JPH0440620A - 磁気記録ディスク及びその製造方法 - Google Patents

磁気記録ディスク及びその製造方法

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JPH0440620A
JPH0440620A JP14725290A JP14725290A JPH0440620A JP H0440620 A JPH0440620 A JP H0440620A JP 14725290 A JP14725290 A JP 14725290A JP 14725290 A JP14725290 A JP 14725290A JP H0440620 A JPH0440620 A JP H0440620A
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JP
Japan
Prior art keywords
magnetic recording
magnetic
metal film
recording disk
recording layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP14725290A
Other languages
English (en)
Inventor
Eiji Kato
英司 加藤
Toshio Inao
俊雄 稲生
Akio Kondo
近藤 昭夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tosoh Corp
Original Assignee
Tosoh Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はコンピュータの外部記憶装置である磁気ディス
ク装置の記憶体などとして用いることのできる磁気記録
ディスクに関するものである。
(従来の技術) コンピュータの記憶媒体などとして磁気記録ディスクが
用いられている。この磁気記録ディスクはアルミニウム
合金、ガラス板あるいはプラスチック板などの硬質材料
からなる円板状の基板上に厚さ1μm以下の磁気記録層
を形成することにより構成されている。従来、このよう
な磁気記録ディスクの磁気記録層は、酸化鉄などの磁性
粉末をバインダと混合して基板上にスピンコーティング
法などの方法で塗布することにより得られていたが、こ
の方法により得られた磁気記録層を有する磁気記録ディ
スクには飽和磁化の大きさに限界があり、このことによ
り記録密度にも限界があったため、より大きい飽和磁化
を有する金属薄膜を磁気記録層として用いた磁気記録デ
ィスクが開発されてきている。このような磁気記録ディ
スクの磁気記録層はコバルトあるいはコバルト系合金な
どからなる薄膜を蒸着法、スパッタリング法などの薄膜
形成技術によって形成したり、コバルト−リン、コバル
ト一二ソケルーリンなどの合金薄膜を無電解メツキなど
の湿式法により形成することにより得られている。
ところで最近、高密度記録および短波長の信号記録を行
なうために、高保磁力の磁気記録ディスクか要求されて
いる。そこで、高保磁力の磁気記録ディスクとして磁気
記録層の厚みを薄くした磁気記録ディスクなどが提案さ
れている。しかしながら、このような磁気記録ディスク
は保磁力が高くなるものの、その一方で飽和磁束密度や
角形比が低下してしまい、その結果、高出力で高分解能
が得られないという欠点があった。
(発明が解決しようとする課題) 本発明の目的は、高密度記録および短波長の信号記録が
可能で、かつ高出力の信号が得られる磁気記録ディスク
を提供することにある。
(課題を解決するための手段) 本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討を行な
った結果、磁性金属膜およびマルテンサイト変態を伴な
う金属膜を積層してなる磁気記録層を有する磁気記録デ
ィスクは保磁力が高く、飽和磁束密度や角形比が低下し
ないものであることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。すなわち本発明は、非磁性下地層を被覆した基板上
に磁気記録層を有してなる磁気記録ディスクにおいて、
磁気記録層が磁性金属膜およびマルテンサイト変態を伴
なう金属膜を積層してなることを特徴とする磁気記録デ
ィスクである。
以下、本発明の磁気記録ディスクの一例を図面に基づい
て説明する。第1図は本発明の磁気記録ディスクの一例
の部分断面図である。本発明の磁気記録ディスクは第1
図に示すように、基板1に非磁性下地層2を被覆し、こ
の上に磁性金属膜3およびマルテンサイト変態を伴なう
金属膜4を積層してなる磁気記録層を有する。この基板
1としては円板状の、ニッケルーリンメツキ膜、陽極酸
化アルマイト膜などを被覆したアルミニウム合金、窒化
ケイ素焼結体、酸化アルミ焼結体などのセラミックスや
ステンレス、チタン合金などの金属、ガラスあるいはプ
ラスチックなどが用いられ、下地層2は金属クロムなど
からなる非磁性金属膜により500〜3000人程度の
厚さで構成される。
また、上記下地層2上に形成する磁気記録層は磁性金属
膜3およびマルテンサイト変態を伴なう金属膜4を積層
した構造からなるが、この積層は少なくとも基板1側か
ら磁性金属膜3/マルテンサイト変態を伴なう金属膜4
/磁性金属膜3の三層以上の積層構造を有し、最上層が
磁性金属膜3であれば特に限定はされない。第1図にお
いて例示される磁気記録ディスクは、磁性金属膜3が三
層、マルテンサイト変態を伴なう金属膜4が二層の積層
からなる磁気記録層を有している。上記磁気記録層にお
ける磁性金属膜3は例えばコバルト、コバルトニッケル
合金からなる磁性金属あるいはこれら磁性金属にクロム
、白金、タングステンなどの遷移金属元素の一種以上を
添加した磁性材料により構成することができ、マルテン
サイト変態を伴なう金属膜4は例えば亜鉛−アルミニウ
ム−銅合金などの材料から構成することができる。また
、これら金属膜の厚みは特に限定されないが、得られる
磁気記録ディスクの磁気特性を考慮して、磁性金属膜3
は50〜500人、マルテンサイト変態を伴なう金属膜
4は5〜50人とすることが好ましく、磁気記録層全体
の厚みは400〜800人とすることが好ましい。本発
明の磁気記録ディスクは以上のように磁気記録層が磁性
金属膜3およびマルテンサイト変態を伴なう金属膜4を
積層してなることにより、保磁力が向上し、飽和磁束密
度や角かた比の低下がないものとなる。更に、本発明の
磁気記録ディスクには例えば第1図に示すように、磁気
記録層を磁気記録ディスクのドライブ装置のヘッドから
保護するための炭素などの無機材料からなる保護層5、
上記ヘッドとの潤滑性を付与するための潤滑層6などを
適宜形成してもよい。
上述した本発明の磁気記録ディスクの非磁性下地層2及
び磁気記録層は例えば蒸着法あるいはスパッタリング法
などの方法により形成することができる。このうち磁気
記録層は、基板1を磁気記録層を構成するマルテンサイ
ト変態を伴なう金属膜のマルテンサイト変態点以上の温
度まで加熱しながら形成する必要がある。この変態点以
上は用いる材料によっても異なるが、例えば亜鉛−アル
ミニウム−銅合金材料においては200℃以上の温度で
ある。以上の方法によれば、磁気記録ディスクの製造過
程において、マルテンサイト変態を伴なう金属膜4はマ
ルテンサイト変態して形成される。本発明の磁気記録デ
ィスクにおける保磁力の向上は、このマルテンサイト変
態に伴ない生じるマルテンサイト変態を伴なう金属膜4
の体積増加により磁気記録層に内部応力が誘起されるこ
とに起因するものと考えられる。
(実施例) 以下、実施例により本発明の詳細な説明するが、本発明
はこれらに限定されるものではない。
実施例1 第1図に示す磁気記録ディスクを製造した。基板1とし
て平均表面粗さを約100人に研磨したニッケルーリン
メツキ膜を波器したアルミニウム合金を用い、この基板
1を200℃に加熱しながら、基板1上に厚さ2000
人の金属クロム膜からなる非磁性下地層2をDCスパッ
タリング法により形成した。次に非磁性下地層2上に、
基板1の加熱を続けながら、DCスパッタリング法によ
り磁気記録層を形成した。磁気記録層の形成ははじめに
ニッケルを20原子%含むコバルト−ニッケル合金から
なる磁性金属膜3を厚さ150人成膜し、この磁性金属
膜3上に亜鉛(13,5重量%)−アルミニウム(8,
0重量%)−銅(残部)合金からなるマルテンサイト変
態を伴なう金属膜4を厚さ20人成膜し、更にこの膜上
に上記と同様に磁性金属膜3を厚さ200人、マルテン
サイト変態を伴なう金属膜4を厚さ20人、磁性金属膜
3を厚さ200人積層して行なった。磁気記録膜の形成
後、基板1の加熱を終了し、室温まで冷却した後、厚さ
200人の炭素からなる保護層5をDCスパッタリング
法により形成し、該保護層5上に潤滑層6として液体潤
滑剤を塗布して磁気記録ディスクを製造した。
磁気記録ディスクの製造後、得られた磁気記録ディスク
の保磁力、飽和磁束密度および角形比をn]定した。そ
の結果を表1に示す。
層構造とした以外は実施例1と同様の方法で磁気記録デ
ィスクを製造し、磁気特性を測定した。その結果を表1
に示す。
比較例 磁気記録層を厚さ450人の磁性金属膜から構成した以
外は実施例1と同様の方法で磁気記録ディスクを製造し
、磁気特性を測定した。その結果を表1に示す。
表1 実施例2 磁気記録層を基板1側から厚さ150人の磁性金属膜3
/厚さ20人のマルテンサイト変態を伴なう金属膜4/
厚さ200人の磁性金属膜3の積(発明の効果) 以上述べたとおり、本発明の磁気記録ディスクは保磁力
の高いものであり、このことに伴う飽和磁束密度および
角形比の低下が生じないものとなる。従って、本発明の
磁気記録ディスクは高密度記録や短波長記録が可能とな
り、また高出力を得ることができるものとなる。
第 図
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の磁気記録ディスクの一実施態様の部分
断面図である。 図中、 1・・・基板       2・・・非磁性下地層3・
・・磁性金属膜 4・・・マルテンサイト変態を伴なう金属膜5・・・保
護層      6・・・潤滑層を各々示す。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)非磁性下地層を被覆した基板上に磁気記録層を有
    してなる磁気記録ディスクにおいて、磁気記録層が磁性
    金属膜およびマルテンサイト変態を伴なう金属膜を積層
    してなることを特徴とする磁気記録ディスク。
  2. (2)マルテンサイト変態を伴なう金属膜が亜鉛−アル
    ミニウム−銅合金からなることを特徴とする請求項第1
    項に記載の磁気記録ディスク。
  3. (3)非磁性下地層を被覆した基板上に、マルテンサイ
    ト変態を伴なう非磁性金属膜および磁性金属膜を、上記
    基板を上記マルテンサイト変態を伴なう非磁性金属膜の
    マルテンサイト変態点以上の温度まで加熱しながら成膜
    し、磁気記録層を形成することを特徴とする、非磁性下
    地層を被覆した基板上に磁性金属膜およびマルテンサイ
    ト変態を伴なう金属膜を積層してなる磁気記録層を有し
    てなる磁気記録ディスクの製造方法。
JP14725290A 1990-06-07 1990-06-07 磁気記録ディスク及びその製造方法 Pending JPH0440620A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SG104286A1 (en) * 2000-11-29 2004-06-21 Fuji Electric Co Ltd Magnetic recording medium and manufacturing process thereof
JP2005142550A (ja) * 2003-10-15 2005-06-02 National Institute For Materials Science 着磁可能な磁性薄膜構造体とその製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP4590600B2 (ja) * 2003-10-15 2010-12-01 独立行政法人物質・材料研究機構 着磁可能な磁性薄膜構造体とその製造方法

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