JPH0833991B2 - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPH0833991B2 JPH0833991B2 JP16451287A JP16451287A JPH0833991B2 JP H0833991 B2 JPH0833991 B2 JP H0833991B2 JP 16451287 A JP16451287 A JP 16451287A JP 16451287 A JP16451287 A JP 16451287A JP H0833991 B2 JPH0833991 B2 JP H0833991B2
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- Japan
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- recording medium
- magnetic recording
- magnetic
- film
- protective film
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、情報産業分野等に応用される高記録密度の
磁気記録媒体に関するものである。
磁気記録媒体に関するものである。
従来の技術 磁気ディスク、磁気テープ等に供せられる磁気記録媒
体の開発を目的として、従来γ−Fe2O3,Co含有γ−Fe2O
3またはCrO2等の強磁性粉末を有機バインダー中に分散
して作製する塗布型磁気記録媒体に代わり、現在さらに
高密度化を目的として、非磁性基板上に直接強磁性金属
薄膜をメッキ法、スパッタリング法、真空蒸着法、イオ
ンプレーティング法等によって形成する金属薄膜型磁気
記録媒体の開発が活発である。
体の開発を目的として、従来γ−Fe2O3,Co含有γ−Fe2O
3またはCrO2等の強磁性粉末を有機バインダー中に分散
して作製する塗布型磁気記録媒体に代わり、現在さらに
高密度化を目的として、非磁性基板上に直接強磁性金属
薄膜をメッキ法、スパッタリング法、真空蒸着法、イオ
ンプレーティング法等によって形成する金属薄膜型磁気
記録媒体の開発が活発である。
しかしながら、前記の金属薄膜型磁気記録媒体は、信
号の記録再生の際、高速相対運動下で磁気ヘッド等との
接触により摩擦や摩耗によって不安定な走行性が生じ、
摩耗粉や破損が発生することによって長期の使用に耐え
ない。従って、磁気記録媒体は円滑な走行性と耐摩耗性
が使用環境条件下において持続することが実用化におい
て強く望まれている。
号の記録再生の際、高速相対運動下で磁気ヘッド等との
接触により摩擦や摩耗によって不安定な走行性が生じ、
摩耗粉や破損が発生することによって長期の使用に耐え
ない。従って、磁気記録媒体は円滑な走行性と耐摩耗性
が使用環境条件下において持続することが実用化におい
て強く望まれている。
このため、従来磁性層またはその表面を処理すること
によって耐摩擦耐摩耗性の改良を行なうなど種々の改善
がなされており、例えば高級脂肪酸やフッソ系ポリマー
等を単独または表面処理剤を被着後形成し、保護膜とし
て積層している事例がある。（特開昭59-167849号公
報、特開昭59-172159号公報） 発明が解決しようとする問題点 しかしながら、これらは確かに走行性にやや改良が見
られるもののやがてはこれらが剥離するなどの現象が見
られ不十分である。したがって、本発明はかかる点にか
んがみ、耐摩耗性にすぐれた保護層を形成することによ
って、走行安定性と耐久性がさらにすぐれた磁気記録媒
体を提供することを目的としている。
によって耐摩擦耐摩耗性の改良を行なうなど種々の改善
がなされており、例えば高級脂肪酸やフッソ系ポリマー
等を単独または表面処理剤を被着後形成し、保護膜とし
て積層している事例がある。（特開昭59-167849号公
報、特開昭59-172159号公報） 発明が解決しようとする問題点 しかしながら、これらは確かに走行性にやや改良が見
られるもののやがてはこれらが剥離するなどの現象が見
られ不十分である。したがって、本発明はかかる点にか
んがみ、耐摩耗性にすぐれた保護層を形成することによ
って、走行安定性と耐久性がさらにすぐれた磁気記録媒
体を提供することを目的としている。
問題点を解決するための手段 非磁性基板上の磁性層表面に、端部にエポキシ基を有
する炭化水素系またはフッ化炭化水素系化合物を積層
し、更に硫化水素と接触反応させて保護膜とする。
する炭化水素系またはフッ化炭化水素系化合物を積層
し、更に硫化水素と接触反応させて保護膜とする。
作用 上記化合物は硫化水素との接触でエポキシ基の開環反
応を生じ、膜中での架橋構造や磁性層との接着が促進
し、凝集力、結合力にすぐれた保護層が得られため、良
好な走行性と耐久性にすぐれた磁気記録媒体が実現でき
る。
応を生じ、膜中での架橋構造や磁性層との接着が促進
し、凝集力、結合力にすぐれた保護層が得られため、良
好な走行性と耐久性にすぐれた磁気記録媒体が実現でき
る。
実施例 図は、本発明の磁気記録媒体の断面図である。図にお
いて１は非磁性基板、２は磁性層、３はエポキシ基含有
の炭化水素化合物またはフッ化炭化水素化合物から構成
される保護層である。
いて１は非磁性基板、２は磁性層、３はエポキシ基含有
の炭化水素化合物またはフッ化炭化水素化合物から構成
される保護層である。
本発明の磁気記録媒体に使用し得る非磁性基板１とし
ては、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリ
カーボネート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリ酢酸セルロース、およびポ
リ塩化ビニル等の高分子材料、非磁性金属材料、ガラ
ス、磁器等のセラミック材料等周知の材料からなるフィ
ルム、板等がある。
ては、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリ
カーボネート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリ酢酸セルロース、およびポ
リ塩化ビニル等の高分子材料、非磁性金属材料、ガラ
ス、磁器等のセラミック材料等周知の材料からなるフィ
ルム、板等がある。
また磁性層２を形成する強磁性膜としては、Fe、Co、
Niから選ばれる少なくとも１種以上の金属、またはこれ
らとMn、Cr、Ti、Ｐ、Ｙ、Sm、Bi等またはこれらの酸化
物を組み合わせた合金があり、中でもCo、Cr、Niから選
ばれる少なくとも２種以上の元素で構成される磁性層は
高い磁気異方性エネルギーを有していることや耐食性な
どので好ましく、これらは真空蒸着法、スパッタリング
法、イオンプレーティング法、メッキ法等の方法で形成
させることができる。なお本発明に述べる磁性層２は当
然前記以外の組成に限定されないことは言うまでもな
い。
Niから選ばれる少なくとも１種以上の金属、またはこれ
らとMn、Cr、Ti、Ｐ、Ｙ、Sm、Bi等またはこれらの酸化
物を組み合わせた合金があり、中でもCo、Cr、Niから選
ばれる少なくとも２種以上の元素で構成される磁性層は
高い磁気異方性エネルギーを有していることや耐食性な
どので好ましく、これらは真空蒸着法、スパッタリング
法、イオンプレーティング法、メッキ法等の方法で形成
させることができる。なお本発明に述べる磁性層２は当
然前記以外の組成に限定されないことは言うまでもな
い。
保護層３は、下記の一般式 〔R:炭素数12〜24の炭化水素基または炭素数８〜16の
フッ化炭化水素基〕 のエポキシ化合物であり、これらを単独または混合して
使用してもさしつかえない。
フッ化炭化水素基〕 のエポキシ化合物であり、これらを単独または混合して
使用してもさしつかえない。
そしてこれをラングミミュアーブロジェット（LB）法
で基板に累積する。この方法は累積物質を所定のPH条件
に調整した水面上に展開し、一定の表面圧をかけて基板
に累積し単分子層を積層する。そしてこれらを実現する
には、基板状態、表面圧、水相（サブフェース）の成分
およびPH条件を制御することによって均一でしかも被覆
状態が改良された膜を得ることができる。
で基板に累積する。この方法は累積物質を所定のPH条件
に調整した水面上に展開し、一定の表面圧をかけて基板
に累積し単分子層を積層する。そしてこれらを実現する
には、基板状態、表面圧、水相（サブフェース）の成分
およびPH条件を制御することによって均一でしかも被覆
状態が改良された膜を得ることができる。
必要な保護層の厚みは、塗膜性、均一性を考えると薄
過ぎても良くないが、膜の凝集力およびスペーシングロ
スによる記録出力の低下に支障をきたさない範囲におい
て200A以下が望ましい。
過ぎても良くないが、膜の凝集力およびスペーシングロ
スによる記録出力の低下に支障をきたさない範囲におい
て200A以下が望ましい。
以下、実施例で詳述する。
実施例１ 膜厚30μｍのポリイミドフイルム基板上に、連続真空
蒸着法でCo-Cr（Wt％で、Co:Cr＝8:2の組成比）からな
る膜厚1250A（AES分析）の磁性層を作製しサンプルとし
た。（サンプルNo.1） これにさらに磁性層上に、１、2-エポキシオクタデカ
ンをLB法で３層積層し保護膜を形成した。累積条件は、
表面圧で20dyncm-1以下だと凝縮膜が得られず40dyncm-1
以上だと膜の崩壊が発生する。一方水相（サブフェー
ス）のPH調整は、リン酸系の緩衝液でも良いが、Ba、Cd
などのイオンを添加してPH6〜８に調整するとより好ま
しい凝縮膜が得られる。したがって以下の条件で累積速
度10mm/minで積層した。そしてこれを硫化水素ガス（濃
度1000PPM、N2希釈）と約50時間接触させた後、サンプ
ルNo.2とした。このときの反応率はFT-IRでエポキシ基
の強度比較から約45％であった。
蒸着法でCo-Cr（Wt％で、Co:Cr＝8:2の組成比）からな
る膜厚1250A（AES分析）の磁性層を作製しサンプルとし
た。（サンプルNo.1） これにさらに磁性層上に、１、2-エポキシオクタデカ
ンをLB法で３層積層し保護膜を形成した。累積条件は、
表面圧で20dyncm-1以下だと凝縮膜が得られず40dyncm-1
以上だと膜の崩壊が発生する。一方水相（サブフェー
ス）のPH調整は、リン酸系の緩衝液でも良いが、Ba、Cd
などのイオンを添加してPH6〜８に調整するとより好ま
しい凝縮膜が得られる。したがって以下の条件で累積速
度10mm/minで積層した。そしてこれを硫化水素ガス（濃
度1000PPM、N2希釈）と約50時間接触させた後、サンプ
ルNo.2とした。このときの反応率はFT-IRでエポキシ基
の強度比較から約45％であった。
比較として前記ポリフロロポリエーテルをサンプルNo
1にスピンコートし（膜厚100A、エリプソメトリー）サ
ンプルNo.3とした。
1にスピンコートし（膜厚100A、エリプソメトリー）サ
ンプルNo.3とした。
以上のサンプルを、動摩擦係数の測定で比較評価し、
その結果を表１に示した。
その結果を表１に示した。
なお評価は往復動の摩擦係数計であり、ヘッドに¢6.
5mmの鋼球（SUJ2）を用い、荷重（Ｐ）＝20gf走行速度
（ｖ）＝3.5mm/sec、走行距離20mmで試験した。環境は
常温常湿である。
5mmの鋼球（SUJ2）を用い、荷重（Ｐ）＝20gf走行速度
（ｖ）＝3.5mm/sec、走行距離20mmで試験した。環境は
常温常湿である。
表１によると、未処理のサンプルNo.1は、初期からμ
ｋが0.43と大きく、走行途中約30Passで傷が明確にな
り、やがてはμｋの変動が生じ始めμｋ＝0.66と上昇し
て金属の摩耗粉が激しく透過傷が見られた。そして、サ
ンプルNo.3は初期の耐摩擦性こそ0.09と小さく走行性に
おいて改良されているものの、走行が継続するにつれ傷
が発生し300Passではともにμｋが0.32に上昇するなど
耐摩耗性に欠けており良くなかった。
ｋが0.43と大きく、走行途中約30Passで傷が明確にな
り、やがてはμｋの変動が生じ始めμｋ＝0.66と上昇し
て金属の摩耗粉が激しく透過傷が見られた。そして、サ
ンプルNo.3は初期の耐摩擦性こそ0.09と小さく走行性に
おいて改良されているものの、走行が継続するにつれ傷
が発生し300Passではともにμｋが0.32に上昇するなど
耐摩耗性に欠けており良くなかった。
これに対し、サンプルNo.2では、初期からμｋが小さ
く300Pass後においても0.12でほとんど変化なく、かつ
表面観察においても傷がほとんどみられないなど良好な
結果であった。
く300Pass後においても0.12でほとんど変化なく、かつ
表面観察においても傷がほとんどみられないなど良好な
結果であった。
従って、本発明に述べるごとく、磁性層上にエポキシ
基を端部に有する化合物をLB法で積層した潤滑層を形成
した磁気記録媒体は、耐久性の良いかつ走行性のすぐれ
た磁気記録媒体であることが分かる。
基を端部に有する化合物をLB法で積層した潤滑層を形成
した磁気記録媒体は、耐久性の良いかつ走行性のすぐれ
た磁気記録媒体であることが分かる。
実施例２ 実施例１と同様に、スピンコーテイング法でエポキシ
化合物を同じ膜厚（83A）で形成し、同様に硫化水素ガ
スと接触反応させ、これをサンプルNo.4とした。すると
初期のμｋは0.35は以外に高くまた耐摩耗性こそ有する
ように見れるものの、実施例１に示したサンプルNo.2で
さほど観察されなかったようなμｋの変動があり、スピ
ンコートに生じ易い厚みむらによる影響があらわれてい
る。したがってこのことから、LB法による潤滑膜の形成
は均一性、ちみつ性が改良され耐摩擦性に効果があるこ
とが分かった。
化合物を同じ膜厚（83A）で形成し、同様に硫化水素ガ
スと接触反応させ、これをサンプルNo.4とした。すると
初期のμｋは0.35は以外に高くまた耐摩耗性こそ有する
ように見れるものの、実施例１に示したサンプルNo.2で
さほど観察されなかったようなμｋの変動があり、スピ
ンコートに生じ易い厚みむらによる影響があらわれてい
る。したがってこのことから、LB法による潤滑膜の形成
は均一性、ちみつ性が改良され耐摩擦性に効果があるこ
とが分かった。
実施例３ 厚み35μｍのポリイミドフィルム上にCo-Crを1500A形
成したのち、1.2-エポキシオクタデカンをLB法で厚みを
それぞれ１層（No.5）５層（No.6）および７層（No.7）
と作製して評価し表２に示した。なお硫化水素との接触
反応はこの時60時間であり、評価は動摩擦係数の測定に
さらに接触角を加え、試験条件は表中に記載のとおりで
ある。
成したのち、1.2-エポキシオクタデカンをLB法で厚みを
それぞれ１層（No.5）５層（No.6）および７層（No.7）
と作製して評価し表２に示した。なお硫化水素との接触
反応はこの時60時間であり、評価は動摩擦係数の測定に
さらに接触角を加え、試験条件は表中に記載のとおりで
ある。
表２から明らかなように、これらのサンプルは各厚み
においてμｋがどれも低くかつ300Pass後においても表
面観察すると傷が見られないなど耐摩耗性にすぐれてい
ることが分かった。このことから本発明に述べるよう
に、磁性層表面にエポキシ基を端部に有する炭化水素化
合物をLB法で形成し、さらに硫化水素で反応処理して保
護膜を作製した記録媒体は走行傷がほとんどみられない
などすぐれた特性を有し、膜厚200A以内で達せられるこ
とからスペーシングロスに影響を与えない範囲で有効で
あり、実用化に十分可能な磁気記録媒体であると言え
る。
においてμｋがどれも低くかつ300Pass後においても表
面観察すると傷が見られないなど耐摩耗性にすぐれてい
ることが分かった。このことから本発明に述べるよう
に、磁性層表面にエポキシ基を端部に有する炭化水素化
合物をLB法で形成し、さらに硫化水素で反応処理して保
護膜を作製した記録媒体は走行傷がほとんどみられない
などすぐれた特性を有し、膜厚200A以内で達せられるこ
とからスペーシングロスに影響を与えない範囲で有効で
あり、実用化に十分可能な磁気記録媒体であると言え
る。
発明の効果 本発明によれば、磁性層の表面部にLB法よりエポキシ
系化合物を積層し、さらに硫化水素ガスとの接触反応で
処理した保護膜を作製することにより、均一性とちみつ
な保護層が形成されるため、耐摩耗性の良いかつ一層の
走行安定性を改良した実用化に可能なすぐれた磁気記録
媒体が得られる。
系化合物を積層し、さらに硫化水素ガスとの接触反応で
処理した保護膜を作製することにより、均一性とちみつ
な保護層が形成されるため、耐摩耗性の良いかつ一層の
走行安定性を改良した実用化に可能なすぐれた磁気記録
媒体が得られる。
図は、本発明の１実施例における磁気記録媒体の断面図
である。 １……非磁性基板、２……磁性層、３……保護層。
である。 １……非磁性基板、２……磁性層、３……保護層。
Claims (3)
- 【請求項１】非磁性基板上の磁性層表面に、端部にエポ
キシ基を有する炭化水素系またはフッ化炭化水素系化合
物を積層し、更に硫化水素と接触反応させて保護膜とす
ることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項２】保護膜をラングミュアーブロジェット法で
形成することを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項３】保護膜を表面圧20〜40dyn/cm、塩の水溶液
でpH6〜８に調整された水相で累積することを特徴とす
る特許請求の範囲第２項記載の磁気記録媒体の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16451287A JPH0833991B2 (ja) | 1987-07-01 | 1987-07-01 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16451287A JPH0833991B2 (ja) | 1987-07-01 | 1987-07-01 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6410419A JPS6410419A (en) | 1989-01-13 |
| JPH0833991B2 true JPH0833991B2 (ja) | 1996-03-29 |
Family
ID=15794570
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16451287A Expired - Lifetime JPH0833991B2 (ja) | 1987-07-01 | 1987-07-01 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0833991B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102504306A (zh) * | 2011-11-09 | 2012-06-20 | 尤君 | 聚烯烃薄膜热熔隔离剂及其制备和使用方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2638694B1 (fr) * | 1988-11-10 | 1991-08-02 | Ism Equipements Indls Montage | Installation de transfert comportant un circuit ferme de rails |
-
1987
- 1987-07-01 JP JP16451287A patent/JPH0833991B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102504306A (zh) * | 2011-11-09 | 2012-06-20 | 尤君 | 聚烯烃薄膜热熔隔离剂及其制备和使用方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6410419A (en) | 1989-01-13 |
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