JP2553621B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JP2553621B2 JP2553621B2 JP63076790A JP7679088A JP2553621B2 JP 2553621 B2 JP2553621 B2 JP 2553621B2 JP 63076790 A JP63076790 A JP 63076790A JP 7679088 A JP7679088 A JP 7679088A JP 2553621 B2 JP2553621 B2 JP 2553621B2
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は高密度磁気記録に適する強磁性金属薄膜を磁
気記録層とする磁気記録媒体に関する。
気記録層とする磁気記録媒体に関する。
従来の技術 現在最高の記録密度を得ている、磁気記録層表面との
回転磁気ヘッドとの直接摺動は、今後の高密度化を担う
強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体にとっ
て、耐久性の確保を重要な課題として位置づけさせるこ
とになっている。この課題解決の主流は、保護潤滑層に
より、直接磁気記録層表面を摺動に用いないようにする
ことで、炭化水素系化合物を用いて炭素を主成分とする
皮膜を設けたり(特開昭53−143206号公報)、ダイアモ
ンド構造をもつカーボン膜を設ける(特開昭59−127232
号公報)ことや、CF4ガスと炭化水素化合物のグロー放
電によりアモルファスカーボン膜を配したり(特開昭62
−279521号公報)、アモルファスカーボン膜とフロロカ
ーボン系の潤滑剤層を積層したもの(特開昭61−142525
号公報)プラズマ重合膜と有機物蒸着膜の積層(特開昭
61−151837号公報)パーフルオロアルキルカルボン酸の
真空蒸着膜(特開昭61−220116号公報)等が試みられて
いる。
回転磁気ヘッドとの直接摺動は、今後の高密度化を担う
強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体にとっ
て、耐久性の確保を重要な課題として位置づけさせるこ
とになっている。この課題解決の主流は、保護潤滑層に
より、直接磁気記録層表面を摺動に用いないようにする
ことで、炭化水素系化合物を用いて炭素を主成分とする
皮膜を設けたり(特開昭53−143206号公報)、ダイアモ
ンド構造をもつカーボン膜を設ける(特開昭59−127232
号公報)ことや、CF4ガスと炭化水素化合物のグロー放
電によりアモルファスカーボン膜を配したり(特開昭62
−279521号公報)、アモルファスカーボン膜とフロロカ
ーボン系の潤滑剤層を積層したもの(特開昭61−142525
号公報)プラズマ重合膜と有機物蒸着膜の積層(特開昭
61−151837号公報)パーフルオロアルキルカルボン酸の
真空蒸着膜(特開昭61−220116号公報)等が試みられて
いる。
一方、磁気記録層に微細な突起を配する方法(特開昭
59−207422号公報,特開昭59−223932号公報,特開昭60
−69816号公報)は上記した保護潤滑層と組み合わせる
ことで著しい耐久性向上をはかることができ有望視され
ている。
59−207422号公報,特開昭59−223932号公報,特開昭60
−69816号公報)は上記した保護潤滑層と組み合わせる
ことで著しい耐久性向上をはかることができ有望視され
ている。
発明が解決しようとする課題 しかしながら、従来提案されている微粒子塗布層上に
強磁性金属薄膜を配したものは、短波長になると、変調
ノイズが増加し、耐久性確保のための保護層によるスペ
ーシング損失とでC/Nが低下するため改善が望まれてい
た。本発明は上記した事情に鑑みなされたもので、C/N
と耐久性の優れた磁気記録媒体を提供するものである。
強磁性金属薄膜を配したものは、短波長になると、変調
ノイズが増加し、耐久性確保のための保護層によるスペ
ーシング損失とでC/Nが低下するため改善が望まれてい
た。本発明は上記した事情に鑑みなされたもので、C/N
と耐久性の優れた磁気記録媒体を提供するものである。
課題を解決するための手段 本発明の磁気記録媒体は、上記した課題を解決するた
め、高分子フィルム上に無機微粒子が平均的に分散した
部分と該微粒子の密分散域で囲まれたオリゴマー突起が
分布する部分から成る微粒子に基づく突起を有する強磁
性金属薄膜を磁気記録層としたものである。
め、高分子フィルム上に無機微粒子が平均的に分散した
部分と該微粒子の密分散域で囲まれたオリゴマー突起が
分布する部分から成る微粒子に基づく突起を有する強磁
性金属薄膜を磁気記録層としたものである。
作用 本発明の磁気記録媒体は上記した構成により、均一に
微粒子を分散したものと異なり、先ずオリゴマーが形成
する突起部がヘッド面と衝突することで、ヘッドに対す
る応力が弱まり、変調ノイズが改善され、テープ側から
みると、オリゴマーは均一にできないためオリゴマーが
変形した時オリゴマーの周囲に微粒子の密度の高い領域
を配してあるので、完全にオリゴマーが変形しきってし
まうまで応力を受けないですむ。したがって持続性が維
持され、平均的に分散した微粒子とで耐久性も向上する
ので、保護膜によるスペーシング損失を改善できること
からC/Nと、耐久性をバランスよく改善できることにな
る。
微粒子を分散したものと異なり、先ずオリゴマーが形成
する突起部がヘッド面と衝突することで、ヘッドに対す
る応力が弱まり、変調ノイズが改善され、テープ側から
みると、オリゴマーは均一にできないためオリゴマーが
変形した時オリゴマーの周囲に微粒子の密度の高い領域
を配してあるので、完全にオリゴマーが変形しきってし
まうまで応力を受けないですむ。したがって持続性が維
持され、平均的に分散した微粒子とで耐久性も向上する
ので、保護膜によるスペーシング損失を改善できること
からC/Nと、耐久性をバランスよく改善できることにな
る。
実施例 以下、図面を参照しながら本発明の一実施例について
詳しく説明する。図は本発明の磁気記録媒体の一実施例
の拡大断面図である。図で1はポリエチレンテレフタレ
ート,ポリフェニレンサルファイド,ポリカーボネー
ト,ポリエーテルサルフォン,ポリイミド等の高分子フ
ィルム、2はオリゴマーからなる突起である。3は該オ
リゴマーを囲む、密に無機微粒子が分散した突起群A、
4は無機微粒子が平均的に分散してくる突起群Bであ
る。上記オリゴマー突起は0.01〜4ケ/(μm)2、突
起群Aは突起群Bの密度の4〜100倍の密度に構成する
もので、突起群Bは5〜200ケ/(μm)2の範囲で構
成するのが好ましい。5はCo−Ni,Co−Cr,Co−O,Co−T
i,Co−Mo,Co−Ni−O,Co−Cr−Nb等の強磁性金属薄膜
で、電子ビーム蒸着法,スパッタリング法等により形成
されるもので、6は保護潤滑剤層で、プラズマ重合膜,
炭素膜,MoS2膜,脂肪酸,脂肪酸アミド等の組み合わせ
で適宜構成すればよい。
詳しく説明する。図は本発明の磁気記録媒体の一実施例
の拡大断面図である。図で1はポリエチレンテレフタレ
ート,ポリフェニレンサルファイド,ポリカーボネー
ト,ポリエーテルサルフォン,ポリイミド等の高分子フ
ィルム、2はオリゴマーからなる突起である。3は該オ
リゴマーを囲む、密に無機微粒子が分散した突起群A、
4は無機微粒子が平均的に分散してくる突起群Bであ
る。上記オリゴマー突起は0.01〜4ケ/(μm)2、突
起群Aは突起群Bの密度の4〜100倍の密度に構成する
もので、突起群Bは5〜200ケ/(μm)2の範囲で構
成するのが好ましい。5はCo−Ni,Co−Cr,Co−O,Co−T
i,Co−Mo,Co−Ni−O,Co−Cr−Nb等の強磁性金属薄膜
で、電子ビーム蒸着法,スパッタリング法等により形成
されるもので、6は保護潤滑剤層で、プラズマ重合膜,
炭素膜,MoS2膜,脂肪酸,脂肪酸アミド等の組み合わせ
で適宜構成すればよい。
以下、更に具体的に本発明の一実施例について詳しく
説明する。厚み10μmのポリエチレンテレフタレートフ
ィルム上にシリコーンオイルを水の接触角が88度になる
ように極めて薄く塗布した状態で、直径150ÅのSiO2微
粒子を平均密度15ケ/(μm)2となるよう塗布した。
その結果、0.07ケ/(μm)2の密度で微粒子のないほ
ぼ円形の部分が(直径0.8μm)形成され、その部分か
らは、後述するオリゴマーが析出し、円形のオリゴマー
以外に微粒子のない部分を取り囲んで、直径0.8μmか
ら1.2μmの間に平均密度で100ケ/(μm)2配設され
た微粒子塗布層が形成されたものである。次に酸素分圧
3×10-5(Torr)〜35×10-5(Torr)でCo−Ni(Co:Ni
=80:20)を最小入射角42度で0.1μm電子ビーム蒸着し
た。その際前述したようにオリゴマーが析出するように
直径1mの円筒キャンの表面温度を120℃として蒸着を行
った。析出したオリゴマーを核にして、形成されたCo−
Ni−O膜の突起は高さがSiO2微粒子の形成する突起よ
り、60〜100Å高く、3〜6倍の拡がりをもっていた。
磁気記録層の上に、真空蒸着法でパーフルオロオクタン
酸を約60Å形成し、8ミリ幅の磁気テープを得た。一方
比較例として、厚み10μmのポリエチレンテレフタレー
トフィルム上に、300V,300(W),Ar+O2=8×10-2(T
orr)Ar:O2=1:2のグロー放電処理後、直径200ÅのSiO2
微粒子を19ケ/(μm)2配し、その上にCo−Niをキャ
ン温度を35℃とした以外は実施例と同じ条件で0.1μm
電子ビーム蒸着し、更にその上にグラファイトをターゲ
ットにして100Åのアモルファスカーボン膜を配してか
らパーフルオロオクタン酸を60Å蒸着し、8ミリ幅の磁
気テープを準備した。両者のテープを8ミリビデオを改
造し、ギャップ長0.24μmのメタルインギャップアモル
ファスヘッドで、輝度信号の周波数を7(MHz)とし
て、記録再生した。初期の出力は実施例が2.7(dB)良
好で、40℃85%RHでは150回再生後の再生出力は夫々初
期値に対し、実施例,比較例ともに−0.7〜−1.1(dB)
の範囲で、5℃85%RHでは、夫々−0.6〜−1.0(dB)の
範囲で、相対値に比較すると実施例の方が出力が大きい
状態で実用に供せることができることがわかる。C/Nも
ほぼ出力に比例した値であった。
説明する。厚み10μmのポリエチレンテレフタレートフ
ィルム上にシリコーンオイルを水の接触角が88度になる
ように極めて薄く塗布した状態で、直径150ÅのSiO2微
粒子を平均密度15ケ/(μm)2となるよう塗布した。
その結果、0.07ケ/(μm)2の密度で微粒子のないほ
ぼ円形の部分が(直径0.8μm)形成され、その部分か
らは、後述するオリゴマーが析出し、円形のオリゴマー
以外に微粒子のない部分を取り囲んで、直径0.8μmか
ら1.2μmの間に平均密度で100ケ/(μm)2配設され
た微粒子塗布層が形成されたものである。次に酸素分圧
3×10-5(Torr)〜35×10-5(Torr)でCo−Ni(Co:Ni
=80:20)を最小入射角42度で0.1μm電子ビーム蒸着し
た。その際前述したようにオリゴマーが析出するように
直径1mの円筒キャンの表面温度を120℃として蒸着を行
った。析出したオリゴマーを核にして、形成されたCo−
Ni−O膜の突起は高さがSiO2微粒子の形成する突起よ
り、60〜100Å高く、3〜6倍の拡がりをもっていた。
磁気記録層の上に、真空蒸着法でパーフルオロオクタン
酸を約60Å形成し、8ミリ幅の磁気テープを得た。一方
比較例として、厚み10μmのポリエチレンテレフタレー
トフィルム上に、300V,300(W),Ar+O2=8×10-2(T
orr)Ar:O2=1:2のグロー放電処理後、直径200ÅのSiO2
微粒子を19ケ/(μm)2配し、その上にCo−Niをキャ
ン温度を35℃とした以外は実施例と同じ条件で0.1μm
電子ビーム蒸着し、更にその上にグラファイトをターゲ
ットにして100Åのアモルファスカーボン膜を配してか
らパーフルオロオクタン酸を60Å蒸着し、8ミリ幅の磁
気テープを準備した。両者のテープを8ミリビデオを改
造し、ギャップ長0.24μmのメタルインギャップアモル
ファスヘッドで、輝度信号の周波数を7(MHz)とし
て、記録再生した。初期の出力は実施例が2.7(dB)良
好で、40℃85%RHでは150回再生後の再生出力は夫々初
期値に対し、実施例,比較例ともに−0.7〜−1.1(dB)
の範囲で、5℃85%RHでは、夫々−0.6〜−1.0(dB)の
範囲で、相対値に比較すると実施例の方が出力が大きい
状態で実用に供せることができることがわかる。C/Nも
ほぼ出力に比例した値であった。
発明の効果 以上のように本発明によれば、高密度記録再生特性と
耐久性を共にバランスよく改善できるといったすぐれた
効果がある。
耐久性を共にバランスよく改善できるといったすぐれた
効果がある。
図は本発明の一実施例の磁気記録媒体の拡大断面図であ
る。 1……高分子フィルム、2……オリゴマー突起、3……
突起群A、4……突起群B、5……強磁性金属薄膜、6
……保護潤滑剤層。
る。 1……高分子フィルム、2……オリゴマー突起、3……
突起群A、4……突起群B、5……強磁性金属薄膜、6
……保護潤滑剤層。
Claims (1)
- 【請求項1】高分子フィルム上に無機微粒子が平均的に
分散した部分と、該微粒子の密分散域で囲まれたオリゴ
マー突起が分布する部分から成る微粒子に基づく突起を
有する強磁性金属薄膜を磁気記録層としたことを特徴と
する磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63076790A JP2553621B2 (ja) | 1988-03-30 | 1988-03-30 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63076790A JP2553621B2 (ja) | 1988-03-30 | 1988-03-30 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01251312A JPH01251312A (ja) | 1989-10-06 |
JP2553621B2 true JP2553621B2 (ja) | 1996-11-13 |
Family
ID=13615416
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63076790A Expired - Fee Related JP2553621B2 (ja) | 1988-03-30 | 1988-03-30 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2553621B2 (ja) |
-
1988
- 1988-03-30 JP JP63076790A patent/JP2553621B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH01251312A (ja) | 1989-10-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |