JPH01290117A - 磁気記録媒体、ヘッド及びそれを用いた磁気記録装置 - Google Patents
磁気記録媒体、ヘッド及びそれを用いた磁気記録装置Info
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- JPH01290117A JPH01290117A JP11812788A JP11812788A JPH01290117A JP H01290117 A JPH01290117 A JP H01290117A JP 11812788 A JP11812788 A JP 11812788A JP 11812788 A JP11812788 A JP 11812788A JP H01290117 A JPH01290117 A JP H01290117A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔韮莱上の利用分野〕
本発明は磁気記録媒体、ヘッド及びそれを用いた磁気記
録装置に係ゎり、特に耐久性に優れた保護膜を表面に持
つ磁気記録媒体、ヘッドと、それを用い友信和性の藁い
磁気記録装置に関する。
録装置に係ゎり、特に耐久性に優れた保護膜を表面に持
つ磁気記録媒体、ヘッドと、それを用い友信和性の藁い
磁気記録装置に関する。
磁気ディスクは、大容量の情報記憶再生装置用に多くの
分野に適用されている。これら磁気ディスクは、いずれ
も記録容量の増大が期待されていると同時に、長時間の
動作に酎え得る信頼性が要求式れている。特に、画記録
密度を必要とするディスクにに磁気記録密度の高い薄膜
&1%注媒体型の磁気ディスクが適用されている。しか
し、記憶容置の増大に、ヘッドとディスク間の間隔が狭
くなシ皮触摺動する確率が爾くなる等、薄膜磁性媒体型
では必然的に摺動条件が苛酷になる方向にあり、摺動耐
久性の向上は不可欠の要素でるる。現状で扛十分な耐久
性のある薄膜a性媒体型磁気ディスクは得られていない
。
分野に適用されている。これら磁気ディスクは、いずれ
も記録容量の増大が期待されていると同時に、長時間の
動作に酎え得る信頼性が要求式れている。特に、画記録
密度を必要とするディスクにに磁気記録密度の高い薄膜
&1%注媒体型の磁気ディスクが適用されている。しか
し、記憶容置の増大に、ヘッドとディスク間の間隔が狭
くなシ皮触摺動する確率が爾くなる等、薄膜磁性媒体型
では必然的に摺動条件が苛酷になる方向にあり、摺動耐
久性の向上は不可欠の要素でるる。現状で扛十分な耐久
性のある薄膜a性媒体型磁気ディスクは得られていない
。
現在、耐久g、ヲ同上させる次めに行われている技術は
、@滑剤の助けを借シて摺動時の摩擦、摩耗を低減させ
る手法である。一般的な方法としては、潤滑性の19優
れ次フッ素系潤滑剤〔デュポン社:クライトックス14
3、モンテフルオス(Monte fluoue )
社:ホンプリンY)1B気ディスク表面に単に塗布す
る方法(米国’[F第5490946号、同第5778
508号)がある。
、@滑剤の助けを借シて摺動時の摩擦、摩耗を低減させ
る手法である。一般的な方法としては、潤滑性の19優
れ次フッ素系潤滑剤〔デュポン社:クライトックス14
3、モンテフルオス(Monte fluoue )
社:ホンプリンY)1B気ディスク表面に単に塗布す
る方法(米国’[F第5490946号、同第5778
508号)がある。
ところが、この方法は初期には非常に有効であるが長期
間使用すると、ディスクが高速回転で運転されているた
め、潤滑剤はディスク表面から次第に脱落し、潤滑効果
が減少してしまうという欠点がるる。
間使用すると、ディスクが高速回転で運転されているた
め、潤滑剤はディスク表面から次第に脱落し、潤滑効果
が減少してしまうという欠点がるる。
一方、磁気デスク表面への散層性を高めたフッ素系界面
活性剤の塗布という手法が提案されている。(特開昭5
9−116951号、向58−414S1号、同58−
29147号、向57−154Sf9号、同57−44
226号)。まfc4磁気ディスク表面へフッ素系61
清剤を化学的に固足する方法が米国特許第412099
5号明細書、特開昭54−56171号、同59−20
3259号、同60−58750号、1町59−172
159号、同61−59919号各公報で提案されてい
る。
活性剤の塗布という手法が提案されている。(特開昭5
9−116951号、向58−414S1号、同58−
29147号、向57−154Sf9号、同57−44
226号)。まfc4磁気ディスク表面へフッ素系61
清剤を化学的に固足する方法が米国特許第412099
5号明細書、特開昭54−56171号、同59−20
3259号、同60−58750号、1町59−172
159号、同61−59919号各公報で提案されてい
る。
これは下記一般式で表される化合物でろる:CnFH1
+1−81Xs (式中、n = 4〜15、Xはハロゲン、ニトリル及
びアルコキシグループン 又に4特開昭60−109028号、同6O−1017
j7号、同60−246020号各公報で提案されてい
るリン版系かめる。これは下記−般式で表される化合物
: Rf−P(0)−(ORル (式中、Rfはバーフルオロア” キ” Ik % R
hCZH2Z+l でm u 2〜5、zuO〜5ン
であり、ディスク表面の金kI4膜、めるいは酸化膜樅
面に反応して同層するタイプの潤滑剤である。
+1−81Xs (式中、n = 4〜15、Xはハロゲン、ニトリル及
びアルコキシグループン 又に4特開昭60−109028号、同6O−1017
j7号、同60−246020号各公報で提案されてい
るリン版系かめる。これは下記−般式で表される化合物
: Rf−P(0)−(ORル (式中、Rfはバーフルオロア” キ” Ik % R
hCZH2Z+l でm u 2〜5、zuO〜5ン
であり、ディスク表面の金kI4膜、めるいは酸化膜樅
面に反応して同層するタイプの潤滑剤である。
前記一般式で表されるフッ素系表向活性剤を磁気ディス
ク表面に塗布する方法では、7ツ索糸界而活性剤は強固
に表面に向足されないため、摺動時に摺動面工υ飛散し
てしまい、磁気ディスクの耐久性は充分に向上せず記憶
装置の耐久性は向上しない。
ク表面に塗布する方法では、7ツ索糸界而活性剤は強固
に表面に向足されないため、摺動時に摺動面工υ飛散し
てしまい、磁気ディスクの耐久性は充分に向上せず記憶
装置の耐久性は向上しない。
米国特許第4120995号明細書、特開昭54−56
171号、(WJ59−205259号、同6〇−58
750号、同59−172159号、同61−5991
9号各公報に記載の方法は潤滑剤t−磁気ディスク表面
に化学反応でfind足してしまうため、摺動面から脱
離しに<<、かなりの耐久性の向上が期待されるが、反
応が困難な上、均質な反応膜が得にくい欠点があり、実
際には適用が非常に困難である。また、フッ索鎖の鎖長
がいずれも炭素数12以下と小さすぎてI%Il’l効
来がろ鷹シ艮好でなく、磁気記録媒体の耐久性は充分に
向上しないOこのように従来のフッ素糸界面活性剤及び
フッ素糸潤滑剤でに磁気ディスクの耐久性μろま夛向上
せず、また、フッ素系潤滑剤を化学的に表面に結合させ
る方@は実用性に乏しい。
171号、(WJ59−205259号、同6〇−58
750号、同59−172159号、同61−5991
9号各公報に記載の方法は潤滑剤t−磁気ディスク表面
に化学反応でfind足してしまうため、摺動面から脱
離しに<<、かなりの耐久性の向上が期待されるが、反
応が困難な上、均質な反応膜が得にくい欠点があり、実
際には適用が非常に困難である。また、フッ索鎖の鎖長
がいずれも炭素数12以下と小さすぎてI%Il’l効
来がろ鷹シ艮好でなく、磁気記録媒体の耐久性は充分に
向上しないOこのように従来のフッ素糸界面活性剤及び
フッ素糸潤滑剤でに磁気ディスクの耐久性μろま夛向上
せず、また、フッ素系潤滑剤を化学的に表面に結合させ
る方@は実用性に乏しい。
本発明の目的は、これら従来技術の問題点t−解決した
磁気記録媒体、ヘッド及びそれを用いた磁気記録装fi
t全提供することにある。
磁気記録媒体、ヘッド及びそれを用いた磁気記録装fi
t全提供することにある。
本発明t−概説すれば、本発明の第1の発明な磁気記録
媒体に関する発明であって、非IIB性基材の表面に薄
膜の(a注ノーが形成され、該磁1!!層上に、有機薄
膜から戚る保護層が形成されfca気記像記録媒体いて
、該有機薄膜は浮式100 nm以下で、その中に粒径
50 nm以下のフィラーを含有していることt−特徴
とする。
媒体に関する発明であって、非IIB性基材の表面に薄
膜の(a注ノーが形成され、該磁1!!層上に、有機薄
膜から戚る保護層が形成されfca気記像記録媒体いて
、該有機薄膜は浮式100 nm以下で、その中に粒径
50 nm以下のフィラーを含有していることt−特徴
とする。
また、本発明の第2の発明は磁気記録媒体に関する発明
でろって、第1の発明における有機薄膜表面が、下記一
般式: F(CmFa−0−)ニーC3F4− 又はF(C3
F、−0−)ニー(CFaO)y−(CFx)z−又は
−(Cz F4−0− )y −(CFz O) z
−CF鵞−(式中b Xb ’!s Mは1以上の整
数を示す)で表されるフッ素糸化合物で被覆されている
ことを特徴とする。
でろって、第1の発明における有機薄膜表面が、下記一
般式: F(CmFa−0−)ニーC3F4− 又はF(C3
F、−0−)ニー(CFaO)y−(CFx)z−又は
−(Cz F4−0− )y −(CFz O) z
−CF鵞−(式中b Xb ’!s Mは1以上の整
数を示す)で表されるフッ素糸化合物で被覆されている
ことを特徴とする。
そして、本発明の第5の発明に磁気記録装置に関する発
明でbつで、第1又は第2の発明の磁気記録媒体とヘッ
ドとの組合せからなること全特徴とする。
明でbつで、第1又は第2の発明の磁気記録媒体とヘッ
ドとの組合せからなること全特徴とする。
本発明は、ディスク表面に1100n 以下の薄膜の保
護層を構築する方法に関するもので、この薄膜の保護層
を信頼性の高いものにする友Jo、 50nm 以下の
フィラー、特に無機フィラーを含有させることが特徴で
るり、更にヘッド側に潤滑剤を固定した薄膜を成膜する
ことにLす、信頼性の高い磁気記録装置を完成すること
におる。
護層を構築する方法に関するもので、この薄膜の保護層
を信頼性の高いものにする友Jo、 50nm 以下の
フィラー、特に無機フィラーを含有させることが特徴で
るり、更にヘッド側に潤滑剤を固定した薄膜を成膜する
ことにLす、信頼性の高い磁気記録装置を完成すること
におる。
以下に、本発明の詳細な説明する。
本発明は、ヘッドと磁気記録媒体が摺動に工っで起るク
ラッシュからヘッド及び磁気記録媒体を保護するために
、(a性1mの表面に厚さ100 nm以下の有機薄膜
から成る保護層を形成し、該有機薄膜表面又は、ヘッド
表面の潤滑薄膜にフッ素糸化合物又は、パーフルオロポ
リオキシアルキレングループをt有させる。わるいは該
有機薄膜中、又は更に該潤滑薄膜中に50 nm 以下
のフィラー全分散させることによって目的を達したもの
である0 磁気記録媒体、ヘッドの摺動耐久性を高めるには摩擦係
数を小δく、摩耗速度を小さくし得る潤滑剤を表面に介
在させる必要がめυ、従来技術で提案されて@次反応型
のフッ素糸@清剤な、その有効な手段と考えられてさた
。しかし、摺動耐久性が不十分であることと、固定方法
が非常に峻しいことから、本発明では、磁気記録媒体の
表面に有機薄膜から成る保護層を形成し、該有機薄膜中
に50 nm 以下のフィラー、符に無機フィラーを分
散し、該有機薄膜中及び/又は、ヘッド側の潤滑薄膜に
フッ素系の潤滑剤ろるいはパーフルオロポリオキシアル
キレングループと非フッ素含有グループを結合した構造
の潤滑剤を含有させることによって、磁気ディスクに高
速で接触し合うヘッドと磁気記録媒体全保護する万@を
考え几ものでめるO 本発明で言う無機フィラーは、セラミックス系のAt2
0..810.、TlO2等である。粒径が50 nm
以下の粒子は、レリえは日本アエロジル(株)のIRO
B IL −200、AEROBIL−R974、Al
unini un0zicLe C、Titanium
Dioxde P25 等がめる。
ラッシュからヘッド及び磁気記録媒体を保護するために
、(a性1mの表面に厚さ100 nm以下の有機薄膜
から成る保護層を形成し、該有機薄膜表面又は、ヘッド
表面の潤滑薄膜にフッ素糸化合物又は、パーフルオロポ
リオキシアルキレングループをt有させる。わるいは該
有機薄膜中、又は更に該潤滑薄膜中に50 nm 以下
のフィラー全分散させることによって目的を達したもの
である0 磁気記録媒体、ヘッドの摺動耐久性を高めるには摩擦係
数を小δく、摩耗速度を小さくし得る潤滑剤を表面に介
在させる必要がめυ、従来技術で提案されて@次反応型
のフッ素糸@清剤な、その有効な手段と考えられてさた
。しかし、摺動耐久性が不十分であることと、固定方法
が非常に峻しいことから、本発明では、磁気記録媒体の
表面に有機薄膜から成る保護層を形成し、該有機薄膜中
に50 nm 以下のフィラー、符に無機フィラーを分
散し、該有機薄膜中及び/又は、ヘッド側の潤滑薄膜に
フッ素系の潤滑剤ろるいはパーフルオロポリオキシアル
キレングループと非フッ素含有グループを結合した構造
の潤滑剤を含有させることによって、磁気ディスクに高
速で接触し合うヘッドと磁気記録媒体全保護する万@を
考え几ものでめるO 本発明で言う無機フィラーは、セラミックス系のAt2
0..810.、TlO2等である。粒径が50 nm
以下の粒子は、レリえは日本アエロジル(株)のIRO
B IL −200、AEROBIL−R974、Al
unini un0zicLe C、Titanium
Dioxde P25 等がめる。
有機塗膜への含量は11〜30重量−の範囲が良く、望
ましくは5〜20g電チが良い。無機フィラーに非常に
微細なため一久粒子に均質に分散して塗膜全作製するこ
とが難しく、各種カップリング剤を用いるか、良くせん
断し分散させてもよいO カンプリング剤に、有機官能基としてエポキシ基、ある
いはアミン基1krjつ、チッソ((社)製の商品名“
サイラエース”5510.8520,8550.8S1
1.8520,831%が有効な分散剤でろる0本発明
で言う該有機薄膜を被榎するフッ素糸化合物はパーフル
オロ化ポリオキシ−アルキル(又は−アルキレン)基で
1例としては下記一般式%式% F(C3F、−0−)ニー(CF、O,)アー(CFz
)z−又は−CC*FaO)アー(CF20)N−CF
クー(式中hXh 1%2は1以上の整数、望ましくは
、Xは5以上、71)10〜25、ffi[10〜56
)で示ちれるものを挙げることができる。これらのフッ
素化合物の?iJは、デュポン社から市販されているク
ライトツクス143あるいは、モンテフルオス社のホン
プリンV、ホンプリン2等がある。
ましくは5〜20g電チが良い。無機フィラーに非常に
微細なため一久粒子に均質に分散して塗膜全作製するこ
とが難しく、各種カップリング剤を用いるか、良くせん
断し分散させてもよいO カンプリング剤に、有機官能基としてエポキシ基、ある
いはアミン基1krjつ、チッソ((社)製の商品名“
サイラエース”5510.8520,8550.8S1
1.8520,831%が有効な分散剤でろる0本発明
で言う該有機薄膜を被榎するフッ素糸化合物はパーフル
オロ化ポリオキシ−アルキル(又は−アルキレン)基で
1例としては下記一般式%式% F(C3F、−0−)ニー(CF、O,)アー(CFz
)z−又は−CC*FaO)アー(CF20)N−CF
クー(式中hXh 1%2は1以上の整数、望ましくは
、Xは5以上、71)10〜25、ffi[10〜56
)で示ちれるものを挙げることができる。これらのフッ
素化合物の?iJは、デュポン社から市販されているク
ライトツクス143あるいは、モンテフルオス社のホン
プリンV、ホンプリン2等がある。
また本発明で言う該有機薄膜中又はヘッドの側溝薄膜中
に含有するパーフルオロポリオキシアルキレングループ
と非フッ素含有グループを結合しfc構造の潤滑剤は、
例えは下記−数式:%式%) 〔式中、Rfハハーフルオロ化ポリオキシアルキル基又
は、パーフルオロ化ポリオキシアルキレン基、R東 に
直接結合、−CH,−1−CO−又は−C”0NH−基
、R1μ炭素数2又は5のオキシアルキレン基% Rs
は直接結合、−〇−1−COO−1−CONH−1−N
HCO−1−OC,H,、−(Pは1又は2のa’を示
す)又t−X −C(C’H3)2−基で、繰返しごと
に異なついてもよい、mlXo以上の正の整数、nは1
以上の整数、tは1又に2の数を示す〕で表される化付
物でめる0この時のパーフルオロポリオキシアルキレン
グループと非フッ素含有グループを結合した構造の潤滑
剤の具体的なレリとしては、下記式のものが挙げられる
: Rf−CH*−0+べ◇ Rf−彌+0やhO@ Rf−COOC山[相] Rf−co(oc、a、)、−□CHべ◇Rt−(−C
ONH+o@)り Rr−coo+o@ Rr−coNH((訓0−@−0((濾NHCO[相]
Rf−C00<E濾C0NH−4濾0−@−0((濾N
Hco((訓O[相](式中、Rf u F(OF(C
Fm )−CFm O−)n−CF (CFs )−又
は−(CF(CFs)−CFm0−)B−CF(CF1
片で、n=平均7〜14)本発#14は次の様な形態で
使用することができる。
に含有するパーフルオロポリオキシアルキレングループ
と非フッ素含有グループを結合しfc構造の潤滑剤は、
例えは下記−数式:%式%) 〔式中、Rfハハーフルオロ化ポリオキシアルキル基又
は、パーフルオロ化ポリオキシアルキレン基、R東 に
直接結合、−CH,−1−CO−又は−C”0NH−基
、R1μ炭素数2又は5のオキシアルキレン基% Rs
は直接結合、−〇−1−COO−1−CONH−1−N
HCO−1−OC,H,、−(Pは1又は2のa’を示
す)又t−X −C(C’H3)2−基で、繰返しごと
に異なついてもよい、mlXo以上の正の整数、nは1
以上の整数、tは1又に2の数を示す〕で表される化付
物でめる0この時のパーフルオロポリオキシアルキレン
グループと非フッ素含有グループを結合した構造の潤滑
剤の具体的なレリとしては、下記式のものが挙げられる
: Rf−CH*−0+べ◇ Rf−彌+0やhO@ Rf−COOC山[相] Rf−co(oc、a、)、−□CHべ◇Rt−(−C
ONH+o@)り Rr−coo+o@ Rr−coNH((訓0−@−0((濾NHCO[相]
Rf−C00<E濾C0NH−4濾0−@−0((濾N
Hco((訓O[相](式中、Rf u F(OF(C
Fm )−CFm O−)n−CF (CFs )−又
は−(CF(CFs)−CFm0−)B−CF(CF1
片で、n=平均7〜14)本発#14は次の様な形態で
使用することができる。
谷実施態様を断面概略図として示す。
なお、図中の符号1はAt fi板、2は下地膜、3は
磁性薄膜層、4に有機薄膜層、5は無機フィラー、6に
フッ素系潤滑層、7はパーフルオロポリオキシアルキレ
ングループと非フッ素含有グル−1全結合した構造の潤
滑剤含′;4f膚、8μヘツド、9は潤滑薄膜層を意味
する。
磁性薄膜層、4に有機薄膜層、5は無機フィラー、6に
フッ素系潤滑層、7はパーフルオロポリオキシアルキレ
ングループと非フッ素含有グル−1全結合した構造の潤
滑剤含′;4f膚、8μヘツド、9は潤滑薄膜層を意味
する。
(第1図の構造)
At基板1上に形成された薄膜の磁性層Sの表向に有機
薄膜4を形成し、その有機薄膜中に無機フィラー5を分
散させ、保護層を形成する。
薄膜4を形成し、その有機薄膜中に無機フィラー5を分
散させ、保護層を形成する。
(第2図の構造)
Atfi板1上に形成場れ九薄膜の磁性層5の表面に有
機薄膜4を形成し、その有機薄膜中に無機フィ2−5を
分散させ、有機薄膜上にはフッ紫糸潤滑剤6を塗布し、
保護IIを形成する。
機薄膜4を形成し、その有機薄膜中に無機フィ2−5を
分散させ、有機薄膜上にはフッ紫糸潤滑剤6を塗布し、
保護IIを形成する。
(第5図の構造ン
AA基板1上に形成場れた薄膜の磁性層30衣而に有機
薄膜4を形成し、その有機薄膜中に無機フィラー5全分
散させる。有機保護膜の表面層に(&記fi1のパーフ
ルオロポリオキシアルキレングループと非フッ素官有グ
ループを結合した構造の@隋剤宮M層7を形成する。
薄膜4を形成し、その有機薄膜中に無機フィラー5全分
散させる。有機保護膜の表面層に(&記fi1のパーフ
ルオロポリオキシアルキレングループと非フッ素官有グ
ループを結合した構造の@隋剤宮M層7を形成する。
(第4図の構造]
At基板1上に形成され次薄膜の磁性!−5の表而に有
機薄膜4に形成し、その有機薄膜中に無機フィラー5を
分散させ、保、l11層を形成する。一方、ヘッド8の
下部摺動部に潤滑薄膜層9を形成する。
機薄膜4に形成し、その有機薄膜中に無機フィラー5を
分散させ、保、l11層を形成する。一方、ヘッド8の
下部摺動部に潤滑薄膜層9を形成する。
@滑薄膜層としては有機の薄膜表面に、パーフルオロポ
リオキシアルキレングループと非フッ素含有グループを
結合した構造の潤滑/Iを形成する。
リオキシアルキレングループと非フッ素含有グループを
結合した構造の潤滑/Iを形成する。
以下、実施例で本発明の効果を詳しくH5?、関するが
、本発明はこれら実施向に限足されない。
、本発明はこれら実施向に限足されない。
実施向1
5.25インチのAt合金ディスク表面にNi −P層
とその上にCr層を設け、更にこの上にN1−C。
とその上にCr層を設け、更にこの上にN1−C。
の磁性層を50OA厚さに蒸看しディスク基板を準備す
る。
る。
一方、デュポン社製のエポキシ樹脂(商品名二EP−1
004) 44 f、フェノール樹脂であるマルカリン
カーM〔丸善石油化学(株)m) A Q t、硬化促
進剤であるトリエチルアンモニウムカリボール塩〔北興
化学((転)製 藺品名: TEA−K )α04el
fメチルエテルケトン13501Fとn−ブナルセロン
ルプアセテ−1−1509の混合溶剤に溶解し、溶液〔
1〕を作成する。次に無機フィラーとして平均粒径が1
2℃mのARRO8IL−R−974[日本アエロジル
(東製〕α001fを浴液[1)に刃口えた後、ホモジ
ナイザー(15000rpm−105j−)で充分にか
くはんしfc浴溶液川〕を作製した。
004) 44 f、フェノール樹脂であるマルカリン
カーM〔丸善石油化学(株)m) A Q t、硬化促
進剤であるトリエチルアンモニウムカリボール塩〔北興
化学((転)製 藺品名: TEA−K )α04el
fメチルエテルケトン13501Fとn−ブナルセロン
ルプアセテ−1−1509の混合溶剤に溶解し、溶液〔
1〕を作成する。次に無機フィラーとして平均粒径が1
2℃mのARRO8IL−R−974[日本アエロジル
(東製〕α001fを浴液[1)に刃口えた後、ホモジ
ナイザー(15000rpm−105j−)で充分にか
くはんしfc浴溶液川〕を作製した。
次に、2500rpmに設定したスピン塗布機を用いて
ディスク基板上に浴液(1)t−塗布し、膜厚50′5
0nmに成膜する0成膜後、80℃−50分子備加熱後
、230℃−1時間加熱硬化し、ディスク〔1〕を完成
させる。
ディスク基板上に浴液(1)t−塗布し、膜厚50′5
0nmに成膜する0成膜後、80℃−50分子備加熱後
、230℃−1時間加熱硬化し、ディスク〔1〕を完成
させる。
こうして得られたディスク〔1〕の摺動耐久性を球面摺
動試験機で評価した。すなわちす7アイヤ球面摺動子に
荷重20fを加え、周速20 m / a、雰囲気−度
25℃、相対湿度50%RH以下の条件でディスクを回
転させ、有機転換が破損するまでの飴1g1転数を評価
した。
動試験機で評価した。すなわちす7アイヤ球面摺動子に
荷重20fを加え、周速20 m / a、雰囲気−度
25℃、相対湿度50%RH以下の条件でディスクを回
転させ、有機転換が破損するまでの飴1g1転数を評価
した。
比較ガ1として次のディスクを用いた。すなわち、25
00rpmに設定したスピン塗布機を用いてディスク基
板上に浴液(1) k塗布し、膜厚30〜50 nm
に成膜し、次に80℃−50分子備加熱後、230℃−
1時間加熱硬化し、比較用ディスク〔1〕を完成させ次
。これらの結果を表1に示す0 表 1 表1の実21Ili例から明らかな様に、本発明の磁気
記録媒体は比15!N1と比べ有機薄膜層が破損するl
での総回転数が大きく、摺動耐久性に優れていたO 実施例2 実施例1と同様にしてディスク〔1〕を作表後、ディス
ク〔1〕上にフッ素糸潤滑剤でるる米国特許第5498
946号明細書記載の下式のクライトツクス143AC F(CF(CFI)CF2−0−3.−CF(CF3)
CFl (ni;(平均28)を塗布し、ディスク〔
2〕を完成させた。
00rpmに設定したスピン塗布機を用いてディスク基
板上に浴液(1) k塗布し、膜厚30〜50 nm
に成膜し、次に80℃−50分子備加熱後、230℃−
1時間加熱硬化し、比較用ディスク〔1〕を完成させ次
。これらの結果を表1に示す0 表 1 表1の実21Ili例から明らかな様に、本発明の磁気
記録媒体は比15!N1と比べ有機薄膜層が破損するl
での総回転数が大きく、摺動耐久性に優れていたO 実施例2 実施例1と同様にしてディスク〔1〕を作表後、ディス
ク〔1〕上にフッ素糸潤滑剤でるる米国特許第5498
946号明細書記載の下式のクライトツクス143AC F(CF(CFI)CF2−0−3.−CF(CF3)
CFl (ni;(平均28)を塗布し、ディスク〔
2〕を完成させた。
こうして得られ友ディスク〔2〕の摺動耐久性を実施例
1と同じ方法で評価した。
1と同じ方法で評価した。
比@例2として比較用ディスク〔1〕上にフッ素糸潤滑
剤である米国時許帛5490946号8Aa沓記載のク
ライトックス145AC全1!!布し比較用ディスク〔
2〕を完成させた。これらの結果を表2に示す。
剤である米国時許帛5490946号8Aa沓記載のク
ライトックス145AC全1!!布し比較用ディスク〔
2〕を完成させた。これらの結果を表2に示す。
表 2
表2の実施例から明らかな様に、本発明の磁気記録媒体
は比較例2と比べ有機薄膜層が破損するまでの総回転数
が大さく%摺動耐久性に優れていたO 実21Ili例5 実施例1.2と同様にして125インチのディスク基板
を準備する。
は比較例2と比べ有機薄膜層が破損するまでの総回転数
が大さく%摺動耐久性に優れていたO 実21Ili例5 実施例1.2と同様にして125インチのディスク基板
を準備する。
一方、表3の8a類のフッ素糸潤滑剤をQ、7tとデュ
ポン社製のエポキシ樹脂(商品名:EP−1004)4
.4F、フェノール樹脂でるるマルカリンカーM〔丸善
石油化学((社)製)AOf、硬化促進剤でめるトリエ
チルアンモニウムカリボール塩〔北興化学(株ン製 商
品名: ’I’EA−K ) (L 04 fをメデル
エテルケトン1550fとn−プチルセロンルブアセテ
ート150fの混合浴剤に浴解し、浴液El)を作成す
る。次に無機フィラーとして平均粒径が16 nm、の
/1RO81L−R972(日本アエロジル(株)製)
[LOOlflに浴液〔皇〕に加えた後、ホモジナイザ
ー(15000rpm−10分ンで充分にかくはんした
溶液〔1v)を作製した。
ポン社製のエポキシ樹脂(商品名:EP−1004)4
.4F、フェノール樹脂でるるマルカリンカーM〔丸善
石油化学((社)製)AOf、硬化促進剤でめるトリエ
チルアンモニウムカリボール塩〔北興化学(株ン製 商
品名: ’I’EA−K ) (L 04 fをメデル
エテルケトン1550fとn−プチルセロンルブアセテ
ート150fの混合浴剤に浴解し、浴液El)を作成す
る。次に無機フィラーとして平均粒径が16 nm、の
/1RO81L−R972(日本アエロジル(株)製)
[LOOlflに浴液〔皇〕に加えた後、ホモジナイザ
ー(15000rpm−10分ンで充分にかくはんした
溶液〔1v)を作製した。
(式中、RfはF(CF(CF’3)−CFsO−:l
ニーCF(CF3)−又は−(CF(CF、、)−C’
F20−〕、−CF’(CF3)−で、n=平均14)
次にb2500rpmに設足し次スピン塗布機を用いて
ディスク基板上に浴g (IV) li−塗布し、膜厚
50〜50 nm Kff、膜する。成膜後、80℃−
50分子備加熱後% 230℃−1時間加熱硬化し、デ
ィスク〔5〕を完成させる。
ニーCF(CF3)−又は−(CF(CF、、)−C’
F20−〕、−CF’(CF3)−で、n=平均14)
次にb2500rpmに設足し次スピン塗布機を用いて
ディスク基板上に浴g (IV) li−塗布し、膜厚
50〜50 nm Kff、膜する。成膜後、80℃−
50分子備加熱後% 230℃−1時間加熱硬化し、デ
ィスク〔5〕を完成させる。
こうして得られたディスク〔3〕の摺動耐入江を実施f
lJ1.2と同様にして球面摺動試験機で評価した。比
較例3μ比較用デイスク〔2〕を用いて評価し九〇 表 4 表4の実施例から明らかな様に、本発明の磁気記録媒体
は比l!!!例3と比べ有機薄膜層が破損するまでのm
回転数が大きく、摺動耐入江に優れてい7t。
lJ1.2と同様にして球面摺動試験機で評価した。比
較例3μ比較用デイスク〔2〕を用いて評価し九〇 表 4 表4の実施例から明らかな様に、本発明の磁気記録媒体
は比l!!!例3と比べ有機薄膜層が破損するまでのm
回転数が大きく、摺動耐入江に優れてい7t。
実施ガ4
実施$i1と同様にしてディスク〔1〕を作製する。
−万、 Mn−Znフェライトからなるヘッドを、実施
例6で作製し7’C浴猷〔皇〕中に浸漬後、静かに引上
げて表面に潤滑薄膜全作表する。その後、80℃−50
分の予備加熱し、更に250℃−1時間熱硬化する〇 こうして得られたディスクとヘッド1a25インチのデ
ィスクドライブに組込み、実装試験を実施した。ヘッド
浮上スペーシング1cL15/Jm、ヘッドとディスク
の相対速#、kf Ofn / sec bヘッド負荷
全30気、ヘッド無負荷を50secに設足し、ディス
クの摩耗状況を観察し、摩耗こんの発生時点の摺動回数
を針久注と規定し友。
例6で作製し7’C浴猷〔皇〕中に浸漬後、静かに引上
げて表面に潤滑薄膜全作表する。その後、80℃−50
分の予備加熱し、更に250℃−1時間熱硬化する〇 こうして得られたディスクとヘッド1a25インチのデ
ィスクドライブに組込み、実装試験を実施した。ヘッド
浮上スペーシング1cL15/Jm、ヘッドとディスク
の相対速#、kf Ofn / sec bヘッド負荷
全30気、ヘッド無負荷を50secに設足し、ディス
クの摩耗状況を観察し、摩耗こんの発生時点の摺動回数
を針久注と規定し友。
比45!PJ4としてディスク〔1〕と、未処理のMn
−Zn ヘッドとの組合せの実装試験を実施した。こ
れらの結果全衣5に示す。
−Zn ヘッドとの組合せの実装試験を実施した。こ
れらの結果全衣5に示す。
表 5
表5の実施的4から明らかな様に、本発明の磁気記録媒
体とヘッドの組合せに、比較例4と比ベディスクの摩耗
こんが発生するまでの摺切回数が大さく、摺動耐久性に
優れていた。
体とヘッドの組合せに、比較例4と比ベディスクの摩耗
こんが発生するまでの摺切回数が大さく、摺動耐久性に
優れていた。
以上の説明から明らかなように、本発明の磁気記録媒体
及び、ヘッドは摺動耐久性に優れ、それ上用いた磁気記
録装置の信1lii注を向上できる。
及び、ヘッドは摺動耐久性に優れ、それ上用いた磁気記
録装置の信1lii注を向上できる。
第1図〜第5図μ本発明の磁気記録媒体の一例の曲面構
造概略図、第4図は本発明の磁気記録媒体とヘッドとの
組合せの1例の曲面構造概略図である。 1:Al4板、2:下mg、5:ia薄m層、4:有機
薄膜層、5:無機フィラー、6:フッ累糸詞滑層、7:
パーフルオロポリオキシアルキレングループと非フッ素
含有グループ′t−結合し次構造の潤滑剤含有層、8:
ヘッド、9:潤滑薄M&層 特許出願人 株式会社日立製作所
造概略図、第4図は本発明の磁気記録媒体とヘッドとの
組合せの1例の曲面構造概略図である。 1:Al4板、2:下mg、5:ia薄m層、4:有機
薄膜層、5:無機フィラー、6:フッ累糸詞滑層、7:
パーフルオロポリオキシアルキレングループと非フッ素
含有グループ′t−結合し次構造の潤滑剤含有層、8:
ヘッド、9:潤滑薄M&層 特許出願人 株式会社日立製作所
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、非磁性基材の表面に薄膜の磁性層が形成され、該磁
性層上に、有機薄膜から成る保護層が形成された磁気記
録媒体において、該有機薄膜は厚さ100nm以下で、
その中に粒径50nm以下のフィラーを含有しているこ
とを特徴とする磁気記録媒体。 2、該有機薄膜表面が、下記一般式: F(C_3F_6−O−)_x−C_2F_4−又はF
(C_3F_6−O−)_x−(CF_2O)_y−(
CF_2)_z−又は−(C_2F_4−O−)_y−
(CF_2O)_z−CF_2−(式中、x、y、zは
1以上の整数を示す)で表されるフッ素系化合物で被覆
されている請求項1記載の磁気記録媒体。 3、該有機薄膜は、有機バインダーと、パーフルオロポ
リオキシアルキレングループと非フッ素含有グループと
が結合した構造の潤滑剤と、該フィラーとを含有してい
る請求項1又は2記載の磁気記録媒体。 4 該潤滑剤が、下記一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Rfはパーフルオロ化ポリオキシアルキル基又
はパーフルオロ化ポリオキシアルキレン基、R_1は直
接結合、−CH_2、−CO−又は−CONH−基、R
_2は炭素数2又は3のオキシアルキレン基、R_3は
直接結合、−O−、−COO−、−CONH−、−NH
CO−、−OC_pH_2_p−(pは1又は2の数を
示す)又は−C(CH_3)_2−基で、繰返しごとに
異なつていてもよい、mは0以上の正の整数、nは1以
上の整数、lは1又は2の数を示す〕で表されるもので
ある請求項3記載の磁気記録媒体。 5、請求項1又は2記載の磁気記録媒体とヘッドとの組
合せからなることを特徴とする磁気記録装置。 6、該ヘッドの表面が潤滑薄膜でコーティングされてい
る請求項5記載の磁気記録装置。 7、該潤滑薄膜が、有機バインダーと、パーフルオロポ
リオキシアルキレングループと非フッ素含有グループと
が結合した構造の潤滑剤とを含有している請求項6記載
の磁気記録装置。 8、該潤滑剤が、下記一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_fはパーフルオロ化ポリオキシアルキル基
又はパーフルオロ化ポリオキシアルキレン基、R_1は
直接結合、−CH_2、−CO−又は−CONH−基、
R_2は炭素数2又は3のオキシアルキレン基、R_3
は直接結合、−O−、−COO−、−CONH−、−N
HCO−、−OC_pH_2_p−(pは1又は2の数
を示す)又は−C(CH_3)_2−基で、繰返しごと
に異なつていてもよい、mは0以上の正の整数、nは1
以上の整数、lは1又は2の数を示す〕で表されるもの
である請求項7記載の磁気記録装置。 9、該潤滑薄膜が、粒径50nm以下のフィラーを含有
している請求項6〜8のいずれか1項に記載の磁気記録
装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63118127A JPH06101119B2 (ja) | 1988-05-17 | 1988-05-17 | 磁気記録媒体、ヘッド及びそれを用いた磁気記録装置 |
US07/790,084 US5219651A (en) | 1988-05-17 | 1991-11-13 | Magnetic recording apparatus comprising a magnetic recording medium and a magnetic head each coated with a coating of a binder and a specified fluorolubricant |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63118127A JPH06101119B2 (ja) | 1988-05-17 | 1988-05-17 | 磁気記録媒体、ヘッド及びそれを用いた磁気記録装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01290117A true JPH01290117A (ja) | 1989-11-22 |
JPH06101119B2 JPH06101119B2 (ja) | 1994-12-12 |
Family
ID=14728709
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63118127A Expired - Lifetime JPH06101119B2 (ja) | 1988-05-17 | 1988-05-17 | 磁気記録媒体、ヘッド及びそれを用いた磁気記録装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06101119B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0620547A2 (en) * | 1993-03-18 | 1994-10-19 | Hitachi, Ltd. | Magnetic recording medium and magnetic recording reproducer |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6199930A (ja) * | 1984-10-19 | 1986-05-19 | Tokico Ltd | 磁気デイスク |
-
1988
- 1988-05-17 JP JP63118127A patent/JPH06101119B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6199930A (ja) * | 1984-10-19 | 1986-05-19 | Tokico Ltd | 磁気デイスク |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0620547A2 (en) * | 1993-03-18 | 1994-10-19 | Hitachi, Ltd. | Magnetic recording medium and magnetic recording reproducer |
EP0620547A3 (en) * | 1993-03-18 | 1995-01-25 | Hitachi Ltd | Magnetic recording medium and reproducing apparatus. |
US5985403A (en) * | 1993-03-18 | 1999-11-16 | Hitachi, Ltd. | Magnetic recording medium and magnetic recording reproducer |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06101119B2 (ja) | 1994-12-12 |
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