JPS61194624A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
- Publication number
- JPS61194624A JPS61194624A JP3383985A JP3383985A JPS61194624A JP S61194624 A JPS61194624 A JP S61194624A JP 3383985 A JP3383985 A JP 3383985A JP 3383985 A JP3383985 A JP 3383985A JP S61194624 A JPS61194624 A JP S61194624A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- amorphous silicon
- magnetic recording
- silicon layer
- recording medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は金属薄膜型可撓性磁気記録媒体に関する。
（従来技術）
近年、フレキシブル磁気ディスク装置、オーディオ用磁
気テープ装置、ＶＴＲ用磁気テープ装置等を含めて各種
の磁気記録装置の高記録密度化、高信頼性化が進められ
ている。磁気記録における高記録密度化は主として磁気
記録媒体の磁性記録媒体の磁性層の高保磁力化と薄層化
とによって実現されるが、従来使用されている磁性体微
粒子を高分子バインダ中に分散させたものを媒体上に塗
布した構造のいわゆる塗布型磁気記録媒体に比べて高保
磁力化が容易で薄層化に適したＣｏ−Ｎｉ合金の蒸着膜
或いはＣｏ−Ｐｔ合金のスパッタ膜等を用いる金属薄膜
型磁気記録媒体が注目されている。一方このような磁気
記録媒体の面内方向に記録を行う従来の長手記録方式に
比較して、磁気記録媒体の厚さ方向に残留磁化を形成し
て信号の記録を行う垂直磁気記録方式は、高い記録密度
が得られる点で最近特に衆目の的となっておシその記録
媒体としてＣｏ−Ｃｒ合金の蒸着膜またはスパッタ膜が
研究されている。
気テープ装置、ＶＴＲ用磁気テープ装置等を含めて各種
の磁気記録装置の高記録密度化、高信頼性化が進められ
ている。磁気記録における高記録密度化は主として磁気
記録媒体の磁性記録媒体の磁性層の高保磁力化と薄層化
とによって実現されるが、従来使用されている磁性体微
粒子を高分子バインダ中に分散させたものを媒体上に塗
布した構造のいわゆる塗布型磁気記録媒体に比べて高保
磁力化が容易で薄層化に適したＣｏ−Ｎｉ合金の蒸着膜
或いはＣｏ−Ｐｔ合金のスパッタ膜等を用いる金属薄膜
型磁気記録媒体が注目されている。一方このような磁気
記録媒体の面内方向に記録を行う従来の長手記録方式に
比較して、磁気記録媒体の厚さ方向に残留磁化を形成し
て信号の記録を行う垂直磁気記録方式は、高い記録密度
が得られる点で最近特に衆目の的となっておシその記録
媒体としてＣｏ−Ｃｒ合金の蒸着膜またはスパッタ膜が
研究されている。
これら高密度磁気記録用金属薄膜型磁気記録媒体をフレ
キシブル磁気ディスク、磁気テープ等の可撓性磁気記録
媒体として実用化するためには機械的耐久性を向上させ
る必要がある。一般にフレキシブル磁気ディスク装置、
磁気テープ装置では、信号の記録再生時には磁気記録媒
体と磁気ヘッドとは境界摩擦状態にある。これは信号の
記録再生時には空気流により磁気ヘッドを媒体上に浮上
させているリジット磁気ディスクに比べて苛酷な使用条
件である。このような理由から磁気記録装置の信頼性を
実現するためには磁気記録媒体は磁気ヘッドとの摺動に
対する機械的耐久性に優れていることが要求される。
キシブル磁気ディスク、磁気テープ等の可撓性磁気記録
媒体として実用化するためには機械的耐久性を向上させ
る必要がある。一般にフレキシブル磁気ディスク装置、
磁気テープ装置では、信号の記録再生時には磁気記録媒
体と磁気ヘッドとは境界摩擦状態にある。これは信号の
記録再生時には空気流により磁気ヘッドを媒体上に浮上
させているリジット磁気ディスクに比べて苛酷な使用条
件である。このような理由から磁気記録装置の信頼性を
実現するためには磁気記録媒体は磁気ヘッドとの摺動に
対する機械的耐久性に優れていることが要求される。
磁気記録媒体の機械的耐久性を高めるために一鍍化シリ
コン蒸着膜を用いることが米国特許３１０９７４６号、
同３３５３１６６号、特開昭５０−８０１０２等により
知られている。
コン蒸着膜を用いることが米国特許３１０９７４６号、
同３３５３１６６号、特開昭５０−８０１０２等により
知られている。
（発明が解決しようとする問題点）
しかしシリコン酸化物の保護層のみでは耐摩耗性、耐久
性にある程度の改善はみられるものの、まだ充分でない
ことが分った。また保護層としてアルコキクシランの加
水分解生成物を用いることも知られている（特開昭５２
−２０８４４号）が、シリコン酸化物と同様に特性が不
充分であり、溶液として塗布した後加熱する必要がある
ため、有機高分子フィルム等耐熱性の低い基損を用いる
可撓性磁気記録媒体には適用できないという欠点がある
。
性にある程度の改善はみられるものの、まだ充分でない
ことが分った。また保護層としてアルコキクシランの加
水分解生成物を用いることも知られている（特開昭５２
−２０８４４号）が、シリコン酸化物と同様に特性が不
充分であり、溶液として塗布した後加熱する必要がある
ため、有機高分子フィルム等耐熱性の低い基損を用いる
可撓性磁気記録媒体には適用できないという欠点がある
。
さらに磁気記録媒体の機械的耐久性を高めるために媒体
表面に潤滑層を形成する方法があシ、従来よシ種々の潤
滑剤が提案されている。例えば、パー７０ロアルキルボ
リエーテル、シリコーンオイル若しくはフロロシリコン
オイル等のオイル類、ポリテトラ７０ロエチレン若しく
はナイロン等のポリマーまたはカーボン若しくは二硫化
モリブデン等の固体潤滑剤が知られているが、いずれも
磁気記録媒体表面への付着力が弱いため、ヘッドとの摺
動により潤滑剤が容易に剥離し、充分な耐久性が得られ
ないという問題点があった。これは先に述べた酸化シリ
コン、アルコキシシランの加水分解物等の保護層の上に
潤滑剤を形成した場合でも同様である。
表面に潤滑層を形成する方法があシ、従来よシ種々の潤
滑剤が提案されている。例えば、パー７０ロアルキルボ
リエーテル、シリコーンオイル若しくはフロロシリコン
オイル等のオイル類、ポリテトラ７０ロエチレン若しく
はナイロン等のポリマーまたはカーボン若しくは二硫化
モリブデン等の固体潤滑剤が知られているが、いずれも
磁気記録媒体表面への付着力が弱いため、ヘッドとの摺
動により潤滑剤が容易に剥離し、充分な耐久性が得られ
ないという問題点があった。これは先に述べた酸化シリ
コン、アルコキシシランの加水分解物等の保護層の上に
潤滑剤を形成した場合でも同様である。
本発明の目的は機械的耐久性に優れた金属薄膜型可撓性
磁気記録媒体を提供することにある。
磁気記録媒体を提供することにある。
（問題点を解決するための手段）
本発明の磁気記録媒体は可撓性基体上に形成した強磁性
金属薄膜と、該強磁性金属薄膜上に形成したアモルファ
スシリコン層と、さらに該アモルファスシリコン層上に
形成した潤滑層とを有することを特徴とする。また、該
アモルファスシリコン層と潤滑層との間にフッ素化シラ
／ｌ−含む表面処理層を設けることによりさらに耐久性
の高い磁気記録媒体が得られる。
金属薄膜と、該強磁性金属薄膜上に形成したアモルファ
スシリコン層と、さらに該アモルファスシリコン層上に
形成した潤滑層とを有することを特徴とする。また、該
アモルファスシリコン層と潤滑層との間にフッ素化シラ
／ｌ−含む表面処理層を設けることによりさらに耐久性
の高い磁気記録媒体が得られる。
次に図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第１帥は第２の発明の磁気記録媒体の一例を示す部分断
面図で、ｌは可撓性基体であり、２は強磁性金属薄膜、
３はアモルファスシリコン層、４はフッ素化シランよシ
なる表面処理層、５は潤滑層である。
面図で、ｌは可撓性基体であり、２は強磁性金属薄膜、
３はアモルファスシリコン層、４はフッ素化シランよシ
なる表面処理層、５は潤滑層である。
本発明による可撓性基体としては酢酸セルロース ニト
ロセルロース、ポリアミド、ポリメチルメタクリレート
、ポリテトラフルオルエチレン、ポリトリフルオルエチ
レン、エチレン、プロピレン等α−オレフィンの重合体
あるいは共重合体、塩化ビニルの重合体あるいは共重合
体、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリイミ
ド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタ
レート、等の有機高分子フィルムが用いられる。
ロセルロース、ポリアミド、ポリメチルメタクリレート
、ポリテトラフルオルエチレン、ポリトリフルオルエチ
レン、エチレン、プロピレン等α−オレフィンの重合体
あるいは共重合体、塩化ビニルの重合体あるいは共重合
体、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリイミ
ド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタ
レート、等の有機高分子フィルムが用いられる。
本発明に係る強磁性金属薄膜はＦｅ 、 Ｃｏ 、 Ｎ
ｉその他の強磁性金属、あるいはＦｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎ
ｉ 、Ｃｏ−Ｎｉ 。
ｉその他の強磁性金属、あるいはＦｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎ
ｉ 、Ｃｏ−Ｎｉ 。
Ｆｅ −８ｉ 、Ｇｏ−Ｃｒ 、Ｃｏ−Ｖ、Ｃｏ−８ｍ
、 Ｃｏ−Ｐｔ 、Ｃｏ−Ｐ 、Ｃｏ−Ｎｉ −Ｐ
。
、 Ｃｏ−Ｐｔ 、Ｃｏ−Ｐ 、Ｃｏ−Ｎｉ −Ｐ
。
Ｆｅ−Ｃｒ−Ｃｏ等の強磁性合金、あるいはこれらに添
加物を加えたものを真空蒸着法、スノ（ツタリング法、
イオンブレーティング法、電気メツキ法、無電解メッキ
法、等によって薄膜状に形成したものである。
加物を加えたものを真空蒸着法、スノ（ツタリング法、
イオンブレーティング法、電気メツキ法、無電解メッキ
法、等によって薄膜状に形成したものである。
可撓性基体の厚さは約４〜１００μｍで強磁性金属薄膜
の厚さは０．０１〜２μｍが好ましい。
の厚さは０．０１〜２μｍが好ましい。
アモルファスシリコン層は８ｉをターゲットとしたスパ
ッタリング、Ｓｉを蒸発源とした真空蒸着、あるいはＳ
ｉＨ，ガスを用いたグ２ズマＣＶＤ等の方法で強磁性金
属薄膜上に形成される。アモルファスシリコン層はアモ
ルファス物質特有の耐摩耗性を有し、しかもアモルファ
ス状態であるため不対電子が多く存在し、化学的に活性
で、潤滑剤と強固に結合して剥離しにくい潤滑層が形成
される。
ッタリング、Ｓｉを蒸発源とした真空蒸着、あるいはＳ
ｉＨ，ガスを用いたグ２ズマＣＶＤ等の方法で強磁性金
属薄膜上に形成される。アモルファスシリコン層はアモ
ルファス物質特有の耐摩耗性を有し、しかもアモルファ
ス状態であるため不対電子が多く存在し、化学的に活性
で、潤滑剤と強固に結合して剥離しにくい潤滑層が形成
される。
の範囲が好ましい。
アモルファスシリコン層上に直接潤滑剤を塗布しても耐
久性の高い媒体が得られるが、この間に７ツ奏化シラン
よｐなる表面処理層を設けるとさらに高い耐久性が得ら
れる。
久性の高い媒体が得られるが、この間に７ツ奏化シラン
よｐなる表面処理層を設けるとさらに高い耐久性が得ら
れる。
７ツ紫化シツンとしては
（ＣｎＦ２ｎ＋□ン、ｎ５ｉ（上’４−ｍ・・・・・・
・・・・・・・−−−−−−−−（Ｉ）ｎは１から３０
までの正の整数、ｍは１から３までの正の整数 （ＣｎＦ２ｎ＋、ＣＣＨ２）ｍ）ｔＳｉＣＲｒ）４−ｔ
・−−−−−−−−（ｆｆ）ｎ、ｍは１から３０までの
正の整数、ｔは１から３までの正の整数 （ＣｎＦ２．、＋、０（ＣＩ（２）ｍ）ＬＳｉ（几）４
−ｔ−−−−−−−−−（１）ｎ、ｍは１から３０まで
の正の整数、ｔは１から３までの正の整数 等の一般式で表わせる化合物が適している。ここでＲは
ＯＣＨ３，ＯＣ２Ｈ５，０Ｃ３Ｈ７，０ｃ４Ｈ３ｌＯＣ
５Ｈ□１等のアルコキシ基またはＣＨ３，Ｃ２Ｈ５，Ｃ
３Ｈ７゜Ｃ４Ｈ９” ５Ｈ１１等のアルキル基、または
Ｆ 、Ｃｔ、ＢｒＩ等のハロゲンである。
・・・・・・・−−−−−−−−（Ｉ）ｎは１から３０
までの正の整数、ｍは１から３までの正の整数 （ＣｎＦ２ｎ＋、ＣＣＨ２）ｍ）ｔＳｉＣＲｒ）４−ｔ
・−−−−−−−−（ｆｆ）ｎ、ｍは１から３０までの
正の整数、ｔは１から３までの正の整数 （ＣｎＦ２．、＋、０（ＣＩ（２）ｍ）ＬＳｉ（几）４
−ｔ−−−−−−−−−（１）ｎ、ｍは１から３０まで
の正の整数、ｔは１から３までの正の整数 等の一般式で表わせる化合物が適している。ここでＲは
ＯＣＨ３，ＯＣ２Ｈ５，０Ｃ３Ｈ７，０ｃ４Ｈ３ｌＯＣ
５Ｈ□１等のアルコキシ基またはＣＨ３，Ｃ２Ｈ５，Ｃ
３Ｈ７゜Ｃ４Ｈ９” ５Ｈ１１等のアルキル基、または
Ｆ 、Ｃｔ、ＢｒＩ等のハロゲンである。
上記フッ素化シランはアモルファスシリコン層表面にそ
のまま、もしくはアルコール、ケトン、エステル、ハロ
ゲン化脂肪族炭化水素等の溶液として、浸漬法、スプレ
ー法、ローラーコート法、またはスピンコード法等の塗
布方法によって塗布する。その際に前記７ツ累化シラン
は空気中の水分あるいはアモルファスシリコン層表面の
吸着水によって加水分解され、アモルファスシリコン層
表面と強固に反応、結合して優れた密着性が生ずる。こ
のような反応は下地がアモルファスシリコン以外の金属
、化合物の場合でもある程度認めらレルカ、アモルファ
スシリコンの場合にはフッ素化シラン末端のシラ／と同
種質であるため反応性が高く、強固な結合が生じ、他の
下地に比べて著しく高い密着性が実現される９ 一方、前記フッ素化シランのＣｎＦ２ｆｌ＋□の部分は
磁気記録媒体の表面すなわちヘッドと摩擦する面に配向
する。
のまま、もしくはアルコール、ケトン、エステル、ハロ
ゲン化脂肪族炭化水素等の溶液として、浸漬法、スプレ
ー法、ローラーコート法、またはスピンコード法等の塗
布方法によって塗布する。その際に前記７ツ累化シラン
は空気中の水分あるいはアモルファスシリコン層表面の
吸着水によって加水分解され、アモルファスシリコン層
表面と強固に反応、結合して優れた密着性が生ずる。こ
のような反応は下地がアモルファスシリコン以外の金属
、化合物の場合でもある程度認めらレルカ、アモルファ
スシリコンの場合にはフッ素化シラン末端のシラ／と同
種質であるため反応性が高く、強固な結合が生じ、他の
下地に比べて著しく高い密着性が実現される９ 一方、前記フッ素化シランのＣｎＦ２ｆｌ＋□の部分は
磁気記録媒体の表面すなわちヘッドと摩擦する面に配向
する。
以上のようにしてアモルファスシリコン層上には下地と
は強固な密着性を有し、表面に対してはフッ化炭素特有
の撥水性、潤滑性を有した表面処理層が形成される。
は強固な密着性を有し、表面に対してはフッ化炭素特有
の撥水性、潤滑性を有した表面処理層が形成される。
前記アモルファスシリコン層上もしくは表面処理層上に
さらに潤滑層を形成することによシ、実用に際して十分
な耐久性が得られる。潤滑層としては脂肪酸、金属石け
ん等の炭化水素系の潤滑剤、シリコーンオイル、フロロ
シリコンオイル、パー７０ロアルキルボリエーテル等の
潤滑油、テトラ７０ロ工チレン低重合体、カーボン、二
値化モリブデン等の固体潤滑剤、もしくはこれらの混合
物を直接、または適当な溶剤に溶解もしくは分散させた
ものを前記表面処理層上に浸漬法、スプレー法、蒸着法
、ローラーコート法、スピンコード法等の塗布方法によ
って塗布して形成する。
さらに潤滑層を形成することによシ、実用に際して十分
な耐久性が得られる。潤滑層としては脂肪酸、金属石け
ん等の炭化水素系の潤滑剤、シリコーンオイル、フロロ
シリコンオイル、パー７０ロアルキルボリエーテル等の
潤滑油、テトラ７０ロ工チレン低重合体、カーボン、二
値化モリブデン等の固体潤滑剤、もしくはこれらの混合
物を直接、または適当な溶剤に溶解もしくは分散させた
ものを前記表面処理層上に浸漬法、スプレー法、蒸着法
、ローラーコート法、スピンコード法等の塗布方法によ
って塗布して形成する。
以上の構成の金属薄膜製可撓性磁気記録媒体は耐摩耗性
の高いアモルファスシリコンの保護層を有し、その上に
下地との密着性に優れた潤滑層を有するためヘッドによ
る長時間の摺動に対しても充分な耐久性を有する。
の高いアモルファスシリコンの保護層を有し、その上に
下地との密着性に優れた潤滑層を有するためヘッドによ
る長時間の摺動に対しても充分な耐久性を有する。
次に実施例を示し、本発明をさらに詳細に説明する。
（実施例１）
厚さ５０μｍのポリエステルフィルム上にＣｏＣｒ合金
をターゲットとしてＡｒガス中でのスパッタリングによ
シ厚さ３０００ＡのＣｏＣｒ強磁性金属薄膜を形成した
。この上に５ｉｔ−蒸発源とし、ｅ−ガンを用いた電子
線加熱による真空蒸着法によシ厚さ２００Ａのアモルフ
ァスシリコン層全形成した。この上にパー７０Ｑアルキ
ルポリエーテルを塗布して潤滑層を形成した（試料１）
０次に実施例１と同様の工程でポリエステルフィルム上
ＫＣｏＣｒ強磁性金属薄膜、アモルファスシリコン層を
形成しこの上にパー７０ロオクタデシルトリメトキシシ
ランの０．１％ｎ−ブタノール溶液を塗布し、乾燥させ
て表面処理層を形成した。さらにこの上にパーフロロア
ルキルポリエーテルを塗布して潤滑層を形成した（試料
２）。また前記と同様の工程でポリエステルフィルム上
にＣｏＣｒ強磁性金属薄膜を形成し、この上にパーフロ
ロアルキルポリエーテルを塗布して潤滑層を形成し、比
較試料とした。
をターゲットとしてＡｒガス中でのスパッタリングによ
シ厚さ３０００ＡのＣｏＣｒ強磁性金属薄膜を形成した
。この上に５ｉｔ−蒸発源とし、ｅ−ガンを用いた電子
線加熱による真空蒸着法によシ厚さ２００Ａのアモルフ
ァスシリコン層全形成した。この上にパー７０Ｑアルキ
ルポリエーテルを塗布して潤滑層を形成した（試料１）
０次に実施例１と同様の工程でポリエステルフィルム上
ＫＣｏＣｒ強磁性金属薄膜、アモルファスシリコン層を
形成しこの上にパー７０ロオクタデシルトリメトキシシ
ランの０．１％ｎ−ブタノール溶液を塗布し、乾燥させ
て表面処理層を形成した。さらにこの上にパーフロロア
ルキルポリエーテルを塗布して潤滑層を形成した（試料
２）。また前記と同様の工程でポリエステルフィルム上
にＣｏＣｒ強磁性金属薄膜を形成し、この上にパーフロ
ロアルキルポリエーテルを塗布して潤滑層を形成し、比
較試料とした。
以上の試料を５にインチ径のフレキシブルディスクの形
状に打抜いたものを市販の５にインチフレキシブル磁気
ディスク装置に装着してヘッドロード状態で回転させ、
ヘッドによシ媒体表面に傷が生じるまでの回転数を測定
することによシ、媒体第１表 の耐久性を比較した。その結果を第１表に示す。
状に打抜いたものを市販の５にインチフレキシブル磁気
ディスク装置に装着してヘッドロード状態で回転させ、
ヘッドによシ媒体表面に傷が生じるまでの回転数を測定
することによシ、媒体第１表 の耐久性を比較した。その結果を第１表に示す。
第１表にみられるようにアモルファスシリコン層を有す
る媒体は無いものに比べて高い耐久性が得られる（実施
例２） 厚さ３０μｍのポリイミドフィルム上にＮｉＦｅ合金を
ターゲットとしてＡｒガス中のスパッタリングにより厚
さ５０００ＡのＮｉＦｅ強磁性金属薄膜を形成し、この
上にＣｏＣｒ合金をターゲットとしてＡｒガス中でのス
パッタリングによシ厚さ２０００ ＡのＣｏＣｒ強磁性
金属薄膜を形成した。この上に第２表に示したようにア
モルファスシリコン層、フッ素化シランによる表面処理
層、潤滑層を形成して６種類の試料を作製した。アモル
ファスシリコンについて第２表中にスパッタリングと記
したものは８ｉをターゲットとして４ Ｘ １Ｏ−２Ｔ
ｏｒｒのＡｒガス中でスパッタパワー３００Ｗの几Ｆス
パッタリングで形成したものであり、蒸着と記し丸もの
は５ｉｔ−蒸発源としたＥ−ガンによる電子線加熱（７
ＫＷ、 ９０ ｍＡ ）によ’） Ｉ Ｘ １０−’Ｔ
ｏｒｒノ真空中で真空蒸着で形成したものである。また
ＰＣＶＤと記したものは５ｉＨ４ｔ−反応ガスとして用
い、圧力０、５ Ｔｏｒｒ 、 ｒ、ｆ、電力２００
ＷでプラズマＣＶＤで形成したものである。表面処理層
は第２表中に示したフッ素化シランの０．５％イソプロ
ピルアルコール溶液を塗布した後乾燥して形成した。潤
滑剤はモンテフルオス社製７オンプリン、デ為ボン社製
りライトックスについてはα１％トリフ０ロトリクロル
エタン溶液、デエボン社製商品名パイダックスについて
はα０５％トリフ０ロトリクロル工タン分散液、ステア
リン酸については０．１％トルエン溶液をそれぞれ塗布
した後乾燥させて形成した。
る媒体は無いものに比べて高い耐久性が得られる（実施
例２） 厚さ３０μｍのポリイミドフィルム上にＮｉＦｅ合金を
ターゲットとしてＡｒガス中のスパッタリングにより厚
さ５０００ＡのＮｉＦｅ強磁性金属薄膜を形成し、この
上にＣｏＣｒ合金をターゲットとしてＡｒガス中でのス
パッタリングによシ厚さ２０００ ＡのＣｏＣｒ強磁性
金属薄膜を形成した。この上に第２表に示したようにア
モルファスシリコン層、フッ素化シランによる表面処理
層、潤滑層を形成して６種類の試料を作製した。アモル
ファスシリコンについて第２表中にスパッタリングと記
したものは８ｉをターゲットとして４ Ｘ １Ｏ−２Ｔ
ｏｒｒのＡｒガス中でスパッタパワー３００Ｗの几Ｆス
パッタリングで形成したものであり、蒸着と記し丸もの
は５ｉｔ−蒸発源としたＥ−ガンによる電子線加熱（７
ＫＷ、 ９０ ｍＡ ）によ’） Ｉ Ｘ １０−’Ｔ
ｏｒｒノ真空中で真空蒸着で形成したものである。また
ＰＣＶＤと記したものは５ｉＨ４ｔ−反応ガスとして用
い、圧力０、５ Ｔｏｒｒ 、 ｒ、ｆ、電力２００
ＷでプラズマＣＶＤで形成したものである。表面処理層
は第２表中に示したフッ素化シランの０．５％イソプロ
ピルアルコール溶液を塗布した後乾燥して形成した。潤
滑剤はモンテフルオス社製７オンプリン、デ為ボン社製
りライトックスについてはα１％トリフ０ロトリクロル
エタン溶液、デエボン社製商品名パイダックスについて
はα０５％トリフ０ロトリクロル工タン分散液、ステア
リン酸については０．１％トルエン溶液をそれぞれ塗布
した後乾燥させて形成した。
第２表は以上の試料を実施例１のときと同様にして耐久
性を評価してこれをまとめたものである。
性を評価してこれをまとめたものである。
第２表よシ、本発明の構成とすることによりアモルファ
スシリコンの製法、膜厚、フッ素化シランの種類、潤滑
剤の種類に依らず高い耐久性が実現できることがわかる
。
スシリコンの製法、膜厚、フッ素化シランの種類、潤滑
剤の種類に依らず高い耐久性が実現できることがわかる
。
（発明の効果）
以上のように、本発明によれば、磁気ヘッドとの摺動に
対して耐久性に優れた磁気記録媒体を得ることができる
。
対して耐久性に優れた磁気記録媒体を得ることができる
。
第１図は本発明による磁気記録媒体の一例を示す部分断
面図である。図中１は可撓性基体で１．２は強磁性金属
薄膜、３はアモルファスシリコン層、４はフッ素化シラ
ンよりなる表面処理層、５は潤滑層である。
面図である。図中１は可撓性基体で１．２は強磁性金属
薄膜、３はアモルファスシリコン層、４はフッ素化シラ
ンよりなる表面処理層、５は潤滑層である。
Claims (2)
- （１）可撓性基体上に形成した強磁性金属薄膜と、該強
磁性金属薄膜上に形成したアモルファスシリコン層と、
さらに該アモルファスシリコン層上に形成した潤滑層と
を有することを特徴とする磁気記録媒体。 - （２）可撓性基体上に形成した強磁性金属薄膜と、該強
磁性金属薄膜上に形成したアモルファスシリコン層と、
該アモルファスシリコン層上に形成したフッ素化シラン
を含む表面処理層と、さらに該表面処理層上に形成した
潤滑層とを有することを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60033839A JPH0679377B2 (ja) | 1985-02-22 | 1985-02-22 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60033839A JPH0679377B2 (ja) | 1985-02-22 | 1985-02-22 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61194624A true JPS61194624A (ja) | 1986-08-29 |
| JPH0679377B2 JPH0679377B2 (ja) | 1994-10-05 |
Family
ID=12397655
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60033839A Expired - Lifetime JPH0679377B2 (ja) | 1985-02-22 | 1985-02-22 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0679377B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6288131A (ja) * | 1985-10-14 | 1987-04-22 | Hitachi Ltd | 磁気デイスク |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53106101A (en) * | 1977-02-28 | 1978-09-14 | Nec Corp | Magnetic memory body |
| JPS6025031A (ja) * | 1983-07-21 | 1985-02-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1985
- 1985-02-22 JP JP60033839A patent/JPH0679377B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53106101A (en) * | 1977-02-28 | 1978-09-14 | Nec Corp | Magnetic memory body |
| JPS6025031A (ja) * | 1983-07-21 | 1985-02-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6288131A (ja) * | 1985-10-14 | 1987-04-22 | Hitachi Ltd | 磁気デイスク |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0679377B2 (ja) | 1994-10-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4578311A (en) | Magnetic recording medium | |
| JPH0610866B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH07161034A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS61194624A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JPS6292114A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPS6243823A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS6234324A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS6180522A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH061549B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0971547A (ja) | 潤滑性物質とこれを用いた磁気記録媒体 | |
| JPH064857A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| EP0751206A2 (en) | Lubricant and magnetic recording medium using lubricant | |
| JPS6243824A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0316688B2 (ja) | ||
| JP3627298B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP3321242B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0322218A (ja) | 磁気ディスクの製造方法 | |
| JP3124978B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS61236017A (ja) | 金属薄膜型磁気記録媒体 | |
| JP3336768B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS63217519A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS61184714A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0357532B2 (ja) | ||
| JPS63183607A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH05274646A (ja) | 磁気記録媒体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |