JPS60101717A - 基体、磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
基体、磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS60101717A JPS60101717A JP59206969A JP20696984A JPS60101717A JP S60101717 A JPS60101717 A JP S60101717A JP 59206969 A JP59206969 A JP 59206969A JP 20696984 A JP20696984 A JP 20696984A JP S60101717 A JPS60101717 A JP S60101717A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- phosphorylated
- coating
- recording medium
- magnetic recording
- perfluoropolyether
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F299/00—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers
- C08F299/02—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates
- C08F299/022—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates from polycondensates with side or terminal unsaturations
- C08F299/024—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates from polycondensates with side or terminal unsaturations the unsaturation being in acrylic or methacrylic groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D171/00—Coating compositions based on polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D171/02—Polyalkylene oxides
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/725—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing a lubricant, e.g. organic compounds
- G11B5/7253—Fluorocarbon lubricant
- G11B5/7257—Perfluoropolyether lubricant
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/726—Two or more protective coatings
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/90—Magnetic feature
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
- Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
- Y10T428/264—Up to 3 mils
- Y10T428/265—1 mil or less
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31536—Including interfacial reaction product of adjacent layers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/3154—Of fluorinated addition polymer from unsaturated monomers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/3154—Of fluorinated addition polymer from unsaturated monomers
- Y10T428/31544—Addition polymer is perhalogenated
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、磁化可能な被覆が、潤滑剤として動きしかも
該磁化性被覆が酸化を受けやすいならば空気に対するバ
リヤーとして働き得る密着性カバリングによって保護さ
れる、磁気記録媒体に関する。本発明は、特に金属薄膜
磁気記録媒体用保護カバリングに関する。
該磁化性被覆が酸化を受けやすいならば空気に対するバ
リヤーとして働き得る密着性カバリングによって保護さ
れる、磁気記録媒体に関する。本発明は、特に金属薄膜
磁気記録媒体用保護カバリングに関する。
従来の技術
現在使用されている事実上すべての磁気記録、媒体の磁
化性被覆は、有機結合剤に分散された磁化性粒子を含む
が、このような任意の媒体上に記録できる情報量は理論
的限界に達している。情報は、金属薄膜磁気記録媒体上
に一層密に記録できることが知られている。このような
媒体は、記録層の表面に垂直な磁化容易軸を有する場合
に垂直記録に使用できる(米国特許第4,210,94
6号明細書を参照されたい)。
化性被覆は、有機結合剤に分散された磁化性粒子を含む
が、このような任意の媒体上に記録できる情報量は理論
的限界に達している。情報は、金属薄膜磁気記録媒体上
に一層密に記録できることが知られている。このような
媒体は、記録層の表面に垂直な磁化容易軸を有する場合
に垂直記録に使用できる(米国特許第4,210,94
6号明細書を参照されたい)。
金属薄膜磁気媒体についての主な問題は、その摩耗感受
性である。金属薄膜に接触する記録/再生変換器ヘッド
はフィルムを浸食するかそうでなければ損傷する傾向が
ある。高ビツト密度記録を用いる場合には、わずかの浸
食によってさえもデータの著しい損失が生じる。浸食お
よび金属薄膜の苛酷な摩耗を含む用途が増加しつつあり
、ビデオテープおよび電子カメラが二つの例である。
性である。金属薄膜に接触する記録/再生変換器ヘッド
はフィルムを浸食するかそうでなければ損傷する傾向が
ある。高ビツト密度記録を用いる場合には、わずかの浸
食によってさえもデータの著しい損失が生じる。浸食お
よび金属薄膜の苛酷な摩耗を含む用途が増加しつつあり
、ビデオテープおよび電子カメラが二つの例である。
従って、このような媒体には、保護被覆の若干の種類が
必要である。潤滑剤または保護膜として知られるこの被
覆は、磁気媒体を潤滑し、防食を与え、しかも耐摩耗性
を与えるように働く。磁気媒体用に開発された種々の潤
滑剤の中には、フッ素化ポリエーテルがある。(例えば
米国特許第3.778,508号、第4,267,23
8号および第4.268,556号明細書を参照された
い)。
必要である。潤滑剤または保護膜として知られるこの被
覆は、磁気媒体を潤滑し、防食を与え、しかも耐摩耗性
を与えるように働く。磁気媒体用に開発された種々の潤
滑剤の中には、フッ素化ポリエーテルがある。(例えば
米国特許第3.778,508号、第4,267,23
8号および第4.268,556号明細書を参照された
い)。
潤滑または保護膜層は、この層が除去されず、あるいは
記録または再生ヘッドの詰まりを起こさないように磁気
記録層に強固に固定されなければならない。先行技術の
多くの場合には、物理的吸収または吸着以外に、潤滑剤
を磁気記録媒体に接着する手段なしにフッ素化潤滑剤は
ハロダン化溶液マたはエマルジョンからの被覆として適
用されると考えられる。
記録または再生ヘッドの詰まりを起こさないように磁気
記録層に強固に固定されなければならない。先行技術の
多くの場合には、物理的吸収または吸着以外に、潤滑剤
を磁気記録媒体に接着する手段なしにフッ素化潤滑剤は
ハロダン化溶液マたはエマルジョンからの被覆として適
用されると考えられる。
共同特許である米国特許第4,404,247号明細書
には、 a、皮膜形成性芳香族または複素環重合性単量体および
ビニル芳香族コモノマーの内層およびす、パーフルオロ
ポリエーテルセグメントを官有する化合物の外層を含む
、磁気記録媒体用保護被覆が開示されている。前記の材
料は、溶液で、二つの別個の被覆工程で磁気記録媒体に
適用され、次いでその場で重合される。二層の隣接する
単量体は、共重合して、パーフルオロポリエーテルセグ
メントを内層を介して磁化性被覆に接着すると言われる
。パーフルオロポリエーテル潤滑剤は、その内層材料の
故に、直接に適用される場合よりも金属薄膜磁化性記録
媒体に対して著しく大きい密着性を有するといわれる。
には、 a、皮膜形成性芳香族または複素環重合性単量体および
ビニル芳香族コモノマーの内層およびす、パーフルオロ
ポリエーテルセグメントを官有する化合物の外層を含む
、磁気記録媒体用保護被覆が開示されている。前記の材
料は、溶液で、二つの別個の被覆工程で磁気記録媒体に
適用され、次いでその場で重合される。二層の隣接する
単量体は、共重合して、パーフルオロポリエーテルセグ
メントを内層を介して磁化性被覆に接着すると言われる
。パーフルオロポリエーテル潤滑剤は、その内層材料の
故に、直接に適用される場合よりも金属薄膜磁化性記録
媒体に対して著しく大きい密着性を有するといわれる。
本発明の開示
金属薄膜磁気記録媒体のような基体を摩耗から保護する
改良された複合、低表面エネルギー密着性カバリングが
発明された。潔的に述べれば、本発明は、表面が a)少なくとも一つの通常の有機溶媒に可晦性であり、
しかも少なくとも一つの芳香族、脂環式あるいはへテロ
原子部分を含有するリン酸化単量体またはオリテマーか
ら製造された重合体を含むプライマ一層と、 1)) 複6のパーフルオロアルキレンオキサイV繰り
返し単位を含む少なくとも一つのパーフルオロポリエー
テルから製造された重合体を含む外層とを含む保護被覆
によっておおわれている基体を包含する。
改良された複合、低表面エネルギー密着性カバリングが
発明された。潔的に述べれば、本発明は、表面が a)少なくとも一つの通常の有機溶媒に可晦性であり、
しかも少なくとも一つの芳香族、脂環式あるいはへテロ
原子部分を含有するリン酸化単量体またはオリテマーか
ら製造された重合体を含むプライマ一層と、 1)) 複6のパーフルオロアルキレンオキサイV繰り
返し単位を含む少なくとも一つのパーフルオロポリエー
テルから製造された重合体を含む外層とを含む保護被覆
によっておおわれている基体を包含する。
本発明から利益を得る基体は、磁化性被覆を有する磁気
記録媒体である。
記録媒体である。
本明細書において用いられる用語「通常の有機溶媒」は
、下記のタイプ通常使用された非フツ素化有機溶媒=(
キシレン、ベンゼンおよびトルエンのような)芳香族、
〔メチルエチルケトン(MEK ) 、メチルイソジチ
ルケトンおよびシクロヘキサノンのような〕ケトン、(
テトラヒドロフランのような)エーテル、エステル、ア
ミド、(エタノールのような)アルコール〜、塩素化脂
肪族、脂環式および芳香族溶媒およびそれらの配合物を
意味する。
、下記のタイプ通常使用された非フツ素化有機溶媒=(
キシレン、ベンゼンおよびトルエンのような)芳香族、
〔メチルエチルケトン(MEK ) 、メチルイソジチ
ルケトンおよびシクロヘキサノンのような〕ケトン、(
テトラヒドロフランのような)エーテル、エステル、ア
ミド、(エタノールのような)アルコール〜、塩素化脂
肪族、脂環式および芳香族溶媒およびそれらの配合物を
意味する。
前記パー)a)のプライマ一層の製造に使用される単量
体およびオリゴマーの両者およびパートb)の外層の製
造に用いられるパーフルオロポリエーテル単量体は重合
性である。すなわち、これらは縮合重合可能の末端エチ
レン系二重結合、エポキシy ”J 、’エステル、カ
ル−げン酸、ヒP口キシまたはアミン基または反応して
ウレタン結合を形成できるインシアナート基のような重
合性官能基を有する。
体およびオリゴマーの両者およびパートb)の外層の製
造に用いられるパーフルオロポリエーテル単量体は重合
性である。すなわち、これらは縮合重合可能の末端エチ
レン系二重結合、エポキシy ”J 、’エステル、カ
ル−げン酸、ヒP口キシまたはアミン基または反応して
ウレタン結合を形成できるインシアナート基のような重
合性官能基を有する。
パーフルオロポリエーテル単量体は、多信能末端ポリ(
パーフルオロアルキレンオキサイド)重合体またはオリ
ゴマーとして分類できる。これらは、分子当たり、平均
少なくとも約1.5個の末端エチレン系不飽和重合性部
位を有するのが好ましくA。
パーフルオロアルキレンオキサイド)重合体またはオリ
ゴマーとして分類できる。これらは、分子当たり、平均
少なくとも約1.5個の末端エチレン系不飽和重合性部
位を有するのが好ましくA。
前記i<? −) a)のリン酸化単量体およびオリゴ
マーは、分校構造および多数のエチレン系不飽和重合性
部分を有するのが好ましい。便宜上、リン酸化単量体お
よびオリゴマーを以後デライマート呼ぶ。
マーは、分校構造および多数のエチレン系不飽和重合性
部分を有するのが好ましい。便宜上、リン酸化単量体お
よびオリゴマーを以後デライマート呼ぶ。
被覆を記録媒体表面に添加する場合、被覆の厚さにより
、出力信号に損失が生じる。、これは、ヘッド間隔損失
と呼ばれる。本発明の複合、低表面エネルギー被覆は、
非常に薄く、シかも単分子性に近づくことができ、ヘラ
P間隔損失が最小になる。
、出力信号に損失が生じる。、これは、ヘッド間隔損失
と呼ばれる。本発明の複合、低表面エネルギー被覆は、
非常に薄く、シかも単分子性に近づくことができ、ヘラ
P間隔損失が最小になる。
測定するのは非常に困難であるが、記録媒体上の本発明
の複合低表面エネルギー被覆の好ましい厚さは5ないし
200 nmのおよその範囲内、一層好ましくは5ない
し25 nmの範囲内である。
の複合低表面エネルギー被覆の好ましい厚さは5ないし
200 nmのおよその範囲内、一層好ましくは5ない
し25 nmの範囲内である。
13nmのオーダーの厚さにおいても、新規な低い表面
エネルギー被覆により、十分に長時間適当な潤滑性が与
えられる。200 nmまでの増加した厚さによって、
記録媒体が厳しい使用、例えばビデオテープの同じフレ
ームにおける繰り返し停止作用の場合に若干長い寿命を
与える。200nmよりはるかに大きい厚さにおいては
、間隔損失は、大きくなり望ましくない。
エネルギー被覆により、十分に長時間適当な潤滑性が与
えられる。200 nmまでの増加した厚さによって、
記録媒体が厳しい使用、例えばビデオテープの同じフレ
ームにおける繰り返し停止作用の場合に若干長い寿命を
与える。200nmよりはるかに大きい厚さにおいては
、間隔損失は、大きくなり望ましくない。
本発明の保護カバリングは、
(1)溶媒、例えばメチルエチルケトン中の前記プライ
マーの第一の希薄な(例えば1重針幅またはそれ以下゛
)溶液を表面上に被覆して、樹脂の内部被覆を与え、こ
れを好ましくは乾燥して溶媒の大部分を除去し、 (U) フッ素化溶媒、例えば「フレオン」113−(
1,1,2−)リクロロー2.2.1−トリフルオロエ
タン)中の前記パーフルオロポリエーテル単量体の第二
の希薄溶液を、1桿(1)の被覆上に被覆し、 0itl 複合被覆を乾燥して(溶媒を除き)、次いで (1v)乾燥した複合被覆を重合条件にさらして、前記
単量体(好ましくは付加爪金性である)を重合させ、プ
ライマ一層を介して、パーツ悶オロボリエーテルを磁化
性被覆に結合する諸工程によって、記録媒体またはある
種の他の基体の磁化性被覆の表面上に適用できる。
マーの第一の希薄な(例えば1重針幅またはそれ以下゛
)溶液を表面上に被覆して、樹脂の内部被覆を与え、こ
れを好ましくは乾燥して溶媒の大部分を除去し、 (U) フッ素化溶媒、例えば「フレオン」113−(
1,1,2−)リクロロー2.2.1−トリフルオロエ
タン)中の前記パーフルオロポリエーテル単量体の第二
の希薄溶液を、1桿(1)の被覆上に被覆し、 0itl 複合被覆を乾燥して(溶媒を除き)、次いで (1v)乾燥した複合被覆を重合条件にさらして、前記
単量体(好ましくは付加爪金性である)を重合させ、プ
ライマ一層を介して、パーツ悶オロボリエーテルを磁化
性被覆に結合する諸工程によって、記録媒体またはある
種の他の基体の磁化性被覆の表面上に適用できる。
乾燥された被覆を電磁線(紫外線または電子ビーム放射
のような)にさらすことは被覆の硬化または重合の手段
となり得る。
のような)にさらすことは被覆の硬化または重合の手段
となり得る。
11強化性被覆を、前記の方法で複合保護被覆をもって
カバーすることによって、記録媒体には著しい寸法変化
が起こらず、これは金属薄膜記録テープの場合のように
記録媒体が非常に薄い場合に特にM要である。
カバーすることによって、記録媒体には著しい寸法変化
が起こらず、これは金属薄膜記録テープの場合のように
記録媒体が非常に薄い場合に特にM要である。
これは、金属薄膜磁気媒体を摩耗から保護する低い表面
エネルギー密着性カバリングを提供しかつ腐食保護を与
える。保護被覆を介して、すぐれた耐久性が記録媒体に
付与され、媒体表面の一層良好な湿潤(wetting
)が認められた。本発明の保護被覆には、米国特許第
4,404,247号明細書のビニル芳香族コモノマー
は必要ない。さらに、厚さ2Q nm未溝の均−被覆は
、この発明の被覆の場合イ0られろが、これに対して、
他の物質のこの・ような薄い被)lは不均一性を生じる
ことがある。
エネルギー密着性カバリングを提供しかつ腐食保護を与
える。保護被覆を介して、すぐれた耐久性が記録媒体に
付与され、媒体表面の一層良好な湿潤(wetting
)が認められた。本発明の保護被覆には、米国特許第
4,404,247号明細書のビニル芳香族コモノマー
は必要ない。さらに、厚さ2Q nm未溝の均−被覆は
、この発明の被覆の場合イ0られろが、これに対して、
他の物質のこの・ような薄い被)lは不均一性を生じる
ことがある。
前記の二層組成物は、また微粒/結合剤型磁気媒体用保
獲被迩としても使用できる。
獲被迩としても使用できる。
本発明の詳細な説明
パー) a)のプライマーはリン酸基のための反応性部
位を有する化合物から合成される。このような部位は、
エポキシ−、ヒドロキシル、−NH−1およびチオール
−8H基によって例示される。
位を有する化合物から合成される。このような部位は、
エポキシ−、ヒドロキシル、−NH−1およびチオール
−8H基によって例示される。
このような化合物と反応されるリン酸化試薬は、式
〔式中、Rpはアルキル、シクロアルキルまたは芳香族
基、かつXは一〇−1−s−1またはR′ −N−(式中、R′は水素またはRpであり得る)〕を
有するリン酸誘導体であってもよい。
基、かつXは一〇−1−s−1またはR′ −N−(式中、R′は水素またはRpであり得る)〕を
有するリン酸誘導体であってもよい。
ジアルコキジル化フェノールのリン酸化α、β−不飽和
カルゴン酸ニスデル、ジグリシジルイソフタレートのよ
うなジカルざン酸のグリシジルエステルのリン酸化アク
リレートまたはメタクリレートおよびヒドロキシウレタ
ンのリン酸化アクリレートである。
カルゴン酸ニスデル、ジグリシジルイソフタレートのよ
うなジカルざン酸のグリシジルエステルのリン酸化アク
リレートまたはメタクリレートおよびヒドロキシウレタ
ンのリン酸化アクリレートである。
リン酸化ジメタクリレートの下記の群は本発明のパー)
a)の樹脂として特に有用であることが見出されたプ
ライマーを代表するニ リン酸化ビス〔4+メタクリロイルオキシヒPロキシー
デロビルカルバメト今シクロヘキシル〕メタン、 リン酸化メタクリロイルオキシヒrロキシプロビルーイ
ンフタレートおよび ヒPロキシデロポキシル化ビスフェノールへのリン酸化
ジメタクリレート。
a)の樹脂として特に有用であることが見出されたプ
ライマーを代表するニ リン酸化ビス〔4+メタクリロイルオキシヒPロキシー
デロビルカルバメト今シクロヘキシル〕メタン、 リン酸化メタクリロイルオキシヒrロキシプロビルーイ
ンフタレートおよび ヒPロキシデロポキシル化ビスフェノールへのリン酸化
ジメタクリレート。
前記に例示されたアクリレートおよびメタクリレートの
他に、5個または6個までの炭素原子を有する他の不飽
和酸群も使用できる。
他に、5個または6個までの炭素原子を有する他の不飽
和酸群も使用できる。
本発明のパートb)のパーフルオロポリエーテル単量体
は、式 %式%() 〔式中、QはRfに結合する重合基を包含し、Rfは分
枝鎖もしくは直鎖構造のいずれでもよい二つまたはそれ
以上のランダムに分布したパーフルオロアルキレンオキ
サイド単位の蹟を表わし、かつ+ CaFzaO+ お
よび (−OF −0F20+ からなCF。
は、式 %式%() 〔式中、QはRfに結合する重合基を包含し、Rfは分
枝鎖もしくは直鎖構造のいずれでもよい二つまたはそれ
以上のランダムに分布したパーフルオロアルキレンオキ
サイド単位の蹟を表わし、かつ+ CaFzaO+ お
よび (−OF −0F20+ からなCF。
る群により例示される、そしてまた式中、aは独立に1
ないし4の整数、kはキグメン) Rfが好ましくは数
平均分子−1i500ないしi 0..0 [10<
一層好ましくは500ないし6000)を有するように
値2ないし300を有するそのような単位の数、2は−
QC&’2a+l fたはQである〕を有するのが好ま
しい。
ないし4の整数、kはキグメン) Rfが好ましくは数
平均分子−1i500ないしi 0..0 [10<
一層好ましくは500ないし6000)を有するように
値2ないし300を有するそのような単位の数、2は−
QC&’2a+l fたはQである〕を有するのが好ま
しい。
下付き文字aに関して用語「独立に」の使用は、各パー
フルオロアルキレンオキサイr単位内において、下付き
文字aは同じ数を有するが、このaはパーフルオロアル
キレンオキサイV単位毎に独立に変わり得ることを意味
する。従って、弐Aは(−0F20すおよび(−03F
60すが分子内でランダムな繰り返し単位として一緒に
結合している(下付き文字aは前者の単位において1で
あり下記の単位においてろである)ポリエーテルを包含
する。
フルオロアルキレンオキサイr単位内において、下付き
文字aは同じ数を有するが、このaはパーフルオロアル
キレンオキサイV単位毎に独立に変わり得ることを意味
する。従って、弐Aは(−0F20すおよび(−03F
60すが分子内でランダムな繰り返し単位として一緒に
結合している(下付き文字aは前者の単位において1で
あり下記の単位においてろである)ポリエーテルを包含
する。
2がQでない場合、zバー〇CF3、−00F20F。
または−QC!F ((!F3) OF、が好ましい。
代表的には、パーフルオロアルキレンオキサイド単位は
−0F20−1− a2y4o−および(または)03
F60− である。
−0F20−1− a2y4o−および(または)03
F60− である。
好ましいパーフルオロポリエーテル単量体は、前記式A
のqが 1 (a) H2O−0−C−0−(t+) a2a=a−
CNH−11)I ROR (C) H2a=c−CH3−0−および(li) H
20=O−CH2NM −1 RR (式中Rは水素またはメチル) から選ばれた、米国特許第3,810,874号明細書
(Mitsch ら)および米国%詐第4,521,4
04号明細番(Williame ら)に開示されたエ
チレン系不飽和単量体である。
のqが 1 (a) H2O−0−C−0−(t+) a2a=a−
CNH−11)I ROR (C) H2a=c−CH3−0−および(li) H
20=O−CH2NM −1 RR (式中Rは水素またはメチル) から選ばれた、米国特許第3,810,874号明細書
(Mitsch ら)および米国%詐第4,521,4
04号明細番(Williame ら)に開示されたエ
チレン系不飽和単量体である。
好ましいエチレン系不飽和パーフルオロポリエーテル単
量体は式 %式%() (式中、Qは前記に定義され、mおよびnはランダムに
分布されたパーフルオロエチレンオキシおよびパーフル
オロメチレンオキシ単位の数を表わし、nおよびmはそ
れぞれ独立に値、例えば1ないし200を有し、そして
比m/nは、0.2 / 1ないし5/1、好ましくは
約肌8/1である)を有する。好ましい分子量範囲は、
金属薄膜トップ被覆について2000ないし4000で
ある。
量体は式 %式%() (式中、Qは前記に定義され、mおよびnはランダムに
分布されたパーフルオロエチレンオキシおよびパーフル
オロメチレンオキシ単位の数を表わし、nおよびmはそ
れぞれ独立に値、例えば1ないし200を有し、そして
比m/nは、0.2 / 1ないし5/1、好ましくは
約肌8/1である)を有する。好ましい分子量範囲は、
金属薄膜トップ被覆について2000ないし4000で
ある。
本発明において有用な重合性パーフルオロポリエーテル
の例は、パーフルオロアルキレンオキシド単位がランダ
ムに分布され、その所定数が平均値を表わす下記の式の
ものである。
の例は、パーフルオロアルキレンオキシド単位がランダ
ムに分布され、その所定数が平均値を表わす下記の式の
ものである。
パーフルオロポリエーテル対ゾライマーの点量比は約1
71ないし5/1が好ましい。この比が5/1を越えて
瑣加すると、下に存在する一体に対する枯涜性および接
層性は減少するであろう。
71ないし5/1が好ましい。この比が5/1を越えて
瑣加すると、下に存在する一体に対する枯涜性および接
層性は減少するであろう。
パーフルオロポリエーテル単量体の他に、外部被覆を通
用するに用いる4叙は、個の型の1遣またはそれ以上の
共−合性単重体を外層の約2p重量%までの童で含有し
得る。しかしながら、外ノーの少なくとも75部童%が
パーフルオロポリエーテルセグメントによって与えられ
る場合に、複合低表面工不ルイー被覆が最も有効である
。この目的の有用な共重合性単量体としては、アクリル
系およびメタクリル系エステル、アミド、およびウレタ
ンおよびビニルエーテル、エステルおよヒ複素檎式化合
物がある。
用するに用いる4叙は、個の型の1遣またはそれ以上の
共−合性単重体を外層の約2p重量%までの童で含有し
得る。しかしながら、外ノーの少なくとも75部童%が
パーフルオロポリエーテルセグメントによって与えられ
る場合に、複合低表面工不ルイー被覆が最も有効である
。この目的の有用な共重合性単量体としては、アクリル
系およびメタクリル系エステル、アミド、およびウレタ
ンおよびビニルエーテル、エステルおよヒ複素檎式化合
物がある。
本発明は、全く代表例であるように意図された下記の例
を考えてさらに解明される。最彷の二側は、バートa)
のプライマーの有機合成を示す。
を考えてさらに解明される。最彷の二側は、バートa)
のプライマーの有機合成を示す。
例 1
リン酸化ビス〔4+メタクリロイルオキシヒドロキシノ
ロビル刀ルバメトラシクロヘキシル〕メタン 工程1 反応体 グリシドール 4.011m)部 ジプチルスズジラウレー) 0.i (重k)部トルエ
ン 20.0(重fiit)部 この反応体を、温度計、機械攪拌器および鏡輔器を備え
た三つ口反応フラスコに入れた。次いで、反応混合物を
約100℃に加熱し、次に前記温度に約2時間保った。
ロビル刀ルバメトラシクロヘキシル〕メタン 工程1 反応体 グリシドール 4.011m)部 ジプチルスズジラウレー) 0.i (重k)部トルエ
ン 20.0(重fiit)部 この反応体を、温度計、機械攪拌器および鏡輔器を備え
た三つ口反応フラスコに入れた。次いで、反応混合物を
約100℃に加熱し、次に前記温度に約2時間保った。
揮発物を次いで温度約60°Cおよび圧力約58Hgに
おいて除いた。得られた生成物、すなわちジシクロヘキ
シルメタン−4゜4′−ジグリシジルカーバメート)を
、そのまま用いてメタクリロイル誘導体を調造した。
おいて除いた。得られた生成物、すなわちジシクロヘキ
シルメタン−4゜4′−ジグリシジルカーバメート)を
、そのまま用いてメタクリロイル誘導体を調造した。
さらに適当なジイソシ“アナートとしては、ジフェニル
メタンジイソシアナート、4.4’−ジフェニルエーテ
ルジイソシアナート、インノロビリデンビス(4−フェ
ニルインシアナート)、ビスフェニレンジイソシアナー
トおよびインシアナート末端ウレタンプレポリマーなど
がある。
メタンジイソシアナート、4.4’−ジフェニルエーテ
ルジイソシアナート、インノロビリデンビス(4−フェ
ニルインシアナート)、ビスフェニレンジイソシアナー
トおよびインシアナート末端ウレタンプレポリマーなど
がある。
工程2 反応体
工程1からの生成物 10.0 (重量)部メタクリル
酸 5.5(電量)部 2.4.6−)リメトキシフェノール 0.03 (重
量)部ベンゼン 10.0 (重量)部 トルエン 20.0(重量)部 工程1からの生成物を、工程2のベンゼンおよびトルエ
ン溶媒ブレンドに溶解し、次いで残りの成分を加えた。
酸 5.5(電量)部 2.4.6−)リメトキシフェノール 0.03 (重
量)部ベンゼン 10.0 (重量)部 トルエン 20.0(重量)部 工程1からの生成物を、工程2のベンゼンおよびトルエ
ン溶媒ブレンドに溶解し、次いで残りの成分を加えた。
反応混合物の温匿を徐々に約100℃に上昇して、前記
温度に約2時間保ち、この1副前記混合物を連続的に攪
拌した。この反応時tt+jに就いて、過剰のメタクリ
ル酸、溶媒および他の揮発物を温度約60℃および圧力
約iQ鵡Hgにおいてストリッピングして除いた。粘ち
ょうなシロップが生じ、このシロップをそれ自体利用し
てリン酸化生成物を製造した。
温度に約2時間保ち、この1副前記混合物を連続的に攪
拌した。この反応時tt+jに就いて、過剰のメタクリ
ル酸、溶媒および他の揮発物を温度約60℃および圧力
約iQ鵡Hgにおいてストリッピングして除いた。粘ち
ょうなシロップが生じ、このシロップをそれ自体利用し
てリン酸化生成物を製造した。
工程6
N、N−ジエチルアミドジクロロリンd(1m重都)を
乾録ベンゼン10部に溶解し、次いで工程2のメタクリ
ロイル崎導体10都を乾燥ベンゼン6Os中のトリエチ
ルアミン1.15部と共に含む鹸献に加えた。この反応
混合物を温度約50−Cに加熱し、次いで連続的に攪拌
しながら約12時間前記温度に保った。これに次いで、
トリエチルアミン塩酸塩副生物をろ過によって商いた。
乾録ベンゼン10部に溶解し、次いで工程2のメタクリ
ロイル崎導体10都を乾燥ベンゼン6Os中のトリエチ
ルアミン1.15部と共に含む鹸献に加えた。この反応
混合物を温度約50−Cに加熱し、次いで連続的に攪拌
しながら約12時間前記温度に保った。これに次いで、
トリエチルアミン塩酸塩副生物をろ過によって商いた。
さらに、ベンゼンおよび他の揮発物を減圧下にろ液かも
泳いた。/A存する残留物をベンゼンをもって洸浄し、
次いでこのベンゼンな温度約60℃ないし65′Cおよ
び圧力約20aII!Hgにおいて除いた。
泳いた。/A存する残留物をベンゼンをもって洸浄し、
次いでこのベンゼンな温度約60℃ないし65′Cおよ
び圧力約20aII!Hgにおいて除いた。
得られた粘ちょうな生成物のリン酸化ビス〔4+メタク
リロイル−オキシヒドロキシプロピルカルバメト÷シク
ロヘキシル〕メ、クンは、例4においてさらに詳述され
る保繰被覆の1成分を含んだ。
リロイル−オキシヒドロキシプロピルカルバメト÷シク
ロヘキシル〕メ、クンは、例4においてさらに詳述され
る保繰被覆の1成分を含んだ。
リン酸化の適当な程度としては、0重量%より大ないし
約60重量%の範囲があり、ポリオールの当量当たり約
0.2当−が好ましい童である。
約60重量%の範囲があり、ポリオールの当量当たり約
0.2当−が好ましい童である。
工程6ON、N−ジエチルアミドクロロリン酸中間体は
、乾燥ペンデフ60部中のN、N−ジエチルアミン6.
0厘量部およびトリエチルアミン8.6都を攪拌しなが
ら温度10℃に保ち徐々に硝加された乾燥ベンゼン65
部に浴解されたPOCJ312.5部と反応することに
よって製造できる。この混合物を、至温においてさらに
2時間攪拌する。
、乾燥ペンデフ60部中のN、N−ジエチルアミン6.
0厘量部およびトリエチルアミン8.6都を攪拌しなが
ら温度10℃に保ち徐々に硝加された乾燥ベンゼン65
部に浴解されたPOCJ312.5部と反応することに
よって製造できる。この混合物を、至温においてさらに
2時間攪拌する。
仄いで、固体トリエチレンアミン塩酸塩副生物をろ過に
よって咋〈。賦圧下に、溶媒をろ液からストリッピング
して中間体を得る。ジフェニル、ジメチルおよびジシク
ロアルキル アミドジクロロリン酸は、同様に合成でき
る他の有用なリン酸化試薬である。
よって咋〈。賦圧下に、溶媒をろ液からストリッピング
して中間体を得る。ジフェニル、ジメチルおよびジシク
ロアルキル アミドジクロロリン酸は、同様に合成でき
る他の有用なリン酸化試薬である。
例 2
プライマーBの製造
リン酸化メタクリロイルオキシヒドロキシプロピル−イ
ソツクレート 工程1 グリシドール4.4mjt部、トリエチルアミン6.0
部および乾燥ベンゼン60部を滴下漏斗機械撹拌器およ
び温度計を保持するに適した1501ntの三つロフラ
スコに加え、次いで前記フラスコを約0 ’Oに冷却す
る。乾燥ベンゼン15,0部中の温化イソフタロイル6
.1部を温度を約25℃未満に保ちながら約70分の時
間にわたって前記フラスコに1滴ずつ導入し、た。この
反応混合物を約至温において約1時間攪拌し、次いでろ
過した。このろ液を賦圧下に溶媒をストリッピングして
溶質の軟質塊を得た。
ソツクレート 工程1 グリシドール4.4mjt部、トリエチルアミン6.0
部および乾燥ベンゼン60部を滴下漏斗機械撹拌器およ
び温度計を保持するに適した1501ntの三つロフラ
スコに加え、次いで前記フラスコを約0 ’Oに冷却す
る。乾燥ベンゼン15,0部中の温化イソフタロイル6
.1部を温度を約25℃未満に保ちながら約70分の時
間にわたって前記フラスコに1滴ずつ導入し、た。この
反応混合物を約至温において約1時間攪拌し、次いでろ
過した。このろ液を賦圧下に溶媒をストリッピングして
溶質の軟質塊を得た。
前記浴賀のアクリル化は下記のように行った。
工程2 反応体
工程1からの溶質(生成物> 8.0 (重量)部メタ
クリル酸 6.0(重量)部 2.4.6−ドリメトキシフエノール 0.1 (ff
i量)部乾録ベンゼン 20.0(重量)部 トルエン 30.0 (重量)部 上a1におけるように、前記反応体を反応フラスコに入
れ、次いで徐々に温度約i o o ’cに加熱し、次
に前記温度に約2時間保った。次いで、過剰のメタクリ
ル酸および他の揮発物を温度約90°Cおよび諷圧約2
0 II Hgにおいて除いた。得られに溶質(生IJ
X、吻)の粘ちょうな楓をそれ目体下記のリン酸化工程
、において41I用した。
クリル酸 6.0(重量)部 2.4.6−ドリメトキシフエノール 0.1 (ff
i量)部乾録ベンゼン 20.0(重量)部 トルエン 30.0 (重量)部 上a1におけるように、前記反応体を反応フラスコに入
れ、次いで徐々に温度約i o o ’cに加熱し、次
に前記温度に約2時間保った。次いで、過剰のメタクリ
ル酸および他の揮発物を温度約90°Cおよび諷圧約2
0 II Hgにおいて除いた。得られに溶質(生IJ
X、吻)の粘ちょうな楓をそれ目体下記のリン酸化工程
、において41I用した。
工程6 反応体
工程2からの6買(生成物) 10.、O(産前)部ベ
ンゼン j5.0(基量)部 N、N−ジエチルアミドシクロロリンv 1.5(風量
)部乾沫ベンゼン 40.0部京量)部 トリエチルアミン 1.6(重量)部 この反応を、例1の工程6に記載のように行った。
ンゼン j5.0(基量)部 N、N−ジエチルアミドシクロロリンv 1.5(風量
)部乾沫ベンゼン 40.0部京量)部 トリエチルアミン 1.6(重量)部 この反応を、例1の工程6に記載のように行った。
例 6
ヒドロキシプロポキモルルビスフエノールAのリン酸化
ジメタクリレート ヒドロキシプロポキモル化ビスフェノール人のジメタク
リレートは、ビスフェノールAとグリシジルメタクリレ
ートの反応生成物であり、その合成は米国特許第3,0
66,112号明、J41+曹に教示されている。この
反応生成物は、前記の試薬および深作を用いてリンば化
できる。
ジメタクリレート ヒドロキシプロポキモル化ビスフェノール人のジメタク
リレートは、ビスフェノールAとグリシジルメタクリレ
ートの反応生成物であり、その合成は米国特許第3,0
66,112号明、J41+曹に教示されている。この
反応生成物は、前記の試薬および深作を用いてリンば化
できる。
好ましい材料は、以−ドのようである。
試薬
乾燥ベンゼン40部中のトリエチルアミン1.7(産量
)部乾保ベンゼン 40.0 (、a量)部前記成分の
反応混合物を、約40°Cにおいて、fJ12時間撹拌
して゛、リン酸化生成物を得1こ。
)部乾保ベンゼン 40.0 (、a量)部前記成分の
反応混合物を、約40°Cにおいて、fJ12時間撹拌
して゛、リン酸化生成物を得1こ。
次の数例は、発明の保護被復組成物およびこれらの組成
物の試験を示す。谷側について、記録媒体は、厚さ約1
5マイクロメートル」6よび幅約1.60mおよび1面
上にアルミニウム薄膜被覆を有する二41Iil延伸ポ
リエステルフィルム裏材をよんだ。
物の試験を示す。谷側について、記録媒体は、厚さ約1
5マイクロメートル」6よび幅約1.60mおよび1面
上にアルミニウム薄膜被覆を有する二41Iil延伸ポ
リエステルフィルム裏材をよんだ。
この被覆上に、コバルトーニッケルーナクン台雀を厚さ
約1000AK蒸着して磁化性被覆を得に0この課員の
ストリップなC,C,Yangらによって[シン・ソリ
ッド・フィルムy:: j (Th1n SolidF
ilms )、74巻、117〜127頁、(1980
)に記載された方法によって浸せさ被覆した。この方法
は、′低速同期′Ig動愼の軸に取り付けたナイロン糸
によって希薄被覆組成物の6器からテープを引き出すこ
とを狩倣とする。
約1000AK蒸着して磁化性被覆を得に0この課員の
ストリップなC,C,Yangらによって[シン・ソリ
ッド・フィルムy:: j (Th1n SolidF
ilms )、74巻、117〜127頁、(1980
)に記載された方法によって浸せさ被覆した。この方法
は、′低速同期′Ig動愼の軸に取り付けたナイロン糸
によって希薄被覆組成物の6器からテープを引き出すこ
とを狩倣とする。
wi気記録媒体を、まずプライマー浴液中で浸せき4c
債し、次いで数秒乾燥させた後に、パーフルオロポリエ
ーテルのΔ液中で浸せき被覆した。プライマー浴液の好
ましい一度範囲は、約0.1厘量/谷量%7よいし0.
7里讐/容量襲であり、パーフルオロポリエーテルの好
ましい範囲は約肌05ないし0.2厘i/谷量矛である
。
債し、次いで数秒乾燥させた後に、パーフルオロポリエ
ーテルのΔ液中で浸せき被覆した。プライマー浴液の好
ましい一度範囲は、約0.1厘量/谷量%7よいし0.
7里讐/容量襲であり、パーフルオロポリエーテルの好
ましい範囲は約肌05ないし0.2厘i/谷量矛である
。
浸せき僅曖媒体が乾燥された後、それらはBTCAsc
or真空プリンター1601−11(米国カルホルニア
州バーバンク市所在、バーキー・テクニカル社製)、2
kw [Addalux J中圧水銀灯魔1406−
02を用いて、真空中において循外線にさらした。8分
が代表的露光時間であった。これによって仮仮が属音さ
れて低表面二坏ルギートップコートを与えた。光■会の
間、示は、真空または不l15性ふん囲気を抹つことに
よって無[&素でなければならない。光嵐合開始剤また
は増悪剤(例えばベンゾフェノンまたはべ/ジイン)は
、本発明の組成物に配合できる。また、電子ビーム恢化
、熱硬化およびガス硬化(例えばインシアナート基に対
するアンモニア)のような他の方法を用いて、本発明の
組成物を厘曾できる。
or真空プリンター1601−11(米国カルホルニア
州バーバンク市所在、バーキー・テクニカル社製)、2
kw [Addalux J中圧水銀灯魔1406−
02を用いて、真空中において循外線にさらした。8分
が代表的露光時間であった。これによって仮仮が属音さ
れて低表面二坏ルギートップコートを与えた。光■会の
間、示は、真空または不l15性ふん囲気を抹つことに
よって無[&素でなければならない。光嵐合開始剤また
は増悪剤(例えばベンゾフェノンまたはべ/ジイン)は
、本発明の組成物に配合できる。また、電子ビーム恢化
、熱硬化およびガス硬化(例えばインシアナート基に対
するアンモニア)のような他の方法を用いて、本発明の
組成物を厘曾できる。
仮台被覆の厚ざは、2個の希薄溶液を製造するに用いた
溶媒の割合によって制御できる。塗布技術としては、は
け塗り、針金虚血またはナイフ塗布、噴麺およびグラビ
ア塗布がある。
溶媒の割合によって制御できる。塗布技術としては、は
け塗り、針金虚血またはナイフ塗布、噴麺およびグラビ
ア塗布がある。
数種の試験を用いて、硬化したトッゾコートの品寅を判
定した。耐引っかき性試験において、磁気HIE録媒体
の1枚を代表的には接着テープによりw4倣鏡スライド
上に装着した。このスライドは、金属ショットをもって
全重量約8Elまで充てんされたテーパー付中空管の端
に固だされた直径約1.5IIIIKのサファイアビー
ズと接して載置された。
定した。耐引っかき性試験において、磁気HIE録媒体
の1枚を代表的には接着テープによりw4倣鏡スライド
上に装着した。このスライドは、金属ショットをもって
全重量約8Elまで充てんされたテーパー付中空管の端
に固だされた直径約1.5IIIIKのサファイアビー
ズと接して載置された。
磁気薄膜記録媒体の表面上に生じた圧力は、約LO00
109/Cm21(9,8x 108dyne 7cm
” )と計算された。このスライドは、周波数約100
サイクル/分および行程長約41において電動機被動機
構によって振動される。記録媒体の破損は、金X薄膜を
介して目に見える引っかき協として容易に認められ、し
かも破損までの時間またはサイクル数は保護潤滑剤4覆
の耐久性の測定に用いられるパラメーターである。この
破損は、かき傷を通して輝く光を伏出する光電池によっ
て作動するディジクルカウンターによって記録できる。
109/Cm21(9,8x 108dyne 7cm
” )と計算された。このスライドは、周波数約100
サイクル/分および行程長約41において電動機被動機
構によって振動される。記録媒体の破損は、金X薄膜を
介して目に見える引っかき協として容易に認められ、し
かも破損までの時間またはサイクル数は保護潤滑剤4覆
の耐久性の測定に用いられるパラメーターである。この
破損は、かき傷を通して輝く光を伏出する光電池によっ
て作動するディジクルカウンターによって記録できる。
保護膜のない記録媒体は、振動の1サイクル後に、この
試験ができ7エい。
試験ができ7エい。
米国規格協会(American National
5tandardsInstitute)の斜面標準法
、ANSI BHl、 47.1972によって測定さ
れた摩擦係数は、潤滑剤被覆の性能の他の試験である。
5tandardsInstitute)の斜面標準法
、ANSI BHl、 47.1972によって測定さ
れた摩擦係数は、潤滑剤被覆の性能の他の試験である。
耐引っかき性試験および摩擦係数試験値は各々このよう
な6回の試験の平均である。
な6回の試験の平均である。
例 4
プライマーA1501Vを匹に100ゴに溶解すること
によって、0.15重蚕/谷量チプライマー浴液を製造
した。式■の(平均分子量約2000を有するノベルフ
ルオロボリエーテル120〜をフルオロカーボン溶媒(
ミ不ソタ・マイニング・アント・マニュフfクチュアリ
ング・カンパニーから傅たFluorinert F’
C77溶媒)100tntに溶解することによって、
0゜12貞童/#量%潤滑剤浴液を製造した。磁気薄膜
記録媒体を、前記のこれら2種の浴液をもって被覆して
、厚さ約2゜ナノメートルの複合層を得た。この破損を
約7分紫外−にさらすことによって硬化した。この被覆
媒体をもって下記43m係数(μ)約o、19および耐
引っかき性値約508サイクルの試狭結釆が得られた。
によって、0.15重蚕/谷量チプライマー浴液を製造
した。式■の(平均分子量約2000を有するノベルフ
ルオロボリエーテル120〜をフルオロカーボン溶媒(
ミ不ソタ・マイニング・アント・マニュフfクチュアリ
ング・カンパニーから傅たFluorinert F’
C77溶媒)100tntに溶解することによって、
0゜12貞童/#量%潤滑剤浴液を製造した。磁気薄膜
記録媒体を、前記のこれら2種の浴液をもって被覆して
、厚さ約2゜ナノメートルの複合層を得た。この破損を
約7分紫外−にさらすことによって硬化した。この被覆
媒体をもって下記43m係数(μ)約o、19および耐
引っかき性値約508サイクルの試狭結釆が得られた。
例5
Aの代わりにプライマーBを用いた以外は、例4の操作
を行った。被合被覆は厚さ約20ナノメートル未満であ
り、被覆媒体において、下命μ約0.18ないし0.1
9および耐引っかき性値約262サイクルの試験結果が
得られた。
を行った。被合被覆は厚さ約20ナノメートル未満であ
り、被覆媒体において、下命μ約0.18ないし0.1
9および耐引っかき性値約262サイクルの試験結果が
得られた。
例 6
プライマーとしてプライマー〇を用いた以外は、例4の
操作を行った。複合板俊の厚さはまた約2 Q nm未
橢であり、そして被俊媒体はμ約0.19および耐51
つかき性値約408という試験結果を与えた。
操作を行った。複合板俊の厚さはまた約2 Q nm未
橢であり、そして被俊媒体はμ約0.19および耐51
つかき性値約408という試験結果を与えた。
本発明の他の実施態様は、本明細曹の考慮、または本明
#I督に開示された本発明の実施から当業者に明らかで
ある。本明細舊に記載された原理に対する4厘々の省略
、修正および変形は、特許請求の範囲によって示された
不発194の真の範囲および禮神から逸脱することなく
当業者によって行うことができる。
#I督に開示された本発明の実施から当業者に明らかで
ある。本明細舊に記載された原理に対する4厘々の省略
、修正および変形は、特許請求の範囲によって示された
不発194の真の範囲および禮神から逸脱することなく
当業者によって行うことができる。
代理人 桟材 皓
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)表面が a)少なくとも一つの通常の有機尋媒に可溶性であり、
しかも少なくとも1種の芳香族、脂環式あるいはへテロ
原子部分を含有するリン酸化単量体またはオリゴマーか
ら製造された重合体を含むプライマ一層と、 b) 複数のパーフルオロアルキレンオキサイド繰り返
し単位を含む少なくとも1種のパーフルオロポリエーテ
ルから製造された重合体を含む外層と を含む保穫被覆によっておおわれている基体。 (2)磁化性被覆を有する磁気記録媒体である、特許請
求の範囲第1項の基体。 (3) パーフルオロポリエーテル層対ゾライマ一層。 の重量比が約1/1ないし約571であり、パーフルオ
ロポリエーテルは、分子当たり平均少なくとも約1,5
個の重合性エチレン系不飽和部位を有し、しかもリン酸
化単量体またはオリゴマーは複数のエチレン系不飽和重
合性部分を有する、特許請求の範囲第2項の磁気記録媒
体。 (4)上記パー) b)のパーフルオロポリエーテルが
式 %式% 〔式中、QはRfに結合した重合可能な基を包含し、R
fは +0aF2aO÷ および ÷QF −0F20÷F3 からなる群から選択される一つまたはそれ以上のランダ
ムに分布したパーフルオロアルキレンオキサイド単位の
鎖を表わし、ここにaは独立に1ないし4の整数であり
、kはセグメントRfが数平均分子量約500ないしi
o、o o oを好ましくは有するように値1ないし
300を有するそのような繰り返し単位の数であり、そ
して2は”a’2a+1 およびQからなる群から選ば
れる〕を有する、特許請求の範囲第3項の組成物。 (5)プライマ一層が、ヒPロキシアルキル多価フェノ
ールのリン酸化α、β−不飽和カルざン酸エステル、ジ
カルざン酸のグリシジルエステルのリン酸化アクリレー
トおよびメタクリレート、およびヒドロキシウレタンの
リン酸化アクリレートからなる群から選ばれた化合物か
ら製造される、特許請求の範囲第4項の磁気記録媒体。 (6) 上記パー) &)のリン酸化単を体またはオリ
ゴマーがリン酸化ビス[:4−(メタクリロイルオキシ
ヒドロキシプロピルカルバメト→シクロへキシル〕−メ
タン、リン酸化メタクリロイルオキシヒドロキシプロピ
ルイソフタレートおよびヒーロキシゾロボキシル化ビス
フェノールAのリン酸化ジメタクリレートからなる群か
ら選ばれる、特許請求の範囲第4項の磁気記録媒体。 (力 前記磁化性被覆が金属薄膜被覆である、特許請求
の範囲第4項に規定された磁気記録媒体。 (8) Ia磁気記録媒体磁化性被覆の表面に保護被覆
を有する媒体を製造するに当り、 (1)プライマー被覆を与える通濱の有機溶媒中の、少
なくとも一つの芳香族、脂環式またはへテロ原子部分を
含有する重合性リン酸化単量体またはオリイマーの希薄
溶液を、前記表面上に被覆し、(11)分子当たり平均
少なくとも約1.5個のエチレン系不飽和重合性部位を
有し、かつ式1式% 〔式中、QはRfに結合する重合可能な基であり、なる
群から選択される1f:たはそれ以上のランダムに分布
したパーフルオロアルキレンオキサイド単位の鎖を表わ
し、 ここに、aは独立に1ないし4の整数であり、kはセグ
メントRfが数平均分子量約500ないし10,000
を好ましくは有するように値1ないし600を有するそ
のような繰り返し単位の数であり、そして2は一0CI
LF2a+1およびQからなる群から選ばれる〕 を有するパーフルオロポリエーテル単量体の第二の希薄
溶液を、ゾライマー被覆上に被覆し、(1tt) 前記
被覆を乾燥し、次いでQv) 乾燥被覆を重合し、その
際得られた保護被涜の厚さが20 OnInを越えない
諸工程を含むことを特徴とする、磁気記録媒質の磁化性
被覆の表面上に保護被覆を有する磁気記録媒体の製造方
法。 (9)リン酸化単量体またはオリゴマーがヒVロキシア
ルキル多価フェノールのリン酸化α、β−不飽和カルボ
ン酸エステル、ジカルざン酸のグリシジルエステルのリ
ン酸化アクリレートおよびメタクリレートおよびヒドロ
キシウレタンのリン酸化アクリレートからなる群から選
ばれる、特許請求の範囲第8項の方法。 QO) 工程(1)のプライマー被覆を乾燥して工程(
11)前に溶媒の大部分を除くことをさらに含む、特許
請求の範囲第10項の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/538,662 US4526833A (en) | 1983-10-03 | 1983-10-03 | Magnetic recording medium having a perfluoropolyether polymer protective coating |
US538662 | 1983-10-03 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60101717A true JPS60101717A (ja) | 1985-06-05 |
JPH0740354B2 JPH0740354B2 (ja) | 1995-05-01 |
Family
ID=24147888
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59206969A Expired - Lifetime JPH0740354B2 (ja) | 1983-10-03 | 1984-10-02 | 基体、磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4526833A (ja) |
EP (1) | EP0140582B1 (ja) |
JP (1) | JPH0740354B2 (ja) |
KR (1) | KR930002485B1 (ja) |
AT (1) | ATE45236T1 (ja) |
AU (1) | AU564966B2 (ja) |
CA (1) | CA1225546A (ja) |
DE (1) | DE3479260D1 (ja) |
HK (1) | HK20790A (ja) |
MX (1) | MX167249B (ja) |
ZA (1) | ZA846198B (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62180524A (ja) * | 1986-02-04 | 1987-08-07 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体 |
JPH0214278A (ja) * | 1988-04-27 | 1990-01-18 | Minnesota Mining & Mfg Co <3M> | 低接着性被覆を有する支持体から成る被覆物品 |
US5985403A (en) * | 1993-03-18 | 1999-11-16 | Hitachi, Ltd. | Magnetic recording medium and magnetic recording reproducer |
JP2006076893A (ja) * | 2004-09-07 | 2006-03-23 | Asahi Glass Co Ltd | 新規な含フッ素エーテル |
Families Citing this family (60)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4705699A (en) * | 1983-09-19 | 1987-11-10 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method of coating magnetic recording media with perfluoropolyether compositions which are soluble in non-fluorinated solvents |
US4671999A (en) * | 1983-09-19 | 1987-06-09 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Magnetic recording media having perfluoropolyether coating |
US4689254A (en) * | 1984-02-01 | 1987-08-25 | Verbatim Corporation | Magnetic recording element having a lubricative and protective coating |
US4759991A (en) * | 1984-03-06 | 1988-07-26 | Toagosei Chemical Industry Co., Ltd. | Magnetic recording medium having a lubricating coating layer |
CA1235808A (en) * | 1984-03-22 | 1988-04-26 | Tetsuo Oka | Vertical magnetic recording medium and process for preparation thereof |
JPH0610866B2 (ja) * | 1984-06-26 | 1994-02-09 | ティーディーケイ株式会社 | 磁気記録媒体 |
US4696845A (en) * | 1984-08-27 | 1987-09-29 | Nec Corporation | Magnetic storage medium with lubricating coating |
US4729924A (en) * | 1984-12-21 | 1988-03-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Metallic thin film magnetic recording medium having a hard protective layer |
US4803130A (en) * | 1984-12-21 | 1989-02-07 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Reactive sputtering process for recording media |
JPS61189693A (ja) * | 1985-02-19 | 1986-08-23 | 旭硝子株式会社 | 電子部品の防湿コ−テイング方法 |
JPS61240430A (ja) * | 1985-04-18 | 1986-10-25 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
JPS61253634A (ja) * | 1985-05-01 | 1986-11-11 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体 |
IT1187676B (it) * | 1985-07-03 | 1987-12-23 | Montefluos Spa | Processo per la lubrificazione di organi accessori di cassette contenenti nastri magnetici |
US4797303A (en) * | 1985-09-04 | 1989-01-10 | Unisys Corp. | Surface lubricants for disc record |
IT1191634B (it) * | 1985-10-30 | 1988-03-23 | Ausimont Spa | Procedimento per la protezione e la lubrificazione di superfici sottoposte ad attrito ed usura |
US4642246A (en) * | 1985-11-12 | 1987-02-10 | Magnetic Peripherals, Inc. | Process for chemically bonding a lubricant to a magnetic disk |
US4758474A (en) * | 1985-11-20 | 1988-07-19 | Nec Corporation | Magnetic recording member |
IT1188635B (it) * | 1986-03-27 | 1988-01-20 | Ausimont Spa | Lubrificanti per fluoropolieterei interni per mezzi magnetici di registrazione |
JPH0690787B2 (ja) * | 1987-06-16 | 1994-11-14 | 株式会社日立製作所 | 磁気記録媒体 |
JPH0675287B2 (ja) * | 1987-10-07 | 1994-09-21 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
US4849291A (en) * | 1987-12-02 | 1989-07-18 | Eastman Kodak Company | Magnetic recording element |
US4977021A (en) * | 1988-08-05 | 1990-12-11 | Hoechst Celanese Corporation | Methods for forming magnetic coatings using trioxane recording media having such coatings |
US5030478A (en) * | 1989-03-03 | 1991-07-09 | International Business Machines Corporation | Process for bonding lubricants to thin film recording media |
GB8916739D0 (en) * | 1989-07-21 | 1989-09-06 | Minnesota Mining & Mfg | Protective layer for magnetic recording media |
AU632869B2 (en) * | 1989-12-14 | 1993-01-14 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Fluorocarbon-based coating compositions and articles derived therefrom |
US5114482A (en) * | 1990-03-02 | 1992-05-19 | Hertel Terry J | Ski wax for use with sintered base snow skis |
JPH03267178A (ja) * | 1990-03-16 | 1991-11-28 | Hitachi Ltd | 潤滑膜の形成方法及び磁気記録媒体の製造方法 |
US5252400A (en) * | 1990-11-13 | 1993-10-12 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Fluorine-containing compounds |
EP0523607B1 (en) * | 1991-07-15 | 1997-05-07 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic recording medium, sliding member and manufacturing method thereof |
US5232791A (en) * | 1991-12-23 | 1993-08-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Magnetic recording medium having a carbon rich coating |
US5464667A (en) * | 1994-08-16 | 1995-11-07 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Jet plasma process and apparatus |
US5624713A (en) * | 1996-01-25 | 1997-04-29 | Zardoz Llc | Method of increasing lubricity of snow ski bases |
US6203898B1 (en) | 1997-08-29 | 2001-03-20 | 3M Innovatave Properties Company | Article comprising a substrate having a silicone coating |
JP2956674B2 (ja) * | 1997-12-01 | 1999-10-04 | 日本電気株式会社 | 磁気記録媒体用潤滑剤、磁気記録媒体及び磁気記録装置 |
US6589641B1 (en) | 1998-06-04 | 2003-07-08 | Seagate Technology Llc | Thin films of crosslinked fluoropolymer on a carbon substrate |
US6617011B2 (en) * | 1999-05-07 | 2003-09-09 | Seagate Technology Llc | Elastomeric lubricants for magnetic recording media |
US6680079B1 (en) * | 2000-06-02 | 2004-01-20 | Seagate Technology Llc | Planarization and corrosion protection of patterned magnetic media |
US6673429B1 (en) | 2000-07-25 | 2004-01-06 | Seagate Technology Llc | Magnetic recording media with a multiple-layer lubricant |
US6638622B2 (en) * | 2001-01-11 | 2003-10-28 | Hitachi Global Storage Technologies | Perfluorinated polyethers with metal carboxylate end groups as anti-wetting and corrosion-protective agents |
US6849304B1 (en) | 2001-03-16 | 2005-02-01 | Seagate Technology Llc | Method of forming lubricant films |
US6753060B1 (en) | 2001-05-04 | 2004-06-22 | Seagate Technology Llc | Method for improving performance of thin film recording media and media obtained thereby |
WO2003102500A1 (fr) * | 2002-06-04 | 2003-12-11 | Olympus Corporation | Procede d'obtention de coordonnees 3 d |
EP1520689A4 (en) * | 2002-06-27 | 2009-06-24 | Tdk Corp | OBJECT HAVING A HARD COMPOSITE COATING LAYER AND METHOD FOR PRODUCING SUCH A LAYER |
US20050037932A1 (en) * | 2003-08-15 | 2005-02-17 | Jianwei Liu | Ultra-thin lubricant film for advanced tribological performance of magnetic storage media |
US7060377B2 (en) * | 2003-10-20 | 2006-06-13 | Seagate Technology | Lubricant film containing additives for advanced tribological performance of magnetic storage medium |
AU2004318602B2 (en) | 2003-12-19 | 2009-12-10 | The University Of North Carolina At Chapel Hill | Methods for fabricating isolated micro- and nano- structures using soft or imprint lithography |
JP2008534317A (ja) * | 2005-03-24 | 2008-08-28 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 耐食金属化フィルムおよびその製造方法 |
EP1866154A1 (en) * | 2005-03-24 | 2007-12-19 | 3M Innovative Properties Company | Metallized films and articles containing the same |
KR101439538B1 (ko) * | 2007-08-14 | 2014-09-12 | 삼성전자주식회사 | 보호막 형성용 조성물 및 이에 의한 보호막을 포함한유기박막 트랜지스터 |
WO2010128969A1 (en) * | 2009-05-08 | 2010-11-11 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Functionalized perfluoropolyether material as a hydrophobic coating |
CA2952515C (en) | 2015-12-24 | 2019-10-15 | Cosimo Fuda | A jig of spirit level clamping aid tools, squares and hand clamps |
US11220649B2 (en) * | 2017-01-26 | 2022-01-11 | Showa Denko K.K. | Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium, and magnetic recording medium |
JP7149947B2 (ja) | 2017-08-21 | 2022-10-07 | 昭和電工株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体 |
US11261394B2 (en) * | 2017-09-13 | 2022-03-01 | Showa Denko K.K. | Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording media, and magnetic recording medium |
WO2019087548A1 (ja) * | 2017-10-31 | 2019-05-09 | 昭和電工株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体 |
WO2019111915A1 (en) * | 2017-12-04 | 2019-06-13 | Daikin America, Inc. | Article |
JP7338631B2 (ja) | 2018-09-12 | 2023-09-05 | 株式会社レゾナック | 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体 |
CN113544190B (zh) | 2019-03-12 | 2023-08-01 | 株式会社力森诺科 | 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质 |
CN114341094B (zh) | 2019-09-18 | 2024-01-12 | 株式会社力森诺科 | 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质 |
WO2021132252A1 (ja) | 2019-12-26 | 2021-07-01 | 昭和電工株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2941912A (en) * | 1953-03-24 | 1960-06-21 | Pittsburgh Plate Glass Co | Surface treatment of halogenated fluoroethylenes and laminates thereof |
US2994632A (en) * | 1958-01-21 | 1961-08-01 | Goodrich Co B F | Laminated compositions and method for their preparation |
US2979418A (en) * | 1958-03-03 | 1961-04-11 | Minnesota Mining & Mfg | Chemically resistant coatings and method for preparation thereof |
US3066112A (en) * | 1959-01-30 | 1962-11-27 | Rafael L Bowen | Dental filling material comprising vinyl silane treated fused silica and a binder consisting of the reaction product of bis phenol and glycidyl acrylate |
US3380974A (en) * | 1964-10-30 | 1968-04-30 | Du Pont | Tetrafluoroethylene, isobutylene, carboxylic copolymers |
US3470014A (en) * | 1966-11-23 | 1969-09-30 | Pennsalt Chemicals Corp | Substrates coated with pigmented acrylate coating and a fluorocarbon topcoat |
US4094911A (en) * | 1969-03-10 | 1978-06-13 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Poly(perfluoroalkylene oxide) derivatives |
US3778308B1 (en) * | 1970-12-18 | 1991-06-04 | Magnetic storage device coating and process | |
US3919719A (en) * | 1974-04-04 | 1975-11-11 | Iit Res Inst | Surface lubrication of magnetic media |
GB1569021A (en) * | 1976-03-17 | 1980-06-11 | Kuraray Co | Adhesive cementing agents containing partial phosphonic orphosphonic acid esters |
JPS5891B2 (ja) * | 1977-09-30 | 1983-01-05 | 俊一 岩崎 | 磁気記録媒体 |
US4188434A (en) * | 1978-05-15 | 1980-02-12 | Storage Technology Corporation | Lubricant for a magnetic member |
US4267238A (en) * | 1979-12-18 | 1981-05-12 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Flexible magnetic recording media lubricated with fluorinated telechelic polyether polymer |
US4268556A (en) * | 1979-01-08 | 1981-05-19 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Rigid magnetic recording disks lubricated with fluorinated telechelic polyether |
US4321404A (en) * | 1980-05-20 | 1982-03-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Compositions for providing abherent coatings |
JPS57135442A (en) * | 1981-02-16 | 1982-08-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium and its manufacture |
JPS57154648A (en) * | 1981-03-20 | 1982-09-24 | Hitachi Maxell Ltd | Magnetic recording medium |
US4404247A (en) * | 1982-07-02 | 1983-09-13 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Protective covering for magnetic recording medium |
US4569962A (en) * | 1983-09-19 | 1986-02-11 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Perfluoropolyether compositions which are soluble in non-fluorinated solvents |
-
1983
- 1983-10-03 US US06/538,662 patent/US4526833A/en not_active Expired - Lifetime
-
1984
- 1984-08-07 AU AU31674/84A patent/AU564966B2/en not_active Ceased
- 1984-08-09 ZA ZA846198A patent/ZA846198B/xx unknown
- 1984-09-06 MX MX202638A patent/MX167249B/es unknown
- 1984-09-17 CA CA000463303A patent/CA1225546A/en not_active Expired
- 1984-09-27 DE DE8484306593T patent/DE3479260D1/de not_active Expired
- 1984-09-27 EP EP84306593A patent/EP0140582B1/en not_active Expired
- 1984-09-27 AT AT84306593T patent/ATE45236T1/de not_active IP Right Cessation
- 1984-10-02 KR KR1019840006091A patent/KR930002485B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1984-10-02 JP JP59206969A patent/JPH0740354B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-03-15 HK HK207/90A patent/HK20790A/xx not_active IP Right Cessation
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62180524A (ja) * | 1986-02-04 | 1987-08-07 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体 |
JPH0214278A (ja) * | 1988-04-27 | 1990-01-18 | Minnesota Mining & Mfg Co <3M> | 低接着性被覆を有する支持体から成る被覆物品 |
US5985403A (en) * | 1993-03-18 | 1999-11-16 | Hitachi, Ltd. | Magnetic recording medium and magnetic recording reproducer |
JP2006076893A (ja) * | 2004-09-07 | 2006-03-23 | Asahi Glass Co Ltd | 新規な含フッ素エーテル |
JP4661140B2 (ja) * | 2004-09-07 | 2011-03-30 | 旭硝子株式会社 | 撥水撥油剤用溶液組成物、基材およびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
AU3167484A (en) | 1985-04-18 |
US4526833A (en) | 1985-07-02 |
DE3479260D1 (en) | 1989-09-07 |
EP0140582B1 (en) | 1989-08-02 |
JPH0740354B2 (ja) | 1995-05-01 |
EP0140582A3 (en) | 1987-06-03 |
MX167249B (es) | 1993-03-11 |
HK20790A (en) | 1990-03-23 |
CA1225546A (en) | 1987-08-18 |
EP0140582A2 (en) | 1985-05-08 |
AU564966B2 (en) | 1987-09-03 |
KR930002485B1 (ko) | 1993-04-02 |
ZA846198B (en) | 1985-05-29 |
ATE45236T1 (de) | 1989-08-15 |
KR850003024A (ko) | 1985-05-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS60101717A (ja) | 基体、磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法 | |
US4569962A (en) | Perfluoropolyether compositions which are soluble in non-fluorinated solvents | |
US5910517A (en) | Optical recording medium with antistatic hard coating | |
US4671999A (en) | Magnetic recording media having perfluoropolyether coating | |
US4705699A (en) | Method of coating magnetic recording media with perfluoropolyether compositions which are soluble in non-fluorinated solvents | |
US5071715A (en) | Magnetic recording medium with a lubricant layer containing a perfluoro polyoxyalkyl compound | |
US5223342A (en) | Magnetic recording medium having a lubricating layer comprising a binder and specified perfluoro polyoxyalkyl lubricant | |
US8632896B2 (en) | Radiation-curable vinyl chloride copolymer, radiation-curable composition, and magnetic recording medium | |
JP2507596B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
JP4271840B2 (ja) | 光ディスク | |
EP0295813A2 (en) | Magnetic recording medium and a method for producing the same | |
JPH08301837A (ja) | パーフルオロアルキルポリエーテル構造をもつウレアとウレタン化合物及び合成法、及びそれらを潤滑剤として用いた磁気記録媒体 | |
JPS63162664A (ja) | ウレタン基含有ビニル化合物,それを含有する被覆,接着用組成物および磁気記録媒体 | |
JPH0258685B2 (ja) | ||
JPH0514324B2 (ja) | ||
JPS61104325A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JP2742265B2 (ja) | 磁気記録媒体およびその製造法ならびにその潤滑剤 | |
JPH0576094B2 (ja) | ||
JPS6375071A (ja) | 放射線硬化性塗料 | |
EP0232162B1 (en) | Magnetic recording medium and process for producing the same | |
EP0217410A2 (en) | Phosphorylated reaction products and compositions incorporating such products | |
JPH04247338A (ja) | 光ディスク | |
JPH0565927B2 (ja) | ||
JP2000123408A (ja) | 光ディスク用組成物及びその硬化物 | |
JPH01204973A (ja) | 放射線硬化性塗料 |