JPH0679377B2 - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
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- JPH0679377B2 JPH0679377B2 JP60033839A JP3383985A JPH0679377B2 JP H0679377 B2 JPH0679377 B2 JP H0679377B2 JP 60033839 A JP60033839 A JP 60033839A JP 3383985 A JP3383985 A JP 3383985A JP H0679377 B2 JPH0679377 B2 JP H0679377B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic recording
- recording medium
- amorphous silicon
- thin film
- metal thin
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- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は金属薄膜型可撓性磁気記録媒体に関する。
（従来技術） 近年、フレキシブル磁気ディスク装置、オーディオ用磁
気テープ装置、VTR用磁気テープ装置等を含めて各種の
磁気記録装置の高記録密度化、高信頼性化が進められて
いる。磁気記録における高記録密度化は主として磁気記
録媒体の磁性記録媒体の磁性層の高保磁力化と薄層化と
によって実現されるが、従来使用されている磁性体微粒
子を高分子バインダ中に分散させたものを媒体上に塗布
した構造のいわゆる塗布磁気記録媒体に比べて高保磁力
化が容易で薄層化に適したCo−Ni合金の蒸着膜或いはCo
−Pt合金のスパッタ膜等を用いる金属薄膜型磁気記録媒
体が注目されている。一方このような磁気記録媒体の面
内方向に記録を行う従来の長手記録方式に比較して、磁
気記録媒体の厚さ方向に残留磁化を形成して信号の記録
を行う垂直磁気記録方式は、高い記録密度が得られる点
で最近特に衆目の的となっておりその記録媒体としてCo
−Cr合金の蒸着膜またはスパッタ膜が研究されている。
気テープ装置、VTR用磁気テープ装置等を含めて各種の
磁気記録装置の高記録密度化、高信頼性化が進められて
いる。磁気記録における高記録密度化は主として磁気記
録媒体の磁性記録媒体の磁性層の高保磁力化と薄層化と
によって実現されるが、従来使用されている磁性体微粒
子を高分子バインダ中に分散させたものを媒体上に塗布
した構造のいわゆる塗布磁気記録媒体に比べて高保磁力
化が容易で薄層化に適したCo−Ni合金の蒸着膜或いはCo
−Pt合金のスパッタ膜等を用いる金属薄膜型磁気記録媒
体が注目されている。一方このような磁気記録媒体の面
内方向に記録を行う従来の長手記録方式に比較して、磁
気記録媒体の厚さ方向に残留磁化を形成して信号の記録
を行う垂直磁気記録方式は、高い記録密度が得られる点
で最近特に衆目の的となっておりその記録媒体としてCo
−Cr合金の蒸着膜またはスパッタ膜が研究されている。
これら高密度磁気記録用金属薄膜型磁気記録媒体をフレ
キシブル磁気ディスク、磁気テープ等の可撓性磁気記録
媒体として実用化するためには機械的耐久性を向上させ
る必要がある。一般にフレキシブル磁気ディスク装置、
磁気テープ装置では、信号の記録再生時には磁気記録媒
体と磁気ヘッドとは境界摩擦状態にある。これは信号の
記録再生時には空気流により磁気ヘッドを媒体上に浮上
させているリジット磁気ディスクに比べて苛酷な使用条
件である。このような理由から磁気記録装置の信頼性を
実現するためには磁気記録媒体は磁気ヘッドとの摺動に
対する機械的耐久性に優れていることが要求される。
キシブル磁気ディスク、磁気テープ等の可撓性磁気記録
媒体として実用化するためには機械的耐久性を向上させ
る必要がある。一般にフレキシブル磁気ディスク装置、
磁気テープ装置では、信号の記録再生時には磁気記録媒
体と磁気ヘッドとは境界摩擦状態にある。これは信号の
記録再生時には空気流により磁気ヘッドを媒体上に浮上
させているリジット磁気ディスクに比べて苛酷な使用条
件である。このような理由から磁気記録装置の信頼性を
実現するためには磁気記録媒体は磁気ヘッドとの摺動に
対する機械的耐久性に優れていることが要求される。
磁気記録媒体の機械的耐久性を高めるために一酸化シリ
コン蒸着膜を用いることが米国特許3109746号、同33531
66号、特開昭50−80102等により知られている。
コン蒸着膜を用いることが米国特許3109746号、同33531
66号、特開昭50−80102等により知られている。
（発明が解決しようとする問題点） しかしシリコン酸化物の保護層のみでは耐摩耗性、耐久
性にある程度の改善はみられるものの、まだ充分でない
ことが分った。また保護層としてアルコキシシランの加
水分解生成物を用いることも知られている（特開昭52−
20844号）が、シリコン酸化物と同様に特性が不充分で
あり、溶液として塗布した後加熱する必要があるため、
有機高分子フィルム等耐熱性の低い基損を用いる可撓性
磁気記録媒体には適用できないという欠点がある。
性にある程度の改善はみられるものの、まだ充分でない
ことが分った。また保護層としてアルコキシシランの加
水分解生成物を用いることも知られている（特開昭52−
20844号）が、シリコン酸化物と同様に特性が不充分で
あり、溶液として塗布した後加熱する必要があるため、
有機高分子フィルム等耐熱性の低い基損を用いる可撓性
磁気記録媒体には適用できないという欠点がある。
さらに磁気記録媒体の機械的耐久性を高めるために媒体
表面に潤滑層を形成する方法があり、従来より種々の潤
滑剤が提案されている。例えば、パーフロロアルキルポ
リエーテル、シリコーンオイル若しくはフロロシリコン
オイル等のオイル類、ポリテトラフロロエチレン若しく
はナイロン等のポリマーまたはカーボン若しくは二硫化
モリブデン等の固体潤滑剤が知られているが、いずれも
磁気記録媒体表面への付着力が弱いため、ヘッドとの摺
動により潤滑剤が容易に剥離し、充分な耐久性が得られ
ないという問題点があった。これは先に述べた酸化シリ
コン、アルコキシシランの加水分解物等の保護層の上に
潤滑剤を形成した場合でも同様である。
表面に潤滑層を形成する方法があり、従来より種々の潤
滑剤が提案されている。例えば、パーフロロアルキルポ
リエーテル、シリコーンオイル若しくはフロロシリコン
オイル等のオイル類、ポリテトラフロロエチレン若しく
はナイロン等のポリマーまたはカーボン若しくは二硫化
モリブデン等の固体潤滑剤が知られているが、いずれも
磁気記録媒体表面への付着力が弱いため、ヘッドとの摺
動により潤滑剤が容易に剥離し、充分な耐久性が得られ
ないという問題点があった。これは先に述べた酸化シリ
コン、アルコキシシランの加水分解物等の保護層の上に
潤滑剤を形成した場合でも同様である。
本発明の目的は機械的耐久性に優れた金属薄膜型可撓性
磁気記録媒体を提供することにある。
磁気記録媒体を提供することにある。
（問題点を解決するための手段） 本発明の磁気記録媒体は可撓性基体上に形成した強磁性
金属薄膜と、該強磁性金属薄膜上に形成したアモルファ
スシリコン層と、さらに該アモルファスシリコン層上に
形成した潤滑層とを有することを特徴とする。また、該
アモルファスシリコン層と潤滑層との間にフッ素化シラ
ンを含む表面処理層を設けることによりさらに耐久性の
高い磁気記録媒体が得られる。
金属薄膜と、該強磁性金属薄膜上に形成したアモルファ
スシリコン層と、さらに該アモルファスシリコン層上に
形成した潤滑層とを有することを特徴とする。また、該
アモルファスシリコン層と潤滑層との間にフッ素化シラ
ンを含む表面処理層を設けることによりさらに耐久性の
高い磁気記録媒体が得られる。
次に図面を参照して本発明を詳細に説明する。
第１図は第２の発明の磁気記録媒体の一例を示す部分断
面図で、１は可撓性基体であり、２は強磁性金属薄膜、
３はアモルファスシリコン層、４はフッ素化シランより
なる表面処理層、５は潤滑層である。
面図で、１は可撓性基体であり、２は強磁性金属薄膜、
３はアモルファスシリコン層、４はフッ素化シランより
なる表面処理層、５は潤滑層である。
本発明による可撓性基体としては酢酸セルロース、ニト
ロセルロース、ポリアミド、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリテトラフルオルエチレン、ポリトリフルオルエ
チレン、エチレン、プロピレン等α−オレフィンの重合
体あるいは共重合体、塩化ビニルの重合体あるいは共重
合体、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリイ
ミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート、等の有機高分子フィルムが用いられる。
ロセルロース、ポリアミド、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリテトラフルオルエチレン、ポリトリフルオルエ
チレン、エチレン、プロピレン等α−オレフィンの重合
体あるいは共重合体、塩化ビニルの重合体あるいは共重
合体、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリイ
ミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート、等の有機高分子フィルムが用いられる。
本発明に係る強磁性金属薄膜はFe,Co,Niその他の強磁性
金属、あるいはFe−Co,Fe−Ni,Co−Ni,Fe−Si,Co−Cr,C
o−V,Co−Sm,Co−Pt,Co−P,Co−Ni−P,Fe−Cr−Co等の
強磁性合金、あるいはこれらに添加物を加えたものを真
空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング
法、電気メッキ法、無電解メッキ法、等によって薄膜状
に形成したものである。
金属、あるいはFe−Co,Fe−Ni,Co−Ni,Fe−Si,Co−Cr,C
o−V,Co−Sm,Co−Pt,Co−P,Co−Ni−P,Fe−Cr−Co等の
強磁性合金、あるいはこれらに添加物を加えたものを真
空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング
法、電気メッキ法、無電解メッキ法、等によって薄膜状
に形成したものである。
可撓性基体の厚さは約４〜100μｍで強磁性金属薄膜の
厚さは0.01〜２μｍが好ましい。
厚さは0.01〜２μｍが好ましい。
アモルファスシリコン層はSiをターゲットとしたスパッ
タリング、Siを蒸発源とした真空蒸着、あるいはSiH4ガ
スを用いたプラズマCVD等の方法で強磁性金属薄膜上に
形成される。アモルファスシリコン層はアモルファス物
質特優の耐摩耗性を有し、しかもアモルファス状態であ
るため不対電子が多く存在し、化学的に活性で、潤滑剤
と強固に結合して剥離しにくい潤滑層が形成される。ア
モルファスシリコン層の厚さは10Å〜1000Åの範囲が好
ましい。
タリング、Siを蒸発源とした真空蒸着、あるいはSiH4ガ
スを用いたプラズマCVD等の方法で強磁性金属薄膜上に
形成される。アモルファスシリコン層はアモルファス物
質特優の耐摩耗性を有し、しかもアモルファス状態であ
るため不対電子が多く存在し、化学的に活性で、潤滑剤
と強固に結合して剥離しにくい潤滑層が形成される。ア
モルファスシリコン層の厚さは10Å〜1000Åの範囲が好
ましい。
アモルファスシリコン層上に直接潤滑剤を塗布しても耐
久性の高い媒体が得られるが、この間にフッ素化シラン
よりなる表面処理層を設けるとさらに高い耐久性が得ら
れる。
久性の高い媒体が得られるが、この間にフッ素化シラン
よりなる表面処理層を設けるとさらに高い耐久性が得ら
れる。
フッ素化シランとしては （CnF2n+1）mSi（Ｒ）4-m …………………（Ｉ） ｎは１から30までの正の整数、ｍは１から３までの正の
整数 （CnF2n+1（CH2）ｍ）lSi（Ｒ）4-l ………（II） n,mは１から30までの正の整数、ｌは１から３までの正
の整数 （CnF2n+1O（CH2）ｍ）lSi（Ｒ）4-l ………（III） n,mは１から30までの正の整数、ｌは１から３までの正
の整数 等の一般式で表わせる化合物が適している。ここでＲは
OCH3,OC2H5,OC3H7,OC4H9,OC5H11等のアルコキシ基また
はCH3,C2H5,C3H7,C4H9,C5H11等のアルキル基、またはF,
Cl,BrI等のハロゲンである。
整数 （CnF2n+1（CH2）ｍ）lSi（Ｒ）4-l ………（II） n,mは１から30までの正の整数、ｌは１から３までの正
の整数 （CnF2n+1O（CH2）ｍ）lSi（Ｒ）4-l ………（III） n,mは１から30までの正の整数、ｌは１から３までの正
の整数 等の一般式で表わせる化合物が適している。ここでＲは
OCH3,OC2H5,OC3H7,OC4H9,OC5H11等のアルコキシ基また
はCH3,C2H5,C3H7,C4H9,C5H11等のアルキル基、またはF,
Cl,BrI等のハロゲンである。
上記フッ素化シランはアモルファスシリコン層表面にそ
のまま、もしくはアルコール、ケトン、エステル、ハロ
ゲン化脂肪族炭化水素等の溶液として、浸漬法、スプレ
ー法、ローラーコート法、またはスピンコート法等の塗
布方法によって塗布する。その際に前記フッ素化シラン
は空気中の水分あるいはアモルファスシリコン層表面の
吸着水によって加水分解され、アモルファスシリコン層
表面と強固に反応、結合して優れた密着性が生ずる。こ
のような反応は下地がアモルファスシリコン以外の金
属、化合物の場合でもある程度認められるが、アモルフ
ァスシリコンの場合にはフッ素化シラン末端のジランと
同種類であるため反応性が高く、強固な結合か生じ、他
の下地に比べて著しく高い密着性が実現される。
のまま、もしくはアルコール、ケトン、エステル、ハロ
ゲン化脂肪族炭化水素等の溶液として、浸漬法、スプレ
ー法、ローラーコート法、またはスピンコート法等の塗
布方法によって塗布する。その際に前記フッ素化シラン
は空気中の水分あるいはアモルファスシリコン層表面の
吸着水によって加水分解され、アモルファスシリコン層
表面と強固に反応、結合して優れた密着性が生ずる。こ
のような反応は下地がアモルファスシリコン以外の金
属、化合物の場合でもある程度認められるが、アモルフ
ァスシリコンの場合にはフッ素化シラン末端のジランと
同種類であるため反応性が高く、強固な結合か生じ、他
の下地に比べて著しく高い密着性が実現される。
一方、前記フッ素化シランのCnF2n+1の部分は磁気記録
媒体の表面すなわちヘッドと摩擦する面に配向する。
媒体の表面すなわちヘッドと摩擦する面に配向する。
以上のようにしてアモルファスシリコン層上には下地と
は強固な密着性を有し、表面に対してはフッ化炭素特有
の撥水性、潤滑性を有した表面処理層が形成される。
は強固な密着性を有し、表面に対してはフッ化炭素特有
の撥水性、潤滑性を有した表面処理層が形成される。
前記アモルファスシリコン層上もしくは表面処理層上に
さらに潤滑層を形成することにより、実用に際して十分
な耐久性が得られる。潤滑層としては脂肪酸、金属石け
ん等の炭化水素系の潤滑剤、シリコーンオイル、フロロ
シリコンオイル、パーフロロアルキルポリエーテル等の
潤滑油、テトラフロロエチレン低重合体、カーボン、二
硫化モリブデン等の固体潤滑剤、もしくはこれらの混合
物を直接、または適当な溶剤に溶解もしくは分散させた
ものを前記表面処理層上に浸漬法、スプレー法、蒸着
法、ローラーコート法、スピンコート法等の塗布方法に
よって塗布して形成する。
さらに潤滑層を形成することにより、実用に際して十分
な耐久性が得られる。潤滑層としては脂肪酸、金属石け
ん等の炭化水素系の潤滑剤、シリコーンオイル、フロロ
シリコンオイル、パーフロロアルキルポリエーテル等の
潤滑油、テトラフロロエチレン低重合体、カーボン、二
硫化モリブデン等の固体潤滑剤、もしくはこれらの混合
物を直接、または適当な溶剤に溶解もしくは分散させた
ものを前記表面処理層上に浸漬法、スプレー法、蒸着
法、ローラーコート法、スピンコート法等の塗布方法に
よって塗布して形成する。
以上の構成の金属薄膜型可撓性磁気記録媒体は耐摩耗性
の高いアモルファスシリコンの保護層を有し、その上に
下地との密着性に優れた潤滑層を有するためヘッドによ
る長時間の摺動に対しても充分な耐久性を有する。
の高いアモルファスシリコンの保護層を有し、その上に
下地との密着性に優れた潤滑層を有するためヘッドによ
る長時間の摺動に対しても充分な耐久性を有する。
次に実施例を示し、本発明をさらに詳細に説明する。
（実施例１） 厚さ50μｍのポリエステルフィルム上にCoCr合金をター
ゲットしてArガス中でのスパッタリングにより厚さ3000
ÅのCoCr強磁性金属薄膜を形成した。この上にSiを蒸発
源とし、ｅ−ガンを用いた電子線加熱による真空蒸着法
により厚さ200Åのアモルファスシリコン層を形成し
た。この上にハーフロロアルキルポリエーテルを塗布し
て潤滑層を形成した（試料１）。次に実施例１と同様の
工程でポリエステルフィルム上にCoCr強磁性金属薄膜、
アモルファスシリコン層を形成しこの上にパーフロロオ
クタデシルトリメトキシシランの0.1％ｎ−ブタノール
溶液を塗布し、乾燥させて表面処理層を形成した。さら
にこの上にパーフロロアルキルポリエーテルを塗布して
潤滑層を形成した（試料２）。また前記と同様の工程で
ポリエステルフィルム上のCoCr強磁性金属薄膜を形成
し、この上にパーフロロアルキルポリエーテルを塗布し
て潤滑層を形成し、比較試料とした。
ゲットしてArガス中でのスパッタリングにより厚さ3000
ÅのCoCr強磁性金属薄膜を形成した。この上にSiを蒸発
源とし、ｅ−ガンを用いた電子線加熱による真空蒸着法
により厚さ200Åのアモルファスシリコン層を形成し
た。この上にハーフロロアルキルポリエーテルを塗布し
て潤滑層を形成した（試料１）。次に実施例１と同様の
工程でポリエステルフィルム上にCoCr強磁性金属薄膜、
アモルファスシリコン層を形成しこの上にパーフロロオ
クタデシルトリメトキシシランの0.1％ｎ−ブタノール
溶液を塗布し、乾燥させて表面処理層を形成した。さら
にこの上にパーフロロアルキルポリエーテルを塗布して
潤滑層を形成した（試料２）。また前記と同様の工程で
ポリエステルフィルム上のCoCr強磁性金属薄膜を形成
し、この上にパーフロロアルキルポリエーテルを塗布し
て潤滑層を形成し、比較試料とした。
以上の試料を５1/4インチ径のフレキシブルディスクの
形状に打抜いたものを市販の５1/4インチフレキシブル
磁気ディスク装置に装着してヘッドロード状態で回転さ
せ、ヘッドにより媒体表面に傷が生じるまでの回転数を
測定することにより、媒体 の耐久性を比較した。その結果を第１表に示す。
形状に打抜いたものを市販の５1/4インチフレキシブル
磁気ディスク装置に装着してヘッドロード状態で回転さ
せ、ヘッドにより媒体表面に傷が生じるまでの回転数を
測定することにより、媒体 の耐久性を比較した。その結果を第１表に示す。
第１表にみられるようにアモルファスシリコン層を有す
る媒体は無いものに比べて高い耐久性が得られる（実施
例２） 厚さ30μｍのポリイミドフィルム上にNiFe合金をターゲ
ットとしてArガス中のスパッタリングにより厚さ5000Å
のNiFe強磁性金属薄膜を形成し、この上にCoCr合金をタ
ーゲットとしてArガス中でのスパッタリングにより厚さ
2000ÅのCoCr強磁性金属薄膜を形成した。この上に第２
表に示したようにアモルファスシリコン層、フッ素化シ
ランによる表面処理層、潤滑層を形成して６種類の試料
を作製した。アモルファスシリコンについて第２表中に
スパッタリングと記したものはSiをターゲットとして４
×10-2TorrのArガス中でスパッタリングパワー300WのRF
スパッタリングで形成したものであり、蒸着と記したも
のはSiを蒸発源としたＥ−ガンによる電子線加熱（7KW,
90mA）により１×10-6Torrの真空中で真空蒸着で形成し
たものである。またPCVDと記したものはSiH4を反応ガス
として用い、圧力0.5Torr、r.f.電力200WでプラズマCVD
で形成したものである。表面処理層は第２表中に示した
フッ素化シランの0.5％イソプロピルアルコール溶液を
塗布した後乾燥して形成した。潤滑剤はモンテフルオス
社製フォンプリン、デュポン社製クライトックスについ
ては0.1％トリフロロトリクロルエタン溶液、デュポン
社製商品名バインダックスについては0.05％トリフロロ
トリクロルエタン分散液、ステアリン酸については0.1
％トルエン溶液をそれぞれ塗布した後乾燥させて形成し
た。
る媒体は無いものに比べて高い耐久性が得られる（実施
例２） 厚さ30μｍのポリイミドフィルム上にNiFe合金をターゲ
ットとしてArガス中のスパッタリングにより厚さ5000Å
のNiFe強磁性金属薄膜を形成し、この上にCoCr合金をタ
ーゲットとしてArガス中でのスパッタリングにより厚さ
2000ÅのCoCr強磁性金属薄膜を形成した。この上に第２
表に示したようにアモルファスシリコン層、フッ素化シ
ランによる表面処理層、潤滑層を形成して６種類の試料
を作製した。アモルファスシリコンについて第２表中に
スパッタリングと記したものはSiをターゲットとして４
×10-2TorrのArガス中でスパッタリングパワー300WのRF
スパッタリングで形成したものであり、蒸着と記したも
のはSiを蒸発源としたＥ−ガンによる電子線加熱（7KW,
90mA）により１×10-6Torrの真空中で真空蒸着で形成し
たものである。またPCVDと記したものはSiH4を反応ガス
として用い、圧力0.5Torr、r.f.電力200WでプラズマCVD
で形成したものである。表面処理層は第２表中に示した
フッ素化シランの0.5％イソプロピルアルコール溶液を
塗布した後乾燥して形成した。潤滑剤はモンテフルオス
社製フォンプリン、デュポン社製クライトックスについ
ては0.1％トリフロロトリクロルエタン溶液、デュポン
社製商品名バインダックスについては0.05％トリフロロ
トリクロルエタン分散液、ステアリン酸については0.1
％トルエン溶液をそれぞれ塗布した後乾燥させて形成し
た。
第２表は以上の試料を実施例１のときと同様にして耐久
性を評価してこれをまとめたものである。第２表より、
本発明の構成とすることによりアモルファスシリコンの
製法、膜厚、フッ素化シランの種類、潤滑剤の種類に依
らず高い耐久性が実現できることがわかる。
性を評価してこれをまとめたものである。第２表より、
本発明の構成とすることによりアモルファスシリコンの
製法、膜厚、フッ素化シランの種類、潤滑剤の種類に依
らず高い耐久性が実現できることがわかる。
（発明の効果） 以上のように、本発明によれば、磁気ヘッドとの摺動に
対して耐久性に優れた磁気記録媒体を得ることができ
る。
対して耐久性に優れた磁気記録媒体を得ることができ
る。
【図面の簡単な説明】 第１図は本発明による磁気記録媒体の一例を示す部分断
面図である。図中１は可撓性基体であり、２は強磁性金
属薄膜、３はアモルファスシリコン層、４はフッ素化シ
ランよりなる表面処理層、５は潤滑層である。
面図である。図中１は可撓性基体であり、２は強磁性金
属薄膜、３はアモルファスシリコン層、４はフッ素化シ
ランよりなる表面処理層、５は潤滑層である。
Claims (2)
- 【請求項１】可撓性基体上に形成した強磁性金属薄膜
と、該強磁性金属薄膜上に形成したアモルファスシリコ
ン層と、さらに該アモルファスシリコン層上に形成した
潤滑層とを有することを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】可撓性基体上に形成した強磁性金属薄膜
と、該強磁性金属薄膜上に形成したアモルファスシリコ
ン層と、該アモルファスシリコン層上に形成した潤滑層
とからなる磁気記録媒体の製造方法であって、前記アモ
ルファスシリコン層形成後フッ素化シランによる表面処
理工程を実施することを特徴とする磁気記録媒体の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60033839A JPH0679377B2 (ja) | 1985-02-22 | 1985-02-22 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60033839A JPH0679377B2 (ja) | 1985-02-22 | 1985-02-22 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61194624A JPS61194624A (ja) | 1986-08-29 |
| JPH0679377B2 true JPH0679377B2 (ja) | 1994-10-05 |
Family
ID=12397655
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60033839A Expired - Lifetime JPH0679377B2 (ja) | 1985-02-22 | 1985-02-22 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0679377B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6288131A (ja) * | 1985-10-14 | 1987-04-22 | Hitachi Ltd | 磁気デイスク |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5939809B2 (ja) * | 1977-02-28 | 1984-09-26 | 日本電気株式会社 | 磁気記憶体 |
| JPS6025031A (ja) * | 1983-07-21 | 1985-02-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1985
- 1985-02-22 JP JP60033839A patent/JPH0679377B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61194624A (ja) | 1986-08-29 |
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Legal Events
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