JPH0734259B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH0734259B2 JPH0734259B2 JP61193296A JP19329686A JPH0734259B2 JP H0734259 B2 JPH0734259 B2 JP H0734259B2 JP 61193296 A JP61193296 A JP 61193296A JP 19329686 A JP19329686 A JP 19329686A JP H0734259 B2 JPH0734259 B2 JP H0734259B2
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- JP
- Japan
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- layer
- magnetic
- recording medium
- magnetic recording
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、情報産業分野等に応用される高記録密度の磁
気記録媒体に関するものである。
気記録媒体に関するものである。
従来の技術 磁気ディスク、磁気テープ等に供せられる磁気記録媒体
の開発を目的として、従来γ−Fe2O3,Co含有γ−Fe2O3
またはCrO2等の強磁性粉末を有機バインダー中に分散し
て作製する塗布型磁気記録媒体に代わり、現在さらに高
密度化を目的として、非磁性基板上に直接磁性層をメッ
キ法、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーテ
ィング法等によって形成する金属薄膜型磁気記録媒体の
開発が活発である。
の開発を目的として、従来γ−Fe2O3,Co含有γ−Fe2O3
またはCrO2等の強磁性粉末を有機バインダー中に分散し
て作製する塗布型磁気記録媒体に代わり、現在さらに高
密度化を目的として、非磁性基板上に直接磁性層をメッ
キ法、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーテ
ィング法等によって形成する金属薄膜型磁気記録媒体の
開発が活発である。
しかしながら、前記の金属薄膜型磁気記録媒体は、信号
の記録再生の際、高速相対運動下で磁気ヘッド等との接
触により摩擦や摩耗によって不安定な走行性が生じ、摩
耗粉や破損が発生することによって長期の使用に耐えな
い。従って、磁気記録媒体は円滑な走行性と耐摩耗性が
使用環境条件下において接続することが実用化において
強く望まれている。
の記録再生の際、高速相対運動下で磁気ヘッド等との接
触により摩擦や摩耗によって不安定な走行性が生じ、摩
耗粉や破損が発生することによって長期の使用に耐えな
い。従って、磁気記録媒体は円滑な走行性と耐摩耗性が
使用環境条件下において接続することが実用化において
強く望まれている。
このため、従来磁性層またはその表面を処理することに
よって耐摩擦耐摩耗性の改良を行なうなど種々の改善が
なされており、例えば高級脂肪酸やフッ素系ポリマー等
を単独または表面処理剤を被着後形成し保護膜として積
層している事例がある（特開昭59−167849号公報、特開
昭59−172159号公報）。
よって耐摩擦耐摩耗性の改良を行なうなど種々の改善が
なされており、例えば高級脂肪酸やフッ素系ポリマー等
を単独または表面処理剤を被着後形成し保護膜として積
層している事例がある（特開昭59−167849号公報、特開
昭59−172159号公報）。
発明が解決しようする問題点 しかしながら、これらは確かに走行性にやや改良が見ら
れるもののやがてはこれらが剥離したりあるいは変質す
るなどの現象が見られない不十分な点を有している。し
たがって、本発明はかかる点にかんがみ、磁性層との接
着性を高める中間層を介在し耐摩耗性にすぐれた保護層
および磁気ヘッド等との良好な走行性を有する潤滑層を
形成することによって、走行安定性と耐久性がさらにす
ぐれた磁気記録媒体を提供することを目的としている。
れるもののやがてはこれらが剥離したりあるいは変質す
るなどの現象が見られない不十分な点を有している。し
たがって、本発明はかかる点にかんがみ、磁性層との接
着性を高める中間層を介在し耐摩耗性にすぐれた保護層
および磁気ヘッド等との良好な走行性を有する潤滑層を
形成することによって、走行安定性と耐久性がさらにす
ぐれた磁気記録媒体を提供することを目的としている。
問題点を解決するための手段 非磁性基板上に設けた磁性層の表面部に、シラン系また
はチタン系カップリング剤を含有した中間層を備え、そ
の上にｐ−キシリレンまたはその誘導体の重合膜を有す
る保護層と、さらにその上にフロロカーボン系、シリコ
ーン系またはフッ素−シリコーン系滑剤の少なくとも１
種以上を含む潤滑層を順次積層する。
はチタン系カップリング剤を含有した中間層を備え、そ
の上にｐ−キシリレンまたはその誘導体の重合膜を有す
る保護層と、さらにその上にフロロカーボン系、シリコ
ーン系またはフッ素−シリコーン系滑剤の少なくとも１
種以上を含む潤滑層を順次積層する。
作用 前記中間層の介在により保護層を磁性層と強固に接着さ
せまた保護層自身が有する低摩擦性および耐摩耗性の特
性に加えて、ヘッドとより馴染みをもたせる潤滑層の作
用により、良好な走行性と耐久性にすぐれた磁気記録媒
体が得られる。
せまた保護層自身が有する低摩擦性および耐摩耗性の特
性に加えて、ヘッドとより馴染みをもたせる潤滑層の作
用により、良好な走行性と耐久性にすぐれた磁気記録媒
体が得られる。
このことはおそらく、中間層のカップリング剤が磁性層
表面と化学結合する一方、ｐ−キシリレンまたはその誘
導体の重合膜がそれ自身の有する機械的強度による対ブ
ロッキング性の向上と滑剤との相乗効果が寄与している
ものと考えられる。
表面と化学結合する一方、ｐ−キシリレンまたはその誘
導体の重合膜がそれ自身の有する機械的強度による対ブ
ロッキング性の向上と滑剤との相乗効果が寄与している
ものと考えられる。
実 施 例 図は、本発明の磁気記録媒体の断面図である。図におい
て１は非磁性基板、２は磁性層、３はシラン系またはチ
タン系カップリング剤を含有する中間層、４はｐ−キシ
リレンまたはその誘導体の重合膜からなる保護層、およ
び５はフロロカーボン系、シリコーン系またはフッ素−
シリコーン系滑剤を含む潤滑層である。
て１は非磁性基板、２は磁性層、３はシラン系またはチ
タン系カップリング剤を含有する中間層、４はｐ−キシ
リレンまたはその誘導体の重合膜からなる保護層、およ
び５はフロロカーボン系、シリコーン系またはフッ素−
シリコーン系滑剤を含む潤滑層である。
本発明の磁気記録媒体に使用し得る非磁性基板１として
は、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリカ
ーボネート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリ酢酸セルロース、およびポリ
塩化ビニル等の高分子材料、非磁性金属材料、ガラス、
磁器等のセラミック材料等周知の材料からなるフィル
ム、板等がある。
は、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリカ
ーボネート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリ酢酸セルロース、およびポリ
塩化ビニル等の高分子材料、非磁性金属材料、ガラス、
磁器等のセラミック材料等周知の材料からなるフィル
ム、板等がある。
また磁性層２を形成する強磁性材料としては、Fe,Co,Ni
から選ばれる少なくとも１種以上の金属、またはこれら
とMn,Cr,Ti,P,V,Sm,Bi等またはこれらの酸化物を組み合
わせた合金があり、中でもCo,Cr,Niから選ばれる少なく
とも２種以上の元素で構成される磁性層は高い磁気異方
性エネルギーを有していることや耐食性などで好まし
く、これらは真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプ
レーティング法、メッキ法等の方法で形成させることが
できる。なお本発明に述べる磁性層２は当然前記以外の
組成に限定されないことは言うまでもない。
から選ばれる少なくとも１種以上の金属、またはこれら
とMn,Cr,Ti,P,V,Sm,Bi等またはこれらの酸化物を組み合
わせた合金があり、中でもCo,Cr,Niから選ばれる少なく
とも２種以上の元素で構成される磁性層は高い磁気異方
性エネルギーを有していることや耐食性などで好まし
く、これらは真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプ
レーティング法、メッキ法等の方法で形成させることが
できる。なお本発明に述べる磁性層２は当然前記以外の
組成に限定されないことは言うまでもない。
本発明において、中間層３にもちいるカップリング剤は
シラン系ではビニルトリクロロシラン、トリメトキシビ
ニルシラン、ジメトキシ−３−メルカプトプロピルメチ
ルシラン、トリエトキシビニルシラン、３−クロロプロ
ピルジメトキシメチルシラン、トリス（２−メトキシエ
トキシ）ビニルシラン、３−グリシドオキシプロピルト
リメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピルトリ
メトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシ
シラン、ジエトキシ−３−グリシドオキシプロピルメチ
ルシラン、３−（２−アミノエチルアミノプロピル）ジ
メトキシメチルシラン、３−クロロプロピルトリメトキ
シシランまたはトリアセトキシビニルシランなどであ
り、チタン系では、イソプロピルトリイソステアロイル
チタネート、イソプロピルトリデシルベンゼンスルホニ
ルチタネート、ジ（メタクリル）オキシアセテートチタ
ネート、ジ（オクチルパイロホスフェート）エチレンチ
タネート、イソプロピルジ（４−アミノベンゾイル）ス
テアロイルチタネート、イソプロピルトリメタクリルチ
タネート、イソプロピルトリアクリルチタネートまたは
ジ（アクリル）エチレンチタネートなどを含むが、本発
明に述べる効果は当然前記の物質に限定されるものでは
ない。
シラン系ではビニルトリクロロシラン、トリメトキシビ
ニルシラン、ジメトキシ−３−メルカプトプロピルメチ
ルシラン、トリエトキシビニルシラン、３−クロロプロ
ピルジメトキシメチルシラン、トリス（２−メトキシエ
トキシ）ビニルシラン、３−グリシドオキシプロピルト
リメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピルトリ
メトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシ
シラン、ジエトキシ−３−グリシドオキシプロピルメチ
ルシラン、３−（２−アミノエチルアミノプロピル）ジ
メトキシメチルシラン、３−クロロプロピルトリメトキ
シシランまたはトリアセトキシビニルシランなどであ
り、チタン系では、イソプロピルトリイソステアロイル
チタネート、イソプロピルトリデシルベンゼンスルホニ
ルチタネート、ジ（メタクリル）オキシアセテートチタ
ネート、ジ（オクチルパイロホスフェート）エチレンチ
タネート、イソプロピルジ（４−アミノベンゾイル）ス
テアロイルチタネート、イソプロピルトリメタクリルチ
タネート、イソプロピルトリアクリルチタネートまたは
ジ（アクリル）エチレンチタネートなどを含むが、本発
明に述べる効果は当然前記の物質に限定されるものでは
ない。
一方、保護層４はｐ−キシリレンまたはその誘導体の重
合膜であり、下記の一般式 で示され、Ｒは−CH3,−C2H5,−C3H7などのアルキル
基、−CH2OH,−C2H4OHなどのヒドロキシアルキル基、−
CH2OCH3,−CH2OC2H5,−C2H5OCH3などのアルコキシアル
キル基、−OCH3,−OC2H5などのアルコキシ基、−COOC
H3,−COOC2H5などのカルボアルコキシ基、カルボキシル
基、水酸基、−CH2NH2,−NH3,−C2H5NH2などのアミノ
基、シアノ基、ニトロ基、F,Cl,Br,Iのハロゲン基、ア
リール基またはアルケニル基であり、それぞれを単独ま
たは複数個有している重合膜である。ｎは10〜10000で
あり好ましくは4000以上である。そしてこれらは気相熱
分解法によって容易に室温で成膜されるため記録媒体に
損傷を与えることなく所望の膜厚に形成される。
合膜であり、下記の一般式 で示され、Ｒは−CH3,−C2H5,−C3H7などのアルキル
基、−CH2OH,−C2H4OHなどのヒドロキシアルキル基、−
CH2OCH3,−CH2OC2H5,−C2H5OCH3などのアルコキシアル
キル基、−OCH3,−OC2H5などのアルコキシ基、−COOC
H3,−COOC2H5などのカルボアルコキシ基、カルボキシル
基、水酸基、−CH2NH2,−NH3,−C2H5NH2などのアミノ
基、シアノ基、ニトロ基、F,Cl,Br,Iのハロゲン基、ア
リール基またはアルケニル基であり、それぞれを単独ま
たは複数個有している重合膜である。ｎは10〜10000で
あり好ましくは4000以上である。そしてこれらは気相熱
分解法によって容易に室温で成膜されるため記録媒体に
損傷を与えることなく所望の膜厚に形成される。
これらの重合膜は引張り強度や分子凝集エネルギーが高
いことから物性的にも良く、また化学的安定性や耐環境
性にも良いことからすぐれた特性が得られるものと思わ
れる。
いことから物性的にも良く、また化学的安定性や耐環境
性にも良いことからすぐれた特性が得られるものと思わ
れる。
そして潤滑層５はすくなくとも１種以上のフロロカーボ
ン系、シリコーン系またはフッ素−シリコーン系滑剤か
らなっており、例えばフロロカーボン系であれば下記 の一般式で示される化合物であり、Krytox143,157FS
（デュポン社製）やFomblinY,Galden HS（モンテフルオ
スS.p.A製）などの商品名で市販されているものを含
む。一方シリコーン系またはフッ素−シリコーン系であ
れば下記の骨格構造を有する化合物であり Ｒが−CH3,−OH,−C6H5,CF3基で単独または複数組合わ
せて構成されており他に −NH2,−COOHを置換基とする物質を含む。これらは例え
ばメチルシリコーンやフッ素変性シリコーンであればSH
200、FS1265〔トーレシリコーン（株）〕などで市販さ
れており、平均分子量は10000〜100000以上が望ましい
がこれ以外においても本発明を制限せずまたこれらを混
合して用いても良いことは言うまでもない。
ン系、シリコーン系またはフッ素−シリコーン系滑剤か
らなっており、例えばフロロカーボン系であれば下記 の一般式で示される化合物であり、Krytox143,157FS
（デュポン社製）やFomblinY,Galden HS（モンテフルオ
スS.p.A製）などの商品名で市販されているものを含
む。一方シリコーン系またはフッ素−シリコーン系であ
れば下記の骨格構造を有する化合物であり Ｒが−CH3,−OH,−C6H5,CF3基で単独または複数組合わ
せて構成されており他に −NH2,−COOHを置換基とする物質を含む。これらは例え
ばメチルシリコーンやフッ素変性シリコーンであればSH
200、FS1265〔トーレシリコーン（株）〕などで市販さ
れており、平均分子量は10000〜100000以上が望ましい
がこれ以外においても本発明を制限せずまたこれらを混
合して用いても良いことは言うまでもない。
以上述べた中間層、保護層および潤滑層を順次磁性層上
に形成することにより走行性に優れた記録媒体を得る。
そしてこれらの厚みは薄ければよいが製膜法に起因する
限界から塗膜性、膜の均一性を考えると自ずと制限があ
る。したがって厚みの上限はスペーシングロスによる記
録出力の低下に支障をきたさない範囲において500Å以
下が望ましい。
に形成することにより走行性に優れた記録媒体を得る。
そしてこれらの厚みは薄ければよいが製膜法に起因する
限界から塗膜性、膜の均一性を考えると自ずと制限があ
る。したがって厚みの上限はスペーシングロスによる記
録出力の低下に支障をきたさない範囲において500Å以
下が望ましい。
以下、実施例で詳述する。
実施例１ 膜厚12μｍのポリアミドフィルム基板上に、真空連続蒸
着法でCo−Cr（元素比,Co:Cr＝8:2の組成比）で膜厚130
0Å（AES分析）の磁性層を作製しサンプルとした（サン
プルNo.1）。
着法でCo−Cr（元素比,Co:Cr＝8:2の組成比）で膜厚130
0Å（AES分析）の磁性層を作製しサンプルとした（サン
プルNo.1）。
これをさらに磁性層上に３−メタクリルオキシプロピル
トリメトキシシラン（水溶液1:5v/v比）をメタノールで
約1000倍（v/v比）希釈した液でスピンコートし100℃で
加熱乾燥後厚み約25Åでカップリング処理した中間層を
有する試料を作製した。
トリメトキシシラン（水溶液1:5v/v比）をメタノールで
約1000倍（v/v比）希釈した液でスピンコートし100℃で
加熱乾燥後厚み約25Åでカップリング処理した中間層を
有する試料を作製した。
そしてさらにこれにポリ（ｐ−キシリレン）膜をおよそ
300Å形成し保護層とした（気相熱分解法によってｐ−
キシリレンダイマーを0.5Torr,680℃の条件で熱分解し2
5℃,0.1Torr下で積層）。そしてパーフロロポリエーテ
ル（Krytox157FS）をトリクロロトリフロロエタンで100
倍（wt％）希釈した溶液でスピンコートし（膜厚300
Å）潤滑層を形成しこれをサンプルNo.2とした。
300Å形成し保護層とした（気相熱分解法によってｐ−
キシリレンダイマーを0.5Torr,680℃の条件で熱分解し2
5℃,0.1Torr下で積層）。そしてパーフロロポリエーテ
ル（Krytox157FS）をトリクロロトリフロロエタンで100
倍（wt％）希釈した溶液でスピンコートし（膜厚300
Å）潤滑層を形成しこれをサンプルNo.2とした。
比較として前記パーフロロポリエーテルをサンプルNo.1
およびカップリング処理した試料にそれぞれスピンコー
トし（膜厚250Å,270Å）、サンプルNo.3,4とした。
およびカップリング処理した試料にそれぞれスピンコー
トし（膜厚250Å,270Å）、サンプルNo.3,4とした。
以上のサンプルを、動摩擦係数の測定で比較評価し、そ
の結果を表１に示した。
の結果を表１に示した。
なお評価装置は、往復動型の動摩擦係数計であり、ヘッ
ドにφ6.3mmの鋼球（SUJ2）を用い、荷重（Ｐ）＝10gf,
走行速度（ｖ）＝5.5mm/secで試験した。
ドにφ6.3mmの鋼球（SUJ2）を用い、荷重（Ｐ）＝10gf,
走行速度（ｖ）＝5.5mm/secで試験した。
表１によると、未処理のサンプルNo.1は、初期からμ値
が大きく、走行途中約10Passで傷が明確になりμ値の変
動が生じ始めやがてはμ＝0.68と上昇して金属の摩耗粉
が激しく透過傷が見られた。
が大きく、走行途中約10Passで傷が明確になりμ値の変
動が生じ始めやがてはμ＝0.68と上昇して金属の摩耗粉
が激しく透過傷が見られた。
そして、サンプルNo.3,4は初期の耐摩擦性こそ0.2以下
と小さく改良されるもの走行が継続するにつれ傷が発生
し300パスではともにμ値が上昇するなど良くなかっ
た。
と小さく改良されるもの走行が継続するにつれ傷が発生
し300パスではともにμ値が上昇するなど良くなかっ
た。
しかしながら、サンプルNo.2では、初期からμ値が小さ
く300パス後においても0.12でほとんど変化なく、かつ
表面観察においても傷がほとんどみられないなど良好な
結果であった。
く300パス後においても0.12でほとんど変化なく、かつ
表面観察においても傷がほとんどみられないなど良好な
結果であった。
従って、本発明に述べるごとく、磁性層上にシランカッ
プリング剤の中間層とポリ（ｐ−キシリレン）を保護膜
層としさなにその上にパーフロロポリエーテルを潤滑層
とした記録媒体は走行性の良い耐久性にすぐれた磁気記
録媒体であることが分かる。
プリング剤の中間層とポリ（ｐ−キシリレン）を保護膜
層としさなにその上にパーフロロポリエーテルを潤滑層
とした記録媒体は走行性の良い耐久性にすぐれた磁気記
録媒体であることが分かる。
実施例２ 膜厚25μｍのポリイミドフイルム基板上に実施例１と同
様の金属組成で、膜厚1530Åのサンプルを作成した。こ
の際、磁性層の蒸着中、酸素を導入し175Åの酸化被膜
層を形成した（サンプルNo.5）。
様の金属組成で、膜厚1530Åのサンプルを作成した。こ
の際、磁性層の蒸着中、酸素を導入し175Åの酸化被膜
層を形成した（サンプルNo.5）。
これにジ（メタクリル）オキシアセテートチタネートを
トルエンに100倍希釈した溶液でサンプルNo.5の表面に
約50Åの厚みでスピンコートしさらにその上にポリ（ジ
クロロ−ｐ−キシリレン）を300Å積層したサンプルを
作製した。そしてこれに以下に示す溶液でスピンコート
した試料をそれぞれ膜厚100,105,95Åで作製した。
トルエンに100倍希釈した溶液でサンプルNo.5の表面に
約50Åの厚みでスピンコートしさらにその上にポリ（ジ
クロロ−ｐ−キシリレン）を300Å積層したサンプルを
作製した。そしてこれに以下に示す溶液でスピンコート
した試料をそれぞれ膜厚100,105,95Åで作製した。
サンプルNo.6 パーフロロポリエーテル（Krytox143） １重量部 トリクロロトリフロロエタン 100 〃 サンプルNo.7 ジメチルポリシロキサン（HS200） 1重量部 クロロホルム 80 〃 サンプルNo.8 フロロポリシロキサン（FS1265） １重量部 アセトン 100 〃 そしてこれらを接触角の測定とともに、表２に示す試験
条件で動摩擦係数を測定した。
条件で動摩擦係数を測定した。
以上のことから、これらの中で、サンプルNo.5は実施例
１と同様にμ値が高く摩耗粉も多く発生し良くなかった
のに対し、サンプルNo.6〜８は接触角が高くμも0.12〜
0.13小さく走行後においても摩耗粉が発生せず耐摩擦摩
耗性にもすぐれていることが分かった。
１と同様にμ値が高く摩耗粉も多く発生し良くなかった
のに対し、サンプルNo.6〜８は接触角が高くμも0.12〜
0.13小さく走行後においても摩耗粉が発生せず耐摩擦摩
耗性にもすぐれていることが分かった。
このことから本発明に述べるようにシラン系又はチタン
系カップリング剤を中間層としポリ（ジクロロ−ｐ−キ
シリレン）のようなｐ−キシリレンの誘導体から成膜さ
れる重合膜を保護層とした試料に、さらにフロロカーボ
ン系、シリコーン系またはフッ素−シリコーン系滑剤を
潤滑層とした磁気記録媒体は耐摩擦、耐摩耗性にすぐれ
た記録媒体として実現でき、また磁性層の表面部を酸化
処理した場合でも同様の効果が得られることが本実施例
より明らかである。
系カップリング剤を中間層としポリ（ジクロロ−ｐ−キ
シリレン）のようなｐ−キシリレンの誘導体から成膜さ
れる重合膜を保護層とした試料に、さらにフロロカーボ
ン系、シリコーン系またはフッ素−シリコーン系滑剤を
潤滑層とした磁気記録媒体は耐摩擦、耐摩耗性にすぐれ
た記録媒体として実現でき、また磁性層の表面部を酸化
処理した場合でも同様の効果が得られることが本実施例
より明らかである。
実施例３ 表３に示す構成のサンプルをピン−ディスク型を試験機
で評価した。この時、サンプルNo.10,13においては磁性
層を表面酸化したものであり、保護層のポリ（ｐ−キシ
リレン）は一般式の置換基のみを変えた重合膜で形成
し、中間層、潤滑層はそれぞれに示す物質を前記実施例
1,2と同様にスピンコートまたは蒸着し、それぞれ組成
の下にその時の膜厚を（ ）であらわしている。また試
験条件は、φ6mmSUJ2,P＝5gf,v＝3.0m/sで、60分後のμ
値と表面観察をおこなった。
で評価した。この時、サンプルNo.10,13においては磁性
層を表面酸化したものであり、保護層のポリ（ｐ−キシ
リレン）は一般式の置換基のみを変えた重合膜で形成
し、中間層、潤滑層はそれぞれに示す物質を前記実施例
1,2と同様にスピンコートまたは蒸着し、それぞれ組成
の下にその時の膜厚を（ ）であらわしている。また試
験条件は、φ6mmSUJ2,P＝5gf,v＝3.0m/sで、60分後のμ
値と表面観察をおこなった。
表３によるとサンプルNo.9からNo.15のいずれもμ値が
0.15以下と小さくまた表面観察においても走行傷がほと
んどみられないなどすぐれた特性を有している。このこ
とが膜厚500Å以内で達せられることからスペーシング
ロスに影響を与えない範囲で有効であり、実用化に十分
可能な磁気記録媒体であると言える。
0.15以下と小さくまた表面観察においても走行傷がほと
んどみられないなどすぐれた特性を有している。このこ
とが膜厚500Å以内で達せられることからスペーシング
ロスに影響を与えない範囲で有効であり、実用化に十分
可能な磁気記録媒体であると言える。
発明の効果 本発明による磁気記録媒体は、磁性層の表面部にシラン
系またはチタン系カップリング剤を含有した中間層を備
え、さらにｐ−キシリレンまたはその誘導体の重合膜を
保護層とし、さらにその上にフロロカーボン系、シリコ
ーン系またはフッ素−シリコーン系を１種以上含む潤滑
層を形成したものであり、一層の走行安定性を改良した
実用化に可能なすぐれた磁気記録媒体が得られる。
系またはチタン系カップリング剤を含有した中間層を備
え、さらにｐ−キシリレンまたはその誘導体の重合膜を
保護層とし、さらにその上にフロロカーボン系、シリコ
ーン系またはフッ素−シリコーン系を１種以上含む潤滑
層を形成したものであり、一層の走行安定性を改良した
実用化に可能なすぐれた磁気記録媒体が得られる。
図は、本発明の１実施例における磁気記録媒体の断面図
である。 １……非磁性基板、２……磁性層、３……中間層、４…
…保護層、５……潤滑層。
である。 １……非磁性基板、２……磁性層、３……中間層、４…
…保護層、５……潤滑層。
Claims (4)
- 【請求項１】非磁性基板上に磁性層を有する磁気記録媒
体において、前記磁性層上に、シラン系又はチタン系カ
ップリング剤を含有した中間層と、ｐ−キシリレンまた
はその誘導体の重合膜を備えた保護層と、フロロカーボ
ン系、シリコーン系またはフッ素−シリコーン系滑剤を
すくなくとも１種以上含む潤滑層とを順次積層したこと
を特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】磁性層の表面部を酸化処理したことを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体。 - 【請求項３】磁性層がCo,Cr,Niから選ばれる少なくとも
２種以上の元素を含むことを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載の磁気記録媒体。 - 【請求項４】中間層と保護層および潤滑層の厚みが500
Å以下であることを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61193296A JPH0734259B2 (ja) | 1986-08-19 | 1986-08-19 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61193296A JPH0734259B2 (ja) | 1986-08-19 | 1986-08-19 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6350916A JPS6350916A (ja) | 1988-03-03 |
| JPH0734259B2 true JPH0734259B2 (ja) | 1995-04-12 |
Family
ID=16305554
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61193296A Expired - Lifetime JPH0734259B2 (ja) | 1986-08-19 | 1986-08-19 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0734259B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5154978A (en) * | 1989-03-22 | 1992-10-13 | Tdk Corporation | Highly corrosion-resistant rare-earth-iron magnets |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56153534A (en) * | 1980-04-24 | 1981-11-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium |
-
1986
- 1986-08-19 JP JP61193296A patent/JPH0734259B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6350916A (ja) | 1988-03-03 |
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