JPH0258685B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

(イ) 発明の目的 〔産業上の利用分野〕 本発明は基体上に真空蒸着、イオンプレーテイ
ング、スパツタリング又はメツキ法等により設け
た強磁性金属薄膜上及び又は基体の裏面上に潤滑
被覆層を形成させてなる表面改質された磁気記録
媒体に関するものである。 〔従来の技術〕 近年、強磁性金属粉末をバインダーとともに基
体上に塗布乾燥してつくられた磁気記録媒体に代
つて、更に高密度の磁気記録性に優れている強磁
性金属薄膜の磁性層を基体上に蒸着、スパツタリ
ング等によつて被着形成した磁気記録媒体が、オ
ーデイオ録音、ビデオ録画および8m／ｍビデオ
録画用テープをはじめ、垂直磁気記録、光磁気デ
イスク等の記録メモリーとして特に注目されて来
ている。 また、従来提案されている方法のひとつとし
て、金属薄膜表面との吸着等を利用して、潤滑剤
（高級脂肪酸及びその塩類、脂肪酸アマイドおよ
びフツ素系界面活性剤等）、ワツクス、およびシ
リコーン系オイル、フツ素系オイル等の処理剤を
塗布する方法も提案されている。 また、磁性体自体の合金化により高硬度にした
り、他金属膜やケイ素化合物等の無機化合物の膜
を蒸着がスパツタリング等の方法により形成さ
せ、高硬度で耐食性を有する被膜を得る方法が提
案されている。 さらに別の方法として磁性層の表面又は基体の
裏面を、ウレタン樹脂、シリコン樹脂、フツ素樹
脂、エポキシ樹脂および放射線、紫外線硬化型樹
脂等の高分子物質で被膜する事が多く提案されて
いる。 一方、基体裏面についても、テープ鳴き、走行
安定性および耐久性を向上させる為に耐摩耗性、
潤滑性の付与が強く要求され、非磁性体金属、
Al，Cu，Ag等の金属層を形成させたり、バツク
コート層を施すことが提案されている。 〔発明が解決しようとする問題点〕 前記した強磁性金属薄膜の磁性層を基体上に蒸
着、スパツタリング等によつて被着形成した磁気
記録媒体は、その金属磁性層が空気中の酸素、水
分等によつて腐食し易く、また磁気ヘツド、ドラ
ムおよびポスト等との接触走行により摩耗し易
い。そこで該テープの表面に対し電磁変換特性を
低下させることなく、耐食性、耐摩耗性を向上さ
せると共に、低摩擦性で薄く均一な厚さを有しか
つ強固な密着力と平面性を付与することが可能
な、潤滑性表面処理剤と処理方法について多くの
研究開発がなされている。 また、金属薄膜表面に潤滑剤等を塗布する方法
では、磁気ヘツド等に対する摩擦性を減じ、一時
的に耐久性を向上させるが、使用に伴い処理剤が
揮発したり、けずり取られたりして、その効果を
長く接続させることは困難である。 また、磁性体自体の合金化により高硬度にした
り、特定の無機化合物の膜を蒸着やスパツタリン
グ等の方法により形成させ、高硬度で耐食性を有
する被膜を得る方法は、耐食性および耐摩耗性等
の改善に効果はあるけれど、密着力は往々にして
不十分であり、一方高硬度のため急速に記録媒体
およびトランシユーサーの破壊を生ずる等の問題
とともに、複雑な処理を必要とし、コスト的に高
価となり、満足のいく結果は得られない。 さらに磁性層の表面又は基体の裏面を、特定の
高分子物質で被覆する方法は、低摩擦性、耐食性
等において、一時的に効果があるが、スペーシン
グロスと称する電磁変換特性の低下をもたらすこ
とを考慮すれば、高分子物質被膜はたかだか
500A、望ましは200A程度の膜厚で均一平滑な平
面性を有しなければならない。ところがかかる膜
厚では完全に水分の侵入を防止する事は困難であ
り、耐摩耗性、耐薬品性の点で難点がある。また
公知の高分子物質の塗布による表面処理では出力
変動の少ない均一な薄膜を形成することは困難で
ある。 しかしいずれにしても、従来技術によれば強磁
性金属薄膜の保護層として又、基体の裏面処理剤
として末だ満足なるものは得られていない。 (ロ) 発明の構成 〔問題点を解決するための手段〕 本発明者らは従来より提案された公知の方法の
欠点を克服すべく鋭意研究した結果、本発明に到
達したものである。 本発明の目的は上述した従来技術の諸欠点を解
消し、基体上に真空蒸着、イオンプレーテイン
グ、スパツタリング又はメツキ法等により設けた
強磁性金属薄膜の磁性層表面及び又は基体の裏面
上に、電磁変換特性を低下させることなく、低摩
擦性で耐摩耗性および耐食性に優れた均一な保護
膜を設けてなる磁気記録媒体を提供せんとするも
のである。 即ち、本発明は基体上に設けられた強磁性金属
薄膜からなる磁性層の表面及び／又基体の裏面に
カルボキシル基及び／又はヒドロキシル基を有す
るフツ素系、又はシリコーン系グラフトポリマー
（以下、本発明グラフトポリマーと略す）からな
る潤滑被覆層を形成してなる磁気記録媒体であ
る。 本発明に係る磁気記録媒体の一例は、ポリエチ
レンテレフタレートフイルム（以下PETフイル
ムと称する。）、ポリイミドフイルム又はポリイミ
ドフイルム等、或いはポリカーボネート板、アク
リル樹脂板又はガラス板等の如き基体上に、真空
蒸着、イオンプレーテイング、スパツタリング又
はメツキ法等により、Fe，Co，Ni，Cr，Ga，
Ge等をはじめとした磁性を有した金属等又はこ
れらを主成分とする合金の強磁性金属薄膜を磁性
層として設けた後、その表面又基体の裏面に、カ
ルボキシル基及び／又はヒドロキシル基を有する
フツ素系又は、シリコーン系グラフトポリマーを
単独で又は詳細は後述する表面処理剤を併用した
処理剤から得られる保護層を設けてなるものであ
る。 本発明においては磁性層を設けた後、所要に応
じて該磁性層の耐久性および密着性を向上させる
ため、磁性層表面上又は基体の裏面に、高分子化
合物、無機化合物（SiO₂等）等の形成および磁
性体自体の合金化学等の下地処理を施して下地層
を形成させ、ついで潤滑被覆層を形成させてもよ
い。 〔本発明グラフトポリマー〕 本発明グラフトポリマーは、カルボキシル基及
び／又はヒドロキシル基を有するフツ素系又はシ
リコーン系グラフトポリマーであつて、その製造
方法はいかなる方法も採用されうるが、マクロモ
ノマーを用いる方法即ちマクロモノマー法が好適
であり、特にラジカル重合性マクロモノマーとラ
ジカル重合性モノマーとの共重合による製造方法
が最も好ましい。 本発明で用いるマクロモノマーとしては、ラジ
カル重合性シリコーンマクロモノマー及びフツ素
系マクロモノマーを含むその他ラジカル重合性マ
クロモノマーがあげられる。 （ラジカル重合性シリコーンマクロモノマーの製
造方法） 本発明でいうラジカル重合性シリコーンマクロ
モノマーとは、分子鎖の片末端に重合性官能基を
有する数平均分子量1000〜20000の重合体を主体
とする比較的低分子量の重合体をいい、該ラジカ
ル重合性シリコーンマクロモノマーは、次のよう
な各種の製法によつて得られたものであり、それ
らのいずれも使用できる。 製法の一例は、下記一般式(a)で示される環状シ
ロキサンをアニオン重合してなるリビングポリマ
ーと下記一般式(b)で示されるラジカル重合性シリ
コーン化合物とを反応させてラジカル重合性シリ
コーンマクロモノマーを得る方法である（特開昭
59−126478公報）。 ただし、R₁はメチル基、エチル基又はフエニ
ル基であり、Ｐは３又は４である。 又は

【式】 ただし、R₂は水素又はメチ基、ｍは０又は１，
R₃，R₄はメチル基、エチル基又はフエニル基、
ｎは１〜３の整数であり、ｌはｍ＝０の場合０〜
２の整数、ｍ＝１の場合２である。 上記環状シロキサンのアニオン重合は常法に従
つて行なえばよく、公知のアニオン重合開始剤を
用い、塊状重合法又は溶液重合法により容易に行
うことができる。 一般式(a)で示される環状シロキサンの例として
は、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタ
メチルクロテトラシロキサン、ヘキサエチルシク
ロトリシロキサン、オクタエチルシクロテトラシ
ロキサン、ヘキサフエニルシクロトリシロキサ
ン、オクタフエニルシクロテトラシロキサンがあ
げられるが、このうちヘキサメチルシクロトリシ
ロキサン及びオクタメチルシクロテトラシロキサ
ンがコスト、アニオン重合の容易さの点で特に好
ましい。アニオン重合開始剤としては、有機リチ
ウム化合物、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金
属アルコキシド、アルカリ金属シラノレート等の
公知のものがあげられるが、これらのうち有機リ
チウム化合物が特に好ましい。アニオン重合によ
り得られるリビングポリマーの分子量はシリコー
ンマクロモノマーの分子量を支配するものであ
り、環状シロキサンと開始剤のモル比により調節
され、開始剤／環状シロキサンのモル比は0.01〜
0.2が好ましい。0.01未満ではシリコーンマクロ
モノマーが極めて高分子量（２万を越える）とな
り、0.2を越えるとシリコーンマクロモノマーが
極めて低分子量（1000未満）となりやすい。シリ
コーンマクロモノマーの数平均分子量は、1000〜
20000であるが、該分子量が1000未満では、シリ
コーンの効果即ち、撥水、撥油性、低摩擦性が低
下し、耐候性も若干低下し、また20000を越える
と、得られる塗料樹脂がオイル状となりやすいか
らである。 シリコーンマクロモノマーは、上記のようにし
て得られたリビングポリマーと一般式(b)で示され
るラジカル重合性シリコーン化合物を反応（リビ
ング重合停止反応）することにより得ることがで
きる。該反応は両者を混合することにより容易に
行なわれる。 一般式(b)で示されるラジカル重合性シリコーン
化合物は、公知の方法により容易に得ることがで
き、例えば （R₃）₃−ｎ Cl_o （R₂，ｌ，ｍ，R₃は前記に同じ） は、 （R₂，ｌ，ｍは前記に同じ） なる不飽和（メタ）アクリレートと HSi（R₃）₃−nCl_o（R₃，ｎは前記に同じ） とのヒドロシリル化反応により得ることができ
る。該ラジカル重合性シリコーン化合物の使用量
は、リビング重合開始剤１当量（１モル）に対し
一般式(b)のSi−Clが１〜５倍当量となる量が好ま
しい。 シリコーンマクロモノマーの他の製法の例は、
下記一般式(a)′で示されるシリコーンとその１モ
ル当り下記一般式(b)′で示されるアクリル化合物
0.25〜１モルとを縮合反応させてラジカル重合性
シリコーンマクロモノマーを得る方法である（特
開昭58−154766号公報）。

〔潤滑被覆層の形成〕

前記のようにして得られた本発明グラフトポリ
マーは、単独でも例えば、溶剤に溶解した溶液を
塗布後加熱乾燥することにより所期の優れた性能
を発現できるが、本グラフトポリマーに詳細は後
述する架橋硬化性を有するか有しない表面処理剤
を添加溶解し、この混合物を例えば加熱重合硬
化、常温重合硬化、活性エネルギー線による硬
化、架橋剤による架橋硬化等の手段によつて硬化
することにより磁性層の表面及び又基体の裏面に
優れた潤滑被覆層が形成される。 本発明における潤滑被覆層は、通常カルボキシ
ル基及び／又はヒドロキシル基を有するフツ素系
又はシリコーン系グラフトポリマー自体からなつ
ているが、後述する架橋硬化型の表面処理剤とそ
の架橋剤を使用した場合にはグラフトポリマーの
一部が架橋硬化して部分反応硬化物となることが
あり、そのような部分架橋したグラフトポリマー
本発明にいうグラフトポリマーの一種である。 何故ならば、本発明グラフトポリマーは表面移
行能力に極めて優れているため、該混合物を通常
の環境、即ち空気中あるいは不活性ガス例えば窒
素中で成膜すれば塗膜表面に本発明グラフトポリ
マーが移行濃縮し塗膜表面を容易に改質できるか
らである。 本発明グラフトポリマーと表面処理剤との混合
物をトツプコートあるいはバツクコートに用いる
場合、使用できる表面処理剤としては、本発明グ
ラフトポリマーを溶解する表面処理剤であれ、い
ずれの表面処理剤でも使用できる。表面処理剤は
ポリマーまたはポリマーと溶剤とで構成される。
ポリマーとしては、例えばα，β−エチレン性不
飽和単量体、α，β−エチレン性不飽和カルボン
酸およびこれらの誘導体の多元重合体、重縮合反
応よる重合体、重付加反応による重合体等のごと
きポリマーそれ自体を使用できる他、ラジカル重
合性成分からなる硬化性組成物等をポリマー前駆
物質として用いる事もできる。ポリマーの具体例
を示せばα，β−エチレン不飽和単量体としては
スチレン、アクリロニトリル、塩化ビニル等があ
げられ、α，β−エチレン性不飽和カルボン酸と
して（メタ）アクリル酸、マイレン酸等の一価及
び二価のカルボン酸があげられる。又α，β−エ
チレン性不飽和カルボン酸の誘導体としては（メ
タ）アクリル酸のアルキルエステル例えばエチ
ル、ブチル、２−エチルヘキシル等のエステルで
あり、又アクリル酸又はメタクリル酸のヒドロキ
シアルキルエステルとしては（メタ）アクリル酸
ヒドロキシエチルエステル、ヒドロキシプロピル
エステル等をあげることができる。これらの単量
体を組み合わせて重合することにより得られる常
乾型ラツカーあるいは焼付型クリヤーエナメルが
表面処理剤の例として挙げられる。 上記重縮合反応による重合体としては通常の重
縮合反応により得られる線状ポリエステル樹脂、
アルキツド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂
等を挙げるとができる。 また重付加反応による重合体としては通常の重
付加反応により得られるポリウレタン樹脂、ポリ
尿素樹脂等を挙げることができる。その他シリコ
ーン樹脂およびフツ素樹脂コーテイング剤も挙げ
ることができる。 またエチルセルローズ、ブチルセルローズ、ニ
トロセルローズ等のセルローズ誘導体等をこれら
ポリマーと併用する事もできる。ポリマー前駆物
質としてのラジカル重合性成分からなる硬化性組
成物を用いる場合は、ラジカル重合開始剤を用い
て加熱重合硬化する方法、ラジカル重合開始剤と
重合硬化促進剤を併用し、常温付近でレドツクス
重合硬化する方法や、光重合開始剤を用いた紫外
線硬化又は重合開始剤を用いても用いなくてもよ
い電子線硬化等の種々の硬化手段があり、かかる
手段によつて重合硬化する組成物であればいずれ
も使用できる。ラジカル重合性成分としては、具
体的には（メタ）アクリル酸エステル単量体、不
飽和ポリエステル、ポリエステル（メタ）アクレ
ート、ウレタン（メタ）アクレート、エポキシ
（メタ）アクリレート、ポリアミド（メタ）アク
リレート等を挙げる事ができる。 この本発明グラフトポリマーの表面処理剤への
添加量は表面処理剤のポリマー又はラジカル重合
性成分に対して0.01重量％以上が好ましい。添加
量が0.01重量％未満では塗膜表面に所期の目的の
硬化を充分発揮できない。 これら表面処理剤は有機溶剤に溶解して用いて
も、又有機溶剤に溶解しなくても用いることはで
きるが、一般には有機溶剤型表面処理剤として用
いた方が好ましい。それは、本発明グラフトポリ
マーの溶解性を高め、本発明グラフトポリマーの
被膜表面への移行性を高め、本発明の一つの目的
である電磁変換特性に悪影響を与えない薄膜を形
成させる事ができるとともに、粘度低下による均
一な平滑面を得ることができるからである。使用
可能な溶剤としてはトルエン、キシレン、シクロ
ヘキサン等の炭化水素系溶剤や酢酸エチル、酢酸
ブチル等のエステル系溶剤あるいはメチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶
剤、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等があ
り、これらの各種溶剤の一種又は二種以上が好ま
しく用られる。又処理剤を塗布する際の手段によ
つては帯電防止剤、体質願料、ワツクスおよびレ
ベリング剤等の添加剤を添加してもよい。 上述した本発明グラフトポリマー単独又は上記
各種表面処理剤とを併用してなる潤滑特性を有し
た処理剤を、各種プラスチツクおよびガラス等の
基体上に真空蒸着、イオンプレーテイング、スパ
ツタリングおよびメツキ法等によつて設けられた
強磁性金属薄膜からなる。テープ、垂直磁気記録
及び光磁気デイスク等の各種記録媒体の表面又は
基体の裏面に塗布するが、この方法は記録媒体の
形状によつて異なり、公知の方法即ち、グラビヤ
コート、グラビヤオフセツトコート、スリートリ
バースコート、スプレーコート、スピントーコー
ト、デイピングコートおよびカーテンフローコー
ト等の方法により表面に塗布、乾燥し、しかる後
表面処理剤としてカルボキシル基又はヒドロキシ
ル基などを有するものを用いたときはイソシアネ
ート系樹脂、メラミン樹脂等の架橋剤により架橋
したり、表面処理剤としてラジカル重合性組成物
を用いた場合は、熱、紫外線あるいは電子線によ
り重合硬化し強固な塗膜とすれば、磁性層膜の表
面及び又は基体の裏面に数十Å以上の平滑な膜で
所期の目的に合つた被覆層を形成させる事がで
き、今までに得られなかつた優れた効果が発見で
きるのである。 上記イソシアネート系樹脂、メラミン樹脂等の
架橋剤を使用する場合には、架橋剤の使用量をグ
ラフトポリマー中のヒドロキシル基又はカルボキ
シル基の少なくとも一部を残すような量とし、架
橋方法は常法に従つて行なわれる。 〔参考例、実施例及び比較例〕 次に本発明を参考例、実施例及び比較例をもつ
てさらに具体に説明するが、多くの実験の中の一
部を挙げたのみで、これに限定されるべきもので
はない。なお各例における部は重量部を、％は重
量％を意味する。 参考列 １ フラスコにカリウム金属0.5g（0.0128mol）とｎ
−ヘキサン約５mlを入れ、乾燥窒素気流下、氷浴
中でメタノール10mlを30分かけて滴下した。更に
30分撹拌した後、過剰メタノール及びｎ−ヘキサ
ンを減圧留去した。続いて、オクタメチルシクロ
テトラシロキサン40g（0.135mol）及びモリキユ
ラーシーブで十分脱水したテトラヒドロフラン
40gを加え、４時間加熱還流させた。 カリウム塩／オクタメチルシクロテトラシロキサン＝
0.095 （モル比）であつた。 反応液温度が室温まで下がつた後、γ−メタク
リルオキシプロピルジメチルクロロシランの10％
テトラヒドロフラン溶液31g（γ−メタクリルオ
キシプロピルジメチルクロルシラン0.0141mol）
を徐々に滴下し、滴下終了後、更に室温で30分撹
拌した。 γ−メタクリルオキシプロピルジメチルクロ
ルシランのSi−Cl／カリウム塩＝1.10（当量比） であつた。生成した塩化カリウムの沈澱をろ別し
た後、ろ液を１のメタノール中へ注ぎシリコー
ンマクロモノマーを沈澱させた。デカンテーシヨ
ンし、乾燥すると無色透明オイル状のシリコーン
マクロモノマーが26.0g得られた。 該シリコーンマクロモノマーはゲル浸透クロマ
トグラフイー（以下GPCと略称する）によるポ
リスチレン換算数平均分子量が8900のものであつ
た。 次に得られた該シリコーンマクロモノマー10
部、MMA40部、エチルアクリレート（以下EA
と略す）40部、アクリル部10部、メチルエチルケ
トン（以下MEKと略す）150部、アゾビスイソブ
チロニトリル（以下AIBNと略す）１部を、コン
デンサー、撹拌機、温度計を備えたフラスコに入
れ、N₂下、75℃の温度で５時間重合し、その後
更にAIBN1部を添加し、75℃の温度で５時間重
合した。かくして本発明グラフトポリマー40％
MEK溶液を得た。 参考例 ２ 撹拌機、温度計、コンデンサー、N₂導入管を
備えた４ツ口フラスコにα，ω−ジヒドロキシポ
リジメチルシロキサン 〔

【式】のｎが平均30〕336g（0.15モ ル）、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキ
シシラン12.4（0.05モル）、酢酸カリウム3.5gを仕
込みN₂下150℃の温度で20時間反応させた。冷却
後該反応物をトルエン1360gに注ぎ、酢酸カリウ
ムを沈澱させ、過により酢酸カリウムを除去し
た。 かくして得られたシリコーンマクロモノマー20
％トルエン溶液100部あたり、MMA70部、２−
ヒドロキシエチルメタクリレート10部、AIBN1
部、MEK70部を加えて均一溶液となし、以下参
考例１と同様に重合を行なつた。かくして本発明
グラフトポリマーの40％MEK／トルエン混溶済
の溶液を得た。 参考例 ３ 撹拌機、還流冷却器、滴下ロート、温度計およ
びガス吹込口を取り付けたガラスフラスコに、
MMA10部と、アセトン（17.5％）−トルエン混
合溶媒83部を仕込み、N₂導入後、環流下に重合
開始剤としてアソビスイソブチロニトリル（以下
AIBNと略記する）0.5部と連鎖移動剤としてチ
オグリコール酸0.32部を加えて重合を開始させ
た。その後4.5時間の間に、MMA90部を連続的
に滴下し、またチオグリコール酸2.88部をトルエ
ン７部に溶解して、30分毎、９回に分けて追加、
同様にAIBN1.5部を1.5時間毎、３回に分けて追
加し、重合を行なつた。さらにその後２時間還流
して重合を終了し、下記構造式〔〕のポリマー
溶液を得た。反応温度は77〜87℃であつた。反応
液の一部をｎ−ヘキサンで再沈澱、乾燥して酸価
を測定したところ、0.340mg当量／ｇであつた。 次に、上記反応液からアセトンの一部を留去し
た後、触媒としてトリエチルアミン0.5％、重合
禁止剤としてハイドロキノンモノメチルエーテル
200ppmを添加し、酸価に対して1.2倍モルのグリ
シジルメタクリレートを加え、還流下（約110℃）
に11時間反応させた。酸価の減少から求めた反応
液は96％であつた。反応液を10倍量のｎ−ヘキサ
ン中に投入、沈澱させた後80℃で減圧乾燥して、
下記構造式〔〕のマクロモノマー90部を得た。
GPCによるポリスチレン換算分子量は、2840（数
平均）および6.470（重量平均）であつた。また水
酸基価は0.350mg−当量／ｇであつた。 かくして得られたポリMMA系マクロモノマー
40部と下記構造式〔〕のフルオロアルキルアク
リレート30部、MMA20部、アクリル酸10部、
MEK／メチルイソブチルケトン（MIBKと略す）
＝１／１（重量比）の混合溶剤233部、AIBN1部
をフラスコに仕込み、N₂下、75℃の温度で７時
間重合させた。かくして本発明グラフトポリマー
30％のMEK／MIBK 混合溶剤の溶液を得た。 〔〕 CF₃（CF₂）nCH₂CH₂OOCCH＝CH₂ において ｎ＝４〜12の混合物（ｎの平均値約７） 参考例 ４ 撹拌機、還流冷却器、滴下ロート２本、温度計
及びガス吹き込み口を取りつけたガラスフラスコ
に、ベンゾトリフルオライド200部を仕込み、一
方の滴下ロート（滴下ロートＡとする）に次に示
す構造を持つフルオロアクリレート ｎ＝４〜12の混合物（ｎの平均値約７）200部、
もう一方の滴下ロート（滴下ロートＢとする）に
３−メルカプトプロピオン酸7.08部、アゾビスイ
ソブチロニトリル４部及びベンゾトリフルオライ
ド100部の混合液を入れた。窒素ガス導入後フラ
スコを加熱昇温し反応液を70℃に保つた状態で滴
下ロートＡ及び滴下ロートＢを２時間かけて滴下
した。更に４時間反応させると、フルオロアクリ
レートの重合転化率は95.8％となつた。次に反応
液を昇温し２時間還流した後、冷却して溶液温度
を90℃に保つた。ここへハイドロキノンモノメチ
ルエーテル0.1部、グリシジルメタクリレート
13.95部、テトラブチルアンモニウムブロマイド
2.5gを添加した。更に窒素ガスから空気吹き込み
に切り換えて90℃で６時間反応させた。塩基によ
る滴定から求めた反応転化率は94.6％であつた。
反応液を10倍量のメタノールに投入し沈澱させ
た。50℃で潤圧乾燥し固体状のフルオロアクリレ
ートマクロモノマー152.3部を得た。かくして得
られたフツ素系マクロモノマー20部、２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート10部、MMA70部、ベ
ンゾトリフルオライド／MIBK＝１／１（重量比）
の混合溶剤233部、AIBN1部をフラスコに仕込み
N₂下75℃の温度で７時間重合させた。かくして
本発明グラフトポリマー30％のベンゾトリフルオ
ライド／MIBK混合溶剤の溶液を得た。 実施例１〜３及び比較例１〜３ 12μ厚のPETフイルム上に強制的に酸素ガスを
導入しながら真空蒸着法により80％Co−20％Ni
よりなる強磁性合金属薄膜の磁性層を形成して蒸
着テープを得た。この蒸着テープの表面又は基体
の裏面に表１の組成よりなる処理剤をスリツトリ
バース法により塗布し、熱風乾燥硬化および紫外
線照射によつて硬化させた。磁性層の表面には均
300Åの膜を形成し、裏面側には均1μの膜を表−
１，２で示された実施例、比較例共に形成させ
た。得られた蒸着テープについては磁性層の表面
側と基体の裏面側の特性を測定し、その結果を表
３に示した。 以上の結果より本発明のシリコン系グラフトポ
リマーによつて得られた磁気記録媒体は電磁変換
特性を低下させる事なく低摩擦性、耐摩耗性、撥
水性及び耐食性が向上している。故に耐久性に優
れ、又摩擦系数の変化もない走行安定性に優れた
磁気記録体を得る事が出来た。更に基体の裏面側
においてもリール、ハブなどによるキズが付く事
なく又結露したり、ブロツキング等を起こす事の
ない優れた記録媒体を得る事が出来た。

【表】

【表】

【表】 実施例 ４ 非常に良好な表面性を有した（表面粗さ約
0.005μ）非晶性熱可塑性ポリエーテルイミド樹脂
（ウルテム）からなる基体の上にCo−Crの垂直異
方性をもつ磁性層がスパツタ法により形成された
垂直磁気記録媒体の表面に下記の組成よりなる処
理剤をスピンナーコートにより塗布して約100〜
150A厚の保護膜を有する垂直磁気媒体を得た。 参考例３により得たカルボキシル基を有する本
発明フツ素系グラフトポリマー単独をMEK／ト
ルエン＝２／１（重量比）の混合溶剤中２％の濃
度でスピンナーコート法により塗布し熱風乾燥機
60℃×３分間で処理した。 以上によつて得られた本発明の垂直磁気記録媒
体の表面接触角は115゜又、動摩擦係数は0.18（μ）
であり優れた耐食性あるいは耐環境性を有してい
た。更にコンタクトスタートストツプ試験結果良
好なる結果を得、表面の傷及び摩耗跡など全く異
常は見られなかつた。 (ハ) 発明の効果 本発明によれば、磁性層表面に耐摩耗性、潤滑
性、磁性層の耐食性、磁性層との密着性に優れた
トツプコート層を形成でき、又基体裏面には耐摩
耗性、潤滑性、基体との密着性に優れたバツクコ
ート層を形成できる。このようにして形成した保
護膜は磁性層に悪影響を及ぼさず、電磁変換特性
を低下させることがなく、低摩擦性で耐食性およ
び耐摩耗性等が優れているので、走行安定性およ
び耐久性に優れた磁気記録媒体が提供される。 又本発明の磁気記録媒体はカルボキシル基及
び／又はヒドロキシル基を有するフツ素又なシリ
コーン系グラフトポリマーを有しないグラフトポ
リマーを用いた磁気記録媒体に比べて特に密着性
に優れ且つ耐摩耗性及び耐久性が一段と向上して
いる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 基体上に設けられた強磁性金属薄膜からなる
   磁性層の表面及び／又は基体の裏面に、カルボキ
   シル基及び／又はヒドロキシル基を有するフツ素
   系又はシリコーン系グラフトポリマーからなる潤
   滑被覆層を形成してなる磁気記録媒体。