JPH04285727A - 磁気ディスク装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は磁気記録装置、特に、磁
気ヘッドと磁気記録媒体をもつ磁気記録装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、コンピュータシステムの外部記憶
装置としての磁気記録装置の重要度は益々高まり、その
記録密度は年々著しい向上が図られている。このような
高記録密度化に対応する磁気記録媒体として、従来の磁
性粉とバインダを混練した磁性塗料を基板上に塗布した
塗布型媒体に代り、磁性薄膜を用いた薄膜磁気記録媒体
が注目されている。

【０００３】このような磁性薄膜を用いた薄膜磁気記録
媒体（以下、単に磁気記録媒体と称する）の一般的な構
造は次の様である。基板はアルミニウム合金円板と、そ
の上に形成された硬質な下地層よりなる。アルミニウム
合金の代りにガラス等硬度の高い円板材料を用いた場合
には下地層が省略されることもある。基板の上には磁性
層が形成されるが、この両者の間には、密着性向上や磁
性層の特性向上を目的として中間層が形成される場合も
ある。磁性層の上には保護層さらには必要に応じて潤滑
層が形成されて、磁気記録媒体が構成される。

【０００４】磁気記録装置は、磁気記録媒体と記録再生
磁気ヘッド（以下、単にヘッドと称する）、磁気記録媒
体の回転制御機構、ヘッドの位置決め機構及び記録再生
信号の処理回路を主構成要素としている。その記録再生
方法は、操作開始前にはヘッドと磁気記録媒体が接触状
態であるが、磁気記録媒体を回転させることによりヘッ
ドと磁気記録媒体の間に空間を作り、この状態で記録再
生を行なう。操作終了時には磁気記録媒体の回転が止ま
り、ヘッドと磁気記録媒体は再び接触状態となる（コン
タクト・スタート・ストップ方式、以下ＣＳＳ方式と称
する）。磁気記録装置の記録密度を向上させるには、記
録再生時のヘッドの浮上量は小さいほど良く、その際の
ヘッドの浮上安定性を確保するために、磁気記録媒体の
表面はできるだけ平坦であることが要求される。

【０００５】さらに、磁気記録装置の記録密度を高める
には、磁気ヘッドと磁気記録媒体間のスペーシングをよ
り小さくする必要があり、将来は磁気ヘッドと磁気記録
媒体はほとんど連続的に摺動する状態になると予想され
ている。

【０００６】このように、ＣＳＳ方式及び磁気ヘッドと
磁気記録媒体が連続的に摺動するような磁気記録装置で
は、ヘッドと磁気記録媒体の間に生じる摩擦力は、両者
の摩耗を引き起こし、特性劣化の原因となる。さらに、
磁気記録媒体が静止している状態でヘッドと磁気記録媒
体の間に水分等が介在すると、両者が強固に吸着し、こ
の状態で起動するとヘッドと磁気記録媒体の間に大きな
力が生じ、ヘッドや磁気記録媒体の損傷を招く恐れがあ
る。この様な摩擦力や吸着力は、磁気記録媒体の表面が
平坦であるほど大きくなる傾向があり、記録密度の向上
に伴うヘッドの浮上安定性に対する要求と相反する。

【０００７】このような摩擦力や吸着力を低減するため
、磁気記録媒体の表面に微小凹凸を形成する方法が、通
常、用いられる。

【０００８】このような方法として、例えば、保護層を
形成した磁気記録媒体の表面に、研磨，ウェットエッチ
又はドライエッチにより保護層の膜厚を超えない範囲の
凹凸を形成する方法が特開昭６２−２２２４１　号公報
に提案されている。

【０００９】さらに、保護膜は、例えばＡｕ，Ｒｈ，Ｐ
ｄ，Ｃｒ，Ｓｉ等からなる材料で形成させる方法（特開
昭５３−４０５０５号公報，特開昭５７−１７６５３７
号公報，特開昭６３−７１９２９号公報，特開昭３−１
６８８３０号公報，特開昭６３−４４１９号公報）やＣ
系保護膜（特開昭６０−１５５６６８号公報），Ｂ系保
護膜（特開昭５０−１０４６０２号公報，特開昭６２−
４３８２１号公報），Ｚｒ系保護膜（特開昭６１−１１
５２３０号公報），金属炭化物系保護膜（特開昭６３−
４４１９号公報）を形成させる手法等が提案されている
。

【００１０】また、保護膜材料とスライダ材料との硬度
を規定した方法（特開平１−２５８２１９号公報）も提
案されている。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術に示した
ように、磁気記録媒体に対する磁気ヘッドの摩擦力や吸
着力を低減して磁気記録媒体に磁気ヘッド支持用スライ
ダが吸着するのを防ぐとともに、磁気記録媒体の保護膜
の摩耗量を低減することが磁気ディスク装置の信頼性を
向上させるうえで不可欠である。しかし、上記従来技術
では、今後さらに磁気ヘッドの浮上量が小さく、しかも
磁気記録媒体が高速回転になる高性能磁気記録装置にお
ける摺動信頼性を維持するのには不十分である。

【００１２】本発明の目的は、磁気ヘッドの浮上量が小
さく、磁気記録媒体の回転数の高い高性能磁気記録装置
において、磁気ヘッドの摩擦力や吸着力を低減し、磁気
ヘッドの浮上安定性を長期にわたって持続できるように
した磁気ディスク装置を提供することにある。

【００１３】本発明の他の目的は、磁気ヘッドが実質的
にほとんど磁気記録媒体面と連続的に摺動しているよう
な場合にも摺動信頼性を維持できる高性能磁気ディスク
装置を提供することにある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明の磁気ディスク装
置は、本質的には、基板上に磁性層と表面保護層をもつ
少なくとも一枚の磁気ディスク、回転中の前記磁気ディ
スクと微少間隙を持って対向／あるいは実質的に連続摺
動し、スライダによって支持されている磁気ヘッド、前
記磁気ディスクを回転する回転手段、および前記磁気ヘ
ッドを前記磁気ディスク上の所定の位置に移動し、位置
決めする磁気ヘッド位置決め手段、を具備する磁気ディ
スク装置であり、前記磁気ディスク装置に用いられる磁
気ディスクの表面保護層が、その表面に保持されている
潤滑剤の保持力及び被覆率が大きく、しかも前記潤滑剤
の被覆率が低下して磁気ヘッドのスライダと直接接触し
た場合にも、磁気ディスク装置の駆動系にかかる負荷が
小さく、また、磁気記録媒体に与える損傷も小さくなる
ようにスライダ材料と磁気ディスクの表面保護層との静
摩擦係数が一定値以内にある材料を選定する。

【００１５】

【作用】本発明によれば、第一に、磁気ヘッドのスライ
ダと磁気記録媒体の保護膜の静摩擦係数が一定値以内の
材料の組み合わせから選定されているため、スライダと
磁気記録媒体との接触により保護膜表面の潤滑剤付着量
が減少し、その被覆率が低下して、スライダと保護膜が
直接接触するような状況が発生しても、両材料間の摩擦
係数が一定値以内のため、装置駆動系の負荷が極端に増
加することが防止される。第二に、保護膜表面への潤滑
剤の付着力が大きく、かつ、その被覆率が大きく（潤滑
剤付着後の表面の接触角はその指標である）、また、磁
気記録媒体表面への吸着水分等の凝縮を防止する効果が
大きいため、スライダと磁気記録媒体間の摩擦力を小さ
く維持できる。

【００１６】このように本発明によれば、ヘッドとの摩
擦力や吸着力を低くできるため、高い記録再生精度をも
ち、また高記録密度化に伴うヘッドの低浮上化に対応で
きる磁気記録装置を得ることができる。

【００１７】

【実施例】以下、本発明を詳細に説明する。

【００１８】磁気ディスク装置では磁気ヘッドスライダ
は潤滑剤を介して磁気記録媒体と接するため、磁気ディ
スク装置の摺動信頼性を向上させるためには、まず、潤
滑剤を磁気記録媒体の最表面層である保護膜面にしっか
り固定し、その被覆率（保護膜面の単位面積当りの潤滑
剤付着量）を向上させることが重要である。しかし、そ
れだけでは不十分で、長期間にわたって磁気ディスク装
置の摺動信頼性を保証するには、スライダ材料の物性と
保護膜材料の物性とを最適に合致させることがキーポイ
ントである。

【００１９】従来からスライダ及び保護膜材料は種々の
ものが知られているが、トラック密度を上げ、ヘッドの
浮上量が０．１μｍ　オーダ以下、さらに、ヘッドとス
ライダがほぼ連続的に高速で摺動するような磁気ディス
ク装置では、スライダと保護膜材料の物性の合致したも
のを組み合わせて装置化することが極めて重要である。 本発明者らは上記のどのような物性に着目すべきである
かを種々検討した結果、潤滑剤の付着量及び被覆率が高
められる表面物性をもち、かつ、潤滑剤が付着していな
い状態でスライダ材との静摩擦係数が一定値以内にある
保護膜材料からなる磁気記録媒体とスライダ材料をもつ
磁気ヘッドを組み合わせて磁気ディスク装置を組み立て
るべきであるとの結論にいたった。

【００２０】従来からスライダ材としては、Ｎｉ−Ｚｎ
　ｆｅｒｒｉｔｅ，Ｍｎ−Ｚｎ　ｆｅｒｒｉｔｅ，Ａｌ
２Ｏ３−ＴｉＣ，ＺｒＯ２−Ｙ２Ｏ３，ＢａＴｉＯ３等
が商業的に得られることが知られており、これらをその
まま使用する場合にも、磁気記録媒体の保護膜の選定に
当っては、この物性を満足する材料であることが好まし
い。さらに、新規なスライダ材料と組み合わせる場合に
は、この特性に合致するような組合せにする必要がある
。

【００２１】図３に磁気ディスク装置の概略を示す。磁
気ディスク装置は図３に示す１１〜１８の構成要素及び
ボイスコイルモータ制御回路を含む。１１はベース、１
２はスピンドルである。一つのスピンドルに図のように
複数枚の円板状の磁気ディスク１４が取り付けられる。 図３では一つのスピンドルに五枚の磁気ディスク１４を
設けた例が示されているが、五枚に限定されることはな
い。また、このように一つのスピンドル１２に複数枚の
磁気ディスク１４を設けたものを複数個設置してもよい
。１３はスピンドル１２を駆動し、磁気ディスクを回転
するためのモータ、すなわち、磁気ディスク回転制御手
段である。１５はデータ用磁気ヘッドを示し、１５ａは
位置決め用磁気ヘッドを示している。１６はキャリジ、
１７はボイスコイル、１８はマグネットである。ボイス
コイル１７はマグネット１８によりボイスコイルモータ
が構成される。そして、１６，１７，１８の要素により
ヘッドの位置決めがなされる。従って、１６，１７，１
８を含めて磁気ヘッド位置決め機構と総称する。 ボイスコイル１７と磁気ヘッド１５及び１５ａとは、ボ
イスコイルモータ制御回路を介して接続されている。

【００２２】図３で、上位装置とは、例えば、コンピュ
ータシステムを示し、磁気ディスク装置に記録された情
報を処理する機能をもつものである。その記録再生方法
は、操作開始前には磁気ヘッドと磁気記録媒体が接触状
態であるが、磁気記録媒体を回転させることにより磁気
ヘッドと磁気記録媒体の間に空間を作り、この状態で記
録再生を行う。操作終了時には磁気記録媒体の回転が止
まり、磁気ヘッドと磁気記録媒体は再び接触状態となる
。これをコンタクト・スタート・ストップ方式、以下Ｃ
ＳＳ方式と呼ぶ。

【００２３】ここでは、ＣＳＳ方式の磁気記録装置を説
明したが、本発明はこの方式に限定されることはなく、
磁気記録媒体面上で専用のＣＳＳゾーンを設ける方式、
いわゆる、ロード／アンロード方式、さらに実質的にヘ
ッドが連続的に磁気記録媒体面を摺動する方式でも有効
である。

【００２４】〈実施例１〉外径５．２５　インチのアル
ミニウム合金円板の表面に無電解めっき法によりＮｉ−
Ｐ下地膜を１５μｍ形成し、下地膜を１０μｍまで研磨
して、触針式表面粗さ計で測定した平均粗さ（Ｒａ）２
ｎｍ以下，最大粗さ（Ｒｍａｘ）５ｎｍ以下になるよう
に鏡面加工した。

【００２５】次に、図１に示す構成の磁気記録媒体を形
成するために、ＮｉＰ膜面を表面処理した後、基板上に
、スパッタ法によりＣｒを主成分とする中間層を０．２
μｍ，ＣｏＮｉＣｒ磁性層を４０ｎｍ形成した。ここで
、Ｃｒを主成分とする中間層は磁性層の配向性だけでな
く、磁気ヘッドにたいする耐摺動性にも寄与しているた
め、その膜厚は０．００５〜０．５μｍにするのが好ま
しい。ここで、Ｃｒを主成分とする中間層は、金属クロ
ム、あるいは、クロム合金（例えば、ＣｒとＴｉ，Ｍｏ
，Ｖ等の合金）のターゲットを用いて形成することがで
きる。

【００２６】スパッタ法は、ＤＣスパッタ法，ＲＦスパ
ッタ法等が適用できるが、量産装置は装置コストの点か
らＤＣスパッタ装置が用いられることが多い。また、基
板のハンドリング法は枚葉式による静止対向成膜法，基
板キャリッジを用いた搬送成膜法等が適用されている。

【００２７】スパッタリング時のＡｒ圧力は、例えば３
〜１０ｍＴｏｒｒであるが、スパッタ装置の到達圧力は
水分等の不純物ガスをできるだけ低減するために、３×
１０−７Ｔｏｒｒ以下が望ましい。また、磁性層の種類
は本発明の本質ではないが、コバルトを主成分とするタ
ーゲットを用いて形成することができる。例えば、Ｃｏ
８０Ｎｉ１５Ｃｒ５　ターゲットを用いて磁性層を形成
した場合、円周方向と半径方向の保磁力及び角型比は、
それぞれ１６００，１０００Ｏｅ及び０．９，０．８５
であり、また、円周方向での記録信号の変動（モジュレ
ーション）は±５％以内であった。

【００２８】この磁性膜まで形成した円板に、次のよう
にして保護膜を形成した。ターゲットはＴａ２Ｏ５−Ａ
ｌ２Ｏ３混合ターゲット（９０／１０ｗｔ％比）を用い
、Ｒｆスパッタ装置で、Ａｒ−Ｏ２　１％ガス中、３ｍ
Ｔｏｒｒ、基板温度１５０℃の条件で２０ｎｍの保護膜
を形成した。

【００２９】ディスク表面にフッ素系の液体潤滑剤をデ
ィップ法で、約８ｎｍ付着させて磁気デイスクを得た。 このディスク表面の純水に対する接触角を測定したとこ
ろ約１０５ｄｅｇ．であった。

【００３０】図３に示した装置に磁気ディスクと磁気ヘ
ッドスライダを組立て、ＣＳＳ試験を行って耐摺動性を
評価した。

【００３１】ここで、スライダ材料は以下のような評価
により選定した。

【００３２】スライダ材料のＡｌ２Ｏ３−ＴｉＣのＲ３
０の球面を持つ摺動子を用い、荷重２０ｇ，摺動速度２
ｍｍ／ｓの条件で、クラス１００のクリーンルーム内、
常温、相対湿度４５％で静摩擦係数を測定したところ０
．１６−０．２０であった。

【００３３】そこで、スライダ材料を用いた薄膜磁気ヘ
ッドと磁気記録媒体を組み込んだ図３の装置により、ヘ
ッド浮上量０．１μｍ、回転速度五千四百ｒｐｍの条件
でＣＳＳ試験を実施した。その結果、ＣＳＳ試験回数三
万回まで磁気記録媒体面には何ら損傷は発生せず、また
、静摩擦係数は０．２５　以下であった。

【００３４】〈実施例２〉実施例１と同様に、外径５．
２５　インチのアルミニウム合金円板の表面に無電解め
っき法によりＮｉ−Ｐ下地膜を１５μｍ形成し、下地膜
を１０μｍまで研磨して、触針式表面粗さ計で測定した
平均粗さ（Ｒａ）２ｎｍ以下，最大粗さ（Ｒｍａｘ）５
ｎｍ以下になるように鏡面加工をした。

【００３５】次に、ＮｉＰ膜面を表面処理した基板上に
、実施例１と同様のスパッタ法によりＣｒを含む中間層
を０．２μｍ　，ＣｏＮｉＣｒ磁性層を４０ｎｍ，Ｃ保
護層を３０ｎｍ形成した。次に、Ｃ保護膜表面を酸素プ
ラズマで表面処理した後、実施例１と同様にフッ素系の
液体潤滑剤をディップ法で塗布して、磁気ディスクを形
成した。ＦＴＩＲで潤滑剤の付着量を評価した結果、約
８ｎｍで、また、純水に対する接触角は約６０ｄｅｇ．
であった。

【００３６】一方、潤滑剤を塗布しない状態でのＣ保護
膜の、ＺｒＯ２−Ｙ２Ｏ３　のＲ３０の摺動子に対する
静摩擦係数を実施例１と同条件で測定したところ、０．
４−０．４５であった。

【００３７】磁気記録媒体とＺｒＯ２−Ｙ２Ｏ３　スラ
イダをもつ薄膜磁気ヘッドを組み合わせて、実施例１と
同条件でＣＳＳ試験を実施して、摺動信頼性を評価した
。その結果、約三万回のＣＳＳ試験後も磁気記録媒体に
は何ら損傷は認められなかった。 〈実施例３〉保護層として、メタン−水素混合ガスを原
料としたプラズマＣＶＤ法で２０ｎｍ形成したＣ膜（い
わゆるｉ−Ｃ）を用いたほかは，実施例２と同様な方法
で磁気記録媒体を作製した。次に、実施例２と同様に液
体潤滑剤を塗布する前に酸素プラズマで表面を処理した
。ＦＴＩＲで測定した潤滑剤の膜厚は５ｎｍ、また、純
水に対する接触角は約６０ｄｅｇ．であった。

【００３８】実施例２と同条件で測定したＺｒＯ２−Ｙ
２Ｏ３に対する静摩擦係数は０．３　−０．３５　であ
った。

【００３９】磁気記録媒体とＺｒＯ２−Ｙ２Ｏ３　スラ
イダをもつ薄膜磁気ヘッドを組み合わせて、実施例１と
同条件でＣＳＳ試験を実施して、摺動信頼性を評価した
。その結果、約三万回のＣＳＳ試験後も磁気記録媒体に
は何ら損傷は認められなかった。 〈実施例４〉基板として、触針式表面粗さ計で測定した
平均粗さ（Ｒａ）３ｎｍ以下，最大粗さ（Ｒｍａｘ）８
ｎｍ以下になるように鏡面加工した外径２．５インチの
強化ガラス円板を用いたほかは、実施例１と同様な方法
で図２に示す構成の磁気記録媒体を作製した。

【００４０】スライダ材料のＡｌ２Ｏ３−ＴｉＣのＲ３
０の球面を持つ摺動子に対する静摩擦係数は０．１７−
０．２５であった。また、ディスク表面にフッ素系の液
体潤滑剤をディップ法で、約８ｎｍ付着させて磁気デイ
スクを得た。このディスク表面の純水に対する接触角を
測定したところ約１００ｄｅｇ．であった。

【００４１】上記の磁気記録媒体とＡｌ２Ｏ３−ＴｉＣ
スライダをもつ薄膜磁気ヘッドを組み合わせて、実施例
１と同条件でＣＳＳ試験を実施して、摺動信頼性を評価
した。その結果、約三万回のＣＳＳ試験後も磁気記録媒
体には何ら損傷は認められなかった。

【００４２】〈比較例１〉実施例１と同様の基板を用い
、磁性膜までは実施例１と同条件で成膜した。その後、
ＤＣスパッタ法でＣ保護膜を２０ｎｍ形成し、実施例１
と同じフッ素系液体潤滑剤をディップ法で付着させた。

【００４３】上記の潤滑剤の膜厚をＦＴＩＲで測定した
ところ約３ｎｍであり、また、純水に対する接触角は約
４０ｄｅｇ．であった。

【００４４】さらに、潤滑剤を付着しない状態でのスラ
イダ材料であるＡｌ２Ｏ３−ＴｉＣのＲ３０の球面を持
つ摺動子に対する静摩擦係数を、実施例１と同条件で測
定したところ０．４５−０．４９であった。

【００４５】実施例１と同様に装置を組み、ＣＳＳ試験
により摺動信頼性を評価したところＣＳＳ約一万回で磁
気記録媒体面に損傷が発生した。

【００４６】上記実施例では磁気記録媒体の保護膜材料
は極限定したものについて示したが、本発明はこれに限
定されるものではない。保護膜材料は例えば、Ｃｒ，Ｚ
ｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，Ｓｎ及びＴａから選ばれた一種類
の元素と少なくとも酸素を含む膜あるいはＮｂあるいは
ＴａとＡｌ及び酸素を含む膜等が適用でき、これらの材
料と静摩擦係数が０．０５〜０．６の間にある材料から
選定されたスライダ材料をもつヘッドを組み合わせて本
発明の磁気記録装置を組み立てることができる。ヘッド
の形状あるいはスライダ材料についても何ら制約はなく
、磁気記録媒体と接触する部分の材料が本発明の特性を
もつものから選定されているものは本発明の思想に含ま
れる。

【００４７】

【発明の効果】本発明によれば、ヘッドと磁気記録媒体
間の摩擦力や吸着力が低く、長期にわたって特性劣化の
小さい高性能磁気ディスク装置を提供することができる
。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例の磁気記録媒体の断面図。

【図２】本発明の他の実施例の磁気記録媒体の断面図。

【図３】磁気ディスク装置を示す説明図。

【符号の説明】

１…アルミニウム合金円板、２…下地層、３…中間層、
４…磁性層、５…保護層、６…潤滑膜、７…ガラス基板
、８…ベース、９…スピンドル、１０…モータ、１１…
磁気記録媒体（磁気ディスク）、１２…磁気ヘッド、１
３…キャリジ、１４…ボイスコイル、１５…マグネット
。

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】磁気記録媒体と磁気ヘッドを含む磁気記録
   装置において、前記磁気記録媒体が非磁性基体上に磁性
   層及び保護層を積層し、前記保護層及び前記磁気ヘッド
   のスライダ材料が、両材料間の静摩擦係数０．０５〜０
   ．６の間にある材料の組み合わせから選定されているこ
   とを特徴とする磁気記録装置。
2. 【請求項２】請求項１において、前記保護層にフッ素系
   液体潤滑剤を塗布後、水に対する接触角が５０度以上で
   ある材料から選定され、前記保護層を用いた磁気記録媒
   体を用いている磁気記録装置。
3. 【請求項３】請求項１において、前記保護層がスパッタ
   法，プラズマＣＶＤ法または蒸着法で形成された膜厚５
   〜５０ｎｍの薄膜からなり、保護膜をもった磁気記録媒
   体とセラミックス製のスライダから構成される薄膜磁気
   ヘッドを用いて構成されている磁気記録装置。
4. 【請求項４】請求項１において、前記保護層が少なくと
   も周期律表のＩＩＩａ，ＩＩＩｂ，ＩＶａ，ＩＶｂ，及
   びＶａ族から選ばれた一種類の元素と少なくとも酸素を
   含む膜で構成され、前記保護層を用いた磁気記録媒体と
   前記保護層の材料との静摩擦係数が０．０５〜０．６　
   の間にあるスライダ材料をもつ磁気ヘッドを組み合わせ
   ている磁気記録装置。
5. 【請求項５】請求項１において、前記保護層が周期律表
   のＣｒ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，Ｓｎ及びＴａから選ば
   れた一種類の元素と酸素を含む膜で構成され、前記保護
   層を用いた前記磁気記録媒体と前記保護層の材料との静
   摩擦係数が０．０５〜０．６の間にあるスライダ材料を
   もつ磁気ヘッドを組み合わせている磁気記録装置。
6. 【請求項６】請求項１において、前記保護層が周期律表
   のＴａあるいはＮｂとＡｌ及び酸素を含む膜で構成され
   、前記保護層を用いた前記磁記録媒体とＡｌ２Ｏ３ある
   いはＺｒＯ２　を主成分とするセラミックス製スライダ
   を用いた磁気ヘッドを組み合わせた磁気記録装置。
7. 【請求項７】請求項１において、前記保護層がヌープ硬
   度１０００ｋｇｆ／ｍｍ２以上の材料で構成され、前記
   保護層の硬度以上の硬度をもつスライダ材料を用いた磁
   気ヘッドを組み合わせた磁気記録装置。
8. 【請求項８】請求項２において、アルミ合金，ガラス，
   プラスチック及びセラミックスの一つから選ばれた非磁
   性基体上に前記磁性層、前記保護層を形成した後、必要
   であれば前記保護層の表面に表面微細凹凸を形成した後
   、潤滑層を形成した前記磁気記録媒体とセラミックス製
   スライダをもつ磁気ヘッドから構成される磁気記録装置
   。