JPS63206909A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は高密度磁気記録再生に適する垂直磁気記録用の
磁気記録媒体に関するものである。

従来の技術 次の世代の高密度化を担う磁気記録技術として、新しい
垂直磁気記録方式が注目されている〔外国論文誌：ＩＥ
ＥＥ　　ＴＲＡＮＳＡＣＴＩＯＮＳ　　ＯＮＭＡＧＮＥ
ＴＩＣ５Ｖｏｌ、ＭＡＧ　　１３．ＮＯ，５゜Ｐ、Ｐ、
１２７２〜１２７７　（１９７７）参照〕。

垂直記録では、媒体面に垂直な反平行磁化１訳移を形成
させることから、磁化転移が極めて狭いものとなり、高
密度化が可能となるが、このためには、垂直異方性を有
する媒体を用いる必要があり、優れた信号対雑音化（以
下Ｃ／Ｎと記す）と耐久性を満足せしめた媒体として、
大量に製造できる技術開発が急務である〔応用磁気セミ
ナ「垂直磁気記録方式」（６０年１２月）参照〕。

垂直磁化膜としてはＣｏ−Ｃｘが代表的で、スパッタリ
ング法、電子ビーム蒸着法等により、ポリイミド、ポリ
アミドイミド等の上に直接又は、Ｃｒ、Ｔ　ｔＳＳｔ、
Ｇｏ膜或いはパーマロイ薄膜を介して形成され、バー７
０ロポリエーテル等の保護潤滑層を配したものが知られ
る〔例えば、特公昭６１−５３７７０号公報、特開昭６
１−１５１８３０号公報、等参照〕。又、更に耐久性を
向上させるために、第２図に示したように微細な凹凸を
表面に形成する提案もなされている。第２図で１はポリ
エチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等
の高分子フィルムで、２は微粒子塗布層で、Ｓ　ｉ０２
　、Ａｊ’２０３、ＴｉＯ２、油性エマルジョン等を塗
布して構成されるもので、３はＴｉ、Ｇｅ等の下地層、
４はＣｏ　　Ｃｒ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｎｂ等の垂直磁化膜、
５はパー７０ロカルポン酸、パーフロロカルボン酸、パ
ー７０ロアルキルヤルボン酸、パー７０ロポリエーテル
、プラズマ重合膜等の保護潤滑層である〔特開昭５９−
１２１６３１号公報、特開昭６０−２１９６２１号公報
、特開昭５９−２０７４２２号公報、特開昭６１−１６
０２０号公報、特公昭５Ｂ−９１号公報、特開昭６１−
７７１２８号公報、特開昭６１−２２０１１６号公報等
参照〕。

発明が解決しようとする問題点 しかしながら、上記した構成では、耐久性の改良はみら
れるものの、本来の高密度記録再生特性が犠牲になるた
め改善が望まれていた。

本発明は上記事情に鑑みなされた゛もので、耐久性と高
密度記録再生特性の両者を共に改良した磁気記録媒体を
提供するものである。

問題点を解決するための手段 上記した間電点を解決するため、本発明の磁気記録媒体
は、微粒子を含まない平滑な高分子フィルム上に、第１
垂直磁化膜を配し、その上に微粒子塗布層を配した上第
２垂直磁化膜を配したものである。

作　　用 本発明の磁気記録媒体は、上記した構成により、第１垂
直磁化膜の結晶に乱れが生じないため、第２垂直磁化膜
も、微粒子塗布層があっても、エピタキシー的に結晶成
長が行われるため、雑音の原因となる結晶の乱れが少な
いので雑音が改良されるのと、磁電的に微細粒子化され
る効果とあわされて、Ｃ／Ｎが記録密度が高くても良好
なものとなり、微粒子による凹凸形成での耐久性向上も
維持されることになる。

実施例 以下、図面を参照しながら本発明の磁気記録媒体の一実
施例について説明する。第１図は本発明の一実施例に係
る磁気記録媒体を示す拡大断面図である。第１図で６は
５ｉ０２、ＣａＣＯ３、等の無機微粒子を含まない、好
ましくは重合触媒残有に基ずく微粒子を核とした突起も
含まないピュアなポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポ
リエーテルサルフオン、ポリアミドイミド、ポリイミド
等の高分子フィルムで、触針式の粗さ計で測定した粗さ
は、１０人から１００＾、好ましくは２０＾から５０尺
の平滑なものが適している。７はＣｏ　−Ｃｒ　、　Ｃ
ｏ　−Ｗ　１Ｃｏ　−Ｍ　ｏ、Ｃｏ−Ｔｉ。

Ｃｏ−Ｃｒ−Ｎｂ％Ｃｏ　　Ｄ、Ｃｏ　　Ｃｒ−Ｍｏ等
の第１垂直磁化膜で、電子ビーム蒸着法、高＠波スパッ
タリング去等により形成されるもので、膜厚は後述する
第２垂直磁化膜をあわせた全厚の５０％から７５％の構
成とするのが好ましい。８は微粒子塗布層で、酸化鉄、
５ｉ０２、Ａ　ｌ　２０３　、ＣａＣＯ３、カーボン、
ポリエステル球、高分子ラテックス等の微粒子を微量の
ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等で固定したもので、
粒子径は５０Ａから５０ＯＡ、好ましくは８０′Ａ〜２
００＾が適している。微粒子密度は０．１〜１００ケ／
（μｍ）２のｉ（α囲が好ましい。９は第２垂直磁化膜
で、必要がなければ、特に第１垂直磁化膜と異なる材質
にすることはないし、同一材料の方が、又、微粒子塗布
層も、樹脂を用いない方が、Ｃ／Ｎを高くできるもので
ある。１０は保護潤滑層で、ダイアモンド状硬質炭素膜
、Ｍ　ｏ　Ｓ　２スパツタ膜、プラズマ重合膜と、フッ
素オイル、脂肪酸、シリコーン化合物等の潤滑剤の組み
合わせが良く用いられる。

以下、更に具体的に比較例との対比で説明する。

厚み１０μｍの微粒子、フィッシュアイに基ずく突起の
ない、粗さ３０Ａのポリエチレンテレフタレートフィル
ム表面を１０（ＫＨ２）、２００（Ｖｊ）、Ａｒ　ｌＸ
ｌ０−２（Ｔｏｒｒ）のグロー放電処理して、Ｃｏ　−
Ｃｒ　（Ｃｒ　；　２０．５ｗｔ％）をスパッタ蒸着し
た。

Ａｒ；６Ｘ１０−３（Ｔｏｒｒ）１３．５６（ＭＨｚ）
、１．１（Ｋｗ）のグロー放電を用い、直径５０ｃ＋＋
＋の２０’Ｃに保った円筒キャンに沿わせてフィルムを
巻取りながらスパッタ蒸着を行い、第１垂直磁化膜とし
て、０．０８μｍを形成した。その上に、直径９０Ｘの
酸化鉄微粒子を、樹脂を使わずに溶剤のみで塗布し、平
均８ケ／（μｍ）２の密度で配し、その上に、Ｃｏ　−
Ｃｒ第２垂直磁化膜を０．０５μｍ形成し、その上にパ
ー７０ロオクタン酸を約５０λ真空蒸着してから８ミリ
幅の磁気テープを製造した。比較テープは、同一フィル
ム上に直径９０＾の酸化鉄微粒子を平均８ケ／（μｍ）
２配し、チタンを２６０λスパッタ蒸着しその上にＣｏ
−Ｃｒ垂直磁化膜を０．１３μｍ形成し、更にパー７０
ロオクタン酸を約５０人配し８ミリ幅のテープトシて準
備した。両者のテープを市販の８ミリビデオＣＶＸ−８
０１、松下電器産業■製〕を改造し、ギャップ長０．１
２μｍのフェライトヘッドで、トラック幅１０μｍ１記
録波長０．４μｍを記録再生し、Ｃ／Ｎを比較し、耐久
性を比較するのに５５°０９０％ＲＨに１Ｗ保存後、４
０℃１５％ＲＨでスチル再生を行い再生出力が３（ｄＢ
）を下するまでの時間で比較した。

Ｃ／Ｎは実施例の方が３．７（ｄＢ）良好で、スチル再
生持続時間は実施例が９２分〜９５分、比較例が３６分
〜９３分と実施例がいずれも優れていた。

発明の効果 以上のように本発明によれば、高密度磁気記録でのＣ／
Ｎと耐久性を共に満足せしめる磁気記録媒体が得られる
といったすぐれた効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例に係る磁気記録媒体の拡大断
面図、第２図は従来の磁気記録媒体の拡大断面図である
。 ６・・・・・・高分子フィルム、７・・・・・・第１垂
直磁化膜、８・・・・・・微粒子塗布層、９・・・・・
・第２垂直磁化膜。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 微粒子を含まない平滑な高分子フィルム上に、第１垂直
   磁化膜と、微粒子塗布層と、第２垂直磁化膜とを順次配
   したことを特徴とする磁気記録媒体。