JPS60261026A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS60261026A JPS60261026A JP11593184A JP11593184A JPS60261026A JP S60261026 A JPS60261026 A JP S60261026A JP 11593184 A JP11593184 A JP 11593184A JP 11593184 A JP11593184 A JP 11593184A JP S60261026 A JPS60261026 A JP S60261026A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- film
- recording medium
- magnetic recording
- magnetic
- Prior art date
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- Pending
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高密度磁気記録に適する磁気記録媒体に関する
。
。
従来例の構成とその問題点
近年、磁気記録分野での高密度化の進歩は目覚しく、と
りわけ、民生用の録画装置では、情報の1単位の面積が
8X10 (dの大きさにまで縮小化され、これ以上の
記録密度を実用化するには、いわゆる金属薄膜型磁気記
録媒体を用いることが必要であると考えられ、従来の記
録方式と同じ長手記録方式に変る新しい垂直記録方式の
提案もなされている。
りわけ、民生用の録画装置では、情報の1単位の面積が
8X10 (dの大きさにまで縮小化され、これ以上の
記録密度を実用化するには、いわゆる金属薄膜型磁気記
録媒体を用いることが必要であると考えられ、従来の記
録方式と同じ長手記録方式に変る新しい垂直記録方式の
提案もなされている。
垂直記録は短波長になる程、減磁界の影響が小さくなる
と考えられているものであるが、現在量も信頼性のある
リング型磁気ヘッドによる記録再生では十分な性能を得
ることができないため、テープ状磁気記録媒体の高密度
化に対応するのはむずかしいことが予測されている。
と考えられているものであるが、現在量も信頼性のある
リング型磁気ヘッドによる記録再生では十分な性能を得
ることができないため、テープ状磁気記録媒体の高密度
化に対応するのはむずかしいことが予測されている。
しかし、記録密度の向上の要求は民生用において特に強
く、トラック幅の短縮は勿論、短波長での再生時の信号
対雑音比(S/N)の改良された媒体構成が強く望まれ
ている。
く、トラック幅の短縮は勿論、短波長での再生時の信号
対雑音比(S/N)の改良された媒体構成が強く望まれ
ている。
発明の目的
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、リング型磁
気ヘッドによる短波長記録再生S/Nの改された磁気記
録媒体を提、供することを目的とする。
気ヘッドによる短波長記録再生S/Nの改された磁気記
録媒体を提、供することを目的とする。
発明の構成
本発明の磁気記録媒体は、垂直方向に磁化可能な層の上
に、面内に磁化可能な層を積層したことを特徴とし、リ
ング型磁気ヘッドによる記録再生でも優れたS/Nを得
ることの出来るものである。
に、面内に磁化可能な層を積層したことを特徴とし、リ
ング型磁気ヘッドによる記録再生でも優れたS/Nを得
ることの出来るものである。
実施例の説明
以下、図面を参照しながら実施例を説明する。
第1図は本発明の磁気記録媒体の拡大断面図で第2図は
S/Hの比較図である。
S/Hの比較図である。
第1図で1は高分子基板、2は垂直磁化可能な層、3は
面内に磁化可能な層で、保護層、バックコート層などは
適宜工夫して設けられるものである。
面内に磁化可能な層で、保護層、バックコート層などは
適宜工夫して設けられるものである。
本発明に用いることの出来る高分子基板は、ポリエチレ
ンテレフタレート等のポリエステル類。
ンテレフタレート等のポリエステル類。
ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルローストリ
アセテート等のセルロース誘導体、ポリアミド、ポリア
ミドイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリイミド等で
ある。
アセテート等のセルロース誘導体、ポリアミド、ポリア
ミドイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリイミド等で
ある。
本発明に用いることの出来る垂直磁化可能藩層は、Go
−Cr 、Co−V、Co−W、Co−P 、Co −
Mo 。
−Cr 、Co−V、Co−W、Co−P 、Co −
Mo 。
Co−Ti、Co−0,Co−Ni−0,Co−Ni−
Cr等のスパッタ膜、電子ビーム蒸着膜、イオンブレー
ティング膜等で、o、os〔μmlから0.3〔pm)
、好ましくは0.1[μm]から0.2[μm]で、垂
直方向の抗磁力は300[Oe)から1500しりeJ
、3i−j−’!tしくけ6o○〔6e〕から900
(Oe)である。
Cr等のスパッタ膜、電子ビーム蒸着膜、イオンブレー
ティング膜等で、o、os〔μmlから0.3〔pm)
、好ましくは0.1[μm]から0.2[μm]で、垂
直方向の抗磁力は300[Oe)から1500しりeJ
、3i−j−’!tしくけ6o○〔6e〕から900
(Oe)である。
本発明に用いることの出゛来る面内磁化可能な層は、C
o 、Go−Ni 、Co−Fe 、Co−B 、Co
−Cu 、C。
o 、Go−Ni 、Co−Fe 、Co−B 、Co
−Cu 、C。
−Cr 、 Co−F 、 Co−Go 、Co−Hf
、Go −Mn 、Co −Mg 、 Go−Mo
、 Co−P 、 Co−Ru 、、Co−8L 、
Go −5n。
、Go −Mn 、Co −Mg 、 Go−Mo
、 Co−P 、 Co−Ru 、、Co−8L 、
Go −5n。
Co−8m 、 Co −T i 、Co−Ta 、G
o−V、、Co −W 、Co −Zn、Co−Zr等
の薄膜又は部分酸化膜等であり、厚+0.06μmから
0.1mμmの範囲が好ましく、面内の抗磁力は、9o
○〔6e〕から1600 (Os )が好ましく、スパ
ッタ法、電子ビーム蒸着法、無電解メッキ法等で形成で
きるものである。
o−V、、Co −W 、Co −Zn、Co−Zr等
の薄膜又は部分酸化膜等であり、厚+0.06μmから
0.1mμmの範囲が好ましく、面内の抗磁力は、9o
○〔6e〕から1600 (Os )が好ましく、スパ
ッタ法、電子ビーム蒸着法、無電解メッキ法等で形成で
きるものである。
本発明の積層構成に於て、夫々の厚み、夫々の抗磁力等
は目的の波長域と、磁気ヘッド条件により、最適化すれ
ば良いが、基本的に短波長域での減磁界を実効的に小さ
くするには、垂直磁化層の飽和磁束密度を、面内磁化層
の飽和磁束密度の値“の半分以下にすることが好ましい
。
は目的の波長域と、磁気ヘッド条件により、最適化すれ
ば良いが、基本的に短波長域での減磁界を実効的に小さ
くするには、垂直磁化層の飽和磁束密度を、面内磁化層
の飽和磁束密度の値“の半分以下にすることが好ましい
。
本発明により、短波長でのS/Nが改良されるのは、リ
ング型磁気ヘッドで一度磁化されると、下層の垂直磁化
層が、記録を保持する役割を果たし、この層は短波長に
々る程、反平行磁界のため安定になり、保持力が安定に
なるので、減磁が小さくできるものである。
ング型磁気ヘッドで一度磁化されると、下層の垂直磁化
層が、記録を保持する役割を果たし、この層は短波長に
々る程、反平行磁界のため安定になり、保持力が安定に
なるので、減磁が小さくできるものである。
以下さらに具体的に一実施例を説明する。
厚み10.6μmのポリエチレンテレフタレートフィル
ム上に、高周波スパッタリング法(高周波13、rs6
’h/N+t)によりCo−Cr (C120wt%)
垂直磁化膜を、厚み0.12μm形成した。この膜は垂
直抗磁力630 (Os) 、飽和磁束密度23oO〔
G〕である。
ム上に、高周波スパッタリング法(高周波13、rs6
’h/N+t)によりCo−Cr (C120wt%)
垂直磁化膜を、厚み0.12μm形成した。この膜は垂
直抗磁力630 (Os) 、飽和磁束密度23oO〔
G〕である。
この上に、直径60儂の円筒状キャンに沿わせて、連続
入射角変化蒸着法により、入射角90゜から4o0まで
の入射角で斜め蒸着し、部分酸化されたCo−Ni (
Ni21 wt%)膜Q、1μmを形成した。蒸着中の
酸素分圧はI Xl 0 ”Torrである。
入射角変化蒸着法により、入射角90゜から4o0まで
の入射角で斜め蒸着し、部分酸化されたCo−Ni (
Ni21 wt%)膜Q、1μmを形成した。蒸着中の
酸素分圧はI Xl 0 ”Torrである。
この膜は、面内抗磁力1000(Os)]、飽和磁束密
度61oO〔G〕である。
度61oO〔G〕である。
この構成の磁気テープをAとし、比較テープを高周波ス
パッタリング法により、2種類準備した。
パッタリング法により、2種類準備した。
テープBば、厚み14μmのポリイミドフィルム上にN
i−Fe (Ni80wt%)膜0.48pm、 Co
−Or (Cr20wt%)垂直磁化膜0.115p
m 形成した。垂直抗磁力は、1100〔6e〕である
。
i−Fe (Ni80wt%)膜0.48pm、 Co
−Or (Cr20wt%)垂直磁化膜0.115p
m 形成した。垂直抗磁力は、1100〔6e〕である
。
テープCは、垂直抗磁力1000 (Oe :)のCo
−Or(Or20wt%)膜0.2μmだけ配したも
のである。
−Or(Or20wt%)膜0.2μmだけ配したも
のである。
この3種類のテープを比較する上でそれぞれのフィルム
の表面粗さは平均50八にあわせた。
の表面粗さは平均50八にあわせた。
比較に用いたヘッドは、ギャップ長0.26μmのセン
ダスト合金リング型ヘッドと、主磁極としてセンダスト
合金(スパッタ膜)0.2μmを用いた補助磁極励磁型
垂直ヘッドの2種類で、テープAとテープCは、センダ
ストリング型ヘッド、テープBは垂直ヘッドと組み合わ
せた。
ダスト合金リング型ヘッドと、主磁極としてセンダスト
合金(スパッタ膜)0.2μmを用いた補助磁極励磁型
垂直ヘッドの2種類で、テープAとテープCは、センダ
ストリング型ヘッド、テープBは垂直ヘッドと組み合わ
せた。
第2図は、夫々の組み合わせで記録し、再生した時の記
録波長と”S/Nの関係である。
録波長と”S/Nの関係である。
この図より明らかに、本発明品は垂直記録での最良の実
験データと同等のBで示された波長特性より、4〜ts
[dB]の改良がされていることになり、短波長記録
の実用化の立場でみると、テープAの有価値性がよく理
解される。
験データと同等のBで示された波長特性より、4〜ts
[dB]の改良がされていることになり、短波長記録
の実用化の立場でみると、テープAの有価値性がよく理
解される。
発明の効果
本発明の磁気記録媒体は、垂直磁化膜の上に面内磁化膜
を配することで、短波長でのS/Nをリング型磁気ヘッ
ドでも実用水準に保つことができるもので、その実用的
効果は大きい。
を配することで、短波長でのS/Nをリング型磁気ヘッ
ドでも実用水準に保つことができるもので、その実用的
効果は大きい。
第1図は本発明の磁気記録媒体の拡大断面図、第2図は
本発明の磁気テープと従来テープとのS/Nの短波長域
での比較図である。 1−・・・・高分子基板、2・・・・・垂直磁化層、3
.・・面内磁化層。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第2図 入 〔μm]
本発明の磁気テープと従来テープとのS/Nの短波長域
での比較図である。 1−・・・・高分子基板、2・・・・・垂直磁化層、3
.・・面内磁化層。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第2図 入 〔μm]
Claims (1)
- 垂直方向に磁化可能な層の上に、面内に磁化可能な層を
積層したことを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11593184A JPS60261026A (ja) | 1984-06-06 | 1984-06-06 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11593184A JPS60261026A (ja) | 1984-06-06 | 1984-06-06 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60261026A true JPS60261026A (ja) | 1985-12-24 |
Family
ID=14674729
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11593184A Pending JPS60261026A (ja) | 1984-06-06 | 1984-06-06 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60261026A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6390026A (ja) * | 1986-10-03 | 1988-04-20 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1984
- 1984-06-06 JP JP11593184A patent/JPS60261026A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6390026A (ja) * | 1986-10-03 | 1988-04-20 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
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