JPS63249933A - 磁気デイスク媒体 - Google Patents

磁気デイスク媒体

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JPS63249933A
JPS63249933A JP62083466A JP8346687A JPS63249933A JP S63249933 A JPS63249933 A JP S63249933A JP 62083466 A JP62083466 A JP 62083466A JP 8346687 A JP8346687 A JP 8346687A JP S63249933 A JPS63249933 A JP S63249933A
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JP
Japan
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magnetic disk
disk medium
magnetic
roughness
recording
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Pending
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JP62083466A
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English (en)
Inventor
Takaaki Shirokura
白倉　高明
Shinya Matsuoka
松岡　伸也
Hiroshi Yashiki
屋舗　博
Masanori Arayashiki
荒屋敷　政則
Masaki Oura
大浦　正樹
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Pending legal-status Critical Current

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    • G—PHYSICS
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気ディスク媒体に関し、特に、磁気ディス
ク停止時における磁気ヘッド、および磁気ディスク媒体
間の吸着を軽減することができ、また、磁気ディスク媒
体の円周方向の磁気特性を均一化することが可能な磁気
ディスク媒体に関する。
〔従来技術〕
磁気ディスク媒体の中、特に、スパッタディスク、メッ
キディスク等の薄膜ディスク媒体では、磁気ディスク媒
体の基板面、あるいは基板面上に設けられたＮ１−Ｐメ
ッキ等の下地膜上に、第３図のように、磁気ディスク媒
体の円周方向で、はぼ同心円状に加工痕３３を残す加工
（以下テクスチャ加工と記す）が行われている。
テクスチャ加工は、（ｉ）磁気ディスク停止時に磁気ヘ
ッドと磁気ディスク媒体との間の吸着現象を軽減する効
果、（ｉｉ）加工面」二に成膜される磁性膜に形状異方
性を持たせることにより、円周方向に磁性特性を均一化
させる効果等を有する。
また、吸着現象の防止については、例えば、特開昭５４
−２３５０８号公報に記載されている方法では、第４図
のように、磁気ディスク媒体」二のコンタク１〜・スタ
ート・ス１−ツブ領域（以下Ｃ８Ｓ領域と略す）４２の
面精度を、記録再生領域４１よりも粗くすることにより
、吸着力を軽減している。しかし、この方法では面精度
を粗くする方向性については定められていない。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記従来技術では、例えば、Ｃ８Ｓ領域と記録再生領域
との面精度を変える場合、ＣＳＳ領域の面粗さを粗くす
ると、吸着力を軽減する一方、Ｃ８Ｓ時の磁気ヘッドと
磁気ディスク媒体との接触時間を長引かせて、磁気ヘッ
トの摩耗、および磁気ディスク媒体の損傷等の悪影響を
与える恐れがある。
さらに、面精度を粗くする方向性と吸着力との関係につ
いては、例えば、磁気ディスク媒体の半径方向、つまり
、磁気ディスク起動時に吸着力が働く方向に対して、直
角方向に加工痕を付けた場合、吸着力軽減の効果を持た
せるためには、Ｒ。
”　１００　ｎ　ｍ以上の粗さが必要である。しかし、
この粗さではＣ８Ｓ寿命を縮めることになる。
また、テクスチャ加工を行う場合、テクスチャ加工の粗
さについて相反する制限がある。
第５図は、磁気ディスク回転中の磁気ヘッドと磁圧ディ
スク媒体とが接触する浮上高さＨ［Ｉ、磁気ディスク停
止時の磁気ヘッドと磁気ディスク媒体との吸着力Ｆ、お
よび磁気ディスク媒体表面の平均粗さＲ４の関係を示す
説明図である。
磁気ヘッドと磁気ディスク媒体とが接触する浮上高さＨ
８を低くするためには、磁気ディスク媒体面の粗さを小
さくすることが必要であり、例えば、浮上高さＨ８を０
．２μｍとする場合、平均粗さＲ６≦２５ｎｍが必要で
ある。
一方、ディスク停止中の磁気ヘッドと磁気ディスク媒体
との吸着力Ｆは、Ｒ，≦２５ｎｍを嵩たす場合はＦ≧１
５ｇｆとなり、磁気ディスクの起動時に磁気ヘッド支持
バネを変形させる等の問題が生じる。なお、吸着力Ｆは
、例えば５ｇｆ以下が望ましく、この場合は磁気ディス
ク媒体面の平均Ｎ’ｌｌさＲａを５０ｎｍ以下とする必
要がある。
このように、テクスチャ加工の粗さには相反する制限が
ある。
本発明の目的は、このような問題点を改善し、磁気ディ
スク停止時における磁気ヘッド、および磁気ディスク媒
体間の吸着を軽減することができ、また、円周方向の磁
気特性を均一化することが可＝３− 能な磁気ディスク媒体を提供することにある。
〔問題を解決するための手段〕
上記目的を達成するため、本発明の磁気ディスク媒体は
、磁気ディスク媒体の基板面、あるいは基板面上に設け
られた下地膜面上に、円周方向に加工痕を残すテクスチ
ャ加工を施し、かつ、加工粗さがＣ８Ｓ領域と記録再生
領域とで異なることに特徴がある。
〔作用〕
本発明においては、磁気ディスク媒体の記録再生領域と
Ｃ８Ｓ領域とのテクスチャ加工の粗さを変えて、記録再
生領域の加工粗さを小さくし、Ｃ８Ｓ領域での加工粗さ
を大きくすることにより、記録再生領域において、磁気
ヘッドと磁気ディスク媒体との接触を防止し、かつ、Ｃ
８Ｓ領域における磁気ヘッドと磁気ディスク媒体との吸
着を防止する。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を図面により説明する。
第２図は、本発明の一実施例における磁気ディスフ媒体
の加工方法の説明図、第１図は本発明の一実施例におけ
る磁気ディスク媒体の平面図である。
本実施例の磁気ディスク媒体は、第２図（ａ）のように
、所定の面粗さで加工されたアルミサブプレート４上に
、記録媒体５の厚みにＮ　ｉ　−Ｐメッキを施し、磁気
ディスク媒体を回転させながら、例えば、平均粗さＲａ
＝５０〜７０ｎｍで記録媒体５の全面（ＣＳ　Ｓ領域２
．記録再生領域１）を研磨し、磁気ディスク媒体の円周
方向にテクスチャ加工を施す。
さらに、（ｂ）のように、磁気ディスク媒体を回転させ
ながら、記録媒体５の記録再生領域１のみを、例えば、
平均粗さＲａ＝５〜１０ｎｍで仕上げ研磨し、同様に、
磁気ディスク媒体の円周方向にテクスチャ加工を施して
、記録再生領域１の微小な突起を取り去る。
こうして、第１図のように、媒体面の円周方向に加工痕
３を残すテクスチャ加工が施され、かつ。
記録再生領域１の面積度が高く、Ｃ８Ｓ領域２の面積度
が粗い磁気ディスク媒体を得る。
従って、本実施例では磁気ディスク回転中、例えば、記
録再生領域１における磁気ヘッドと磁気ディスク媒体と
の接触高さを０．１７ｚ＋ｎとし、かつ、磁気ディスク
停止中の磁気ヘッドと磁気ディスク媒体との吸着力を５
ｇｆ以下に軽減することができる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、磁気ディスク停止時における磁気ヘッ
ド、および磁気ディスク媒体間の吸着力を軽減すること
ができ、また、円周方向の磁気特性を均一化することが
可能なである。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例における磁気ディスク媒体の
平面図、第２図は本発明の一実施例における磁気ディス
ク媒体の加工方法の説明図、第３図はテクスチャ加工を
施した従来の磁気ディスタ媒体の説明図、第４図はＣ８
Ｓ領域と記録再生領域との面精度を変えた従来の磁気デ
ィスク媒体の説明図、第５図は磁気ディスク回転中の磁
気ヘッドと磁圧ディスク媒体とが接触する浮」二高さ■
−Ｔｏ、磁気ディスク停止時の磁気ヘッドと磁気ディス
ク媒体との吸着力Ｆ、および磁気ディスク媒体表面の平
均粗さＲ，ｌの関係を示す説明図である。 １．４１：記録再生領域、２，４．２：コンタクト・ス
タート・ス１〜ツブ領域（ＣＳＳ領域）、３，３３：加
工痕、４ニアルミサブプレート、５：記録媒体。 第　　　１　　　図 ］ 第　　２　　図 （ａ）　　　　　（ｂ）

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. １、磁気ディスク装置に用いられる磁気ディス媒体にお
    いて、該磁気ディスク媒体の基板面、あるいは該基板面
    上に設けられた下地膜面上に、円周方向に加工痕を残す
    ように加工を施し、かつ、加工粗さがディスク半径方向
    で異なることを特徴とする磁気ディスク媒体。
JP62083466A 1987-04-03 1987-04-03 磁気デイスク媒体 Pending JPS63249933A (ja)

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JP62083466A JPS63249933A (ja) 1987-04-03 1987-04-03 磁気デイスク媒体
US07/175,527 US4939614A (en) 1987-04-03 1988-03-31 Magnetic disk medium with circumferentially textured surfaces and varied surface roughness and method of producing the same

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