JPS6342020A - 粒状面磁性層を有する磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は磁気記録媒体に関し、特に薄膜型磁気記録媒体
に関し、更に詳しくは薄膜型磁気ディスクに関する。

（従来の技術） 磁気記録に対して、その記録の高密度化が要求されるに
伴い、磁性層はバイング中に磁性粉を分散させた磁性塗
料を塗布する塗布型磁性層から、磁性体を稠密に充填で
きる真空蒸着法、スパッタリング法で磁性層を形成する
薄膜型磁性層に移り、更に従来の水平記録方式から飛躍
的に高密化が図れる垂直記録方式が着目され実用化の段
階に到った。

磁気記録の前記一般的傾向は磁気ディスク分野に於ても
反映されている。ＪｌｌＩち３６５〜５インチディスク
等の小型高密度！！置が開発されて小径のディスクが用
いられるに及び、該小径ディスクと１ａ２Ｃヘッド間の
相対速度の低下による再生出力、Ｓ／Ｎ比の劣化を出力
の大きい高密度化磁性層に換えることにより補償し、高
出力、高記録線密度、高トラック老友とすることが計ら
れている９更に磁気ディスクの場合は磁気ヘッドの浮上
量の減少と共に磁気ディスク構成層のｉｖ４化は、それ
に対する強い要求に応じて急速に進んでいる。

該磁気ディスクの層構成はアルミニウム合金等の非磁性
基体上にクローム等の非磁性薄層を設けその上にコバル
ト合金等の強磁性層を設け、所定の磁気特性、電磁変換
特性を調えている。

尚電磁変換特性は前記のような技術努力によって再生出
力については現段階に於てトＩぼ満足される程度に到っ
ているがＳ／Ｈについては未だ不充分である。

この原因は不明であるが磁性層がその形成条件によって
微妙に変化することが認められ、磁性層構造との関係が
充分に検討されることが必要であると思われる。

更に前記磁性層は高密度化を狙う限り薄膜型であること
が必須となるが真空蒸着或はスパッタリング等の気相堆
積法でＡ１合金等の基体に施したメツ斗層を鏡面仕上げ
した面上に形！＆された磁性層は、従来の如くバインダ
等による磁性層或は磁性体に対する緩衝作用、表面過擦
に対する保護作用がなく、磁性体は外界からの物理的衝
撃、化学的刺戟に討し無防備に裸呈し、ａ返される記録
、再生に対する磁気記録媒体の耐用性は甚だ乏しい。

特にフンタクトスタートストップ（ＣＳ　Ｓ　）方式の
磁気ディスク装置で相当な高回転をする磁気ディスクに
於ては致命的損傷を蒙る。

従って薄膜型磁性層を有する磁気記録媒体特に磁気ディ
スク表面には保護層を設けることが通常であり、保護層
として機械的保護効果、滑面効果更に耐蝕性を兼備える
ように、炭素、モリブデン、二硫化モリブデンその他の
単体、化合物或はそれらの複合素材が工夫され、保護Ｍ
素材の特性に合わせて直流二極スパッタ法、高周波二極
スパッタ法、化学蒸着法（ＣＶＤ）或は塗布法その他に
よって、出力のスペースロスが許容範囲に収るように多
くは０．１μｌ以下の保ｉ１層が設けられる。

（発明の目的） 本発明の目的は前記した金属？ｉ膜磁性層を有する磁気
ディスクの欠点に照し、再生出力を低下させることなく
　Ｓ／Ｎを向上させた且つ耐久性及び耐用性の高い磁気
ディスクを提供することにある。

（発明の構成） 前記本発明の目的は、非磁性基体上に金属薄膜磁性層を
有する磁気記録媒体に於て、前記磁性層の表面が大きさ
０．０３〜０．３μ厘の粒塊突起からなる粒状面である
ことを特徴とする磁気記録媒体によって達成される。

前記粒塊は球状、紡錘状、棒状或は針状等粒塊を呈する
任意の形状であってよいが、長袖、短軸等で表わされる
大きさは０．０３〜０．３μｌであることが必要である
。即ちその下限以下及び上限以上の範囲に於ては、出力
、Ｓ／Ｎ及びＣ８Ｓ耐用性が低下する。

本発明に係る金属薄膜磁性層は、気相堆積法即ち真空蒸
着法、スパッタリング法、イオンプレーテング法、化学
蒸着法或は対向ターデッドスパッタ法等を用いて設ける
ことができる。

本発明に特定する粒状面をなす￥ｉ塊の大きさ、形状は
使用する気相堆積法の種類及び使用する金属種に応じて
堆積条件を探索、選定することによって定めることがで
終る。

第１図に該粒状面の電子顕微鏡写真（ｘ５０，０００）
を示した。

本発明における強磁性＊属薄膜としては、Ｆｅ、Ｃｏ、
Ｎｉ等の金属あるいはＦｅ　　Ｃｏ、　Ｆｅ−Ｎｉ。

Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ａｌ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ａ
１−Ｎ１５Ｆｅ−Ｒｈ％Ｆｅ−Ｃｕ％Ｃｏ−ＣＬＩ％Ｃ
ＯＡｕ。

Ｇｏ−Ｙ、Ｃｏ　　Ｌａ５Ｃｏ−Ｐｒ、Ｃｏ　　Ｃｄ５
Ｃｏ−８ｎ、Ｃｏ　−Ｐ　ＬｌＮ　ｉ　−Ｃｕ、Ｍ　ｎ
　−Ｂ　ｉ％Ｍ　ｎ−Ｓ　ｂ。

Ｍｎ　　　ＡＩＳ　Ｆｅ−Ｃｒ５　Ｃｏ−Ｃｒ、　　Ｎ
ｉ　　　Ｃｒ、　　ＦｅＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ等のような強
磁性合金を気堆積によって薄膜状に形成したものが用い
られる。この’ｋＭ薄膜の厚さは５００＾から５０００
八位が好ましい。

本発明の磁気ディスクに用いる基体としては、ポリエス
テル、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリ
アミド、ポリアミドイミド、ポリ塩化ビニル、三酢酸セ
ルロース、ポリカーボネート、ポリエチレンナ７グレー
トのようなプラスチックベースあるいはＡ１、Ａ１合金
、Ｔｉ、Ｔｉ合金、ステンレス鋼のような金属板等のよ
うな平角性のよい、厚み・寸度安定性がよく、変形し難
いものが用いられる。

本発明に於ては、前記磁性層に保護層及Ｖ／または潤滑
層を被覆して磁性層の耐久性及び耐用性従って磁気ディ
スクの耐久性、耐用性向上を図ることができる。

該保護層は慾布法によって設けてもよいが、磁性層に用
いたと同じく気相堆積法に拠った方が好しい。

本発明に用いろ保Ｃ１ｌＩｉ素材としては、クロム、非
磁性ニッケル、ロノウム、白金、酸化珪素、窒化！、！
、素、酸化クロム、カーボン、弗化黒鉛或は高分子物質
等が各素材の特性に適した条件で適用される。更に素材
としては檄械的な保護効果、過擦防止効果が大きく更に
化学的にｉｔ蝕性の大きなものが好ましい。

更に保護層の作用効果を上げるため特性を異にする複数
層としてもよい。

また保１！層は出力のスペーシングロスを抑えるために
薄い方がよいが、薄すぎると保護効果を失うので、０．
０１〜０．１５μｌが好ましい。

また潤滑層は潤滑性付与の物質の特性に応じて気相堆積
、塗布のいづれの手段をえらんでもよい。

即ちカーボンの如き潤滑性を与えるものであれば気相堆
積法が可能であるし、周知の燐酸エステル類の如き潤滑
剤ならば塗布方法を採ることができる。

尚本発明に於る磁性層は前記の如く全面に粒塊の作る狭
溝を有する粒状面をなし、またこれを被覆する保護層面
にもその粒状がそのまま写されるので、ノ内を手２弯成
ｒることなくバイングフリーのＷ４滑削単純溶液を塗布
、スプレーして潤滑剤を含浸した磁性層或は保護層とし
てもよい。それら表面の潤滑剤が取去られても含浸ｍ部
から次々と補給され潤滑性が維持されろ。

（実施例） 以下実施例により本発明の詳細な説明する。

実施例１ 直径１３０ｚｚ、　１．９を野原のアルミ合金基体上に
０．５μ膚のクロム下地層、０．０８μｌのＣｏＮｉ２
Ｏからなる磁性層を順次スパッタ法で設け、その上に更
に炭素をスパッターＬ０．０１μｌの保ａ層を設けた。

前記磁性層のスパッタ条件は下記の通りである。

到達真空度：　　　　　　　３Ｘ　１Ｏ−ＧＴｏｒｒア
ルゴン〃ス導入圧カニ　　ｌＸｌ０−２１’ｏｒｒスパ
ツタ電カニ　　　　　　　５００　　　　　　Ｗ基体温
度：４０　　　　　　℃ 堆積速度：３．５　　　　　＾／ｓｅｅ上記の条件で形
成した磁性層表面を電子顕微鏡で観察した所、第１図に
示す如き紡錘状の０．０３〜０．３μ次の粒塊突起を有
する粒状面であった。

比較例１ 実施例と同様の層構成にて表面の粒塊０．００８〜０．
０２μｌのものを作成した。尚この試料は平滑面磁性層
と看做される。

比較例２ 実施例と同様の層構成にて表面の粒！Ａ０．４ｗμ〜０
．４５μｌのものを作成した。

上記３例の磁気ディスク試料をハードディスク評価装置
にて出力及びＳ／Ｈの測定を行った。

使゛用ヘッドはＩＢＭ３３７０タイプＭｎ−Ｚｎｎモノ
リシックフェライトヘッド測定点は半径５５ミリ、回転
数は３６００ｒ、ｐ、論、、ヘッド浮上量は０．２７μ
ｌ、記録周波数２．５ＭＨｚである。

以上のように本発明によって出力及びＳ／Ｈにおいて２
〜３ｄＢの改良がなされている。

Ｃ８Ｓ耐久性も同様に向上した。

（発明の効果） ハードディスク以外にも薄膜型７０ツピーデイスクでも
ほぼ同じ効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は磁性層面に於る磁性体結晶の電子顕微鏡写真で
ある（倍率５０，０００）。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 非磁性基体上に金属薄膜磁性層を有する磁気記録媒体に
   於て、前記磁性層の表面が大きさ０．０３〜０．３μの
   粒塊突起からなる粒状面であることを特徴とする磁気記
   録媒体。