JPH0514324B2

JPH0514324B2 -

Info

Publication number: JPH0514324B2
Application number: JP60191579A
Authority: JP
Inventors: Toshuki Kanno; Hitoshi Watanabe; Yasutaro Yasuda; Hiroyuki Kato; Takashiro Azuma
Original assignee: Toagosei Co Ltd; Olympus Corp
Current assignee: Toagosei Co Ltd; Olympus Corp
Priority date: 1985-08-30
Filing date: 1985-08-30
Publication date: 1993-02-24
Also published as: JPS6252714A

Description

【発明の詳細な説明】

〔産業上の利用分野〕本発明は基体上に真空蒸着、イオンプレーテイ
ング、スパツタリング又はメツキ法等により設け
た強磁性金属薄膜上及び又は基体の裏面上に潤滑
被覆層を形成させてなる表面改質された磁気記録
媒体に関するものである。その目的とするところは記録媒体として強磁性
金属薄膜を使用する磁気記録媒体の走行安定生、
耐久性および耐食性を改善する事にある。〔従来技術及びその問題点〕近年強磁性金属粉末をバインダーとともに基体
上に塗布乾燥してつくられた磁気記録媒体に代つ
て、更に高密度の磁気記録性に優れている強磁性
金属薄膜の磁性層を基体上に蒸着、スパツタリン
グ等によつて被着形成した磁気記録媒体が、オー
デイオ録音、ビデオ録画および８ｍ／ｍビデオ録
画用テープをはじめ、垂直磁気記録、光磁気デイ
スク等の記録メモリーとして特に注目されて来て
いる。しかし、この金属磁性層は空気中の酸素、水分
等によつて腐食し易く、また磁気ヘツド、ドラム
およびポスト等との接触走行により摩耗し易い。
そこで該テープの表面に対し電磁変換特性を低下
させることなく、耐食性、耐摩耗性を向上させる
と共に、低摩擦性で薄く均一な厚さを有しかつ強
固な密着力と平面性を付与することが可能な、潤
滑性表面処理剤と処理方法について多くの研究開
発がなされている。従来提案されている方法のひとつとして、金属
薄膜表面との吸着等を利用して、潤滑剤（高級脂
肪酸及びその塩類、脂肪酸アマイドおよびフツ素
系界面活性剤等）、ワツクス、およびシリコーン
系オイル、フツ素系オイル等の処理剤を塗布する
方法も提案されているが、この方法では、磁気ヘ
ツド等に対する摩擦性を減じ、一時的に耐久性を
向上させるが、使用に伴い処理剤が揮発したり、
けずり取られたりして、その効果を長く持続させ
ることは困難である。又磁性体自体の合金化により高硬度にしたり、
他金属膜やケイ素化合物等の無機化合物の膜を蒸
着やスパツタリング等の方法により形成させ、高
硬度で耐食性を有する被膜を得る方法が提案され
ているが、この方法は、耐食性および耐摩耗性等
の改善に効果はあるけれど、密着力は往往にして
不十分であり、一方高硬度のため急速に記録媒体
およびトランスポーターの破壊を生ずる等の問題
とともに、複雑な処理を必要とし、コスト的に高
価となり、満足のいく結果は得られていない。別の方法として磁性層の表面又は基体の裏面
を、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、フツ素樹
脂、エポキシ樹脂、エステル樹脂および放射線、
紫外線硬化型樹脂等の高分子物質で被覆する事が
多く提案されている。これは低摩擦性、耐食性お
よび耐久性等において、一時的に効果があるが、
スペーシングロスと称する電磁変換特性の低下を
もたらすことを考慮すれば、高分子物質被膜は
高々500Å、望ましくは200Å程度の膜厚で均一平
滑な平面性を有しなければならない。ところがか
かる膜厚では完全に水分の浸入を防止する事は困
難であり走行中の摩擦変動があつたり、耐摩耗
性、耐薬品性の点で難点がある。また公知の高分
子物質の塗布による表面処理では出力変動の少な
い均一な薄膜を形成することは困難である。又基体裏面についても、テープ鳴き、走行安定
性および耐久性を向上させる為に耐摩耗性、潤滑
性の付与が強く要求され、非磁性体金属、Al、
Cu、Ag等の金属層を形成させたり、滑剤を含有
した高分子層を形成させたりして、バツクコート
層を施すことが提案されている。しかしいずれにしても、従来技術によれば強磁
性金属薄膜の保護膜として又、基体の裏面処理剤
として未だ満足なるものは得られていない。〔問題点を解決するための手段〕本発明者らは従来より提案された公知の方法の
欠点を克服すべく鋭意研究した結果、本発明に到
達したものである。本発明の目的は上述した従来技術の諸欠点を解
消し、基体上に真空蒸着、イオンプレーテイン
グ、スパツタリング又はメツキ法等により設けた
強磁性金属薄膜の磁性層表面及び又は基体の裏面
上に、電磁変換特性を低下させることなく、低摩
擦性で耐摩耗性および耐食性に優れた均一な保護
膜を設けてなる磁気記録媒体を提供せんとするも
のである。本発明に係る磁気記録媒体の一例は、ポリエチ
レンテレフタレートフイルム（以下PETフイル
ムと称する。）ポリイミドフイルム又はポリアミ
ドフイルム等、或いはポリカーポネート板、アク
リル樹脂板又はガラス板等の如き基体上に、真空
蒸着、イオンプレーテイング、スパツタリング又
はメツキ法等により、Fe、Co、Ni、Cr、Ga、
Ge等をはじめとした磁性を有した金属等又はこ
れらを主成分とする合金の強磁性金属薄膜を磁性
層として設けた後、その表面又は基体の裏面に、
フルオロアルキル基および基Si−OCH₃を有する
フツ素系ポリマーの硬化物であつて、フルオロア
ルキル基の低摩耗性、耐食性に優れた効果を発現
し、基Si−OCH₃により、該ポリマーが架橋硬化
し、強じんで、耐摩耗性に優れ、且つ磁性層等と
の密着性を向上するものであり、本ポリマー単独
で若しくは他の表面処理剤と併用して保護膜を設
けてなるものである。本発明においては磁性層を設けた後、所要に応
じて該磁性層の耐久性および密着性を向上させる
ため、磁性層表面上又は基体の表面に、高分子化
合物、無機化合物（SiO₂等）の形成および磁性
体自体の合金化等の下地処理を施して下地層を形
成させ、ついで潤滑被覆層を形成させてもよい。本発明に用いるポリマー中のフルオロアルキル
基のアルキル基炭素数は、低摩擦性、耐食性を発
現させる目的で１〜20、好ましくは４〜20の範囲
にすることが望ましい。アルキル基の炭素数が20
を越えると、前記性能の向上は認められなくなり
易い。本発明で用いるポリマー（以下本発明ポリマー
と略す）の製造方法は、フルオロアルキルアクリ
レート単量体またはフルオロアルキルメタアクリ
レート単量体（以下、フルオロモノマーという）
と、基Si−OCH₃を有するビニル単量体（以下シ
リルモノマーと略す）と場合によつては他のモノ
マー（以下第３モノマーと略す）の三者によるラ
ジカル共重合が最も好ましい。上記フルオロモノマーとしては、次のものを挙
げることができる。

【式】（ｍ＝４〜14の混合物）及びフツ素系マクロモノマー等を挙げることが
できる。ここにＲは水素原子あるいはメチル基、ＸはＦ
又はCF₃、ｎは２〜７の整数を表わす。これらの
フルオロモノマーのうち、フルオロアルキル基の
アルキル基が４〜２のものが好ましい。例えば

〔発明の実施例〕

次に本発明の合成例、実施例、比較例をあげて
説明するが、これは多くの実験の中の一部を挙げ
たのみでこれに限定されるべきものではない。な
お、各例における部は重量部を、％は重量％を表
わし、また蒸着テープ走行時における摩擦係数は
次式によつて求めた。 μ＝１／θlnT₁／T₀ T₀：インテンシヨン T₁：アウトテンシヨンスピード：14.2mm／sec 合成例１フルオロモノマーとして

【式】（ｎ＝8.10、 12、14の混合物）50部、シランモノマーとしてγ
−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン
50部、溶媒としてメチルエチルケトン（MEK）
200部、ラジカル重合開始剤としてアゾビスイソ
ブチロニトリル（以降AIBNと略称する）２部を
コンデンサー、撹拌機、温度計を備えたフラスコ
に入れ、窒素雰囲気中90℃の温度で４時間反応さ
せ、本発明ポリマーを得た。合成例２フルオロモノマーとして

〔組成物〕

Γ合成例３により得た本発明ポリマー 30部 Γアクリルポリオールの共重合体（重量平均分子
量約80000のメチルメタクリレート／ブチルア
クリレート／スチレン／２−ヒドロキシエチル
メタクリレートの共重合体） 43部 Γポリテトロフロロエチレンパウダー（ヘキスト
ジヤパン社製；TF−9205）３部 Γ導電性カーボン（コロンビヤカーボン）５部 Γキシレンジイソシアネート（硬化剤） 18.9部 Γジブチルチンジラウレート（硬化剤） 0.1部実施例２下記成分割合の組成物をメチルエチルケトン／
酢酸エチル／トルエン＝３／1.5／0.5（重量比）
の混合溶剤で溶解して３％の濃度の表面処理剤を
調製した。つづいて、この処理剤を実施例１と同
様な蒸着テープの磁性層上にスリツトバースコー
ト法により塗布した後、90℃、３分間の熱風乾燥
を施して硬化させ、厚さ約300Åの潤滑被覆層を
形成した。〔組成物〕 Γ合成例２により得た本発明ポリマー 20部 Γ平均分子量80000のポリオールタイプのアクリ
ル共重合体 55部 Γキシレンジイソシアネート（硬化剤） 25部また、前記テープの裏面に実施例１と同様な裏
面処理剤を用いて厚さ1μｍの潤滑被覆層を形成
した。実施例３合成例１によつて得られた本発明ポリマー単独
にジブチルスズジラウレート（触媒）該ポリマー
に対して0.5％濃度で添加し、これをメチルエチ
ルケトン／酢酸エチル／トルエン＝３／1.5／0.5
（重量比）の混合溶剤に溶解して３％濃度の表面
処理剤を調製した。つづいて、この処理剤を用い
て実施例１と同様に蒸着テープの磁性層上に厚さ
約300Åの潤滑被覆層を形成した。また、前記テープの裏面に実施例１と同様な裏
面処理剤を用いて厚さ1μｍの潤滑被覆層を形成
した。比較例１ステアリン酸をトルエン／MEK＝１／１（重量
比）の混合溶剤中に溶解し、３％濃度の表面処理
剤を調製した。つづいて、この処理剤を用いて実
施例１と同様な蒸着テープの磁性層上にスリツト
バースコート法により塗布し、90℃、２分間の熱
風乾燥を行なつて硬化させ、厚さ約300Åの潤滑
被覆層を形成した。また、実施例１と裏面処理剤を構成する組成物
中の本発明ポリマーを除いた組成物をメチルエチ
ルケトン／酢酸エチル／トルエン＝２／１／１
（重量比）の混合溶剤に溶解して15％濃度の裏面
処理剤を調製した。つづいて、この処理剤を前記
テープの裏面にグラビヤコーテイング方式により
塗布し、90℃、３分間の熱風乾燥を行なつて厚さ
約1μｍの潤滑被覆層を形成した。比較例２下記構造式のアクリル系二重結合を有し、かつ
分子内のシリコン中にビニル基を有する化合物を
メチルエチルケトン／イソブチルケトン＝１／１
（重量比）の混合溶剤に溶解して３％濃度の表面
処理剤を調製した。つづいて、この処理剤を実施
例１と同様な蒸着テープの磁性層上にスリツトリ
バースコート法により塗布した後、90℃、１分間
の熱風乾燥を施し、更に電子線を15Mradの条件
で照射して厚さ約300Åの潤滑被覆層を形成した。また、前記テープの裏面に比較例１と同様な裏
面処理剤を用いて厚さ1μｍの潤滑被覆層を形成
した。比較例３下記成分割合の組成物をトルエン／MEK＝
１／１（重量比）の混合溶剤に溶解して３％濃度
の表面処理剤を調製した後、この処理剤を実施例
１と同様な蒸着テープの磁性層上にスリツトリバ
ースコート法により塗布し、90℃、３分間の熱風
乾燥を行なつて厚さ約300Åの潤滑被覆層を形成
した。〔組成物〕 Γ平均分子量80000のポリオールタイプのアクリ
ル共重合体 60部 Γキシレンジイソシアネート（硬化剤） 38部 Γ脂肪酸エステル（グリセリンモノステアレー
ト）；滑剤２部また、前記テープの裏面に比較例１と同様な裏
面処理剤を用いて厚さ1μｍの潤滑被覆層を形成
した。しかして、本実施例１〜３及び比較例１〜３の
潤滑被覆層を表裏面に形成した蒸着テープについ
て特性を調べた。その結果を下記表に示す。

〔発明の効果〕

以上詳述した如く本発明によれば、磁性層表面
に耐摩耗性、潤滑性、磁性層の耐食性、磁性層と
の密着性に優れたトツプコート層を形成でき、又
基体裏面には耐摩耗性、潤滑性、基体との密着性
に優れたバツクコート層を形成できる。このよう
にして形成した保護膜を磁性層に悪影響を及ぼさ
ず、電磁変換特性を低下させることがなく、低摩
擦性で耐食性および耐摩耗性等が優れているの
で、走行安全性および耐久性に優れた磁気記録媒
体を提供できる。

Claims

【特許請求の範囲】

１基体上に設けられた強磁性金属薄膜からなる
磁性層の表面及び／又は基体の裏面に、(a)フルオ
ロアルキルアクリレート単量体またはフルオロア
ルキルメタアクリレート単量体と(b)基Si−OCH₃
を有するビニル単量体単位とを必須構成成分とす
るフツ素系ポリマーの硬化物からなる潤滑被覆層
を形成してなる磁気記録媒体。