８碩がある。一般にフレキシブル磁気ディスク装置
、騒気アーゾ装鰺では、イｉｊ号Ｕ）記録再生時には磁
気記録媒体と磁気ヘッドとは境界）Ｉｔ擦状、弗にある
０これは信号ｏ）ｊ己録杓生時には空気流により磁気ヘ
ッドを媒体上に浮上させているリジット出猟ディスクに
比べて苛酷な使用条件である。このような理由から磁気
記録装置のイ２籾性を実現するためには磁気記録媒体は
磁気ヘッドとの摺動に対する機械的耐久性に優れている
ことが要求される。
磁気記録媒体の機械的耐久性を而めるために一酸化シリ
コン蒸着膜そ用いることが米国性１「３１０９７４６号
、同３３５３１６６号、特開昭５０−８０１０２等によ
り知られている。
コン蒸着膜そ用いることが米国性１「３１０９７４６号
、同３３５３１６６号、特開昭５０−８０１０２等によ
り知られている。
（発明が解決（−７１うと−する問題点）しかしシリコ
ン酸化物の保４、φノミのみでは＋＋ＪＩＪす［。
ン酸化物の保４、φノミのみでは＋＋ＪＩＪす［。
性、耐久＋！ｔ、（（必る４’４ｋｏｒ改ｅ、（’Ｊ
＊ ラｈ ６ モＺＪ Ｏ＋、壕だ充分でないことか分
った。また株１．９層としＣアルコキシシアンａｉｍ水
分解生成吻り・用い乙こ２も知られている（特開昭５２
−２０８４４号）が、シリコン酸化物と１・ｉＪ （ｉ
に特性がイ・光分〒あり、浴液として偵イ１ｊＩ−に抜
力ＩＩ熱する８四があるため、イＪ機高分子フィルム等
耐熱性内を代い基ｈｌ （−用い乙ｎｆ撓性磁気記録媒
体にｔま適用できないという欠点がある。
＊ ラｈ ６ モＺＪ Ｏ＋、壕だ充分でないことか分
った。また株１．９層としＣアルコキシシアンａｉｍ水
分解生成吻り・用い乙こ２も知られている（特開昭５２
−２０８４４号）が、シリコン酸化物と１・ｉＪ （ｉ
に特性がイ・光分〒あり、浴液として偵イ１ｊＩ−に抜
力ＩＩ熱する８四があるため、イＪ機高分子フィルム等
耐熱性内を代い基ｈｌ （−用い乙ｎｆ撓性磁気記録媒
体にｔま適用できないという欠点がある。
さらに磁気記録媒体の機械的＋ｊｔ久性を尚める々めに
媒体表向に＋ｉｉＪ滑層を形成する力法があり、従来よ
り種々の潤滑剤が提案されＣいる。ｔすえば、パー７０
ロアルギルボリエーテル、シリコーンオイル若シくハン
ロロシリコンオイル等ｕ ） 、、Ｊ−イル川、ポリテ
トラ７０ロエチレン名しくはリイロン等０）ポリマー擾
だはカーボンλ’、シ＜ ｉま二１ｐ１．化モリブ）′
ン等の固体潤滑剤が知ら九ているが、いずれも−ｉ気記
録媒体表面への付着力が弱いため、ヘッドとの摺動によ
り潤滑剤が容易に剥離し、充分な耐久ｔ’ｌが得ら１１
ないという問題点かあった０これは先に述べた酸化シリ
コン、アルコキシシランの加水分解物等の保護層の土に
潤滑剤を形成した場合でも同様である。
媒体表向に＋ｉｉＪ滑層を形成する力法があり、従来よ
り種々の潤滑剤が提案されＣいる。ｔすえば、パー７０
ロアルギルボリエーテル、シリコーンオイル若シくハン
ロロシリコンオイル等ｕ ） 、、Ｊ−イル川、ポリテ
トラ７０ロエチレン名しくはリイロン等０）ポリマー擾
だはカーボンλ’、シ＜ ｉま二１ｐ１．化モリブ）′
ン等の固体潤滑剤が知ら九ているが、いずれも−ｉ気記
録媒体表面への付着力が弱いため、ヘッドとの摺動によ
り潤滑剤が容易に剥離し、充分な耐久ｔ’ｌが得ら１１
ないという問題点かあった０これは先に述べた酸化シリ
コン、アルコキシシランの加水分解物等の保護層の土に
潤滑剤を形成した場合でも同様である。
本発明の目的は機械的耐久性に優れた金Ｊ！！薄膜型磁
気記録媒体を折供することにある。
気記録媒体を折供することにある。
（問題点を解決するための手段）
本発明の磁気記録媒体は非磁性基体上に形成した強磁性
金員薄膜と、該強磁性金属薄膜上に形成した保護膜と、
さらに該保護膜上に潤滑層を有する磁気記録媒体におい
て、該保護膜が酸化シリコン中に固体潤滑剤を分散させ
た構造であることを特徴とする。また該保護膜と潤滑層
との間にフッ素化シランを含む表面処理層を設けること
によりさらに耐久性の高い磁気記録媒体が得られる。
金員薄膜と、該強磁性金属薄膜上に形成した保護膜と、
さらに該保護膜上に潤滑層を有する磁気記録媒体におい
て、該保護膜が酸化シリコン中に固体潤滑剤を分散させ
た構造であることを特徴とする。また該保護膜と潤滑層
との間にフッ素化シランを含む表面処理層を設けること
によりさらに耐久性の高い磁気記録媒体が得られる。
次に図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第１図は第２の発明の磁気記録媒体の一例を示す部分断
面図で、１は非磁性基体であシ、２は強磁性全域薄膜、
３は保護膜、４はフッ素化シランよりなる表＋ＩＩｉ処
理層、５は潤滑層である。
面図で、１は非磁性基体であシ、２は強磁性全域薄膜、
３は保護膜、４はフッ素化シランよりなる表＋ＩＩｉ処
理層、５は潤滑層である。
本発明（・ζよる非磁性基体とし２ては酢酸セルロース
、ニトロセルロース、ポリアミド、ポリメチルメタクリ
レート、ポリテトラフルオルエチレン、ポリトリフルオ
ルエチレン、エチレン、プロピレン等α−オレフィンの
重合体あるいは共重合体、塩化ビニルの重合体あるいは
共重合体、ボＩＪ ｔａ化ビニリデン、ポリカーボネー
ト、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレンナフタレート、等の有機高分子フィルムさらには
、Ａ／金合金セラミックス、Ｓｌ、ガラス等が用いられ
る０ 本発明に係る強磁性金属薄膜はｌ’ ｅ 、 Ｃｏ 、
Ｎ ｉその他の強磁性金属、あるいはＦｅ −Ｃｏ、
Ｆｅ −Ｎｌ 。
、ニトロセルロース、ポリアミド、ポリメチルメタクリ
レート、ポリテトラフルオルエチレン、ポリトリフルオ
ルエチレン、エチレン、プロピレン等α−オレフィンの
重合体あるいは共重合体、塩化ビニルの重合体あるいは
共重合体、ボＩＪ ｔａ化ビニリデン、ポリカーボネー
ト、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレンナフタレート、等の有機高分子フィルムさらには
、Ａ／金合金セラミックス、Ｓｌ、ガラス等が用いられ
る０ 本発明に係る強磁性金属薄膜はｌ’ ｅ 、 Ｃｏ 、
Ｎ ｉその他の強磁性金属、あるいはＦｅ −Ｃｏ、
Ｆｅ −Ｎｌ 。
Ｄｏ−Ｎｌ、 Ｆｅ −Ｎｄ、 Ｆｅ−Ｃｒ、 Ｆｅ−
８１，Ｃｏ −Ｃｒ。
８１，Ｃｏ −Ｃｒ。
Ｃｏ−Ｖ、 Ｃｏ−８ｍ、 Ｃｏ−Ｉ”ｔ、 Ｃｏ−Ｐ
、 Ｃｏ−Ｎｉ −Ｐ。
、 Ｃｏ−Ｎｉ −Ｐ。
Ｆｅ−Ｃｒ−Ｃｏ等υ）強磁性合金、あるいはこれらに
添加物を加えたものを真空蒸着法、スパッタリング法、
イオンブレーティング法、電気メツキ法、無電解メッキ
法、等によって薄膜状に形成し、たものである。
添加物を加えたものを真空蒸着法、スパッタリング法、
イオンブレーティング法、電気メツキ法、無電解メッキ
法、等によって薄膜状に形成し、たものである。
強磁性金属薄膜の厚さは０．０１〜２μｍが好ましい０
保護層は８ｉ０ｘ（１＜Ｘ＜２ ） の組成を有する
酸化シリコン中にＣ，ＯＮ、 Ｂ４Ｃ，Ｍｏ５ｔ、 Ｗ
Ｓｌ等の固体潤滑剤のうち一つ、もしくはいくつかを分
散させた構造で６凱ｓｔｏ、と上記固体潤滑剤の混合物
をターゲットとしたスパッタリング、ＳｔＯ，と上記固
体潤滑剤の混合物を蒸発源とした一Ａ空蒸着、８１０、
、上記固体潤滑剤それぞれを蒸発源とした共蒸着等の方
法で強磁性金属薄膜上に形成される。
酸化シリコン中にＣ，ＯＮ、 Ｂ４Ｃ，Ｍｏ５ｔ、 Ｗ
Ｓｌ等の固体潤滑剤のうち一つ、もしくはいくつかを分
散させた構造で６凱ｓｔｏ、と上記固体潤滑剤の混合物
をターゲットとしたスパッタリング、ＳｔＯ，と上記固
体潤滑剤の混合物を蒸発源とした一Ａ空蒸着、８１０、
、上記固体潤滑剤それぞれを蒸発源とした共蒸着等の方
法で強磁性金属薄膜上に形成される。
本保護膜は酸化シリコン中に固体潤滑剤が共晶しており
、固体潤滑剤が分散された構造になっているため、耐摩
耗性と共に自己潤滑性を有し、高い摺動耐久性が得られ
る０保−膜はアモルファス状又は結晶質になることがあ
るが、発明の効果は両者ともかわらない０また固体潤滑
材のうちＢｕ についてはアモルファスが六方晶の状晶
が望ましい。
、固体潤滑剤が分散された構造になっているため、耐摩
耗性と共に自己潤滑性を有し、高い摺動耐久性が得られ
る０保−膜はアモルファス状又は結晶質になることがあ
るが、発明の効果は両者ともかわらない０また固体潤滑
材のうちＢｕ についてはアモルファスが六方晶の状晶
が望ましい。
また固体潤滑材は先におげたものに限らない。保護層の
厚さはｌ０Ｘ−１ｏｏｏＸの範囲が好ましい０保護膜上
に直接潤滑剤を塗布しても耐久性の高い媒体が得られる
が、この間にフッ素化シランよすなる表面処理層を設け
るとさらに高い耐久性が得られる。
厚さはｌ０Ｘ−１ｏｏｏＸの範囲が好ましい０保護膜上
に直接潤滑剤を塗布しても耐久性の高い媒体が得られる
が、この間にフッ素化シランよすなる表面処理層を設け
るとさらに高い耐久性が得られる。
フッ素シランとしては
（ＣｎＦ２ｎ＋１ ）ｍＳｉ（Ｒ）４−ｍ・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・（１１ｎは１から３０
までの正の整数、ｍは１から３までの正の整数 （ＣｎＰ’２ｎ、１１ （ＣＴ１２ ）ｍ）ｚＳ ｌ
（Ｒ）４−１ ・・・叩・・−（Ｉｌｌｎ、 ｍは１か
ら３０までの正の整数、ｌはｌがら３までの正の整数 （ＣｎＦ２ｎ ＋１０（ＣＨｚ）ｍ）ｚｓｉ（Ｒ）４−
７・・・−・−・−ｔｔｉｒ＋ｎ、 ｍは１から３０ま
での正の整数、ｌは１から３までの正の整数 等の一般式で表わせる化合物が適している。ここで几は
ＯＣＨ，、ＱＣ，Ｈ，、ＱＣ，１（□、 ＱＣ，Ｈ，、
ＱＣ，Ｈ，、等のアルコキシ基またはＣＨｓｔ Ｃｔｌ
ＩＨＨＣｓ１−１１＋ Ｃ４１１ｓ＋Ｃ５ＨＩ Ｉ 等
のアルキル基、またはＦ、 Ｃ１，ＢｒＩ 等のハロ
ゲンである。
・・・・・・・・・・・・・・・（１１ｎは１から３０
までの正の整数、ｍは１から３までの正の整数 （ＣｎＰ’２ｎ、１１ （ＣＴ１２ ）ｍ）ｚＳ ｌ
（Ｒ）４−１ ・・・叩・・−（Ｉｌｌｎ、 ｍは１か
ら３０までの正の整数、ｌはｌがら３までの正の整数 （ＣｎＦ２ｎ ＋１０（ＣＨｚ）ｍ）ｚｓｉ（Ｒ）４−
７・・・−・−・−ｔｔｉｒ＋ｎ、 ｍは１から３０ま
での正の整数、ｌは１から３までの正の整数 等の一般式で表わせる化合物が適している。ここで几は
ＯＣＨ，、ＱＣ，Ｈ，、ＱＣ，１（□、 ＱＣ，Ｈ，、
ＱＣ，Ｈ，、等のアルコキシ基またはＣＨｓｔ Ｃｔｌ
ＩＨＨＣｓ１−１１＋ Ｃ４１１ｓ＋Ｃ５ＨＩ Ｉ 等
のアルキル基、またはＦ、 Ｃ１，ＢｒＩ 等のハロ
ゲンである。
上記フッ素化シランは保護膜表面にそのまま、もしくハ
アルコール、ケトン、エステル、ノ・ロゲン化脂肪族炭
化水素等の溶液として、浸漬法、スプレー法、ローラー
コート法、またはスピンコード法等の塗布方法によって
塗布する。その際に前記フッ素化シランは空気中の水分
あるいは保護膜表面の吸着水によって加水分解され、保
護膜中の酸化シリコン表面と強固に反応、結合して優れ
た密着性が生ずる０このような反応は下地が酸化シリコ
ン以外の金属、化合物の場合でもある程度時められるが
、保−膜中に酸化シリコンを含む場合にはフッ素化シラ
ン末端のシランと同種質であるため反応性が高く、強固
な結合が生じ、他の下地に比べて著しく高い密着性が実
現される〇一方％＃記フッ素化シランのＣｎＦ２ｎ＋１
の部分は磁気記録媒体の表面すなわちヘッドと摩擦する
面に配向する。
アルコール、ケトン、エステル、ノ・ロゲン化脂肪族炭
化水素等の溶液として、浸漬法、スプレー法、ローラー
コート法、またはスピンコード法等の塗布方法によって
塗布する。その際に前記フッ素化シランは空気中の水分
あるいは保護膜表面の吸着水によって加水分解され、保
護膜中の酸化シリコン表面と強固に反応、結合して優れ
た密着性が生ずる０このような反応は下地が酸化シリコ
ン以外の金属、化合物の場合でもある程度時められるが
、保−膜中に酸化シリコンを含む場合にはフッ素化シラ
ン末端のシランと同種質であるため反応性が高く、強固
な結合が生じ、他の下地に比べて著しく高い密着性が実
現される〇一方％＃記フッ素化シランのＣｎＦ２ｎ＋１
の部分は磁気記録媒体の表面すなわちヘッドと摩擦する
面に配向する。
以上のようにして保護膜上には下地とは強固な密着性を
有し、表面に対してはフッ化炭素特有の撥水性、潤滑性
を有した表面処理層か形成される０前記保護膜上もしく
は表面処理層上にさらに潤滑層を形成することによシ、
実用に際して十分な耐久性が得られる。＠滑層としては
脂肪酸、金属石けん等の炭化水素系の潤滑剤、シリコー
ンオイル、フロロシリコンオイル、パーフロロアルキル
ポリエーテル等の潤滑油、テトラフロロエチレン低重合
体、カーボン、二硫化モリブデン等の固体潤滑剤、もし
くはこれらの混合物を直接、または適当な溶剤に溶解も
しくは分散させたものを前記表面処理層上に浸漬法、ス
プレー法、蒸着法、ローラーコート法、スピンコード法
等の塗布方法によって塗布して形成する。
有し、表面に対してはフッ化炭素特有の撥水性、潤滑性
を有した表面処理層か形成される０前記保護膜上もしく
は表面処理層上にさらに潤滑層を形成することによシ、
実用に際して十分な耐久性が得られる。＠滑層としては
脂肪酸、金属石けん等の炭化水素系の潤滑剤、シリコー
ンオイル、フロロシリコンオイル、パーフロロアルキル
ポリエーテル等の潤滑油、テトラフロロエチレン低重合
体、カーボン、二硫化モリブデン等の固体潤滑剤、もし
くはこれらの混合物を直接、または適当な溶剤に溶解も
しくは分散させたものを前記表面処理層上に浸漬法、ス
プレー法、蒸着法、ローラーコート法、スピンコード法
等の塗布方法によって塗布して形成する。
以上の構成の金属薄膜型磁気記録媒体は耐摩耗性と自己
潤滑性を備えた保護層を有し、その上に下地との密着性
に優れた潤滑層を有するためヘッドによる長時間の摺動
に対（−ても充分な耐久性を有する。
潤滑性を備えた保護層を有し、その上に下地との密着性
に優れた潤滑層を有するためヘッドによる長時間の摺動
に対（−ても充分な耐久性を有する。
次に実施例を示し、本発明をさらに詳細に説明する。
（実施例）
厚さｓｏμｍのポリエステルフィルム上にＣＯＣｒ合金
庖・ターゲットとＬ７たＡｒガス中でのスパッタリング
によつ）ワさｊｏｏｏＸＬ、））ＣｏＣｒ強磁性金ｂ４
ｉ’ＪＩ Ｂｅ＆ダ形ｔノアＬ／こ。次にこθ】上に
表に示した保１．）模、フッ素化シラン（こよる表面処
Ｊ」層％−滑Ｊ−を形成して各々実施ｅｌｌ １〜８と
した。保護膜は表中に示した組成比の複合ターゲットを
用いたＡ＋ガス中でのスパッタリングで作製した。弄面
処刈１層は表中に示したフッ素化シラン６）０５％イソ
プロピルアルコール溶液を塗布した後乾燥して形成した
。１１１（滑層は側鎖ポリパー７０ロアルキルエーテル
、直鎖ボリパーフｔｙ ｏ°アルキルエーテルについて
は０．１頭トリフロロトリクロルエタン溶液、ウートラ
フロロエチレン低重合体については０．０５％ トリフ
０口トリクロルエタン分散液、モノステアリンについて
は０．１差トルエン溶液をそれぞ）を表面処理層上に塗
、ｎ」シた後乾燥させて形成した。次に比較例１．２と
［７て同様の工（呈で保内膜として８１０．を用いたも
（］）を作製した。
庖・ターゲットとＬ７たＡｒガス中でのスパッタリング
によつ）ワさｊｏｏｏＸＬ、））ＣｏＣｒ強磁性金ｂ４
ｉ’ＪＩ Ｂｅ＆ダ形ｔノアＬ／こ。次にこθ】上に
表に示した保１．）模、フッ素化シラン（こよる表面処
Ｊ」層％−滑Ｊ−を形成して各々実施ｅｌｌ １〜８と
した。保護膜は表中に示した組成比の複合ターゲットを
用いたＡ＋ガス中でのスパッタリングで作製した。弄面
処刈１層は表中に示したフッ素化シラン６）０５％イソ
プロピルアルコール溶液を塗布した後乾燥して形成した
。１１１（滑層は側鎖ポリパー７０ロアルキルエーテル
、直鎖ボリパーフｔｙ ｏ°アルキルエーテルについて
は０．１頭トリフロロトリクロルエタン溶液、ウートラ
フロロエチレン低重合体については０．０５％ トリフ
０口トリクロルエタン分散液、モノステアリンについて
は０．１差トルエン溶液をそれぞ）を表面処理層上に塗
、ｎ」シた後乾燥させて形成した。次に比較例１．２と
［７て同様の工（呈で保内膜として８１０．を用いたも
（］）を作製した。
以上（））実施１刈ｌ〜８、比較例１．２を５１／４イ
ンチ径カフレギシブルディスクθ〕形状（′こ打抜いた
も０〕を市販の５／４インナフレギシブル磁気デイスク
装置に装着してヘッドロード状態で回転させ、ヘッドに
よりディスク表面に傷が生じるまで０１回転数を６１１
１定することにより、ディスクの耐久性全比較した。そ
の結果５！：第１表に乃くす。第１表により本発明の構
成とすることにより、保護膜厚、７ノ累化シラン、潤滑
剤の種類に依らず、シリコン酸化物０〕みの保護膜厚に
比べ高い耐久性が実現されることがわかる。保護膜にお
いて、固体潤滑材の含有量は酸化シリコンの量より多く
なってもよいが、あまり多くなると、摩耗が進みすぎる
傾向が現れて適当でない。
ンチ径カフレギシブルディスクθ〕形状（′こ打抜いた
も０〕を市販の５／４インナフレギシブル磁気デイスク
装置に装着してヘッドロード状態で回転させ、ヘッドに
よりディスク表面に傷が生じるまで０１回転数を６１１
１定することにより、ディスクの耐久性全比較した。そ
の結果５！：第１表に乃くす。第１表により本発明の構
成とすることにより、保護膜厚、７ノ累化シラン、潤滑
剤の種類に依らず、シリコン酸化物０〕みの保護膜厚に
比べ高い耐久性が実現されることがわかる。保護膜にお
いて、固体潤滑材の含有量は酸化シリコンの量より多く
なってもよいが、あまり多くなると、摩耗が進みすぎる
傾向が現れて適当でない。
（以 可″ 余 白し
く１２）
（発明の効果）
以上のように、本発明によれば、非磁性基体上に形成し
た強磁性金属薄膜上に形成した保護膜と、該保護膜上に
形成したフッ素化シランを含む表面処理層とさらに該表
面処理層上に形成した潤滑層とを有する磁気記録媒体に
おいて、該保護膜を酸化シリコン中に固体潤滑剤を分散
させた構造にすることにより、磁気ヘッドとの摺動に対
して耐久性に優れた磁気記録媒体を得ることが出来る効
果を有するものである。
た強磁性金属薄膜上に形成した保護膜と、該保護膜上に
形成したフッ素化シランを含む表面処理層とさらに該表
面処理層上に形成した潤滑層とを有する磁気記録媒体に
おいて、該保護膜を酸化シリコン中に固体潤滑剤を分散
させた構造にすることにより、磁気ヘッドとの摺動に対
して耐久性に優れた磁気記録媒体を得ることが出来る効
果を有するものである。
第１図は本発明による磁気記録媒体の部分断面図である
。 図中１は非磁性基体であり、２は強磁性金属薄膜、３は
保護膜、４はフッ素化シランよりなる表面処理層、５は
潤滑層である。 代理入弁理１ 内 原 Ｘバー ＼ 。 第１図
。 図中１は非磁性基体であり、２は強磁性金属薄膜、３は
保護膜、４はフッ素化シランよりなる表面処理層、５は
潤滑層である。 代理入弁理１ 内 原 Ｘバー ＼ 。 第１図
Claims (2)
- （１）非磁性基体上に形成した強磁性金属薄膜と、該強
磁性金属薄膜上に形成した保護膜と、さらに該保護膜層
上に潤滑層を有する磁気記録媒体において、前記保護膜
が酸化シリコン中に固体潤滑剤を分散させた構造である
ことを特徴とする磁気記録媒体。 - （２）非磁性基体上に形成した強磁性金属薄膜と、該強
磁性金属薄膜上に形成した保護膜と、該保護膜上に形成
したフッ素化シランを含む表面処理層と、さらに該表面
処理層上に形成した潤滑層とを有する磁気記録媒体にお
いて、前記保護膜が酸化シリコン中に固体潤滑剤を分散
させた構造であることを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18473785A JPS6243823A (ja) | 1985-08-21 | 1985-08-21 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18473785A JPS6243823A (ja) | 1985-08-21 | 1985-08-21 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6243823A true JPS6243823A (ja) | 1987-02-25 |
Family
ID=16158478
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18473785A Pending JPS6243823A (ja) | 1985-08-21 | 1985-08-21 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6243823A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02201727A (ja) * | 1989-01-31 | 1990-08-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 記録媒体潤滑材およびその製造方法 |
| US5030494A (en) * | 1989-01-26 | 1991-07-09 | International Business Machines Corporation | Carbon overcoat for a thin film magnetic recording disk containing discrete clusters of tungsten (W) or tungsten carbide (WC) which project from the surface of the overcoat |
| US5231613A (en) * | 1990-01-19 | 1993-07-27 | Sharp Kabushiki Kaisha | Magneto-optical recording device |
| US5386400A (en) * | 1990-01-19 | 1995-01-31 | Sharp Kabushiki Kaisha | Magneto-optical head device having a lubricated member |
| US5582224A (en) * | 1992-12-22 | 1996-12-10 | Kabushikika Taiheiseisakusho | Methods and apparatus for centering a log and for supplying a log to be centered |
-
1985
- 1985-08-21 JP JP18473785A patent/JPS6243823A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5030494A (en) * | 1989-01-26 | 1991-07-09 | International Business Machines Corporation | Carbon overcoat for a thin film magnetic recording disk containing discrete clusters of tungsten (W) or tungsten carbide (WC) which project from the surface of the overcoat |
| JPH02201727A (ja) * | 1989-01-31 | 1990-08-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 記録媒体潤滑材およびその製造方法 |
| US5231613A (en) * | 1990-01-19 | 1993-07-27 | Sharp Kabushiki Kaisha | Magneto-optical recording device |
| US5386400A (en) * | 1990-01-19 | 1995-01-31 | Sharp Kabushiki Kaisha | Magneto-optical head device having a lubricated member |
| EP0767457A3 (en) * | 1990-01-19 | 1998-09-30 | Sharp Kabushiki Kaisha | Magneto-optical recording device |
| US5582224A (en) * | 1992-12-22 | 1996-12-10 | Kabushikika Taiheiseisakusho | Methods and apparatus for centering a log and for supplying a log to be centered |
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