JPH02130716A - 磁気記録体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は磁気記録体に関し、ざらに詳しくは薄膜型磁気
記録媒体を用いた磁気ディスク、磁気テープ等の磁気記
録体に関する。

［従来の技術およびその課題］ 近年、磁気ディスク装置、フレキシブル磁気ディスク装
置、オーディオ用磁気テープ装置、ＶＴＲ用磁気テープ
装置等、各種の磁気記録装置の小型化、高密度化が進め
られている。磁気記録における高密度化は、主として磁
気記録媒体の磁性層の高保磁力化と薄層化とによって実
現されている。従来使用されている媒体は、磁性体微粒
子を高分子バインダ中に分散させたものをベースフィル
ム上に塗布した、いわゆる塗布型磁気記録媒体である。

最近、これらの記録密度の数倍から１桁はど向上できる
薄膜長手記録媒体および垂直磁気記録媒体が注目されて
いる。ここに用いられる記録媒体としては、スパッタま
たは蒸着等によって形成されるＣＯＮ　ｉ系合金薄膜の
長手記録媒体およびＣ０Ｃｒ合金薄膜の垂直記録媒体等
がある。これらの高密度磁気記録用の薄膜型磁気媒体を
ハード磁気ディスクまたはフレキシブル磁気ディスク、
磁気テープ等として実用化するためには機械的耐久性、
特にパスウェア耐久性を保証する必要がある。

磁気記録媒体の機械的耐久性を高める方法としては、例
えば−酸化シリコン蒸着膜を用いることが、米国特許第
３１０９７４６号、同第３３５３１６６号、特開昭５０
−８０１０２号公報により知られている。

しかし、シリコンもしくはシリコン酸化物の保護膜のみ
では耐摩耗性、耐久性に改善が見られるものの実用上十
分でなかった。

本発明は、以上述べたような従来の事情に鑑みてなされ
たもので、機械的耐久性に優れた磁気記録体を提供する
ことを目的とする。

［課題を解決するための手段］ 本発明は、基体上に強磁性薄膜が形成され、該強磁性薄
膜上にはシリコンにボロンまたはボロンと酸素を含有す
る保護薄膜が形成され、該保護薄膜上には潤滑層が形成
されてなることを特徴とする磁気記録体である。

本発明に係る基体としては、Ｎｉ２膜を被覆したアルミ
合金２強化ガラスおよびセラミックスがあり、またフレ
キシブルフィルムとしてポリエチレンテレフタレート、
ポリイミド、アラミド等の有機高分子フィルム等が挙げ
られる。

本発明に係る強磁性薄膜は、ＣｏＮｉ。

ＣｏＮ　ｉ　Ｔａ、ＣｏＮ　ｉ　Ｚｒ、ＣｏＣｒ。

ＣｏＣｒＴａ、ＣｏＣｒＮｂ、ＣｏＳｍ。

ｃｏｐｔ、ＦｅＣｏ、ＦｅＴｉ、ＦｅＣｒ等の強磁性合
金、おるいはこれらに添加元素を加えたものを真空蒸着
法、スパッタリング法、イオンブレーティング法によっ
て薄膜状に形成したものである。

保護膜の３ｉと８を含む、もしくはｓｒ、ｓおよびＯを
含む薄膜は、Ｂを３ｉにドープしたターゲットを用い、
不活性ガスもしくは不活性ガスと酸素を含むガス中でス
パッタリングするか、おるいはこれらの膜は蒸着法で形
成してもよい。

潤滑層の材料としては、潤滑液、または潤滑液と固体潤
滑剤が用いられる。このうち、潤滑液としては、パーフ
ロロポリエーテル、パーフロロアルキルエーテル、極性
基を有するフッ素系潤滑剤、フッ素オイル等が用いられ
る。また、固体潤滑剤としてはフッ素系固体、硫化モリ
ブデン等がおる。

塗布法としては、例えば潤滑液と固体潤滑剤を適当な溶
剤に溶解もしくは分散させたものを保護膜状に形成する
浸漬法、スプレー法、ローラコート法、またはスピンコ
ード法等がある。

［作用］ 本発明においては、保護膜としてＢを含む３ｉ薄膜、も
しくはＢおよび０を含むＳｉ簿膜を用いる。従来の保護
膜として用いられていたシリコンもしくはシリコン酸化
物に、構成元素としてＢを含ませることにより、耐摩耗
性が格段に向上する。

このため、強磁性薄膜のヘッド開動による摩耗・摩擦に
よる破損から媒体を保護することができる。

［実施例］ 以下、本発明の実施例について図面を参照して詳細に説
明する。

第１図および第２図は本発明により得られた磁気記録体
の部分断面図を示し、第１図はハード磁気ディスク、第
２図はフレキシブル磁気ディスクの場合を示す。ハード
磁気ディスクにおいては第１図に示すように、ハード基
体１上に強磁性薄膜２、保護薄膜３および潤滑層４が順
次形成されており、フレキシブル磁気ディスクにおいて
は、第２図に示すように、フレキシブル基体５上に、上
記と同じく強磁性薄膜２、保護薄膜３および潤滑層４が
順次形成されている。

以上のように構成されたハード磁気ディスクおよびフレ
キシブル磁気ディスクを以下の要領にて作製した。

ハードおよびフレキシブル基体 ハードおよびフレキシブルフィルム基体には、それぞれ
鏡面仕上げを施したＮｉＰ膜被膜被覆アルミ合金化強化
ガラスラミック、ポリイミドフィルムおよびポリテレフ
タレート（ＰＥＴ）を用いた。各側における使用基体の
種類およびフレキシブル基体にあってはその厚さを表−
１に記す。

磁性膜 強磁性薄膜としてハード磁気ディスクにはいずれの例も
Ｃｒを下地としたＣＯＮ　ｉ　Ｃｒ膜を、フレキシブル
磁気ディスクにはいずれの例もＣｏＣｒ　（２２ａｔ％
Ｃｒ＞合金を用いた。作製法として、ＣｏＮ　ｉ　Ｃｒ
／Ｃｒ膜の成膜には、Ａｒガス中でＲＦマグネトロンス
パッタ法により１０００　Ａの厚さで形成した。Ｃ０Ｃ
ｒ膜の作製には、キャン方式のスパッタ装置を用いて八
「ガス中でＲＦマグネトロンスパッタ法により３０００
人の厚さで連続成膜した。このときのキャン温度は、１
００℃であった。形成した媒体のカールの大きさは、３
．５インチディスクで±５　ｍｍ以下とした。

堡用 保護薄膜は磁性膜をスパッタした後、Ｂを含むＳｉをタ
ーゲラ１〜とし、ＡｒガスもしくはＡｒ＋０２ガス中で
ＲＦスパッタ法により、厚さ２００人の薄膜を形成した
。膜中の８の濃度は、Ｓ１ターゲツト中のＢの５ＭＵを
変えて行った。各側における保護薄膜の種類と、膜中の
Ｂａ度を表−１に記す。

晟滑ｙ 潤滑層には、各側どもパーフロロポリエーテルを犀さ２
０人用いた。この他に極性基を有する潤滑剤でもよい。

パスウ１ア試験 ハード磁気ディスクのパスウェア耐久性の試験には、実
施例および比較例の試料として８インチ径のディスクを
用いた。パスウェア試験法として、ＩＢＭ３３７０型薄
膜ヘッドを用いてコンタクト・スタート・ストップ（Ｃ
３Ｓ）試験を行った。その結果を表−２に示す。

フレキシブル磁気ディスクのパスウェア耐久性の試験と
しては、実施例および比較例の試料を３．５インチ径の
マイクロフロッピーディスクの形状に形成し、市販３，
５インチＩＢＭ用両面型フレキシブル磁気ディスク装置
（回転数；　　６００ｐｐｍ　＞に装着して１３ＫＦＲ
ＰＩの信号を記録した後、ヘッドロード状態で信号の読
出しを行い、媒体の摩耗、破損によりヘッド出力がなく
なるまでの摺動回数をパスウェア耐久性とした。その結
果を表−３に示す。

表−２および表−３の結果から、本発明の磁気記録体は
、ハード磁気ディスクではＣ８Ｓ回数が、フレキシブル
磁気ディスクでは摺動回数がいずれも従来技術による場
合に比べて大きくなり、耐久性が向上していることがわ
かる。

表 表 ［発明の効果］ 以上説明したように、本発明の磁気記録体は従来に比べ
て保護膜の耐摩耗性が向上している。このため、強磁性
薄膜のヘッド摺動による摩耗・摩擦による破損から媒体
を保護することができ、耐久性が向上するという効果を
有する。

【図面の簡単な説明】 第１図および第２図はそれぞれ本発明の一実施例の部分
断面図でおる。 １・・・ハード基体　　　　２・・・強磁性薄膜３・・
・保護薄膜　　　　　４・・・潤滑層５・・・フレキシ
ブル基体

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）基体上に強磁性薄膜が形成され、該強磁性薄膜上
   にはシリコンにボロンまたはボロンと酸素を含有する保
   護薄膜が形成され、該保護薄膜上には潤滑層が形成され
   てなることを特徴とする磁気記録体。