JPS6257121A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPS6257121A JPS6257121A JP19491585A JP19491585A JPS6257121A JP S6257121 A JPS6257121 A JP S6257121A JP 19491585 A JP19491585 A JP 19491585A JP 19491585 A JP19491585 A JP 19491585A JP S6257121 A JPS6257121 A JP S6257121A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicone
- substrate
- graft polymer
- radically polymerizable
- present
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Lubricants (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(イ)発明の目的
困
〔産業上の利用分野〕
本発明は基体上に真空蒸着、イオンブレーテインク、ス
パッタリング又はメッキ法等により設けた強磁性金属薄
膜上及び又は基体の裏面上に潤滑被覆層を形成させてな
る表面改質された磁気記録媒体に関するものである。
パッタリング又はメッキ法等により設けた強磁性金属薄
膜上及び又は基体の裏面上に潤滑被覆層を形成させてな
る表面改質された磁気記録媒体に関するものである。
近年、強磁性金属粉末をバインダーとともに基体上に塗
布乾燥してつくられた磁気記録媒体に代って、更に高密
度の磁気記録性に優れている強磁性金属薄膜の磁性層を
基体上に蒸着、スパッタリング等によって被着形成した
磁気記録媒体が、オーディオ鈴音、ビデオ録画および8
デ゛ 鬼ビPオ録画用テープをはじめ、垂直磁気記録、光磁気
ディスク等の記録メモリーとして特に注目されて来てい
る。
布乾燥してつくられた磁気記録媒体に代って、更に高密
度の磁気記録性に優れている強磁性金属薄膜の磁性層を
基体上に蒸着、スパッタリング等によって被着形成した
磁気記録媒体が、オーディオ鈴音、ビデオ録画および8
デ゛ 鬼ビPオ録画用テープをはじめ、垂直磁気記録、光磁気
ディスク等の記録メモリーとして特に注目されて来てい
る。
また、従来提案されている方法のひとつとして、金属薄
膜表面との吸着等を利用して、潤滑剤(高級脂肪酸及び
その塩類、脂肪酸アマイドおよびフッ素系界面活性剤等
)、ワックス、およびシリコーン系オイル、フッ素系オ
イル等の処理剤を塗布する方法も提案されている。
膜表面との吸着等を利用して、潤滑剤(高級脂肪酸及び
その塩類、脂肪酸アマイドおよびフッ素系界面活性剤等
)、ワックス、およびシリコーン系オイル、フッ素系オ
イル等の処理剤を塗布する方法も提案されている。
また、磁性体自体の合金化により高硬度にしたり、他金
属膜やケイ素化合物等の無機化合物の膜を蒸着やスパッ
タリング等の方法により形澹 成させ、高硬度で耐食性を春する被膜を得る方法が提案
されている。
属膜やケイ素化合物等の無機化合物の膜を蒸着やスパッ
タリング等の方法により形澹 成させ、高硬度で耐食性を春する被膜を得る方法が提案
されている。
さらに別の方法として磁性層の表面又は基体の裏面を、
ウレタン樹脂、シリコン樹脂、フッ素樹脂、エポキシ樹
脂および放射線、紫外線硬化型樹脂等の高分子物質で被
膜する事が多く提案されている。
ウレタン樹脂、シリコン樹脂、フッ素樹脂、エポキシ樹
脂および放射線、紫外線硬化型樹脂等の高分子物質で被
膜する事が多く提案されている。
一方、基体裏面についても、テープ鳴き、走行安定性お
よび耐久性を向上させろ為に耐摩耗性、潤滑性の付与が
強く要求され、非磁性体金属、A6 、 Cu 、 A
J等の金属層を形成させたり、バラフコ−1卦を施すこ
とが提案されている。
よび耐久性を向上させろ為に耐摩耗性、潤滑性の付与が
強く要求され、非磁性体金属、A6 、 Cu 、 A
J等の金属層を形成させたり、バラフコ−1卦を施すこ
とが提案されている。
前記した強磁性金属薄膜の磁性層を基体上に蒸着、スパ
ッタリング等によって被着形成した磁気記録媒体は、そ
の金属磁性層が空気中の酸素、水分等によって腐食し易
く、また磁気ヘッド、ドラムおよびポスト等との接触走
行により摩耗し易い。そこで該テープの表面に対し電磁
変換特性を低下させることなく、耐食性、耐摩耗性を向
上させると共に、低摩擦性で薄く均一な厚さを有しかつ
強固な密着力と平面性を付与することが可能な、潤滑性
表面処理剤と処理方法について多くの研究開発がなされ
ている。
ッタリング等によって被着形成した磁気記録媒体は、そ
の金属磁性層が空気中の酸素、水分等によって腐食し易
く、また磁気ヘッド、ドラムおよびポスト等との接触走
行により摩耗し易い。そこで該テープの表面に対し電磁
変換特性を低下させることなく、耐食性、耐摩耗性を向
上させると共に、低摩擦性で薄く均一な厚さを有しかつ
強固な密着力と平面性を付与することが可能な、潤滑性
表面処理剤と処理方法について多くの研究開発がなされ
ている。
また、金属薄膜表面に潤滑剤等を塗布する方法では、磁
気ヘッド等に対する摩擦性を減じ、一時的に耐久性を向
上させるが、使用に伴い処理剤が揮発したり、けずり取
られたりして、その効果を長く接続させろことは困難で
ある。
気ヘッド等に対する摩擦性を減じ、一時的に耐久性を向
上させるが、使用に伴い処理剤が揮発したり、けずり取
られたりして、その効果を長く接続させろことは困難で
ある。
また、磁性体自体の合金化により高硬度にしたり、特定
の無機化合物の膜を蒸着やスパッタリング等の方法によ
り形成させ、高硬度で耐食性を有する被膜を得る方法は
、耐食性および耐摩耗性等の改善に効果はあるけれど、
密着力は往々にして不十分であり、一方高硬度のため急
速に記録媒体およびトランジューサーの破壊を生ずる等
の問題とともに、複雑な処理を必要とし、コスト的に高
価となり、満足のいく結果は得られない。
の無機化合物の膜を蒸着やスパッタリング等の方法によ
り形成させ、高硬度で耐食性を有する被膜を得る方法は
、耐食性および耐摩耗性等の改善に効果はあるけれど、
密着力は往々にして不十分であり、一方高硬度のため急
速に記録媒体およびトランジューサーの破壊を生ずる等
の問題とともに、複雑な処理を必要とし、コスト的に高
価となり、満足のいく結果は得られない。
さらに磁性層の表面又は基体の裏面を、特定の高分子物
質で被覆する方法は、低摩擦性、耐食性等において、一
時的に効果があるか、スペーシングロスと称する電磁変
換特性の低下をもたらすことを考慮すれば、高分子物質
被膜はたかだか500A、望ましくは200A程度の膜
厚で均一平滑な平面性を有しなければならない。ところ
がかかる膜厚では完全に水分の侵入を防止する事は困難
であり、耐摩耗性、耐薬品性の点で難点がある。また公
知の高分子物質の塗布による表面処理では出力変動の少
ない均一な薄膜を形成することは困難である。
質で被覆する方法は、低摩擦性、耐食性等において、一
時的に効果があるか、スペーシングロスと称する電磁変
換特性の低下をもたらすことを考慮すれば、高分子物質
被膜はたかだか500A、望ましくは200A程度の膜
厚で均一平滑な平面性を有しなければならない。ところ
がかかる膜厚では完全に水分の侵入を防止する事は困難
であり、耐摩耗性、耐薬品性の点で難点がある。また公
知の高分子物質の塗布による表面処理では出力変動の少
ない均一な薄膜を形成することは困難である。
しかしいずれにしても、従来技術によれば強磁性金属薄
膜の保d層として又、基体の裏面処理剤として末だ満足
なるものは得られていない。
膜の保d層として又、基体の裏面処理剤として末だ満足
なるものは得られていない。
(ロ)発明の構成
〔問題点を解決するための手段〕
本発明者らは従来より提案された公知の方法の欠点を克
服すべく鋭意研究した結果、本発明に到達したものであ
る。
服すべく鋭意研究した結果、本発明に到達したものであ
る。
本発明の目的は上述した従来技術の諸欠点を解消し、基
本上に真空蒸着、イオンブレーティング、スパッタリン
グ又はメッキ法等により設けた強磁性金属薄膜の磁性層
表面及び又は基体の裏面上に、電磁変換特性を低下させ
ることなく、低摩擦性で耐摩耗性および耐食性に優れた
均一な保護膜を設けてなる磁気記録媒体を提供せんとす
るものである。
本上に真空蒸着、イオンブレーティング、スパッタリン
グ又はメッキ法等により設けた強磁性金属薄膜の磁性層
表面及び又は基体の裏面上に、電磁変換特性を低下させ
ることなく、低摩擦性で耐摩耗性および耐食性に優れた
均一な保護膜を設けてなる磁気記録媒体を提供せんとす
るものである。
即ち、本発明は基体上に設けられた強磁性金属薄膜から
なる磁性層の表面及び/又は基体の裏面にカルボキシル
基及び/又はヒドロキシル基を有するフッ素系、又はシ
リコーン系グラフトポリマー(以下、本発明グラフトポ
リマーと略す)からなる潤滑被覆層を形成してなる磁気
記録媒体である。
なる磁性層の表面及び/又は基体の裏面にカルボキシル
基及び/又はヒドロキシル基を有するフッ素系、又はシ
リコーン系グラフトポリマー(以下、本発明グラフトポ
リマーと略す)からなる潤滑被覆層を形成してなる磁気
記録媒体である。
本発明に係る磁気記録媒体の一例は、ポリエチレンテレ
フタレートフィルム(以下PETフィルムと称する。)
、ポリイミドフィルム又はポリアミドフィルム等、或い
はポリカーボネート板、アクリル樹脂板又はガラス板等
の如き基体上に、真空蒸着、イオンブレーティング、ス
パッタリング又はメッキ法等により、pe、 Co、N
i、(::r、Qa、Qe等をはじめとした磁性を有し
た金属等又はこれらを主成分とする合金の強磁性金属薄
膜を磁性層として設けた後、その表面ヒドロキシル基を
有するフッ素系又は、シリコーン系グラフトポリマーを
単独で又は詳細は後述する表面処理剤を併用した処理剤
から得られる保d層を設けてなるものである。
フタレートフィルム(以下PETフィルムと称する。)
、ポリイミドフィルム又はポリアミドフィルム等、或い
はポリカーボネート板、アクリル樹脂板又はガラス板等
の如き基体上に、真空蒸着、イオンブレーティング、ス
パッタリング又はメッキ法等により、pe、 Co、N
i、(::r、Qa、Qe等をはじめとした磁性を有し
た金属等又はこれらを主成分とする合金の強磁性金属薄
膜を磁性層として設けた後、その表面ヒドロキシル基を
有するフッ素系又は、シリコーン系グラフトポリマーを
単独で又は詳細は後述する表面処理剤を併用した処理剤
から得られる保d層を設けてなるものである。
本発明においては磁性層を設けた後、所要に分子化合物
、無機化合物(S r Ox等)等の形成および磁性体
自体の合金化学等の下地処理を施して下地層を形成させ
、ついで潤滑被覆層を形成させてもよい。
、無機化合物(S r Ox等)等の形成および磁性体
自体の合金化学等の下地処理を施して下地層を形成させ
、ついで潤滑被覆層を形成させてもよい。
本発明グラフトポリマーは、カルボキシル基及び/又は
ヒドロキシル基を有する7、素糸又はシリコーン系グラ
フトポリマーであって、その製造方法はいかなる方法も
採用されうるが、マクロモノマーを用いる方法即ちマク
ロモノマー法が好適であり、特にラジカル重合性マクロ
モノマーとラジカル重合性官能基−との共重合による製
造方法が最も好ましい。
ヒドロキシル基を有する7、素糸又はシリコーン系グラ
フトポリマーであって、その製造方法はいかなる方法も
採用されうるが、マクロモノマーを用いる方法即ちマク
ロモノマー法が好適であり、特にラジカル重合性マクロ
モノマーとラジカル重合性官能基−との共重合による製
造方法が最も好ましい。
本発明で用いるマクロモノマーとしては、ラジカル重合
性シリコーンマクロモノマー及びフッ素系マクロモノマ
ーを含むその他のラジカルM合mマクロモノマーがあげ
られる。
性シリコーンマクロモノマー及びフッ素系マクロモノマ
ーを含むその他のラジカルM合mマクロモノマーがあげ
られる。
(ラジカル重合性シリコーンマクロモノマーの製造方法
) 本発明でいうラジカル重合性シリコーンマクロモノマー
とは、分子鎖の片末端に重合性官能基を有する数平均分
子i1,000〜20,000の重合体を主体とする比
較的低分子量の重合体をいい、該ラジカル重合性シリコ
ーンマクロモノマーは、次のような各種の製法によって
得られたものであり、それらのいずれも使用できる。
) 本発明でいうラジカル重合性シリコーンマクロモノマー
とは、分子鎖の片末端に重合性官能基を有する数平均分
子i1,000〜20,000の重合体を主体とする比
較的低分子量の重合体をいい、該ラジカル重合性シリコ
ーンマクロモノマーは、次のような各種の製法によって
得られたものであり、それらのいずれも使用できる。
製法の一例は、下記一般式(a)で示される環状シロキ
サンをアニオン重合してなるリビングポリマーと下記一
般式(b)で示されるラジカル重合性シリコーン化合物
とを反応させてラジカル重合性シリコーンマクロモノマ
ーを得る方法である(特開昭59−126478号公報
)。
サンをアニオン重合してなるリビングポリマーと下記一
般式(b)で示されるラジカル重合性シリコーン化合物
とを反応させてラジカル重合性シリコーンマクロモノマ
ーを得る方法である(特開昭59−126478号公報
)。
ただし、R1はメチル基、エチル基又はフ℃ニル基であ
り、Pは6又は4である。
り、Pは6又は4である。
(bl
&
C!。
ただし、R7は水素又はメチル基、mは0又は1、R3
,R,はメチル基、エチル基又はフェニル基、nは1〜
3の整数であり、!はm=0の場合0〜2の整数、m=
1の場合2である。
,R,はメチル基、エチル基又はフェニル基、nは1〜
3の整数であり、!はm=0の場合0〜2の整数、m=
1の場合2である。
上記環状シロキサンのアニオン重合は常法に従って行な
えばよく、公知のアニオン重合開始剤を用い、塊状重合
法又は溶液重合法により容易に行うことができる。
えばよく、公知のアニオン重合開始剤を用い、塊状重合
法又は溶液重合法により容易に行うことができる。
一般式(a)で示される環状シロキサンの例としては、
ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシク
ロテトラシロキサン、ヘキサエチルシクロトリシロキサ
ン、オクタエチルシクロテトラシロキサン、ヘキサフェ
ニルシクロトリシロキサン、オクタフェニルシクロテト
ラシロキサンがあげられるが、このうちへキサメチルシ
クロトリシロキサン及びオクタメチルシクロテトラシロ
キサンがコスト、アニオン重合の容易さの点で特に好ま
しい。アニオン重合開始剤としては、有機リチウム化合
物、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属アルコキシド
、アルカリ金属シラル−ト等の公知のものがあげられる
が、これらのうち有機リチウム化合物が特に好ましい。
ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシク
ロテトラシロキサン、ヘキサエチルシクロトリシロキサ
ン、オクタエチルシクロテトラシロキサン、ヘキサフェ
ニルシクロトリシロキサン、オクタフェニルシクロテト
ラシロキサンがあげられるが、このうちへキサメチルシ
クロトリシロキサン及びオクタメチルシクロテトラシロ
キサンがコスト、アニオン重合の容易さの点で特に好ま
しい。アニオン重合開始剤としては、有機リチウム化合
物、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属アルコキシド
、アルカリ金属シラル−ト等の公知のものがあげられる
が、これらのうち有機リチウム化合物が特に好ましい。
アニオン重合により得られるリビングポリマーの分子量
はシリコーンマクロモノマーの分子量を支配するもので
あり、環状シロキサンと開始剤のモル比により調節され
、開始剤/環状シロキサンのモル比は0.01〜0.2
が好ましい。0.01未満ではシリコーンマクロモノマ
ーが極めて高沙子量(2万を越える)となり、0.2を
越えるとシリコーンマクロモノマーが極めて低分子i(
1,000未満)となりやすい。シリコーンマクロモノ
マーの数平均分子量は、1.000〜20,000であ
るが、該分子量がIooo未満では、シリコーンの効果
即ち、撥水、撥油性、低摩擦性が低下し、耐候性も若干
低下し、また20,000を越えると、得られる塗料樹
脂がオイル状となりやすいからである。
はシリコーンマクロモノマーの分子量を支配するもので
あり、環状シロキサンと開始剤のモル比により調節され
、開始剤/環状シロキサンのモル比は0.01〜0.2
が好ましい。0.01未満ではシリコーンマクロモノマ
ーが極めて高沙子量(2万を越える)となり、0.2を
越えるとシリコーンマクロモノマーが極めて低分子i(
1,000未満)となりやすい。シリコーンマクロモノ
マーの数平均分子量は、1.000〜20,000であ
るが、該分子量がIooo未満では、シリコーンの効果
即ち、撥水、撥油性、低摩擦性が低下し、耐候性も若干
低下し、また20,000を越えると、得られる塗料樹
脂がオイル状となりやすいからである。
シリコーンマクロモノマーは、上記のようにして得られ
たりビ/グボリマーと一般式(b)で示されるラジカル
重合性シリコーン化合物を反応(リビング重合停止反応
)7することにより得ることができる。該反応は両者を
混合することにより容易に行なわれる。
たりビ/グボリマーと一般式(b)で示されるラジカル
重合性シリコーン化合物を反応(リビング重合停止反応
)7することにより得ることができる。該反応は両者を
混合することにより容易に行なわれる。
一般式(b)で示されるラジカル重合性シリコーン化合
物は、公知の方法により容易に得ることができ、例えば CHt”C−C−0(−CH,+、+0−)i、lCM
2C1(、CH2−8i(R,)s −rl Cノ。
物は、公知の方法により容易に得ることができ、例えば CHt”C−C−0(−CH,+、+0−)i、lCM
2C1(、CH2−8i(R,)s −rl Cノ。
(Rt、影1 m# R3は前記に同じ)は、
R7
(Rv t 4 mは前記に同じ)
なる不飽和(メタ)アクリレートと
H8i (R,)、 −n C−en(R,、nは前記
に同じ)とのヒドロシリル化反応により得ることができ
る。
に同じ)とのヒドロシリル化反応により得ることができ
る。
該ラジカル重合性シリコーン化合物の使用量は、リビン
グ重合開始剤1当量(1モル)に対し一般式(bJのs
;−cpが1〜5倍当量となる童が好ましい。
グ重合開始剤1当量(1モル)に対し一般式(bJのs
;−cpが1〜5倍当量となる童が好ましい。
シリコーンマクロモノマーの他の製法の例は、下記一般
式(aJ’で示されるシリコーンとその1モル当り下記
一般式(b)′で示されるアクリル化合物0.25〜1
モルとを縮合反応させてラジカル重合性シリコーンマク
ロモノマーを得る方法である(特開昭58−15476
6号公報)。
式(aJ’で示されるシリコーンとその1モル当り下記
一般式(b)′で示されるアクリル化合物0.25〜1
モルとを縮合反応させてラジカル重合性シリコーンマク
ロモノマーを得る方法である(特開昭58−15476
6号公報)。
(al’ HO(SiO)nH(R’およびR2は炭
素数1ζ 〜10の一価の脂肪族炭化水素基、フェニル基又は−価
のハロゲン化炭化水素基。nは1以上の正数。) R,X (R’・は水素原子、又はメチル基。R4はメチル基、
エチル基又はフェニル基。Xは塩素原子、メトキシ基又
はエトキシ基。) この製法の詳細は、上記公開特許公報に記載されている
とおりであって、一般式(a)′で示されるシリコーン
としては各種のものを容易に入手でき、それらの中から
目的に合ったものを使用すればよいが、’B l 、
n 2 がメチル基のシリコーンが特に好ましい。一般
式(a)′ におけるnはシリコーンの分子量を決め
る因子であり、このnは1〜500が好ましく、10〜
300がさらに好ましい。nが1未満ではシリコーンの
効果即ち撥水、撥油性、低摩撥性、高耐候性が得られず
、nが500を越えると、得られるシリコーン系グラフ
ト共重合体がオイル状となって精製がむつかしくなる。
素数1ζ 〜10の一価の脂肪族炭化水素基、フェニル基又は−価
のハロゲン化炭化水素基。nは1以上の正数。) R,X (R’・は水素原子、又はメチル基。R4はメチル基、
エチル基又はフェニル基。Xは塩素原子、メトキシ基又
はエトキシ基。) この製法の詳細は、上記公開特許公報に記載されている
とおりであって、一般式(a)′で示されるシリコーン
としては各種のものを容易に入手でき、それらの中から
目的に合ったものを使用すればよいが、’B l 、
n 2 がメチル基のシリコーンが特に好ましい。一般
式(a)′ におけるnはシリコーンの分子量を決め
る因子であり、このnは1〜500が好ましく、10〜
300がさらに好ましい。nが1未満ではシリコーンの
効果即ち撥水、撥油性、低摩撥性、高耐候性が得られず
、nが500を越えると、得られるシリコーン系グラフ
ト共重合体がオイル状となって精製がむつかしくなる。
一般式(b)′で示されるアクリル化合物としては、例
えばγ−メタクリルオキシプロピルメチルジクロロシラ
ン、r−メタクリルオキシグロビルメテルジエトキシシ
ラン、γ−メタクリルオキシグロビルフェニルジクロロ
シラン、r−メタクリルオキシプロピルエチルジクロロ
シラン、γ−アクリルオキシプロピルメチルジクロロシ
ラン等があげられる。これらのアクリル化合物は公知で
あり、ケイ素化合物と脂肪族性多重結合を有する化合物
を塩化白金酸の存在下で反応させることにより容易に得
られる。
えばγ−メタクリルオキシプロピルメチルジクロロシラ
ン、r−メタクリルオキシグロビルメテルジエトキシシ
ラン、γ−メタクリルオキシグロビルフェニルジクロロ
シラン、r−メタクリルオキシプロピルエチルジクロロ
シラン、γ−アクリルオキシプロピルメチルジクロロシ
ラン等があげられる。これらのアクリル化合物は公知で
あり、ケイ素化合物と脂肪族性多重結合を有する化合物
を塩化白金酸の存在下で反応させることにより容易に得
られる。
一般式(a) ’で示されるシリコーンと一般式(b)
′で示されるアクリル化合物の反応は常法により円滑に
進行しシリコーンマクロモノマーが得られる。即ち、ア
クリル化合物のXが塩素原子の場合は脱塩酸反応、Xが
メトキシ基又はエトキラ基の場合は脱アルコール縮合反
応が進行する。
′で示されるアクリル化合物の反応は常法により円滑に
進行しシリコーンマクロモノマーが得られる。即ち、ア
クリル化合物のXが塩素原子の場合は脱塩酸反応、Xが
メトキシ基又はエトキラ基の場合は脱アルコール縮合反
応が進行する。
シリコーンとアクリル化合物の反応割合は、シリコーン
1モルに対し、アクリル化合物0.25〜1モルである
。0.25モル未満では塗料樹脂製造の際未反応シリコ
ーンが多賛残ることになり、1モルを越えると塗料樹脂
製造の際ゲル化が起こりやすくなる。
1モルに対し、アクリル化合物0.25〜1モルである
。0.25モル未満では塗料樹脂製造の際未反応シリコ
ーンが多賛残ることになり、1モルを越えると塗料樹脂
製造の際ゲル化が起こりやすくなる。
さらに本発明で好適に使用されるシリコーンマクロモノ
マーの製法としては、前記一般式(b)′で示されるア
クリル化合物の代りに、下記一般式(b+//で示され
るアクリル化合物を用い、その他の原料化合物、反応条
件などは特開昭58−154766号開示の方法と同様
にしてシリコーンマクロモノマーを合成する方法である
(特開昭59−20360号公@)。
マーの製法としては、前記一般式(b)′で示されるア
クリル化合物の代りに、下記一般式(b+//で示され
るアクリル化合物を用い、その他の原料化合物、反応条
件などは特開昭58−154766号開示の方法と同様
にしてシリコーンマクロモノマーを合成する方法である
(特開昭59−20360号公@)。
(上記一般式においてnは1又は3の整数であり、その
他のRS 、 R4及びXの意味は、前記一般式(b)
′におけるものと同じである。)上記の特開昭58−1
54766号あるいは特開昭59−20360号で提案
されているシリコーンマクロモノマー製造による生成物
は、アクリル化合物1分子にシリコーンが導入されたも
のを主成分とし、その他に未反応の原料シリコーン及び
副生ずるアクリル多官能シリコーン(シリコーン1分子
にアクリル化合物が2分子導入されたものなど)を従成
分として含有しているが、該生成物はそのままシリコー
ンマクロモノマーとして、本発明において有用に使用す
ることができる。
他のRS 、 R4及びXの意味は、前記一般式(b)
′におけるものと同じである。)上記の特開昭58−1
54766号あるいは特開昭59−20360号で提案
されているシリコーンマクロモノマー製造による生成物
は、アクリル化合物1分子にシリコーンが導入されたも
のを主成分とし、その他に未反応の原料シリコーン及び
副生ずるアクリル多官能シリコーン(シリコーン1分子
にアクリル化合物が2分子導入されたものなど)を従成
分として含有しているが、該生成物はそのままシリコー
ンマクロモノマーとして、本発明において有用に使用す
ることができる。
(シリコーン以外のラジカル重合性マクロモノマーの製
造法) 従来公知の種々の方法を用いることができ、例えば片末
端メタクリレート型ラジカル重合性メチルメタクリレー
ト系マクロモノマーは、メ均分子量1.000〜10,
000の片末端カルボン酸プレポリマーを得、これをグ
リシジルメタクリレート(以下GMAと略す)と反応さ
せることにより得られる。マクロモノマーを構成するモ
ノマーとしては、アルキルアクリレート、アルキルメタ
クリレート、スチレン、ポリエチレングリコールメタク
リレート、フルオロアルキルアクリレート等を挙げるこ
とができる。
造法) 従来公知の種々の方法を用いることができ、例えば片末
端メタクリレート型ラジカル重合性メチルメタクリレー
ト系マクロモノマーは、メ均分子量1.000〜10,
000の片末端カルボン酸プレポリマーを得、これをグ
リシジルメタクリレート(以下GMAと略す)と反応さ
せることにより得られる。マクロモノマーを構成するモ
ノマーとしては、アルキルアクリレート、アルキルメタ
クリレート、スチレン、ポリエチレングリコールメタク
リレート、フルオロアルキルアクリレート等を挙げるこ
とができる。
(本発明フッ素系グラフトポリマーの製造)マクロモノ
マーを構成する七ツマ−がフルオロアルキルアクリレー
ト及び/又はメタクリレート(以下フルオロアルキル(
メタ)アクリレートと総称する)から成る場合には、該
マクロモノマーとカルボキシル基含有ラジカル重合性モ
ノマー及び/又はヒドロキシル基含有ラジカル重合性モ
ノマー更には他のラジカル重合性モノマー(以下第3モ
ノマーと略す)とのラジカル共重合により本発明グラフ
トポリマーを容易に得ることができる。この場合グラフ
トポリマーの幹はカルボキシル基含有ラジカル重合性モ
ノマー及び/又はヒドロキシル基含有ラジカル重合性モ
ノマーと第3モノマーとのコポリマーであり、枝はフル
オロアルキル(メタ)アクリレートから成るポリマーで
ある。該グラフトポリマーを表面処理剤と併用する場合
には、表面処理剤と相溶性の良いセグメントは第3モノ
マーのポリマーとなるので、第6モノマーの導入が必要
である。
マーを構成する七ツマ−がフルオロアルキルアクリレー
ト及び/又はメタクリレート(以下フルオロアルキル(
メタ)アクリレートと総称する)から成る場合には、該
マクロモノマーとカルボキシル基含有ラジカル重合性モ
ノマー及び/又はヒドロキシル基含有ラジカル重合性モ
ノマー更には他のラジカル重合性モノマー(以下第3モ
ノマーと略す)とのラジカル共重合により本発明グラフ
トポリマーを容易に得ることができる。この場合グラフ
トポリマーの幹はカルボキシル基含有ラジカル重合性モ
ノマー及び/又はヒドロキシル基含有ラジカル重合性モ
ノマーと第3モノマーとのコポリマーであり、枝はフル
オロアルキル(メタ)アクリレートから成るポリマーで
ある。該グラフトポリマーを表面処理剤と併用する場合
には、表面処理剤と相溶性の良いセグメントは第3モノ
マーのポリマーとなるので、第6モノマーの導入が必要
である。
またマクロモノマーを構成するモノマーがフルオロアル
キル(メタ)アクリレート以外から成る場合には、該マ
クロモノマーとフルオロアルキル(メタ)アクリレート
、カルボキシル基含有ラジカル重合性モノマー及び/又
はヒドロキシル基含有ラジカ/L/TL合性モノマー、
場合によっては更に第6モノマーとのラジカル共重合に
より本発明グラフトポリマーを容易に得ることができる
。この場合グラフトポリマーの幹はフルオロアルキル(
メタ)アクリレート、カルボキシル基含有ラジカル重合
性モノマー及び/又はヒドロキシル基含有ラジカル重合
性モノマー、第6七ツマ−のコポリマーであり、枝はフ
ルオロアルキル(メタ)アクリレート以外のモノマーか
ら成るポリマーである。該グラフトポリマーを表面処理
剤と併用する場合には、表面処理剤と相溶性の良いセグ
メントは、枝成分となる。
キル(メタ)アクリレート以外から成る場合には、該マ
クロモノマーとフルオロアルキル(メタ)アクリレート
、カルボキシル基含有ラジカル重合性モノマー及び/又
はヒドロキシル基含有ラジカ/L/TL合性モノマー、
場合によっては更に第6モノマーとのラジカル共重合に
より本発明グラフトポリマーを容易に得ることができる
。この場合グラフトポリマーの幹はフルオロアルキル(
メタ)アクリレート、カルボキシル基含有ラジカル重合
性モノマー及び/又はヒドロキシル基含有ラジカル重合
性モノマー、第6七ツマ−のコポリマーであり、枝はフ
ルオロアルキル(メタ)アクリレート以外のモノマーか
ら成るポリマーである。該グラフトポリマーを表面処理
剤と併用する場合には、表面処理剤と相溶性の良いセグ
メントは、枝成分となる。
(本発明シリコーン系グラフトポリマーの製造)前記シ
リコーン系マクロ七ツマ−とカルボキシル基含有ラジカ
ル重合性モノマー及び/又はヒドロキシル基含有ラジカ
ル重合性モノマー、場合によっては更に第3モノマーと
のラジカル共重合により本発明グラフトポリマーを容易
に得ることができる。この場合グラフトポリマーの幹は
カルボキシル基含有ラジカル重合性モノマー及び/又は
ヒドロキシル基含有ラジカル重合性モノマーと第3モノ
マーとのコポリマーであり枝はシリコーンポリマーであ
る。該グラフトポリマーを表面処理剤と併用する場合に
は表面処理剤を相溶性の良いセグメントは第6モノマー
のポリマーとなるので第6モノマーの導入が必要となる
。
リコーン系マクロ七ツマ−とカルボキシル基含有ラジカ
ル重合性モノマー及び/又はヒドロキシル基含有ラジカ
ル重合性モノマー、場合によっては更に第3モノマーと
のラジカル共重合により本発明グラフトポリマーを容易
に得ることができる。この場合グラフトポリマーの幹は
カルボキシル基含有ラジカル重合性モノマー及び/又は
ヒドロキシル基含有ラジカル重合性モノマーと第3モノ
マーとのコポリマーであり枝はシリコーンポリマーであ
る。該グラフトポリマーを表面処理剤と併用する場合に
は表面処理剤を相溶性の良いセグメントは第6モノマー
のポリマーとなるので第6モノマーの導入が必要となる
。
本発明グラフトポリマーを製造するにあたり各モノマー
の共1合割合は、次に述べるような範囲に設定するのが
好ましい。
の共1合割合は、次に述べるような範囲に設定するのが
好ましい。
本発明フッ素系グラフトポリマー中におけるフルオロア
ルキル(メタ)アクリレート単位の含有量は5〜60重
量%が好ましく、10〜40重JJk%が更に好ましい
。フルオロアルキル(メタ)アクリレート単位の含有量
が5重f&%未満からなるフッ素系グラフトポリマーで
は摩擦性、耐食性等における所期の性能が充分に発現せ
ず、60重量%を越えるとフッ素系グラフトポリマーの
沼剤への溶解性が悪くなり、又、フッ素による改質効果
の向上がなくなってくる。
ルキル(メタ)アクリレート単位の含有量は5〜60重
量%が好ましく、10〜40重JJk%が更に好ましい
。フルオロアルキル(メタ)アクリレート単位の含有量
が5重f&%未満からなるフッ素系グラフトポリマーで
は摩擦性、耐食性等における所期の性能が充分に発現せ
ず、60重量%を越えるとフッ素系グラフトポリマーの
沼剤への溶解性が悪くなり、又、フッ素による改質効果
の向上がなくなってくる。
本発明シリコーン系グラフトポリマー中におけるシリコ
ーンマクロモノマーの含有量は2〜60重量%が好まし
く、10〜40]i量饅が更ニ好ましい。2〜6o、a
ffl俤が好ましい理由は前記フッ素系グラフトポリマ
ーの場合と同様である。
ーンマクロモノマーの含有量は2〜60重量%が好まし
く、10〜40]i量饅が更ニ好ましい。2〜6o、a
ffl俤が好ましい理由は前記フッ素系グラフトポリマ
ーの場合と同様である。
カルボキシル基含有ラジカル重合性モノマー及び/又は
ヒドロキシル基含有ラジカル重合性モノマーの本発明フ
ッ素系及びシリコーン系グラフトポリマー中における含
有量は0.1〜40重伝優が好ましく、更には1〜30
重量%が好ましい。0.1重量%未満では本発明グラフ
トポリマーの磁性JQ!及び基本に対する密着性、及び
密着性の耐久性が不充分となり、40重量%を越えると
製造時の相溶性、即ち、カルボキシル基含有ラジカル重
合性モノマー及び、/又はヒドロキシル基含有ラジカル
重合性モノマーとフルオロアルキル(メタ)アクリレー
トや該モノマーからのマクロモノマー、シリコーンマク
ロモノマーとの相溶性が悪くなり相分離してしまい目的
とするグラフトポリマーが得られなくなるからである。
ヒドロキシル基含有ラジカル重合性モノマーの本発明フ
ッ素系及びシリコーン系グラフトポリマー中における含
有量は0.1〜40重伝優が好ましく、更には1〜30
重量%が好ましい。0.1重量%未満では本発明グラフ
トポリマーの磁性JQ!及び基本に対する密着性、及び
密着性の耐久性が不充分となり、40重量%を越えると
製造時の相溶性、即ち、カルボキシル基含有ラジカル重
合性モノマー及び、/又はヒドロキシル基含有ラジカル
重合性モノマーとフルオロアルキル(メタ)アクリレー
トや該モノマーからのマクロモノマー、シリコーンマク
ロモノマーとの相溶性が悪くなり相分離してしまい目的
とするグラフトポリマーが得られなくなるからである。
第3モノマーを使用する場合、第3モノマーの本発明フ
ッ素系及びシリコーン系グラフトポリマー中における含
有量は5〜70重量%が好ましく10〜70ffimt
%が更に好ましい。5重tS未満では本発明グラフトポ
リマーの溶剤に対する溶解性や表面処理剤との相溶性が
低下する。70重量%を越えると表面処理剤に対する相
溶性の効果の向上はみられないからである。
ッ素系及びシリコーン系グラフトポリマー中における含
有量は5〜70重量%が好ましく10〜70ffimt
%が更に好ましい。5重tS未満では本発明グラフトポ
リマーの溶剤に対する溶解性や表面処理剤との相溶性が
低下する。70重量%を越えると表面処理剤に対する相
溶性の効果の向上はみられないからである。
ラジカル共重合の方法は、従来公知の方法を使用でき、
例えば放射線照射法、ラジカル重合開始剤を用いろ方法
等使用できるが、ラジカル重合開始剤を用いる方法が重
合操作の容易さ、分子量の調節の容易さの点で好ましく
、具体的には溶媒を用いる溶液重合法、バルク重合法、
エマルジョン重合法等のいずれの方法も行なうことがで
きるが、溶液重合法が好ましい。それは各モノマー間で
の相分離を防ぎ均一な共重合を可能ならしめるからであ
る。
例えば放射線照射法、ラジカル重合開始剤を用いろ方法
等使用できるが、ラジカル重合開始剤を用いる方法が重
合操作の容易さ、分子量の調節の容易さの点で好ましく
、具体的には溶媒を用いる溶液重合法、バルク重合法、
エマルジョン重合法等のいずれの方法も行なうことがで
きるが、溶液重合法が好ましい。それは各モノマー間で
の相分離を防ぎ均一な共重合を可能ならしめるからであ
る。
本発明グラフトポリマーに使用できるカルボキシル基含
有ラジカル重合性モノマーとしては従来公知のものを使
用でき、例えば(メタ)アクリル酸、カルボキシル基を
有する(メタ)アクリレートとしては、ヒドロキシル基
を有する(メタ)アクIJL/−)と2塩基酸無水物、
例えば無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸等
との反応生成物をあげることができ、これらのうち(メ
タ)アクリル酸が特に好ましい。
有ラジカル重合性モノマーとしては従来公知のものを使
用でき、例えば(メタ)アクリル酸、カルボキシル基を
有する(メタ)アクリレートとしては、ヒドロキシル基
を有する(メタ)アクIJL/−)と2塩基酸無水物、
例えば無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸等
との反応生成物をあげることができ、これらのうち(メ
タ)アクリル酸が特に好ましい。
またヒドロキシル基含有ラジカル重合性モノマーとして
は、ヒドロキシル基を有するラジカル重合性モノマーで
あればいずれも使用でき、例えば2−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピぞ(メタ
)アクリ・レート、6−ヒドロキシエチル(メタ)アク
リレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート
、6−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2,3
−ジヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等を挙げ
ることができる。
は、ヒドロキシル基を有するラジカル重合性モノマーで
あればいずれも使用でき、例えば2−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピぞ(メタ
)アクリ・レート、6−ヒドロキシエチル(メタ)アク
リレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート
、6−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2,3
−ジヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等を挙げ
ることができる。
これらのラジカル重合性モノマーのうち入手の容易さ、
コストの点で2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
トが好ましい。
コストの点で2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
トが好ましい。
本発明グラフトポリマーの製造に使用することができる
第6モノマーとしては次の各ラジカル重合性モノマーを
あげることができる。オレフィン系化合物の例として、
エチレン、プロピレンなどの低分子量不飽和炭化水素、
塩化ビニル及び7ツ化ビニルの如きハロゲン化ビニル、
酢酸ビニルの如き有機酸のビニルエステル、スチレン、
スチレン置換体並びにビニルピリジン及びビニルナフタ
レンの如きその他のビニル芳香族化合物、(メタ)アク
リル酸のエステル、アミドを含むアクリル酸、メタクリ
ル酸の訪導体、アクロンイン′、アクリロニトリル、N
−ビニルピロリドン及びN−ビニルカプロラクタムの如
きN−ビニル化合物、フッ化ビニリデン、塩化ビニリデ
ンの如きジ置換エチレン、無水マレイン酸、マイレン酸
及び7マル酸のエステル、γ−メタクリルオキシグロビ
ルトリメトキシシランの如きアクリルケイ素化合物等を
あげろことができる。
第6モノマーとしては次の各ラジカル重合性モノマーを
あげることができる。オレフィン系化合物の例として、
エチレン、プロピレンなどの低分子量不飽和炭化水素、
塩化ビニル及び7ツ化ビニルの如きハロゲン化ビニル、
酢酸ビニルの如き有機酸のビニルエステル、スチレン、
スチレン置換体並びにビニルピリジン及びビニルナフタ
レンの如きその他のビニル芳香族化合物、(メタ)アク
リル酸のエステル、アミドを含むアクリル酸、メタクリ
ル酸の訪導体、アクロンイン′、アクリロニトリル、N
−ビニルピロリドン及びN−ビニルカプロラクタムの如
きN−ビニル化合物、フッ化ビニリデン、塩化ビニリデ
ンの如きジ置換エチレン、無水マレイン酸、マイレン酸
及び7マル酸のエステル、γ−メタクリルオキシグロビ
ルトリメトキシシランの如きアクリルケイ素化合物等を
あげろことができる。
これらのラジカル重合性化合物は単独又は2MVA以上
組合せて使用することができる。
組合せて使用することができる。
上記した本発明グラフトポリマーのうち、密着性及び耐
久性の点からカルボキシル基を有するフッ素系又はシリ
コーン系グラフトポリマーが好ましく、カルボキシル基
を■するシリコーン系グラフトポリマーが特に好ましい
1、〔潤滑被瘍層の形成〕 前記のようにして得られた本発1.ilJグラフトポリ
マーは、単独でも例えば、溶剤に溶解した溶液を塗布後
加熱乾燥することにより所期の優れた性能を発現できる
が、本グラフトポリマーに詳細は後述する架橋硬化性を
有するか有しない表面処理剤を添加店解し、この混合物
を例えば加熱重合硬化、常温重合硬化、活性エネルギー
線による硬化、架橋剤による架橋硬化等の手段によって
硬化することにより磁性層の表面及び又は基体の裏面に
浸れた潤滑被覆層が形成される。
久性の点からカルボキシル基を有するフッ素系又はシリ
コーン系グラフトポリマーが好ましく、カルボキシル基
を■するシリコーン系グラフトポリマーが特に好ましい
1、〔潤滑被瘍層の形成〕 前記のようにして得られた本発1.ilJグラフトポリ
マーは、単独でも例えば、溶剤に溶解した溶液を塗布後
加熱乾燥することにより所期の優れた性能を発現できる
が、本グラフトポリマーに詳細は後述する架橋硬化性を
有するか有しない表面処理剤を添加店解し、この混合物
を例えば加熱重合硬化、常温重合硬化、活性エネルギー
線による硬化、架橋剤による架橋硬化等の手段によって
硬化することにより磁性層の表面及び又は基体の裏面に
浸れた潤滑被覆層が形成される。
本発明における潤滑汲覆層は、通常カルボキシル基及び
/又はヒドロキシル基を有するフッ素系又はシリコーン
系グラフトポリマー自体からなっているが、後述する架
橋硬化型の表面処理剤とその架橋剤を使用した場合には
グラフトポリマーの一部が架橋硬化して部分反応硬化物
となることがあり、そのような部分架橋したグラフトポ
リマーも本発明にいうグラフトポリマーの一種である。
/又はヒドロキシル基を有するフッ素系又はシリコーン
系グラフトポリマー自体からなっているが、後述する架
橋硬化型の表面処理剤とその架橋剤を使用した場合には
グラフトポリマーの一部が架橋硬化して部分反応硬化物
となることがあり、そのような部分架橋したグラフトポ
リマーも本発明にいうグラフトポリマーの一種である。
何故ならば、本発明グラフトポリマーは表面移行能力に
極めて優れているため、該混合物を鏡 通常の環讃、即ち空気中あるいは不活性ガス例えば窒素
中で成膜すれば塗膜表面に本発明グラフトポリマーが移
行濃縮し塗膜表面を容易に改質できるからである。
極めて優れているため、該混合物を鏡 通常の環讃、即ち空気中あるいは不活性ガス例えば窒素
中で成膜すれば塗膜表面に本発明グラフトポリマーが移
行濃縮し塗膜表面を容易に改質できるからである。
本発明グラフトポリマーと表面処理剤との混合物をトッ
プコートあるいはバックコートに用いる場合、使用でき
る表面処理剤としては、本発明グラフトポリマーを溶解
する表面処理剤であれば、いずれの表面処理剤でも使用
できる。
プコートあるいはバックコートに用いる場合、使用でき
る表面処理剤としては、本発明グラフトポリマーを溶解
する表面処理剤であれば、いずれの表面処理剤でも使用
できる。
表面処理剤はポリマーまたはポリマーと溶剤とで構成さ
れる。ポリマーとしては、例えばα。
れる。ポリマーとしては、例えばα。
β−エチレン性不飽和単量体、α、β−エチレン性不飽
和カルボン嘔およびこれらの誘導体の斧元■合体、嵐お
6合反厄による重合体、重付加反応による重合体等のご
ときポリマーそれ自体を使用できる他、ラジカル重合性
成分からなる硬化性組成物等をポリマー前駆動物質とし
て用いる事もできる。ポリマーの具体例を示せばα。
和カルボン嘔およびこれらの誘導体の斧元■合体、嵐お
6合反厄による重合体、重付加反応による重合体等のご
ときポリマーそれ自体を使用できる他、ラジカル重合性
成分からなる硬化性組成物等をポリマー前駆動物質とし
て用いる事もできる。ポリマーの具体例を示せばα。
β−エチレン不飽和単量体としてはスチレン、アクリロ
ニトリル、塩化ビニル等があげられ、α、β−エチレン
性不飽相カルボン酸として(メタ)アクリル酸、マイレ
ン酸等の一価及び二価のカルボン酸があげられる。又α
、β−エチレン性不飽和カルボン酸の誘導体としては(
メタ)アクリル酸のアルキルエステル例えばエチル、フ
チル、2−エチルヘキシル等のエステルであり、又アク
リル酸又はメタクリル酸のヒドロキシアルキルエステル
としては(メタ)アクリル酸ヒドロキ7エチルエステル
、ヒドロキシプロピルエステル等をあげることができる
。
ニトリル、塩化ビニル等があげられ、α、β−エチレン
性不飽相カルボン酸として(メタ)アクリル酸、マイレ
ン酸等の一価及び二価のカルボン酸があげられる。又α
、β−エチレン性不飽和カルボン酸の誘導体としては(
メタ)アクリル酸のアルキルエステル例えばエチル、フ
チル、2−エチルヘキシル等のエステルであり、又アク
リル酸又はメタクリル酸のヒドロキシアルキルエステル
としては(メタ)アクリル酸ヒドロキ7エチルエステル
、ヒドロキシプロピルエステル等をあげることができる
。
これらの単量体を組み合わせて重合することにより得ら
れる常乾型ラッカーあるいは焼付型クリヤーエナメルが
表面処111U Mlの例として挙げられる。
れる常乾型ラッカーあるいは焼付型クリヤーエナメルが
表面処111U Mlの例として挙げられる。
上記重縮合反応による重合体としては通常の重縮合反応
により得られる線状ポリエステル樹Uk、アルキッド樹
月d、ポリアミド樹月旨、エポキシ樹脂等を挙げること
ができる。
により得られる線状ポリエステル樹Uk、アルキッド樹
月d、ポリアミド樹月旨、エポキシ樹脂等を挙げること
ができる。
また重付加反応による重合体としては通常の憲付辺反応
により得られるポリウレタン樹脂、ポリ尿素樹脂等を挙
げることができる。その他シリコーン樹脂およびフッ素
樹脂コーチインク剤も挙げることができる。
により得られるポリウレタン樹脂、ポリ尿素樹脂等を挙
げることができる。その他シリコーン樹脂およびフッ素
樹脂コーチインク剤も挙げることができる。
マタエチルセルローズ、ブチルセルローズ、ニトロセル
ローズ等のセルローズ誘4 体’4t これらポリマー
と併用する事もできる。ポリマー前駆物質としてのラジ
カル重合性成分からなる、41 硬化性組成物を用いる場合は、ラジカル重合開始剤を用
いて加熱1合硬化する方法、ラジカル重合開始剤と重合
硬化促進剤を併用し、常温付近でレドックス重合硬化す
る方法や、光重合開始剤を用いた紫外線硬化又は重合開
始剤を用いても用いなくてもよい電子線硬化等の種々の
硬化手段があり、かかる手段によって重合硬化する組成
物であればいずれも使用できる。ラジカル重合性成分と
しては、具体的には(メタ)アクリル酸エステル単量体
、不飽和ポリエステル、ポリエステル(メタ)アクレー
ト、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)
アクリレート、ポリアミド(メタ)アクリレート等を挙
げる事ができる。
ローズ等のセルローズ誘4 体’4t これらポリマー
と併用する事もできる。ポリマー前駆物質としてのラジ
カル重合性成分からなる、41 硬化性組成物を用いる場合は、ラジカル重合開始剤を用
いて加熱1合硬化する方法、ラジカル重合開始剤と重合
硬化促進剤を併用し、常温付近でレドックス重合硬化す
る方法や、光重合開始剤を用いた紫外線硬化又は重合開
始剤を用いても用いなくてもよい電子線硬化等の種々の
硬化手段があり、かかる手段によって重合硬化する組成
物であればいずれも使用できる。ラジカル重合性成分と
しては、具体的には(メタ)アクリル酸エステル単量体
、不飽和ポリエステル、ポリエステル(メタ)アクレー
ト、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)
アクリレート、ポリアミド(メタ)アクリレート等を挙
げる事ができる。
この本発明グラフトポリマーの表面処理剤への添加量は
表面処理剤のポリマー又はラジカル重合性成分に対して
0.01重量%以上が好ましい。添加量が0.01重蛍
チ未満では塗膜表面に所期の目的の硬化を充分発揮でき
ない。
表面処理剤のポリマー又はラジカル重合性成分に対して
0.01重量%以上が好ましい。添加量が0.01重蛍
チ未満では塗膜表面に所期の目的の硬化を充分発揮でき
ない。
これら表面処理剤は有機溶剤に溶解して用いても、又有
機溶剤に溶解しなくても用いることはできるが、一般に
は有機溶剤型表面処理剤として用いた方が好ましい。そ
れは、本発明グラフトポリマーの溶解性を高め、本発明
グラフトポリマーの被膜表面への移行性を高め、本発明
の一つの目的である電磁変換特性に悪影響を与えない薄
膜を形成させる事ができるとともに、粘度低下による均
一な平滑面を得ることができるからである。使用可能な
溶剤としてはトルエン、キシレン、シクロヘキサン等の
炭化水素系溶剤や酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル
系溶剤あるいはメチルエチルケトン、メチルインブチル
ケトン等のケトン系溶剤、メチルセロンルプ、エチルセ
ロソルブ等があり、これらの各線溶剤の一種又は二種以
上が好ましく用いられる。又処理剤を塗布する際の手段
によっては帯電防止剤、体質顔料、ワックスおよびレベ
リング剤等の添加剤を添加してもよい。
機溶剤に溶解しなくても用いることはできるが、一般に
は有機溶剤型表面処理剤として用いた方が好ましい。そ
れは、本発明グラフトポリマーの溶解性を高め、本発明
グラフトポリマーの被膜表面への移行性を高め、本発明
の一つの目的である電磁変換特性に悪影響を与えない薄
膜を形成させる事ができるとともに、粘度低下による均
一な平滑面を得ることができるからである。使用可能な
溶剤としてはトルエン、キシレン、シクロヘキサン等の
炭化水素系溶剤や酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル
系溶剤あるいはメチルエチルケトン、メチルインブチル
ケトン等のケトン系溶剤、メチルセロンルプ、エチルセ
ロソルブ等があり、これらの各線溶剤の一種又は二種以
上が好ましく用いられる。又処理剤を塗布する際の手段
によっては帯電防止剤、体質顔料、ワックスおよびレベ
リング剤等の添加剤を添加してもよい。
上述した本発明グラフトポリマー単独又は上記各種表面
処理剤とを併用してなる潤滑特性を有した処理剤を、各
種プラスチックおよびガラス等の基体上に真空蒸着、イ
オンブレーティング、スバ、タリングおよびメッキ法等
によりて設けられた強磁性金属薄膜からなる、テープ、
垂直磁気記録及び光磁気ディスク等の各種記録媒体の表
面又は基体の裏面に塗布するが、この方法は記録媒体の
形状によって異なり、公知の方法即ち、グラビヤコート
、グラビヤオフセットコート、スリードリバースコート
、スプレーコート、スピンナーコート、ディピングコー
トおよびカーテンフローコート等の方法により表面に塗
布、乾燥し、しかる後表面処理剤としてカルボキシル基
又はヒドロキシル基などを有するものを用いたときはイ
ソシアネート系樹脂。
処理剤とを併用してなる潤滑特性を有した処理剤を、各
種プラスチックおよびガラス等の基体上に真空蒸着、イ
オンブレーティング、スバ、タリングおよびメッキ法等
によりて設けられた強磁性金属薄膜からなる、テープ、
垂直磁気記録及び光磁気ディスク等の各種記録媒体の表
面又は基体の裏面に塗布するが、この方法は記録媒体の
形状によって異なり、公知の方法即ち、グラビヤコート
、グラビヤオフセットコート、スリードリバースコート
、スプレーコート、スピンナーコート、ディピングコー
トおよびカーテンフローコート等の方法により表面に塗
布、乾燥し、しかる後表面処理剤としてカルボキシル基
又はヒドロキシル基などを有するものを用いたときはイ
ソシアネート系樹脂。
メラミン樹脂等の架橋剤により架橋したり、表面処理剤
としてラジカル重合性組成物乞用いた場合は、熱、紫外
線あるいは電子線により重合硬化し強固な塗膜とすれば
、磁性層膜の表面及び又は基体の裏面に数十A以上の平
mな膜で所期の目的に合った被覆層を形成させる事がで
き。
としてラジカル重合性組成物乞用いた場合は、熱、紫外
線あるいは電子線により重合硬化し強固な塗膜とすれば
、磁性層膜の表面及び又は基体の裏面に数十A以上の平
mな膜で所期の目的に合った被覆層を形成させる事がで
き。
今までに得られなかった優れた効果が発見できるのであ
る。
る。
上記インシアネート系樹脂、メラミン樹脂等の架橋剤を
使用する場合には、架橋剤の使用量をグラフトポリマー
中のヒドロキシル基又はカルボキシル基の少なくとも一
部を残すような量とし、架橋方法は常法に従って朽なわ
れる。
使用する場合には、架橋剤の使用量をグラフトポリマー
中のヒドロキシル基又はカルボキシル基の少なくとも一
部を残すような量とし、架橋方法は常法に従って朽なわ
れる。
次に本発明を参考例、実施例及び比較例をもりてさらに
具体的に説明するが、多くの実験の中の一部を挙げたの
みで、これに限定されるべきものではない。なお各側に
おける部は重量部を、チは重fitqbを意味する。
具体的に説明するが、多くの実験の中の一部を挙げたの
みで、これに限定されるべきものではない。なお各側に
おける部は重量部を、チは重fitqbを意味する。
参考例1
フラスコにカリウム金属α5jl(0,0128mob
)とn−ヘキサン約5dを入れ、乾燥窒素気流下、水浴
中でメタノール10117を50分かけ【滴下した。更
に30分攪拌した後、過剰メタノール及びn−ヘキサン
を減圧留去した。続いて、オクタメチルシクロテトラシ
ロキサン401 (0,155moL)及びモリキュラ
ーシープで十分脱水したテトラヒドロフラン40#を加
え、4時間加熱還流させた。
)とn−ヘキサン約5dを入れ、乾燥窒素気流下、水浴
中でメタノール10117を50分かけ【滴下した。更
に30分攪拌した後、過剰メタノール及びn−ヘキサン
を減圧留去した。続いて、オクタメチルシクロテトラシ
ロキサン401 (0,155moL)及びモリキュラ
ーシープで十分脱水したテトラヒドロフラン40#を加
え、4時間加熱還流させた。
オクタメチルシクロテトラシロキサン
(モル比)であった。
反応液温度が室温まで下がった後、r−メタクリルオキ
シプロピルジメチルクロロシランの10%テトラヒドロ
フラン溶液31JI(r−メタクリルオキシプロピルジ
メチルクロルシラン0.0141mnt)を徐々に滴下
し、滴下終了後、更に室温で30分攪拌した。
シプロピルジメチルクロロシランの10%テトラヒドロ
フラン溶液31JI(r−メタクリルオキシプロピルジ
メチルクロルシラン0.0141mnt)を徐々に滴下
し、滴下終了後、更に室温で30分攪拌した。
カリウム塩
= 1.10 (当量比)であった。生成した塩化カリ
ウムの沈澱をろ別した後、ろ液を1−eのメタノール中
へ注キシリコーンマクロモノマーを沈澱させた。デカン
テーションし、乾燥すると無色透明オイル状のシリコー
ンマクロモノマーが26.0’得られた。
ウムの沈澱をろ別した後、ろ液を1−eのメタノール中
へ注キシリコーンマクロモノマーを沈澱させた。デカン
テーションし、乾燥すると無色透明オイル状のシリコー
ンマクロモノマーが26.0’得られた。
該シリコーンマクロモノマーはゲル侵透クロマトグラフ
ィー(以下GPCと略称する)によるポリスチレン換算
数平均分子量が8,900のものであった。
ィー(以下GPCと略称する)によるポリスチレン換算
数平均分子量が8,900のものであった。
次に得られた該シリコーンマクロ七ノーf−10部、M
MA40部、エチルアクリレート(以下EAと略す)4
0部、アクリル酸10部、メチルエチルケトン(以下M
EKと略す)150部、アゾビスイソブチロニトリル(
以下AIBNと略す)1部を、コンデンサー、攪拌機、
温度計を備えたフラスコに入れ、N、下、75℃の温度
で5時間重合し、その後更にAIBNI部を添加し、7
5℃の温度で5時間重合した。かくして本発明グラフト
ポリマー40%MEK溶液を得た。
MA40部、エチルアクリレート(以下EAと略す)4
0部、アクリル酸10部、メチルエチルケトン(以下M
EKと略す)150部、アゾビスイソブチロニトリル(
以下AIBNと略す)1部を、コンデンサー、攪拌機、
温度計を備えたフラスコに入れ、N、下、75℃の温度
で5時間重合し、その後更にAIBNI部を添加し、7
5℃の温度で5時間重合した。かくして本発明グラフト
ポリマー40%MEK溶液を得た。
参考例2
攪拌機、温度計、コンデンサー、N、導入管を備えた4
ツロフラスコにα、ω−ジヒドロキシポリジメチルシロ
キサン #(a15モル)、r−メタクリルオキシプロピルトリ
メトキシシラン12.4g(0,05モル)、酢酸カリ
ウム6.5gを仕込みN、下150℃の温度で200時
間反応せた。冷却後核反応物をトルエン1360I!に
注ぎ、酢酸カリウムを沈澱させ、r過により酢酸カリウ
ムを除去した。
ツロフラスコにα、ω−ジヒドロキシポリジメチルシロ
キサン #(a15モル)、r−メタクリルオキシプロピルトリ
メトキシシラン12.4g(0,05モル)、酢酸カリ
ウム6.5gを仕込みN、下150℃の温度で200時
間反応せた。冷却後核反応物をトルエン1360I!に
注ぎ、酢酸カリウムを沈澱させ、r過により酢酸カリウ
ムを除去した。
カくシテ得られたシリコーンマクロモノマ−20%トル
エン溶液100部あたり、MMA 70部、2−ヒドロ
キシエチルメタクリレート10部、AIBNl部、ME
K70部を加えて均一溶液となし、以下参考例1と同様
に重合を行なった。かくして本発明グラフトポリマーの
40%MEK溶液を得た。
エン溶液100部あたり、MMA 70部、2−ヒドロ
キシエチルメタクリレート10部、AIBNl部、ME
K70部を加えて均一溶液となし、以下参考例1と同様
に重合を行なった。かくして本発明グラフトポリマーの
40%MEK溶液を得た。
参考例3
攪拌機、環流冷却器、滴下ロート、温度計およびガス吹
込口を取り付けたガラスフラスコに、MMA10部と、
7セ)y(17,5% ) −)/’エン混合溶媒83
部を仕込み、N、導入後、環流下に重合開始剤としてア
ゾビスインブチロニトリル(以下AIBNと略記する)
0.5部と連鎖移動剤としてチオグリコール酸0.62
部を加えて重合を開始させた。その後4.5時間の間に
、MMA90部を連続的に滴下し、またチオグリコール
酸2.88部をトルエン7部に溶解して、30分毎、9
回に分けて追加、同様にAIBNl、5部を1.5時間
毎、6回に分けて追加し、重合を行なった。さらにその
後2時間環流して重合を終了し、下記構造式CI)のポ
リマー溶液を得た。反応温度は77〜87℃であった。
込口を取り付けたガラスフラスコに、MMA10部と、
7セ)y(17,5% ) −)/’エン混合溶媒83
部を仕込み、N、導入後、環流下に重合開始剤としてア
ゾビスインブチロニトリル(以下AIBNと略記する)
0.5部と連鎖移動剤としてチオグリコール酸0.62
部を加えて重合を開始させた。その後4.5時間の間に
、MMA90部を連続的に滴下し、またチオグリコール
酸2.88部をトルエン7部に溶解して、30分毎、9
回に分けて追加、同様にAIBNl、5部を1.5時間
毎、6回に分けて追加し、重合を行なった。さらにその
後2時間環流して重合を終了し、下記構造式CI)のポ
リマー溶液を得た。反応温度は77〜87℃であった。
反応液の一部をn−へキサンにて再沈澱、乾燥して酸価
を測定したところ、0.340■当f/gであった。
を測定したところ、0.340■当f/gであった。
CH。
次に、上記反応液からアセトンの一部を留去した後、触
媒としてトリエチルアミン0.5%、重合禁止剤として
ハイドロキノンモノメチルエーテル2001)1)mを
添加し、酸価に対して1.2倍モルのグリシジルメタク
リレートを加え、環流下(約110℃)に11時間反応
させた。酸価の減少から求めた反応液は96チであった
。
媒としてトリエチルアミン0.5%、重合禁止剤として
ハイドロキノンモノメチルエーテル2001)1)mを
添加し、酸価に対して1.2倍モルのグリシジルメタク
リレートを加え、環流下(約110℃)に11時間反応
させた。酸価の減少から求めた反応液は96チであった
。
反応液を10倍量のn−ヘキサン中に投入、沈澱させた
後80℃で減圧乾燥して、下記構造式叩のマクロモノマ
ー90部を得た。GPCによるポリスチレン換算分子量
は、2840(数平均)および6,470(重量平均)
であった。また水酸基価は0.350η−当量/gであ
った。
後80℃で減圧乾燥して、下記構造式叩のマクロモノマ
ー90部を得た。GPCによるポリスチレン換算分子量
は、2840(数平均)および6,470(重量平均)
であった。また水酸基価は0.350η−当量/gであ
った。
CM。
CI(。
延
CH,−00C−C=CH。
かくして得られたポリMMA系マクロモノマー40部と
下記構造式lのフルオロアルキルアクリレート30部、
MMA20部、アクリル酸10部、MEK/メチルイソ
ブチルケトン(MIBKと略す)=1/1 (重電比
)の混合溶剤233部、AIBNl部をフラスコに仕込
み、N2下、75℃の温度で7時間重合させた。
下記構造式lのフルオロアルキルアクリレート30部、
MMA20部、アクリル酸10部、MEK/メチルイソ
ブチルケトン(MIBKと略す)=1/1 (重電比
)の混合溶剤233部、AIBNl部をフラスコに仕込
み、N2下、75℃の温度で7時間重合させた。
かくして本発明グラフトポリマー30チω[K/MIB
K 混合溶剤の溶液を得た。
K 混合溶剤の溶液を得た。
10 CFs (CF、 )n CM、 CH,、O
OCCH=CH2において n=4〜12の混合物 (nの平均値約7)参考例4 攪拌機、還流冷却器、滴下ロート2本、温度計及びガス
吹き込み口を取りつけたガラスフラスコに、ペンシトリ
フルオライド200部を仕込み、一方の滴下ロート(滴
下ロートAとする)に次に示す構造を持つフルオロアク
リレートCF3 +CF、+n C:E(、CH,0C
CH=CH2n=4〜12の混合物 (nの平均値約7
)200部、もう一方の滴下ロート(滴下ロートBとす
る)に3−メルカプトプロピオン酸7.08部、アゾビ
スイソブチロニトリル4部及びペンシトリフルオライド
100部の混合液を入れた。
OCCH=CH2において n=4〜12の混合物 (nの平均値約7)参考例4 攪拌機、還流冷却器、滴下ロート2本、温度計及びガス
吹き込み口を取りつけたガラスフラスコに、ペンシトリ
フルオライド200部を仕込み、一方の滴下ロート(滴
下ロートAとする)に次に示す構造を持つフルオロアク
リレートCF3 +CF、+n C:E(、CH,0C
CH=CH2n=4〜12の混合物 (nの平均値約7
)200部、もう一方の滴下ロート(滴下ロートBとす
る)に3−メルカプトプロピオン酸7.08部、アゾビ
スイソブチロニトリル4部及びペンシトリフルオライド
100部の混合液を入れた。
窒素ガス導入後フラスコを加熱昇温し反応液を70℃に
保った状態で滴下ロートA及び滴下ロートBを2時間か
けて滴下した。更に4時間反応させると、フルオロアク
リレートの重合転化率は95.8%となった。次に反応
液を昇温し2時間還流した後、冷却して溶液温度を90
℃に保った。ここへハイドロキノンモノメチルエーテル
0.1部、グリシジルメタクリレート13.95部、テ
トラブチルアンモニウムブロマイド2.5gを添加した
。更に窒素ガスから空気吹き込みに切り換えて90℃で
6時間反応させた。塩基による滴定から求めた反応転化
率は94.6%であった。反応液を10倍量のメタノー
ルに投入し沈澱させた。50℃で測圧乾燥し固体状のフ
ルオロアクリレートマクロモノマー152.3部を得た
。かくして得られたフッ素系マクロモノマー20部、2
−ヒドロキシエチルメタクリレート10部、MMA70
部、ペンシトリフルオライド/MIBK=1/1(重量
比)の混合溶剤236部、AIBN1部をフラスコに仕
込みN2下75℃の温度で7時間重合させた。かくして
本発明グラフトポリマー30%のペンシトリフルオライ
ド/MIBK混合溶剤の溶液を得た。
保った状態で滴下ロートA及び滴下ロートBを2時間か
けて滴下した。更に4時間反応させると、フルオロアク
リレートの重合転化率は95.8%となった。次に反応
液を昇温し2時間還流した後、冷却して溶液温度を90
℃に保った。ここへハイドロキノンモノメチルエーテル
0.1部、グリシジルメタクリレート13.95部、テ
トラブチルアンモニウムブロマイド2.5gを添加した
。更に窒素ガスから空気吹き込みに切り換えて90℃で
6時間反応させた。塩基による滴定から求めた反応転化
率は94.6%であった。反応液を10倍量のメタノー
ルに投入し沈澱させた。50℃で測圧乾燥し固体状のフ
ルオロアクリレートマクロモノマー152.3部を得た
。かくして得られたフッ素系マクロモノマー20部、2
−ヒドロキシエチルメタクリレート10部、MMA70
部、ペンシトリフルオライド/MIBK=1/1(重量
比)の混合溶剤236部、AIBN1部をフラスコに仕
込みN2下75℃の温度で7時間重合させた。かくして
本発明グラフトポリマー30%のペンシトリフルオライ
ド/MIBK混合溶剤の溶液を得た。
実施例1〜5及び比較列1〜3
12μ厚のPETフィルム上に強制的に酸素ガスな導入
しながら真空蒸着法により80%G−20%Ni より
なる強磁性合金薄膜の磁性層を形成して蒸着テープを得
たつこの蒸着テープの表面又は基体の裏面に表1の組成
よりなる処理剤をスリットリバースコート法により塗布
し。
しながら真空蒸着法により80%G−20%Ni より
なる強磁性合金薄膜の磁性層を形成して蒸着テープを得
たつこの蒸着テープの表面又は基体の裏面に表1の組成
よりなる処理剤をスリットリバースコート法により塗布
し。
熱風乾燥硬化および紫外線照射によって硬化させた。磁
性層の表面には約30OAの膜を形成し、裏面側には約
1μの膜を表−1,2に示された実施例、比較例共に形
成させた。得られた蒸着テープについては磁性層の表面
側と基体の裏面側の特性を測定し、その結果’tfj<
5に示した。
性層の表面には約30OAの膜を形成し、裏面側には約
1μの膜を表−1,2に示された実施例、比較例共に形
成させた。得られた蒸着テープについては磁性層の表面
側と基体の裏面側の特性を測定し、その結果’tfj<
5に示した。
以上の結果より本発明のシリコン系グラフトポリマーに
よって得られた磁気記録媒体は電磁変換特性を低下させ
る小な(低摩擦性、耐摩耗性、撥水性及び耐食性が向上
しているう故に耐久性に優れ。
よって得られた磁気記録媒体は電磁変換特性を低下させ
る小な(低摩擦性、耐摩耗性、撥水性及び耐食性が向上
しているう故に耐久性に優れ。
又摩擦係数の変化もない丸打安定性に優れた磁気記録体
を得る事が出来た。更に基体の裏面側においてもリール
、ハブなどにょるキズが付く事なく又結露したり、ブロ
ッキング等奮起こす事のない優れた記録媒体を得る事が
出来た。
を得る事が出来た。更に基体の裏面側においてもリール
、ハブなどにょるキズが付く事なく又結露したり、ブロ
ッキング等奮起こす事のない優れた記録媒体を得る事が
出来た。
実施例4
非常に良好な表面性を有した(表面粗さ約0、005μ
)非晶性熱可塑性ポリエーテルイミドm脂(ウルテム)
からなる基体の出番ζC。
)非晶性熱可塑性ポリエーテルイミドm脂(ウルテム)
からなる基体の出番ζC。
−Crの垂直異方性をもつ磁性層がスパッタ法により形
成された垂直磁気記録媒体の表面粗 1こ下記の岳成よりなる処理剤?スピンナーコートによ
り塗布して約100〜150A厚の保護膜を有する垂直
磁気媒体を得た。
成された垂直磁気記録媒体の表面粗 1こ下記の岳成よりなる処理剤?スピンナーコートによ
り塗布して約100〜150A厚の保護膜を有する垂直
磁気媒体を得た。
参考例3により得たカルボキシル基を有する本発明フッ
素系グラフトポリマー単独tMEK/)ルエン=2/1
(重量比)の混合浴剤中2%の濃度でスピンナーコ
ート法により塗布し熱風乾燥機90℃×3分間で処理し
た。
素系グラフトポリマー単独tMEK/)ルエン=2/1
(重量比)の混合浴剤中2%の濃度でスピンナーコ
ート法により塗布し熱風乾燥機90℃×3分間で処理し
た。
以上によって得られた本発明の垂直磁気記録媒体の表面
接触角は115°又、動摩擦係数は0.18fμ)であ
り優れた耐食性あるいは耐環境性を有していた。更にコ
ンタクトスタートストップ試験結果良好なる結果を得1
表面の傷及び摩耗跡など全く異常は見られなかったっ(
ハ)発明の効果 本発明によれば、磁性層表面に耐摩耗性、潤滑性、磁性
層の耐食性、磁性層との密着性に優れたトップコート層
を形成でき、又基体裏面には耐摩耗性、潤滑性、基体と
の密着性に優れたバックコート層を形成できろうこのよ
うにして形成した保護膜は磁性層に悪影響ヲ及ぼさず、
電磁変換特性を低下させることがなく、低摩擦性で耐食
性および耐摩耗性等が優れているので。
接触角は115°又、動摩擦係数は0.18fμ)であ
り優れた耐食性あるいは耐環境性を有していた。更にコ
ンタクトスタートストップ試験結果良好なる結果を得1
表面の傷及び摩耗跡など全く異常は見られなかったっ(
ハ)発明の効果 本発明によれば、磁性層表面に耐摩耗性、潤滑性、磁性
層の耐食性、磁性層との密着性に優れたトップコート層
を形成でき、又基体裏面には耐摩耗性、潤滑性、基体と
の密着性に優れたバックコート層を形成できろうこのよ
うにして形成した保護膜は磁性層に悪影響ヲ及ぼさず、
電磁変換特性を低下させることがなく、低摩擦性で耐食
性および耐摩耗性等が優れているので。
走行安定性および耐久性に優れた磁気記録媒体が提供さ
れるう 又本発明の磁気記録媒体はカルボキシル基及び/又ハヒ
ドロキシル基を有するフッ素又はシリコーン系グラフト
ポリマーを有しないグラフトポリマーを用いた磁気記録
媒体に比べて特ζこ密着性(こ優れ且つ耐摩耗性及び1
肘久性が一段と向上しているう
れるう 又本発明の磁気記録媒体はカルボキシル基及び/又ハヒ
ドロキシル基を有するフッ素又はシリコーン系グラフト
ポリマーを有しないグラフトポリマーを用いた磁気記録
媒体に比べて特ζこ密着性(こ優れ且つ耐摩耗性及び1
肘久性が一段と向上しているう
Claims (1)
- 1、基体上に設けられた強磁性金属薄膜からなる磁性層
の表面及び/又は基体の裏面に、カルボキシル基及び/
又はヒドロキシル基を有するフッ素系又はシリコーン系
グラフトポリマーからなる潤滑被覆層を形成してなる磁
気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19491585A JPS6257121A (ja) | 1985-09-05 | 1985-09-05 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19491585A JPS6257121A (ja) | 1985-09-05 | 1985-09-05 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6257121A true JPS6257121A (ja) | 1987-03-12 |
JPH0258685B2 JPH0258685B2 (ja) | 1990-12-10 |
Family
ID=16332456
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19491585A Granted JPS6257121A (ja) | 1985-09-05 | 1985-09-05 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6257121A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01113415A (ja) * | 1987-10-26 | 1989-05-02 | Toray Ind Inc | フッ素系グラフト重合体硬化性組成物 |
JPH01319518A (ja) * | 1988-06-20 | 1989-12-25 | Nisshin Kagaku Kogyo Kk | シリコーン/アクリル共重合体組成物 |
JP2007191508A (ja) * | 2006-01-17 | 2007-08-02 | Kyoeisha Chem Co Ltd | 帯電防止コーティング剤組成物及びそれを硬化させた被膜 |
-
1985
- 1985-09-05 JP JP19491585A patent/JPS6257121A/ja active Granted
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01113415A (ja) * | 1987-10-26 | 1989-05-02 | Toray Ind Inc | フッ素系グラフト重合体硬化性組成物 |
JPH01319518A (ja) * | 1988-06-20 | 1989-12-25 | Nisshin Kagaku Kogyo Kk | シリコーン/アクリル共重合体組成物 |
JP2007191508A (ja) * | 2006-01-17 | 2007-08-02 | Kyoeisha Chem Co Ltd | 帯電防止コーティング剤組成物及びそれを硬化させた被膜 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0258685B2 (ja) | 1990-12-10 |
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