JPH02103722A - 記録媒体潤滑材および記録媒体 - Google Patents
記録媒体潤滑材および記録媒体Info
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- JPH02103722A JPH02103722A JP25634688A JP25634688A JPH02103722A JP H02103722 A JPH02103722 A JP H02103722A JP 25634688 A JP25634688 A JP 25634688A JP 25634688 A JP25634688 A JP 25634688A JP H02103722 A JPH02103722 A JP H02103722A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、情報産業分野等に応用される記録媒体潤滑材
に関するものである。
に関するものである。
従来の技術
記録媒体は、従来の塗布型に代わり、基板上に直接記録
層をメツキ法、スパッタリング法、真空蒸着法、イオン
ブレーティング法等によって形成する金属薄膜型記録媒
体の開発が活発である。
層をメツキ法、スパッタリング法、真空蒸着法、イオン
ブレーティング法等によって形成する金属薄膜型記録媒
体の開発が活発である。
前記の金属薄膜型媒体では、信号の記録再生の際、ヘッ
ド等と接触して摩擦や摩耗を生じ、摩耗粉や損傷が発生
する。このため、記録層そのものまたはその表面を処理
することによって、耐摩擦、耐摩耗性の改良を行うなど
の種々の改善がなされている。例えば高級脂肪酸やフッ
素系ポリマー等を単独又は表面処理剤を記録層上に積層
している(特開昭59−172159号公報)。しかし
ながら、スペーシングロスのために潤滑層はそんなに厚
く設けることができない。従って、確かに走行性にやや
改良が見られるものの、やがては剥離したりあるいは変
質するなどの現象が見られるなど不十分な点を有してい
る。
ド等と接触して摩擦や摩耗を生じ、摩耗粉や損傷が発生
する。このため、記録層そのものまたはその表面を処理
することによって、耐摩擦、耐摩耗性の改良を行うなど
の種々の改善がなされている。例えば高級脂肪酸やフッ
素系ポリマー等を単独又は表面処理剤を記録層上に積層
している(特開昭59−172159号公報)。しかし
ながら、スペーシングロスのために潤滑層はそんなに厚
く設けることができない。従って、確かに走行性にやや
改良が見られるものの、やがては剥離したりあるいは変
質するなどの現象が見られるなど不十分な点を有してい
る。
発明が解決しようとする課題
本発明は記録層と潤滑層との結合力及び潤滑層分子の結
合力を高め(ポリマー化)、かつ潤滑層分子の密度を高
めることにより、耐摩擦、耐摩耗性に優れた潤滑層を形
成することによって、耐久性に優れた記録媒体を提供す
ることを目的としている。
合力を高め(ポリマー化)、かつ潤滑層分子の密度を高
めることにより、耐摩擦、耐摩耗性に優れた潤滑層を形
成することによって、耐久性に優れた記録媒体を提供す
ることを目的としている。
課題を解決するための手段
下記に示す2分岐型アルキルシランからなる記録媒体潤
滑材。
滑材。
R+ Si Ra
(R+は枝状に2つに分岐した、アルキル基、アミノ基
、カルボキシル基、またはエーテル結合を含むアルキル
基、R2−R4はハロゲン、アルコキシ基、アセトキシ
基またはヒドロキシ基を含む)作用 前記2分岐型アルキルシランは記録層と強固に結合し、
また2分岐型アルキルシラン自身がポリマー化すると同
時に、2つの分岐したアルキル鎖によって膜の表面密度
を高めている。
、カルボキシル基、またはエーテル結合を含むアルキル
基、R2−R4はハロゲン、アルコキシ基、アセトキシ
基またはヒドロキシ基を含む)作用 前記2分岐型アルキルシランは記録層と強固に結合し、
また2分岐型アルキルシラン自身がポリマー化すると同
時に、2つの分岐したアルキル鎖によって膜の表面密度
を高めている。
2分岐型アルキルシランは、アルキルシランのSi部が
記録層表面近くに並び、アルキル鎖は記録層表面遠くに
並ぶ。このように形成された2分岐型アルキルシラン膜
は、加水分解により、そのSi部が記録層表面と共有結
合を生じかつシランどうしがカップリングし、記録層表
面に強固なポリマー化された2分岐型アルキルシランの
膜を形成する。
記録層表面近くに並び、アルキル鎖は記録層表面遠くに
並ぶ。このように形成された2分岐型アルキルシラン膜
は、加水分解により、そのSi部が記録層表面と共有結
合を生じかつシランどうしがカップリングし、記録層表
面に強固なポリマー化された2分岐型アルキルシランの
膜を形成する。
また、2分岐型アルキルシランはカップリング1、f−
0−8i−の断面積と2つのアルキル鎖の断面積がほぼ
一致するために最密充填が実現し、膜密度が通常のモノ
アルキルシランに比べて大きくなる。その結果、潤滑層
のせん断応力が大きくなって、繰り返し回数に対する性
能が向上するものと考えられる。
0−8i−の断面積と2つのアルキル鎖の断面積がほぼ
一致するために最密充填が実現し、膜密度が通常のモノ
アルキルシランに比べて大きくなる。その結果、潤滑層
のせん断応力が大きくなって、繰り返し回数に対する性
能が向上するものと考えられる。
実施例
図は、本発明の記録媒体の断面図である。図に於て1は
基板、2は記録層、3は2分岐型アルキルシラン含有の
潤滑層である。
基板、2は記録層、3は2分岐型アルキルシラン含有の
潤滑層である。
本発明の記録媒体に使用し得る基板1としては、ポリア
ミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリカーボネート
、ポリボロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフ
タタレート、ポリ酢酸セルロース、およびポリ塩化ビニ
ル等の高分子材料、非磁性金属材料、ガラス、磁器等の
セラミック材料等周知の材料からなるフィルム、板等が
ある。
ミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリカーボネート
、ポリボロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフ
タタレート、ポリ酢酸セルロース、およびポリ塩化ビニ
ル等の高分子材料、非磁性金属材料、ガラス、磁器等の
セラミック材料等周知の材料からなるフィルム、板等が
ある。
また記録層2を形成する磁性材料としては、Fe1 C
o1 Niから選ばれる少なくとも1種以上の金属、ま
たはこれらとMn1 Cr1 Ti1 PsYl Sm
1 Bf等またはこれらの酸化物を組み合わせた合金が
あり中でもCOX CrlN iから選ばれる少なく
とも2種以上の元素で構成される記録層は高い磁気異方
性エネルギーを有していることや耐食性などで好ましく
、これらは真空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレ
ーティング法、メツキ法等の方法で形成させることがで
きる。なお本発明に述べる記録層2は当然前記以外の組
成に限定されないことは言うまでもない。
o1 Niから選ばれる少なくとも1種以上の金属、ま
たはこれらとMn1 Cr1 Ti1 PsYl Sm
1 Bf等またはこれらの酸化物を組み合わせた合金が
あり中でもCOX CrlN iから選ばれる少なく
とも2種以上の元素で構成される記録層は高い磁気異方
性エネルギーを有していることや耐食性などで好ましく
、これらは真空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレ
ーティング法、メツキ法等の方法で形成させることがで
きる。なお本発明に述べる記録層2は当然前記以外の組
成に限定されないことは言うまでもない。
本発明において、潤滑層に用いる2分岐型アルキルシラ
ンは下記の一般式で表わせる。
ンは下記の一般式で表わせる。
R+ Si Ra
Rr tri枝状に2つに分岐した、アルキル基、アミ
ノ基、カルボキシル基、またはエーテル結合を含むアル
キル基、R2−R4はハロゲン、アルコキシ基、アセト
キシ基、ヒドロキシ基を含む。γ−(N、 N−ジオ
クタデシルスクシニルアミノ)プロピルトリエトキシシ
ラン、γ−(N−(ジヘブタデシルオキシメチル)メチ
ルスクシニルアミノ)プロピルトリエトキシシラン等が
一例である。
ノ基、カルボキシル基、またはエーテル結合を含むアル
キル基、R2−R4はハロゲン、アルコキシ基、アセト
キシ基、ヒドロキシ基を含む。γ−(N、 N−ジオ
クタデシルスクシニルアミノ)プロピルトリエトキシシ
ラン、γ−(N−(ジヘブタデシルオキシメチル)メチ
ルスクシニルアミノ)プロピルトリエトキシシラン等が
一例である。
なお本発明でに述べる潤滑層に用いる2分岐型アルキル
シランは当然前記以外に限定されないことは言うまでも
ない。
シランは当然前記以外に限定されないことは言うまでも
ない。
」二記の2分岐型アルキルシランは記録層と強固に結合
し、また2分岐型アルキルシラン自身がポリマー化する
と同時に、2つの分岐したアルキル鎖によって膜の表面
密度を高めている。
し、また2分岐型アルキルシラン自身がポリマー化する
と同時に、2つの分岐したアルキル鎖によって膜の表面
密度を高めている。
2分岐型アルギルシランは、アルキルシランのSi部が
記録層表面近くに並び、アルキル鎖は記録層表面遠くに
並ぶ。これはラングミュア−プロジェット法あるいは吸
着法により形成された2分岐型アルキルシランはよりこ
の配向を実現し易い。
記録層表面近くに並び、アルキル鎖は記録層表面遠くに
並ぶ。これはラングミュア−プロジェット法あるいは吸
着法により形成された2分岐型アルキルシランはよりこ
の配向を実現し易い。
このように形成された2分岐型アルキルシラン膜は、加
水分解によりそのSi部が記録層表面と共有結合を生じ
かつシランどうしがカップリングし、記録層表面に強固
なポリマー化された2分岐型アルキルシランの膜を形成
する。
水分解によりそのSi部が記録層表面と共有結合を生じ
かつシランどうしがカップリングし、記録層表面に強固
なポリマー化された2分岐型アルキルシランの膜を形成
する。
また、2分岐型アルキルシランはカップリングした一〇
−8i−の断面積と2つのアルキル鎖の断面積がほぼ一
致するために最密充填が実現し、膜密度が通常のモノア
ルキルシランに比べて大きくなる。その結果、潤滑層の
せん断応力が大きくなって、繰り返し回数に対する性能
が向上するものと考えられる。これもラングミュア−プ
ロジェット法あるいは吸着法により形成された2分岐型
アルギルシランは被覆率がより向上し実現し易い。
−8i−の断面積と2つのアルキル鎖の断面積がほぼ一
致するために最密充填が実現し、膜密度が通常のモノア
ルキルシランに比べて大きくなる。その結果、潤滑層の
せん断応力が大きくなって、繰り返し回数に対する性能
が向上するものと考えられる。これもラングミュア−プ
ロジェット法あるいは吸着法により形成された2分岐型
アルギルシランは被覆率がより向上し実現し易い。
従って、この2分岐型アルキルシランのLB膜は単分子
層でも十分な効果を得、また16〜22までの炭素数の
アルキル基を有する2分岐型アルキルシランはLB膜を
作製し易く、その効果も大きい。特に、γ−(N、N−
ジオクタデシルスクシニルアミノ)プロピルトリエトキ
シシランはLB膜として取扱いやすくかつカップリング
も起こり易いので効果も大きい。
層でも十分な効果を得、また16〜22までの炭素数の
アルキル基を有する2分岐型アルキルシランはLB膜を
作製し易く、その効果も大きい。特に、γ−(N、N−
ジオクタデシルスクシニルアミノ)プロピルトリエトキ
シシランはLB膜として取扱いやすくかつカップリング
も起こり易いので効果も大きい。
以上述べた潤滑層を記録層上に形成することにより、走
行性に優れた記録媒体を得る。そしてこれらの厚みは信
号の記録再生からみれば薄ければ薄いほど良い。また、
厚みの上限はスペーシングロスによる記録出力の低下に
支障をきたさない範囲において500A以下が望ましい
。
行性に優れた記録媒体を得る。そしてこれらの厚みは信
号の記録再生からみれば薄ければ薄いほど良い。また、
厚みの上限はスペーシングロスによる記録出力の低下に
支障をきたさない範囲において500A以下が望ましい
。
以下、実施例を詳述する。
実施例1
γ−(N、N−ジオクタデシルスクシニルアミノ)プロ
ピルトリエトキシシラン(DODS)をCo−Cr磁性
金属のインゴット上に、表1に示す条件でラングミュア
−プロジェット(LB)法によって1層累積した。製膜
後、80°C130分加熱乾燥した。参考のために、従
来からよく知られているステアリン酸(St)と比較し
た。
ピルトリエトキシシラン(DODS)をCo−Cr磁性
金属のインゴット上に、表1に示す条件でラングミュア
−プロジェット(LB)法によって1層累積した。製膜
後、80°C130分加熱乾燥した。参考のために、従
来からよく知られているステアリン酸(St)と比較し
た。
表1
これらの試別をクロロホルムに10分間浸漬し、その回
数毎(N)に水の接触角(θ)と摩擦係数(μに)を調
べた。その結果を表2に示す。なお、摩擦子は6RのS
UJ 2、荷重10 g fl 走行速度0.5mm/
sの条件に設定した。θとμは以下に示す関係式で現さ
れる。
数毎(N)に水の接触角(θ)と摩擦係数(μに)を調
べた。その結果を表2に示す。なお、摩擦子は6RのS
UJ 2、荷重10 g fl 走行速度0.5mm/
sの条件に設定した。θとμは以下に示す関係式で現さ
れる。
μ=F/P
Ii”=kW。
Wa=γL (1+CO8θ)
ただし F 、せんだん力、P:垂直荷重、K:定数、
W6: 接着力、γL:液滴の表面張力である。
W6: 接着力、γL:液滴の表面張力である。
従って、θが大きいはとμは小さくなる。
表2の場合にも、それらの関係はよく相関し、DODS
が潤滑性の安定した優れた膜である。
が潤滑性の安定した優れた膜である。
(以下余白)
表2
以上のように、記録層上に枝状の2つに分岐したアルキ
ル基を1つ有しかつ、3つのエトキシ基のようなアルコ
キシ基をからなるシラン系化合物を形成すると、潤滑層
が記録層との結合力が強くかつ剥離が小さいため走行性
にすぐれた耐久性を有する記録媒体が得られることが本
実施例かられかる。
ル基を1つ有しかつ、3つのエトキシ基のようなアルコ
キシ基をからなるシラン系化合物を形成すると、潤滑層
が記録層との結合力が強くかつ剥離が小さいため走行性
にすぐれた耐久性を有する記録媒体が得られることが本
実施例かられかる。
実施例2
t
次ニアルキル基がヘキサデシル、エイコシル、トコシル
の場合の2分岐アルキルシランを用いて1層形成し、摩
擦試験機に接触電気測定法を加えた回路で耐摩耗性を調
べた。この時基板に直接接触するまでの走行回数(pa
ss)を比較し、また表面観察もおこなった。その結果
を表3に示した。
の場合の2分岐アルキルシランを用いて1層形成し、摩
擦試験機に接触電気測定法を加えた回路で耐摩耗性を調
べた。この時基板に直接接触するまでの走行回数(pa
ss)を比較し、また表面観察もおこなった。その結果
を表3に示した。
なお、実施例1と同様にStと比較した。上記シラン系
化合物の耐摩耗性はStより約15〜20倍向上してい
た。また、Stは走行中央部に深い傷が見られたのに対
し、シラン系化合物は傷が走行部分全体において一様化
されて摩耗は軽微であった。このようにくりかえしの摺
動に対し、結合力強化により基板との剥離が小さく耐摩
耗性を向上させていることがわかる。
化合物の耐摩耗性はStより約15〜20倍向上してい
た。また、Stは走行中央部に深い傷が見られたのに対
し、シラン系化合物は傷が走行部分全体において一様化
されて摩耗は軽微であった。このようにくりかえしの摺
動に対し、結合力強化により基板との剥離が小さく耐摩
耗性を向上させていることがわかる。
(以下余白)
表3
以上のことから、シラン系化合物を用いると本実施例に
示すように、耐摩耗性が向上する潤滑膜が得られ、かつ
その効果は、炭素数16〜22のアルキル鎖において有
効に発揮されていることがわかる。
示すように、耐摩耗性が向上する潤滑膜が得られ、かつ
その効果は、炭素数16〜22のアルキル鎖において有
効に発揮されていることがわかる。
実施例3
γ−(N、N−ジヘプタデシルスクシニルアミノ)プロ
ピルトリクロロシランを以下に示す方法で製膜した。
ピルトリクロロシランを以下に示す方法で製膜した。
LB法は実施例1に示す条件のうち、サブフェースのp
Hのみを中性(6,5)に変えて累積した。
Hのみを中性(6,5)に変えて累積した。
吸着法は、上記物質の5xlO−2Mのベンゼン中に攪
はんしながら基板を浸漬し、20分後に引き上げた後、
クロロホルムと純水で洗浄した後乾燥させて作製した。
はんしながら基板を浸漬し、20分後に引き上げた後、
クロロホルムと純水で洗浄した後乾燥させて作製した。
スピンコード法は、吸着法に用いた溶液をガラスピペッ
トで5cc採取し、塗布工程を2000rT)ml 2
0秒、乾燥工程を300Orpm120秒で基板に塗布
した後乾燥して作製した。
トで5cc採取し、塗布工程を2000rT)ml 2
0秒、乾燥工程を300Orpm120秒で基板に塗布
した後乾燥して作製した。
以上の試料を初期のμにとその経時変動状態を表4に示
す。スピンコード法で作製した試料は、μにの初期で0
.25と高かったばかりでな(、<りかえしの状態にお
いてもμにの変動が大きく非常に不安定な走行を示して
いた。これに対し、LB法、吸着法ではともに初期のμ
にも0.18〜0.20と小さくまた、μにの変動もみ
られず滑めらかな走行を示していた。このことはおそら
く、スピンコトだとシラン化合物が基板に配向せず、ま
た分子同士の架橋状態もよくないからであろうと考えら
れる。
す。スピンコード法で作製した試料は、μにの初期で0
.25と高かったばかりでな(、<りかえしの状態にお
いてもμにの変動が大きく非常に不安定な走行を示して
いた。これに対し、LB法、吸着法ではともに初期のμ
にも0.18〜0.20と小さくまた、μにの変動もみ
られず滑めらかな走行を示していた。このことはおそら
く、スピンコトだとシラン化合物が基板に配向せず、ま
た分子同士の架橋状態もよくないからであろうと考えら
れる。
表4
したがって以」二の実施例に見られるように、シラン系
化合物をLB法または吸着法で積層すると、安定した潤
滑性能を有する記録媒体が得られる。
化合物をLB法または吸着法で積層すると、安定した潤
滑性能を有する記録媒体が得られる。
実施例4
厚み25μmのポリイミドフィルム上に、連続薄青法で
Co−Cr(原子吸光法によって確認した組成比、Co
: Cr=8: 2wt%)を厚み1500A形成し
た磁気媒体を作製した。これに、γ−(N、N−ジオク
タデシルスクシニルアミノ)プロピルトリエトキシシラ
ンを、表5に示すように厚みを変えてLB法で作製した
。
Co−Cr(原子吸光法によって確認した組成比、Co
: Cr=8: 2wt%)を厚み1500A形成し
た磁気媒体を作製した。これに、γ−(N、N−ジオク
タデシルスクシニルアミノ)プロピルトリエトキシシラ
ンを、表5に示すように厚みを変えてLB法で作製した
。
表5
潤滑材未処理の媒体は初期から摩擦は高<、50I)a
ss後においては傷が激しく生じていたのに対し、」二
記潤滑材を積層した記録媒体はμにが小さくかつ走行後
も傷がほとんどないがあってもB− 痕跡程度で摩耗性にすぐれていた。
ss後においては傷が激しく生じていたのに対し、」二
記潤滑材を積層した記録媒体はμにが小さくかつ走行後
も傷がほとんどないがあってもB− 痕跡程度で摩耗性にすぐれていた。
以」二のように、シラン系化合物を潤滑層として積層し
た記録媒体は摩擦・摩耗性にすぐれた特性を有すること
が本実施例かられかり、また厚みも500A以下でそれ
が効果的であることも認められる。
た記録媒体は摩擦・摩耗性にすぐれた特性を有すること
が本実施例かられかり、また厚みも500A以下でそれ
が効果的であることも認められる。
発明の効果
本発明の記録媒体潤滑材を用いて潤滑層を形成すれば、
記録層と強固に結合し、またアルキル基の有する低摩擦
性が加わり、耐久性のすぐれた記録媒体を提供すること
ができる。
記録層と強固に結合し、またアルキル基の有する低摩擦
性が加わり、耐久性のすぐれた記録媒体を提供すること
ができる。
図は、本発明の一実施例における記録媒体の断面図であ
る。 1・・・・基板、2・・・・記録層、3・・・・潤滑層
。
る。 1・・・・基板、2・・・・記録層、3・・・・潤滑層
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)下記に示す2分岐型アルキルシランを含むことを
特徴とする記録媒体潤滑材。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (R_1は枝状に2つに分岐した、アルキル基、アミノ
基、カルボキシル基、またはエーテル結合を含むアルキ
ル基、R_2〜R_4はハロゲン、アルコキシ基、アセ
トキシ基またはヒドロキシ基を含む)(2)2分岐型ア
ルキルシランのアルキル基が、炭素数16〜22である
ことを特徴とする請求項1に記載の記録媒体潤滑材。 (3)2分岐型アルキルシランが、γ−(N,N−ジオ
クタデシルスクシニルアミノ)プロピルトリエトキシシ
ランであることを特徴とする請求項1に記載の記録媒体
潤滑材。 (4)請求項1に記載の記録媒体潤滑材を500A以下
の厚みで形成したことを特徴とする記録媒体。 (5)請求項1に記載の記録媒体潤滑材を単分子層で形
成したことを特徴とする記録媒体。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25634688A JPH02103722A (ja) | 1988-10-12 | 1988-10-12 | 記録媒体潤滑材および記録媒体 |
US07/417,483 US5039555A (en) | 1988-10-12 | 1989-10-05 | Method of preparing lubricant for recording media |
EP19890118884 EP0363924A3 (en) | 1988-10-12 | 1989-10-11 | Lubricant for recording media and preparation method of lubricating layer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25634688A JPH02103722A (ja) | 1988-10-12 | 1988-10-12 | 記録媒体潤滑材および記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02103722A true JPH02103722A (ja) | 1990-04-16 |
Family
ID=17291401
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25634688A Pending JPH02103722A (ja) | 1988-10-12 | 1988-10-12 | 記録媒体潤滑材および記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02103722A (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6233335A (ja) * | 1985-08-07 | 1987-02-13 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 磁気デイスク媒体の製造方法 |
-
1988
- 1988-10-12 JP JP25634688A patent/JPH02103722A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6233335A (ja) * | 1985-08-07 | 1987-02-13 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 磁気デイスク媒体の製造方法 |
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