JPS615436A - 磁気デイスクの製造方法 - Google Patents
磁気デイスクの製造方法Info
- Publication number
- JPS615436A JPS615436A JP12580584A JP12580584A JPS615436A JP S615436 A JPS615436 A JP S615436A JP 12580584 A JP12580584 A JP 12580584A JP 12580584 A JP12580584 A JP 12580584A JP S615436 A JPS615436 A JP S615436A
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- Japan
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- material layer
- disk
- acid
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野」
この発明は表面保護性の高い磁気ディスクの製造方法に
関するもの省ある。□ 「従来の技術」 憶装置は、ｌ゛〜 ｌＯ枚程度の磁気ディスク？１１−１ｉ’ｔＪ二軸上に
適当な間隔を置いて配列して、これを記録媒体とし、例
えば、０れら磁気ディスクの各面に対し、通常１個のヘ
ッドを設け、これらを１つめ可動機構に固定して同時に
動（ようにし、読出し、書込みにおいてこれらのヘッド
をディスクの半径方向に移動する構造の装置である。こ
の装置においては、記録密度を上げるためには、ヘッド
とディスク表面との間隔をできるだけ接近させ、かつ一
定に保つことが必要であり、現在はディスクの高速回転
によりディスク表面に生ずる空気流によりヘッド化浮′
示せて間隔を保つ浮動ヘッド方式が採用されている。従
って、ディスクの停止時にはヘッドはディスク表面上□
に当接しており、ディスクの始動、停止の前後賃おいて
はディスク表面にヘッドが摺接一方、薄膜磁気ディスク
には、磁性めつき）−が−滑剤を弁して表面に露出して
いる構造のものと。
関するもの省ある。□ 「従来の技術」 憶装置は、ｌ゛〜 ｌＯ枚程度の磁気ディスク？１１−１ｉ’ｔＪ二軸上に
適当な間隔を置いて配列して、これを記録媒体とし、例
えば、０れら磁気ディスクの各面に対し、通常１個のヘ
ッドを設け、これらを１つめ可動機構に固定して同時に
動（ようにし、読出し、書込みにおいてこれらのヘッド
をディスクの半径方向に移動する構造の装置である。こ
の装置においては、記録密度を上げるためには、ヘッド
とディスク表面との間隔をできるだけ接近させ、かつ一
定に保つことが必要であり、現在はディスクの高速回転
によりディスク表面に生ずる空気流によりヘッド化浮′
示せて間隔を保つ浮動ヘッド方式が採用されている。従
って、ディスクの停止時にはヘッドはディスク表面上□
に当接しており、ディスクの始動、停止の前後賃おいて
はディスク表面にヘッドが摺接一方、薄膜磁気ディスク
には、磁性めつき）−が−滑剤を弁して表面に露出して
いる構造のものと。
磁性めっき層の上に保護層としてＳｉｎ、薄膜層。
二ッ冴ル合金層、などが形成され、その上に潤滑剤化塗
布した構造のものがある。
布した構造のものがある。
「発明が解決しようとする問題点」
□ 上記のような構造の従来の磁気ディスクにおいては
、上記したヘッドとの構造上の関係から下記のような問
題点が発生しており、その解決が望まれている。
、上記したヘッドとの構造上の関係から下記のような問
題点が発生しており、その解決が望まれている。
丁なわち、上記した２つの構造の磁気ディスクのどちら
においても、つまり、磁性めっき層が表面にある場合で
も、その上にニッケル合金層等の保護層が表面にある場
合でも、これら磁性めっき層および保護層の硬度、耐摩
耗性が比較的低いので、ディスクの始動、停止時にヘッ
ドがディスク表面に摺接するその経時変化によりディス
ク表面の摩耗が丁丁み、出力の低下、摩耗粉によるヘッ
ドクラッシュ等が発生してしまうという問題点である。
においても、つまり、磁性めっき層が表面にある場合で
も、その上にニッケル合金層等の保護層が表面にある場
合でも、これら磁性めっき層および保護層の硬度、耐摩
耗性が比較的低いので、ディスクの始動、停止時にヘッ
ドがディスク表面に摺接するその経時変化によりディス
ク表面の摩耗が丁丁み、出力の低下、摩耗粉によるヘッ
ドクラッシュ等が発生してしまうという問題点である。
これに対し、化学的安定性、硬度な２の特注に優れた金
属酸化物層を保護層とした磁気ディスクも知られている
が、この磁気ディスクにおいては。
属酸化物層を保護層とした磁気ディスクも知られている
が、この磁気ディスクにおいては。
その金属酸化物層は周知のスパッタ法により形成するも
のなので、イニシアルコストが高くなり、また処理東件
の設定がむづかしいという欠点がある。
のなので、イニシアルコストが高くなり、また処理東件
の設定がむづかしいという欠点がある。
この発明は、上記事情に鑑みてなされたもので。
ヘッドの摺接によってその表面が摩耗されることが少な
く、摩耗粉の発生もほとんど見られず、コスト高を招く
ことのない磁気ディスクの製造方法を提供することを目
的とするものである。
く、摩耗粉の発生もほとんど見られず、コスト高を招く
ことのない磁気ディスクの製造方法を提供することを目
的とするものである。
「問題点を解決するための手段」
この発明に係る磁気ディスクの製造方法は、最外層を形
成している磁性材層またはこの磁性材層にさらに形成し
た非磁性金属材層の表面を有機酸によって酸１とし、最
外層に不純物の混入のない金属酸化物層ケ形放し、これ
によって表面保護性の高い磁気ディスクを容易に得るこ
とがでさるようにしたものである。なお、上記有機酸に
は、金属酸化物層を形成することのできる水溶性の化合
物が適しており１例えばカルボン酸としては蟻酸。
成している磁性材層またはこの磁性材層にさらに形成し
た非磁性金属材層の表面を有機酸によって酸１とし、最
外層に不純物の混入のない金属酸化物層ケ形放し、これ
によって表面保護性の高い磁気ディスクを容易に得るこ
とがでさるようにしたものである。なお、上記有機酸に
は、金属酸化物層を形成することのできる水溶性の化合
物が適しており１例えばカルボン酸としては蟻酸。
酢酸、修酸、酒石酸があり、スルホン酸としてはベンゼ
ンスルホン酸、メタンスルホン酸が適当であり、さらに
石炭酸などのフェノール類なども適用で可能である。
ンスルホン酸、メタンスルホン酸が適当であり、さらに
石炭酸などのフェノール類なども適用で可能である。
［作用Ｊ
ｉ′上記のように、この発明の方法によれば
、磁気ディスクの最外層に安価、容易に不純物のない金
属酸化物層を形成することができるので、長期に亘って
特性上問題となる摩耗な°受けることがな（、したがっ
て摩耗粉の発生もほとんどなく、ヘッドクラッシュを起
こ丁ことのない表面保護性の高い磁気ディスクを容易か
つコスト高を招（ことなく製造することができる。
ｉ′上記のように、この発明の方法によれば
、磁気ディスクの最外層に安価、容易に不純物のない金
属酸化物層を形成することができるので、長期に亘って
特性上問題となる摩耗な°受けることがな（、したがっ
て摩耗粉の発生もほとんどなく、ヘッドクラッシュを起
こ丁ことのない表面保護性の高い磁気ディスクを容易か
つコスト高を招（ことなく製造することができる。
また、保護被膜としての金属酸ｆヒ物層は、素地に充分
に密着していることが大切なことは言５までもないが、
それと同時に均一かつ薄膜であることも重要な要素とな
る。つまり、金属酸化物層表面の荒れ、膜厚の不均一が
起こると、この゛金属酸ｆヒ物層は磁気ディスクの保護
層として実用に供することができない。これに対し１本
方法のように有機酸を用いると、酸比力の調整が容易と
なり、表面の荒れのない膜厚の均一かつ薄い金属酸化物
ノーを形成することができ、きわめて高品質の磁気ディ
スクが得られる。
に密着していることが大切なことは言５までもないが、
それと同時に均一かつ薄膜であることも重要な要素とな
る。つまり、金属酸化物層表面の荒れ、膜厚の不均一が
起こると、この゛金属酸ｆヒ物層は磁気ディスクの保護
層として実用に供することができない。これに対し１本
方法のように有機酸を用いると、酸比力の調整が容易と
なり、表面の荒れのない膜厚の均一かつ薄い金属酸化物
ノーを形成することができ、きわめて高品質の磁気ディ
スクが得られる。
次に、この発明を実施例によりさらに詳しく説明する。
「実施例」
図に示すよ５に、非磁性基板として充分に小さなうねり
（円周方向で５０μｍ以下かつ半径方向で１０５ｍ以下
）をもつ面に仕上げた円板状のアルミ臣つム合金板ｌ上
に無電解めっきにより２０μｍ厚のニッケル・リン合金
ｊｌｔ層（磁性材層）２を形成した。このニッケル・リ
ン合金層２の表面２ａを表面粗さＲｍａｘＱ、１μｍ（
ｃ研磨仕上げし、この上に無電解めっきにより０．ｌＯ
Ｉｔｍ厚のコバルト・リン合金Ｎ（ａ性材層）３を形成
した０次に、このようにして作製したディスクを８０°
Ｃに加温しＴ−２０％濃度の酢酸に浸漬して５分間保っ
た。この処理の後、純水により洗浄し。
（円周方向で５０μｍ以下かつ半径方向で１０５ｍ以下
）をもつ面に仕上げた円板状のアルミ臣つム合金板ｌ上
に無電解めっきにより２０μｍ厚のニッケル・リン合金
ｊｌｔ層（磁性材層）２を形成した。このニッケル・リ
ン合金層２の表面２ａを表面粗さＲｍａｘＱ、１μｍ（
ｃ研磨仕上げし、この上に無電解めっきにより０．ｌＯ
Ｉｔｍ厚のコバルト・リン合金Ｎ（ａ性材層）３を形成
した０次に、このようにして作製したディスクを８０°
Ｃに加温しＴ−２０％濃度の酢酸に浸漬して５分間保っ
た。この処理の後、純水により洗浄し。
これを乾燥して最外層に酸化コバルト層（金属酸化物層
）４を形成した。最後にこの酸化コバルト１輪４上に潤
滑剤としてパーフロロポリエーテル５を約０．０１μｍ
塗布した。
）４を形成した。最後にこの酸化コバルト１輪４上に潤
滑剤としてパーフロロポリエーテル５を約０．０１μｍ
塗布した。
上記のようにして裏道した磁気ディスクを２×１０回の
ｃｓｓｙスト（コンタクト・スタート・ストップテスト
）に供した結果、電磁変換特性に変化は認められず、摩
耗粉の発生も、ヘッドクラッシュの発生も見られなかっ
た。これによりこの発明の方法により製造した磁気ディ
スクは、丁ぐれた耐久性を有し、高信頼性、高品質性を
もつことが確められた。
ｃｓｓｙスト（コンタクト・スタート・ストップテスト
）に供した結果、電磁変換特性に変化は認められず、摩
耗粉の発生も、ヘッドクラッシュの発生も見られなかっ
た。これによりこの発明の方法により製造した磁気ディ
スクは、丁ぐれた耐久性を有し、高信頼性、高品質性を
もつことが確められた。
「効果」
以上説明したように、この発明に係る磁気ディスクの製
造方法は、最外層を形成している磁性材、・層またはこ
の磁性材層上にさらに形成された非磁゛注材層を有機酸
により酸化して最外層に不純物の混入のない金属酸化物
層を均一に、かつ容易、安価に形成するものなので、経
時的なヘッドの摺接によって表面が摩耗されることが少
な（、摩耗粉の発生もほとんど見られず、丁ぐれた耐久
性を発揮し１．高信頼性、高品質な磁気ディスクを容易
かつコスト高を招くことなく製造することができる。
造方法は、最外層を形成している磁性材、・層またはこ
の磁性材層上にさらに形成された非磁゛注材層を有機酸
により酸化して最外層に不純物の混入のない金属酸化物
層を均一に、かつ容易、安価に形成するものなので、経
時的なヘッドの摺接によって表面が摩耗されることが少
な（、摩耗粉の発生もほとんど見られず、丁ぐれた耐久
性を発揮し１．高信頼性、高品質な磁気ディスクを容易
かつコスト高を招くことなく製造することができる。
図はこの発明の方法によって製造した磁気ディスクの−
例を示す断面構成図である。 ■・・・アルミニウム合金板（非磁性基板）、２・・・
ニッケル・リン合金層Ｃｍ性材層】、３・・・コバルト
・リン合金層（磁性材層］、４・・・酸化コバルトｊ＠
（金属酸化物層〕、５・・・パープロロポリエーテル
（潤滑剤］。
例を示す断面構成図である。 ■・・・アルミニウム合金板（非磁性基板）、２・・・
ニッケル・リン合金層Ｃｍ性材層】、３・・・コバルト
・リン合金層（磁性材層］、４・・・酸化コバルトｊ＠
（金属酸化物層〕、５・・・パープロロポリエーテル
（潤滑剤］。
Claims (1)
- ディスク本体の最外層の磁性材層または非磁性金属材層
の表面を有機酸によつて酸化し、前記ディスク本体の最
外層に保護被膜となる金属酸化物層を形成することを特
徴とする磁気ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12580584A JPS615436A (ja) | 1984-06-19 | 1984-06-19 | 磁気デイスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12580584A JPS615436A (ja) | 1984-06-19 | 1984-06-19 | 磁気デイスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS615436A true JPS615436A (ja) | 1986-01-11 |
Family
ID=14919341
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12580584A Pending JPS615436A (ja) | 1984-06-19 | 1984-06-19 | 磁気デイスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS615436A (ja) |
-
1984
- 1984-06-19 JP JP12580584A patent/JPS615436A/ja active Pending
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