JPS61160826A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS61160826A JPS61160826A JP25442484A JP25442484A JPS61160826A JP S61160826 A JPS61160826 A JP S61160826A JP 25442484 A JP25442484 A JP 25442484A JP 25442484 A JP25442484 A JP 25442484A JP S61160826 A JPS61160826 A JP S61160826A
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- JP
- Japan
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- magnetic
- magnetic layer
- recording medium
- compd
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Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野1
本発明は磁気記録媒体に関し、詳しくは走行性、耐久性
および耐蝕性を改良した磁気記録媒体にする。
および耐蝕性を改良した磁気記録媒体にする。
[従来技術]
磁気テープ、磁気シートのような磁気記録媒体は、オー
ディオ分野やビデオ分野で広く使用されている。このよ
うな例えば磁気テープは、強磁性粉末をバインダーに分
散させた塗布型のものも使用されているが、最近高密度
記録に対する要望が高まるにつれてバインダーの分だけ
記録密度が小さくなるこの塗布型のものにかわって飽和
磁化が大きくしかもバインダーを必要としないで直接蒸
着、スパッタリング、イオンブレーティング等により支
持体上に強磁性金属薄膜を形成できる薄膜型磁気記録媒
体も多く使用されるようになってきた。
ディオ分野やビデオ分野で広く使用されている。このよ
うな例えば磁気テープは、強磁性粉末をバインダーに分
散させた塗布型のものも使用されているが、最近高密度
記録に対する要望が高まるにつれてバインダーの分だけ
記録密度が小さくなるこの塗布型のものにかわって飽和
磁化が大きくしかもバインダーを必要としないで直接蒸
着、スパッタリング、イオンブレーティング等により支
持体上に強磁性金属薄膜を形成できる薄膜型磁気記録媒
体も多く使用されるようになってきた。
上記塗布型および薄膜型の磁気記録媒体を利用する記録
、再生装置においては、これら装置の小型化、軽量化が
高密度化が最近の課題であり、それに伴ない、例えばオ
ーディオテープ関係では、コンパクトカセットの使用か
らマイクロカセットへの使用へと移行しつつあり、また
ビデオの分野では現行のVH3方式、β方式から8ミリ
ビデオ、電子°カメラへと移行しつつあって、いずれも
さらに小型化、高密度化が指向されているので、例えば
磁気テープについていえばそのテープ通路が複雑になっ
てきてガイドポールやガイドローラ等との接触する機会
も多くなってきている。従って、磁気テープに要求され
る走行性、耐久性および耐蝕性等の機械的性質、化学的
性質の一層の向上が望まれている。
、再生装置においては、これら装置の小型化、軽量化が
高密度化が最近の課題であり、それに伴ない、例えばオ
ーディオテープ関係では、コンパクトカセットの使用か
らマイクロカセットへの使用へと移行しつつあり、また
ビデオの分野では現行のVH3方式、β方式から8ミリ
ビデオ、電子°カメラへと移行しつつあって、いずれも
さらに小型化、高密度化が指向されているので、例えば
磁気テープについていえばそのテープ通路が複雑になっ
てきてガイドポールやガイドローラ等との接触する機会
も多くなってきている。従って、磁気テープに要求され
る走行性、耐久性および耐蝕性等の機械的性質、化学的
性質の一層の向上が望まれている。
[発明の目的]
本発明は上記の事情に鑑み為されたもので、本発明の目
的は、走行性を維持しつつ、耐久性および耐蝕性に優れ
た塗布型および薄膜型磁気記録媒体を提供することにあ
る。
的は、走行性を維持しつつ、耐久性および耐蝕性に優れ
た塗布型および薄膜型磁気記録媒体を提供することにあ
る。
[発明の構成]
本発明の上記目的は、支持体上に磁性層を有する磁気記
録媒体において、上記磁性層上にII価が5ma以下の
m8!l剤化合物を直接または間接的に付着させた磁気
記録媒体により達成される。
録媒体において、上記磁性層上にII価が5ma以下の
m8!l剤化合物を直接または間接的に付着させた磁気
記録媒体により達成される。
〔発明の具体的構成]
本発明においてII価とは、m1ft剤化合物1g中に
含まれる遊離脂肪酸を中和するのに必要な水酸化カリウ
ムのsg数で表わされるものであり、具体的には1ff
lWI剤化合物をベンゼン−エタノール混合溶媒、エー
テル−エタノール混合溶媒等の溶媒に溶解し、正確に力
価を求めた水酸化カリウム水溶液で滴下し、その中和量
から算出する値である。
含まれる遊離脂肪酸を中和するのに必要な水酸化カリウ
ムのsg数で表わされるものであり、具体的には1ff
lWI剤化合物をベンゼン−エタノール混合溶媒、エー
テル−エタノール混合溶媒等の溶媒に溶解し、正確に力
価を求めた水酸化カリウム水溶液で滴下し、その中和量
から算出する値である。
本発明に使用される酸価が5mg以下のaI8を剛化合
物としては、リン酸エステル(例えば、トリオクチルフ
ォスフエイト、トリラウリルフォスフエイト、トリセチ
ルフォスフエイト、トリオレイルフォスフエイト、トリ
ステアリルフォスフエイト等)、脂肪酸エステル(例え
ば、ブチルステアレイト、イソセチルステアレイト、イ
ソプロビルミリステイト、ブトキシエチルステアレイト
等)、脂肪ff!(例えば、ミリスチン酸、ラウリシ酸
、パルミチン酸、ステアリン酸等)、パーフルオロポリ
エーテル[例えば、クライトツクス143FS(L)
(デュポン社製)、フォンブリン2(モンテエジソン社
製)等]、シリコンオイル、脂肪酸アミド(例えば、ス
テアリン酸アミド、椰子酸アミド等)、脂肪酸アミドエ
ステル(例えば、ジステアリルアミノエステル等)、ハ
イドロカーボンオイル[例えば、スクアラン(日光ケミ
カルズ社製)、シンセラン(日光ケミカルズ社製)等J
、チタンカップリング剤(例えば、テトラステアリルチ
タネート、テトラ−n−ブチルチタネート等)、シラン
カップリング剤(例えば、CH38f (OCH3)
3、C2H5S i (OCxHq >3等)、ア
ルキルフォスファイト(例えば、トリステアリルフォス
ファイト、トリオレイルフォスファイト等)、アルキル
チオフォスフエイト(例えば、トリステアリルチオフォ
スフエイト等)等が挙げられる。
物としては、リン酸エステル(例えば、トリオクチルフ
ォスフエイト、トリラウリルフォスフエイト、トリセチ
ルフォスフエイト、トリオレイルフォスフエイト、トリ
ステアリルフォスフエイト等)、脂肪酸エステル(例え
ば、ブチルステアレイト、イソセチルステアレイト、イ
ソプロビルミリステイト、ブトキシエチルステアレイト
等)、脂肪ff!(例えば、ミリスチン酸、ラウリシ酸
、パルミチン酸、ステアリン酸等)、パーフルオロポリ
エーテル[例えば、クライトツクス143FS(L)
(デュポン社製)、フォンブリン2(モンテエジソン社
製)等]、シリコンオイル、脂肪酸アミド(例えば、ス
テアリン酸アミド、椰子酸アミド等)、脂肪酸アミドエ
ステル(例えば、ジステアリルアミノエステル等)、ハ
イドロカーボンオイル[例えば、スクアラン(日光ケミ
カルズ社製)、シンセラン(日光ケミカルズ社製)等J
、チタンカップリング剤(例えば、テトラステアリルチ
タネート、テトラ−n−ブチルチタネート等)、シラン
カップリング剤(例えば、CH38f (OCH3)
3、C2H5S i (OCxHq >3等)、ア
ルキルフォスファイト(例えば、トリステアリルフォス
ファイト、トリオレイルフォスファイト等)、アルキル
チオフォスフエイト(例えば、トリステアリルチオフォ
スフエイト等)等が挙げられる。
上記これらの潤滑剤化合物は単独でも用いられるが、2
種以上混合してもよい。
種以上混合してもよい。
これらの潤滑剤化合物のうち好ましく用いられるのは、
リン酸エステルである。
リン酸エステルである。
上記[1剤化合物の酸価を51g以下とするには種々の
方法が用いられるが、例えばアルカリを添加することに
より酸価を調整したり、あるいは酸価の大きい化合物と
小さい化合物を混合して、最終的に酸価が51CI以下
となるようにして用いることができる。
方法が用いられるが、例えばアルカリを添加することに
より酸価を調整したり、あるいは酸価の大きい化合物と
小さい化合物を混合して、最終的に酸価が51CI以下
となるようにして用いることができる。
本発明に用いられる潤滑剤化合物のamは5IC+以下
であれば本発明の目的を達成することができるが。、好
ましくは酸価が3〜0.001mgであり、より好まし
くは1〜0.01n+gの範囲である。
であれば本発明の目的を達成することができるが。、好
ましくは酸価が3〜0.001mgであり、より好まし
くは1〜0.01n+gの範囲である。
酸価が5moを越える潤滑剤化合物では、磁性層の耐久
性、耐触性が充分に得られず、さびやすい等の欠点が現
われる。
性、耐触性が充分に得られず、さびやすい等の欠点が現
われる。
本発明の酸価が51(l以下のrA′iIR剤化合物は
、磁性層上に直接または間接的に付着させる。ここで磁
性層上に直接または間接的に付着させるとは、磁性層上
に他のバインダー等の中間層を設け、その上に本発明の
潤滑剤化合物を付着させることを指し、この中間層は本
発明の前記潤滑剤化合物の他に、他のmm剤、防錆剤、
高分子等の併用に際し、溶解性、反応性等の問題により
、別の層として設けたほうがよい場合等に設けられるも
のである。この場合、中間層に用いられる他のrRWI
剤、防錆剤、高分子等の化合物は、本発明の潤滑剤化合
物と併用して、潤滑剤化合物の酸価が5ma以下となる
ものが好ましい。また、この中間層の膜厚は、50〜5
GOAの範囲が好ましい。 本発明の酸価が5■g以下
のrR?lt剤化合物の付着の態様は、任意であり、例
えば、本発明のm81剤化合物を全面付着させ、潤滑剤
の膜を形成させても、あるいは全面に付着させずにスプ
レー等により縞状に付着させてもよい。
、磁性層上に直接または間接的に付着させる。ここで磁
性層上に直接または間接的に付着させるとは、磁性層上
に他のバインダー等の中間層を設け、その上に本発明の
潤滑剤化合物を付着させることを指し、この中間層は本
発明の前記潤滑剤化合物の他に、他のmm剤、防錆剤、
高分子等の併用に際し、溶解性、反応性等の問題により
、別の層として設けたほうがよい場合等に設けられるも
のである。この場合、中間層に用いられる他のrRWI
剤、防錆剤、高分子等の化合物は、本発明の潤滑剤化合
物と併用して、潤滑剤化合物の酸価が5ma以下となる
ものが好ましい。また、この中間層の膜厚は、50〜5
GOAの範囲が好ましい。 本発明の酸価が5■g以下
のrR?lt剤化合物の付着の態様は、任意であり、例
えば、本発明のm81剤化合物を全面付着させ、潤滑剤
の膜を形成させても、あるいは全面に付着させずにスプ
レー等により縞状に付着させてもよい。
本発明に併用し得る他の潤滑剤化合物としては、ホウ酸
エステル、ソルビタンエステル等が挙げられる。また、
本発明に併用し得る防錆剤としては、ベンゾチアゾール
、ベンゾトリアゾール、フェノールエーテル等が挙げら
れる。本発明に併用し得る高分子としては、ポリウレタ
ン、ポリ塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリエステ
ル、フェノキシ樹脂等が挙げられる。
エステル、ソルビタンエステル等が挙げられる。また、
本発明に併用し得る防錆剤としては、ベンゾチアゾール
、ベンゾトリアゾール、フェノールエーテル等が挙げら
れる。本発明に併用し得る高分子としては、ポリウレタ
ン、ポリ塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリエステ
ル、フェノキシ樹脂等が挙げられる。
本発明のgIWI剤化合物化合物常、有機W1g1Kに
溶解もしくは分散して塗布液を調製して、この塗布液を
磁性層上に直接または間接的に塗布することにより、m
w剤化合物の層を形成するこができる。
溶解もしくは分散して塗布液を調製して、この塗布液を
磁性層上に直接または間接的に塗布することにより、m
w剤化合物の層を形成するこができる。
さらに適当な条件で反応成分を磁性層上または中間層を
介した層の表面に供給して、前記潤滑剤化合物を生成さ
せるようにしてaIW4剤化合物化合物形成することも
できる。
介した層の表面に供給して、前記潤滑剤化合物を生成さ
せるようにしてaIW4剤化合物化合物形成することも
できる。
本発明のrR潤滑剤化合物磁性層上への付着層は0.0
001〜1iJ/sが好ましく、より好ましくはo、o
oi〜0,10 /I!lの範囲であり、潤滑剤化合物
の膜厚は50〜500Aが好ましく、より好ましくは1
00〜300Aである。l!2I渭剤化合剤化合物1g
77mを越えたり、膜厚が50OAを越えるとスペーシ
ングロスが大きくなり、0.0001!It/ !Wよ
り少ないか、lI厚が50Aより薄いと、潤滑剤として
の効果が少なくなる。
001〜1iJ/sが好ましく、より好ましくはo、o
oi〜0,10 /I!lの範囲であり、潤滑剤化合物
の膜厚は50〜500Aが好ましく、より好ましくは1
00〜300Aである。l!2I渭剤化合剤化合物1g
77mを越えたり、膜厚が50OAを越えるとスペーシ
ングロスが大きくなり、0.0001!It/ !Wよ
り少ないか、lI厚が50Aより薄いと、潤滑剤として
の効果が少なくなる。
raWI剤化合物化合物もしくは分散するための有II
媒としては、トルエン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、テトラヒドロフラン、メタノール、エ
タノール、イソプロパツール、n−プロパツール、n−
ブタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、キ
シレン、ベンゼン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン
、ジクロロジフルオロメタン、トリクロロトリフルオロ
エタン、アセトン、酢酸エチル、エチレングリコール等
の単独または2種以上の混合溶媒等が挙げられる。
媒としては、トルエン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、テトラヒドロフラン、メタノール、エ
タノール、イソプロパツール、n−プロパツール、n−
ブタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、キ
シレン、ベンゼン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン
、ジクロロジフルオロメタン、トリクロロトリフルオロ
エタン、アセトン、酢酸エチル、エチレングリコール等
の単独または2種以上の混合溶媒等が挙げられる。
本発明の潤滑剤化合物を溶解もしくは分散した溶液を磁
性層上に直接または前記中間層を介してs4するには、
前記溶液に磁性層もしくは前記中間層を設けた磁性層を
浸漬するディッピング方式、前記溶液を磁性層上もしく
は前記中間層上に塗設するリバースロール方式、エクス
トルージョン方式、ドクターブレード方式、グラビア印
刷方式、スプレ一方式等が任意に用いられることができ
、これらにより塗設された塗膜は当業界で用いられる任
意の方法により乾燥される。
性層上に直接または前記中間層を介してs4するには、
前記溶液に磁性層もしくは前記中間層を設けた磁性層を
浸漬するディッピング方式、前記溶液を磁性層上もしく
は前記中間層上に塗設するリバースロール方式、エクス
トルージョン方式、ドクターブレード方式、グラビア印
刷方式、スプレ一方式等が任意に用いられることができ
、これらにより塗設された塗膜は当業界で用いられる任
意の方法により乾燥される。
本発明の潤滑剤化合物が直接または間接的に付着される
磁性層材料としては、塗布型、1lll型磁性層材料の
どちらでも用いることができ、塗布型磁性層材料として
は、例えば、γ−F e203、CO含有7−Fe2O
う、Co被着7−Fe、03、Fe3O4、Go含有F
e304 、(Cr 02等の酸化物磁性粉、Fe
、 Ni 、Go 、 Fe −Nl −C。
磁性層材料としては、塗布型、1lll型磁性層材料の
どちらでも用いることができ、塗布型磁性層材料として
は、例えば、γ−F e203、CO含有7−Fe2O
う、Co被着7−Fe、03、Fe3O4、Go含有F
e304 、(Cr 02等の酸化物磁性粉、Fe
、 Ni 、Go 、 Fe −Nl −C。
合金、Fe −Mn−Zn合金、Fe −Ni −Zn
合金、Fe −Go −Ni−Cr合金、Fe −G。
合金、Fe −Go −Ni−Cr合金、Fe −G。
−Ni−P合金、Go−Ni合金等Fe1Nl、COを
主成分とするメタル磁性粉等各種の強磁性粉磁性材料が
挙げられる。
主成分とするメタル磁性粉等各種の強磁性粉磁性材料が
挙げられる。
薄膜型磁性層材料としては、例えばFe、Ni。
CO等の金属あるいはFe −Go 、F13−Ni、
Go −Ni 、 Fe −Co −Ni
、 Fe −R11、Fe −Cu 、Go
−Cu 、Go −Au 、Go −Y。
Go −Ni 、 Fe −Co −Ni
、 Fe −R11、Fe −Cu 、Go
−Cu 、Go −Au 、Go −Y。
Qo−1a、co−Pr、Co −Qd % Q
o −8l 、Go −pt 、 Nr −
cu 、 Mn −s+ 、Mn−8b、Mn
−A/、Fe−Cr、 Go −Cr、Ni −
Cr 、Fe −CO−Cr、 l:6 −c
o −Ni−Cr等のような強磁性合金を真空蒸着等に
よって薄膜状に形成したものが用いられる。
o −8l 、Go −pt 、 Nr −
cu 、 Mn −s+ 、Mn−8b、Mn
−A/、Fe−Cr、 Go −Cr、Ni −
Cr 、Fe −CO−Cr、 l:6 −c
o −Ni−Cr等のような強磁性合金を真空蒸着等に
よって薄膜状に形成したものが用いられる。
また、蒸着時に酸素を導入することは好ましい態様であ
る。これらの薄膜型の磁性層の形成方法に特に限定はな
く、真空蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング
等の方法、さらに詳しくは、所謂、斜め蒸着等の方法が
任意に用いることができる。薄膜型の磁気記録媒体の磁
性層の膜厚としては500〜3000Aが好ましく用い
られる。
る。これらの薄膜型の磁性層の形成方法に特に限定はな
く、真空蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング
等の方法、さらに詳しくは、所謂、斜め蒸着等の方法が
任意に用いることができる。薄膜型の磁気記録媒体の磁
性層の膜厚としては500〜3000Aが好ましく用い
られる。
本発明の磁気記録媒体において、磁性層が薄膜型である
場合に、特に耐蝕性、耐久性が良好に改良される。
場合に、特に耐蝕性、耐久性が良好に改良される。
[発明の具体的効果]
以上説明した如く、本発明の磁気記録媒体においては、
磁性層上に酸価が51(l以下の潤滑剤化合物を直接ま
たは間接的に付着させることにより、耐蝕性が大幅に改
善され、耐久性および走行性も改善された。
磁性層上に酸価が51(l以下の潤滑剤化合物を直接ま
たは間接的に付着させることにより、耐蝕性が大幅に改
善され、耐久性および走行性も改善された。
[発明の具体的実施例]
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発
明の実施の態様はこれらに限定されるものではない。
明の実施の態様はこれらに限定されるものではない。
実施例1
膜厚12μmのポリエチレンテレフタレート上にCo
−Ni (Ni 20重量%)を厚さ1000Aに蒸
着して金属薄膜層を形成した。この金属薄膜上に下記に
示す種々の酸価を有するトリセチルフォスフエイトをト
ルエンとエチルセロソルブ(!量比−90: 10)の
混合溶媒に0.15重1%になるように溶解した溶液を
リバースロールコータ−で塗布し、乾燥膜厚200Aの
潤滑剤化合物を付着させた。
−Ni (Ni 20重量%)を厚さ1000Aに蒸
着して金属薄膜層を形成した。この金属薄膜上に下記に
示す種々の酸価を有するトリセチルフォスフエイトをト
ルエンとエチルセロソルブ(!量比−90: 10)の
混合溶媒に0.15重1%になるように溶解した溶液を
リバースロールコータ−で塗布し、乾燥膜厚200Aの
潤滑剤化合物を付着させた。
試料番号 潤滑剤化合物の酸価(mg)60.5
70.2
上記で得られた各試料を1/2インチ幅にスリットして
各磁気テープ試料とした。
各磁気テープ試料とした。
これらの磁気テープ試料をカセットに詰めてデツキにか
けて走行性、スチル耐久性および繰り返し再生寿命を測
定した。また、温度60℃、相対湿度80%の環境下に
1週間放置して、その間における残留磁化の減少を調べ
た。結果を表1に示す。ここで、摩擦係数は動摩擦係数
と静摩擦係数を調べた。この摩擦係数の測定は回転ドラ
ム型表面性測定器(新束化学株式会社製)を用い、4I
l111直径のロッドで荷130g、回転数66.9r
pmで測定した。また、走行性は松下電器産業株式会社
製N V −8200にて録画・再生状況を目視観察し
、スチル耐久性は松下電器産業株式会社製N V −6
200においてテープの走行を停止し、画像が消えるま
での時間を測定した。また、繰り返し耐久性は日本ビク
ター株式会社製HR−7100にて画像が消える迄の繰
り返し再生回数を測定した。なお、上記測定は温度20
℃、相対湿度60%の状態で行なった。
けて走行性、スチル耐久性および繰り返し再生寿命を測
定した。また、温度60℃、相対湿度80%の環境下に
1週間放置して、その間における残留磁化の減少を調べ
た。結果を表1に示す。ここで、摩擦係数は動摩擦係数
と静摩擦係数を調べた。この摩擦係数の測定は回転ドラ
ム型表面性測定器(新束化学株式会社製)を用い、4I
l111直径のロッドで荷130g、回転数66.9r
pmで測定した。また、走行性は松下電器産業株式会社
製N V −8200にて録画・再生状況を目視観察し
、スチル耐久性は松下電器産業株式会社製N V −6
200においてテープの走行を停止し、画像が消えるま
での時間を測定した。また、繰り返し耐久性は日本ビク
ター株式会社製HR−7100にて画像が消える迄の繰
り返し再生回数を測定した。なお、上記測定は温度20
℃、相対湿度60%の状態で行なった。
なお、表中スキューとは画像の上縁または下縁のゆがみ
の大きさを示す。
の大きさを示す。
以下余白
表 1
表1の結果から明らかなように、酸価が5mg以下の潤
滑剤化合物を用いた本発明の磁気テープ試料(No、3
〜7)は、比較試料<No、1および2)に比゛べて、
rfl擦係数が小さく、画像の乱れ、ゆがみも小さく走
行性に優れ、さらに、耐蝕性に優れていることがわかる
。
滑剤化合物を用いた本発明の磁気テープ試料(No、3
〜7)は、比較試料<No、1および2)に比゛べて、
rfl擦係数が小さく、画像の乱れ、ゆがみも小さく走
行性に優れ、さらに、耐蝕性に優れていることがわかる
。
実施例2
実施例1の各試料において、金属薄膜を形成した後、ト
リセチルフォスフエイト溶液を塗布する前に、以下に示
す組成の高分子溶液を塗布、乾燥して中間層を設けた以
外は同様にして磁気テープ試料N008〜14を得た。
リセチルフォスフエイト溶液を塗布する前に、以下に示
す組成の高分子溶液を塗布、乾燥して中間層を設けた以
外は同様にして磁気テープ試料N008〜14を得た。
[高分子溶液組成]
ポリウレタン(ニスタン5701゜
グツドリッチ社製) 111部ポリイ
ソシアネート(コロネートし。
ソシアネート(コロネートし。
日本ポリウレタン社製)0.5重量部
シクロへキサノン 500重量部上記
で得た試料について、実施例1と同様にして磁気テープ
特性を調べた。結果を表2に示す。
で得た試料について、実施例1と同様にして磁気テープ
特性を調べた。結果を表2に示す。
表 2
表2の結果から明らかなように、酸価が51B以下の潤
滑剤化合物を用いた本発明の磁気テープ試料(No、1
0〜14)は、比較試料(No、8および9)に比べて
、摩擦係数が小さく、画像の乱れ、ゆがみも小さく走行
性に優れ、スチル耐久性、繰り返し耐久性に優れ、ざら
に、耐蝕性に優れていることがわかる。また、中間層を
設けることにより、耐蝕性、耐久性が若干向上する。
滑剤化合物を用いた本発明の磁気テープ試料(No、1
0〜14)は、比較試料(No、8および9)に比べて
、摩擦係数が小さく、画像の乱れ、ゆがみも小さく走行
性に優れ、スチル耐久性、繰り返し耐久性に優れ、ざら
に、耐蝕性に優れていることがわかる。また、中間層を
設けることにより、耐蝕性、耐久性が若干向上する。
実施例3
膜厚12μ曽のポリエチレンテレフタレート上にGo
−Ni (Ni 20Ii量%)を厚さ1000Aに
蒸暑して金属薄膜層を形成した。この金属薄膜上に下記
に示す種々酸価を有するトリラウリルフォスフエイトを
トルエンとエチルセロソルブ(重層化−90:10)の
混合溶媒に0.11重量%になるように溶解した溶液を
リバースロールコータ−で塗布し、乾燥膜厚200Aの
mm剤化合物を付着させた。
−Ni (Ni 20Ii量%)を厚さ1000Aに
蒸暑して金属薄膜層を形成した。この金属薄膜上に下記
に示す種々酸価を有するトリラウリルフォスフエイトを
トルエンとエチルセロソルブ(重層化−90:10)の
混合溶媒に0.11重量%になるように溶解した溶液を
リバースロールコータ−で塗布し、乾燥膜厚200Aの
mm剤化合物を付着させた。
以下余白
試料番号 11811剤化合物の酸価(Ilg)20
0.6 21 0.3 上記で得られた各試料を実施例1と同様にして処理し、
各磁気記録特性も実施例1と同様にして測定した。結果
を表3に示す。
0.6 21 0.3 上記で得られた各試料を実施例1と同様にして処理し、
各磁気記録特性も実施例1と同様にして測定した。結果
を表3に示す。
以下余白
表3
表3の結果から明らかなように、酸価が5a+a以下の
3!清副剤化物を用いた本発明の磁気テープ試料(NO
,17〜21)は、比較試料(No、15および16)
に比べて、*擦係数が小さく、!i像の乱れ、ゆがみも
小さく走行性に優れ、さらに、耐蝕性に優れていること
がわかる。
3!清副剤化物を用いた本発明の磁気テープ試料(NO
,17〜21)は、比較試料(No、15および16)
に比べて、*擦係数が小さく、!i像の乱れ、ゆがみも
小さく走行性に優れ、さらに、耐蝕性に優れていること
がわかる。
実施例4
膜厚12μ−のポリエチレンテレフタレート上にGO−
Ni (Ni 20重量%)を厚さ100OAに蒸着
して金jI′IalI層を形成した。この金属薄膜上に
下記に示す種々酸価を有するイソセチルステアレルイト
をメチルイソブチルケトンに0.17重量%になるよう
に溶解した溶液をリバースロールコータ−で塗布し、乾
燥膜厚200Aのl181N剤化合物を付着させた。
Ni (Ni 20重量%)を厚さ100OAに蒸着
して金jI′IalI層を形成した。この金属薄膜上に
下記に示す種々酸価を有するイソセチルステアレルイト
をメチルイソブチルケトンに0.17重量%になるよう
に溶解した溶液をリバースロールコータ−で塗布し、乾
燥膜厚200Aのl181N剤化合物を付着させた。
以下余白
試料番号 潤滑剤化合物の酸価(a+C+)24
4.5 26 1゜0 27 0.5 28 0.2 上記で得られた各試料を実施例1と同様にして処理し、
各磁気記録特性も実施例1と同様にして測定した。結果
を表・4に示す。
4.5 26 1゜0 27 0.5 28 0.2 上記で得られた各試料を実施例1と同様にして処理し、
各磁気記録特性も実施例1と同様にして測定した。結果
を表・4に示す。
以下余白
表4
表4の結果から明らかなように、酸価が51以下の潤滑
剤化合物を用いた本発明の磁気テープ試料(No、24
〜28)は、比較試料(No、22および23)に比べ
て、rIIWI係数が小さく、画像の乱れ、ゆがみも小
さく走行性に優れ、さらに、耐蝕性に優れていることが
わかる。
剤化合物を用いた本発明の磁気テープ試料(No、24
〜28)は、比較試料(No、22および23)に比べ
て、rIIWI係数が小さく、画像の乱れ、ゆがみも小
さく走行性に優れ、さらに、耐蝕性に優れていることが
わかる。
実施例5
膜厚12μ喝のポリエチレンテレフタレート上につぎに
示す組成および製造方法によって製造された磁性塗布液
を塗布し、乾燥して磁性層を形成した。乾燥後の膜厚さ
は5μlであった。
示す組成および製造方法によって製造された磁性塗布液
を塗布し、乾燥して磁性層を形成した。乾燥後の膜厚さ
は5μlであった。
[v!i性塗布液組成]
金属磁性粉 100重量部レシチン
4.5重量部ポリウレタン
81量部フェノキシ樹脂
3重量部シクロへキサノン 22
0!量部テトラヒドロフラン 40重量部
この混合物をサンドミルにて2000rpmで10時間
分散した。
4.5重量部ポリウレタン
81量部フェノキシ樹脂
3重量部シクロへキサノン 22
0!量部テトラヒドロフラン 40重量部
この混合物をサンドミルにて2000rpmで10時間
分散した。
このようにして製造した塗布型磁性層上に下記に示す種
々の酸価を有するトリセチルフォスフエイトをトルエン
とエチルセロソルブ11比=90 : 10)の混合溶
媒に0.17重量%になるように溶解した溶液をリバー
スロールコータ−で塗布し、乾燥膜厚200Aの潤滑剤
化合物を付着させた。
々の酸価を有するトリセチルフォスフエイトをトルエン
とエチルセロソルブ11比=90 : 10)の混合溶
媒に0.17重量%になるように溶解した溶液をリバー
スロールコータ−で塗布し、乾燥膜厚200Aの潤滑剤
化合物を付着させた。
試料番号 11!I8を期化合物のam<層Q)34
0.5 35 0.2 上記で得られた各試料を実施例1と同様にして処理し、
各磁気記録特性も実施例1と同様にして測定した。結果
を表5に示す。
0.5 35 0.2 上記で得られた各試料を実施例1と同様にして処理し、
各磁気記録特性も実施例1と同様にして測定した。結果
を表5に示す。
表5
表5の結果から明らかなように、酸価が5μl1g以下
の潤滑剤化合物を用いた本発明の磁気テープ試料(No
、31〜35)は、比較試料(No、29および30)
に比べて、摩擦係数が小さく、画像の乱れ、ゆがみも小
さく走行性に優れ、ざらに、スチル耐久性、耐蝕性に優
れていることがわかる。
の潤滑剤化合物を用いた本発明の磁気テープ試料(No
、31〜35)は、比較試料(No、29および30)
に比べて、摩擦係数が小さく、画像の乱れ、ゆがみも小
さく走行性に優れ、ざらに、スチル耐久性、耐蝕性に優
れていることがわかる。
特許出願人 小西六写真工業株式会社手続補正書(旺
〕 昭和61年02月07日 昭和59年特許願 MIJ254424号2゜発明の名
称 磁気記録媒体 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都新宿区西新宿1丁目26番2号名称 (1
27) 小西六写真工業株式会社代表取締役 井
手 恵生 4、代理人 〒102 住所 東京都千代田区九段北4丁目1番1号九段−ロ坂
ビル電話263−9524 明細書の「3、発明の詳細な説明」の欄6、補正の内容 明細書第1頁15打目の「磁気テープ、磁気シートのよ
うな・・・」とあるところを「磁気テープ、磁気ディス
ク、磁気シートのような・・・」と補正する。
〕 昭和61年02月07日 昭和59年特許願 MIJ254424号2゜発明の名
称 磁気記録媒体 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都新宿区西新宿1丁目26番2号名称 (1
27) 小西六写真工業株式会社代表取締役 井
手 恵生 4、代理人 〒102 住所 東京都千代田区九段北4丁目1番1号九段−ロ坂
ビル電話263−9524 明細書の「3、発明の詳細な説明」の欄6、補正の内容 明細書第1頁15打目の「磁気テープ、磁気シートのよ
うな・・・」とあるところを「磁気テープ、磁気ディス
ク、磁気シートのような・・・」と補正する。
Jスニ
Claims (1)
- 支持体上に磁性層を有する磁気記録媒体において、上記
磁性層上に酸価が5mg以下の潤滑剤化合物を直接また
は間接的に付着させたことを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25442484A JPS61160826A (ja) | 1984-12-01 | 1984-12-01 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25442484A JPS61160826A (ja) | 1984-12-01 | 1984-12-01 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61160826A true JPS61160826A (ja) | 1986-07-21 |
Family
ID=17264785
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25442484A Pending JPS61160826A (ja) | 1984-12-01 | 1984-12-01 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61160826A (ja) |
-
1984
- 1984-12-01 JP JP25442484A patent/JPS61160826A/ja active Pending
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