JPH0581642A - 磁気デイスク基板及び磁気デイスク - Google Patents
磁気デイスク基板及び磁気デイスクInfo
- Publication number
- JPH0581642A JPH0581642A JP27034491A JP27034491A JPH0581642A JP H0581642 A JPH0581642 A JP H0581642A JP 27034491 A JP27034491 A JP 27034491A JP 27034491 A JP27034491 A JP 27034491A JP H0581642 A JPH0581642 A JP H0581642A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic disk
- substrate
- magnetic
- head
- disk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ハードドライブ用磁気ディスクの記録密度向
上に伴なう磁気ヘッドの低浮上化に対し、磁気ヘッドの
低浮上を保証し、必要とする摩擦係数及び耐久性を可能
とする磁気ディスク及びそれを与える磁気ディスク基板
を提供する。 【構成】 剛性のあるディスク状の非磁性基板に、下地
層としてのＮｉ−Ｐメッキ層を形成してなる磁気ディス
ク基板において、半径方向の表面粗さがＲａで４０〜１
２０Åであり、且つＲｔｍで３５０〜７００Åである表
面状態を有すると共に、高さ：１００〜５００Å、直
径：０．５〜３μｍの微小突起を１０〜２５０個／ｍｍ
2 の密度で有している。
上に伴なう磁気ヘッドの低浮上化に対し、磁気ヘッドの
低浮上を保証し、必要とする摩擦係数及び耐久性を可能
とする磁気ディスク及びそれを与える磁気ディスク基板
を提供する。 【構成】 剛性のあるディスク状の非磁性基板に、下地
層としてのＮｉ−Ｐメッキ層を形成してなる磁気ディス
ク基板において、半径方向の表面粗さがＲａで４０〜１
２０Åであり、且つＲｔｍで３５０〜７００Åである表
面状態を有すると共に、高さ：１００〜５００Å、直
径：０．５〜３μｍの微小突起を１０〜２５０個／ｍｍ
2 の密度で有している。
Description
【０００１】
【技術分野】本発明は、磁気ディスク基板及びそれを用
いた磁気ディスクに係り、特にハードドライブ用磁気デ
ィスク（ハードディスク）の記録密度向上に伴なう磁気
ヘッドの低浮上化に対応し得る磁気ディスク及びそれを
与える磁気ディスク基板に関するものである。
いた磁気ディスクに係り、特にハードドライブ用磁気デ
ィスク（ハードディスク）の記録密度向上に伴なう磁気
ヘッドの低浮上化に対応し得る磁気ディスク及びそれを
与える磁気ディスク基板に関するものである。
【０００２】
【背景技術】従来から、磁気ディスク表面の磁気ヘッド
に対する必要とする摩擦係数、耐久性の確保のために、
そのような磁気ディスクを与える基板表面には、必要と
する範囲において、円周方向に多数の微細筋状溝を付与
して粗面化することからなるテキスチャー加工が施され
ている。而して、摩擦係数の低減には、テキスチャーに
よる基板面粗さを大きくすることによって、実現され得
るものであるが、耐久性については、テキスチャーによ
る粗さのみではなく、磁気ディスク表面の保護膜や潤滑
膜の特性によっても影響され、摩擦係数が低ければ、テ
キスチャーによる粗さの小さい方が、耐久性は向上す
る。従って、磁気ディスク基板には、摩擦係数や耐久性
を考慮して、最適粗さを有するように、テキスチャー加
工が行なわれているのである。
に対する必要とする摩擦係数、耐久性の確保のために、
そのような磁気ディスクを与える基板表面には、必要と
する範囲において、円周方向に多数の微細筋状溝を付与
して粗面化することからなるテキスチャー加工が施され
ている。而して、摩擦係数の低減には、テキスチャーに
よる基板面粗さを大きくすることによって、実現され得
るものであるが、耐久性については、テキスチャーによ
る粗さのみではなく、磁気ディスク表面の保護膜や潤滑
膜の特性によっても影響され、摩擦係数が低ければ、テ
キスチャーによる粗さの小さい方が、耐久性は向上す
る。従って、磁気ディスク基板には、摩擦係数や耐久性
を考慮して、最適粗さを有するように、テキスチャー加
工が行なわれているのである。
【０００３】一方、磁気ディスクの記録密度の向上に伴
って、磁気ディスクと磁気ヘッドとの間の距離を小さく
する磁気ヘッドの低浮上化が必要となってきているが、
それに応えるには、従来のテキスチャー基板を用いたハ
ードドライブ用磁気ディスクでは、次の点が問題となっ
ているのである。即ち、摩擦係数及び耐久性の確保され
た磁気ディスクのテキスチャーによる粗さのために、低
浮上化ヘッドの場合、磁気ディスク面上を走行中に、そ
の面とヘッドの接触による走行不能や磁気ディスク面の
破損が惹起される問題を生じるのである。また、磁気ヘ
ッドの低浮上化に対応し、テキスチャーによる磁気ディ
スク面粗さを低減させると、摩擦係数が増大し、ドライ
ブ停止中の磁気ディスク面と磁気ヘッドとの停止状態で
の接触により、吸着が発生し、再起動が困難となり、磁
気ヘッド及び磁気ディスク面の破損に至る場合もあるの
である。
って、磁気ディスクと磁気ヘッドとの間の距離を小さく
する磁気ヘッドの低浮上化が必要となってきているが、
それに応えるには、従来のテキスチャー基板を用いたハ
ードドライブ用磁気ディスクでは、次の点が問題となっ
ているのである。即ち、摩擦係数及び耐久性の確保され
た磁気ディスクのテキスチャーによる粗さのために、低
浮上化ヘッドの場合、磁気ディスク面上を走行中に、そ
の面とヘッドの接触による走行不能や磁気ディスク面の
破損が惹起される問題を生じるのである。また、磁気ヘ
ッドの低浮上化に対応し、テキスチャーによる磁気ディ
スク面粗さを低減させると、摩擦係数が増大し、ドライ
ブ停止中の磁気ディスク面と磁気ヘッドとの停止状態で
の接触により、吸着が発生し、再起動が困難となり、磁
気ヘッド及び磁気ディスク面の破損に至る場合もあるの
である。
【０００４】
【解決課題】本発明は、かかる事情を背景にして為され
たものであって、その課題とするところは、ハードドラ
イブ用磁気ディスクの記録密度向上に伴なう磁気ヘッド
の低浮上化に対し、磁気ヘッドの低浮上を保証し、必要
とする摩擦係数及び耐久性を可能とする磁気ディスク及
びそれを与える磁気ディスク基板を提供することにあ
る。
たものであって、その課題とするところは、ハードドラ
イブ用磁気ディスクの記録密度向上に伴なう磁気ヘッド
の低浮上化に対し、磁気ヘッドの低浮上を保証し、必要
とする摩擦係数及び耐久性を可能とする磁気ディスク及
びそれを与える磁気ディスク基板を提供することにあ
る。
【０００５】
【解決手段】そして、本発明は、かかる課題解決のため
に、剛性のあるディスク状の非磁性基板に、下地層とし
てのＮｉ−Ｐメッキ層を形成してなる磁気ディスク基板
において、半径方向の表面粗さがＲａで４０〜１２０Å
であり、且つＲｔｍで３５０〜７００Åである表面状態
を有すると共に、高さ：１００〜５００Å、直径：０．
５〜３μｍの微小突起を１０〜２５０個／ｍｍ2 の密度
で有していることを特徴とする磁気ディスク基板を、そ
の要旨とするものである。
に、剛性のあるディスク状の非磁性基板に、下地層とし
てのＮｉ−Ｐメッキ層を形成してなる磁気ディスク基板
において、半径方向の表面粗さがＲａで４０〜１２０Å
であり、且つＲｔｍで３５０〜７００Åである表面状態
を有すると共に、高さ：１００〜５００Å、直径：０．
５〜３μｍの微小突起を１０〜２５０個／ｍｍ2 の密度
で有していることを特徴とする磁気ディスク基板を、そ
の要旨とするものである。
【０００６】また、本発明にあっては、上記の如き構成
の磁気ディスク基板の上に、少なくとも、Ｃｒを主成分
とする中間金属層、金属磁性体からなる磁性層、保護層
が順次形成されてなる磁気ディスクをも、その要旨とす
るものである。
の磁気ディスク基板の上に、少なくとも、Ｃｒを主成分
とする中間金属層、金属磁性体からなる磁性層、保護層
が順次形成されてなる磁気ディスクをも、その要旨とす
るものである。
【０００７】
【具体的構成】ところで、かかる本発明に従う磁気ディ
スク、特にハードディスクを与える磁気ディスク基板
は、剛性のあるディスク状の非磁性基板上に、下地層と
してのＮｉ−Ｐメッキ層を形成してなるものであって、
そこで用いられる非磁性基板としては、アルミニウム若
しくはその合金、ガラス、セラミックス、エンジニアリ
ングプラスチック等の公知のものの中から適宜に選択さ
れる。また、かかる基板の厚さは、一般に０．５ｍｍ〜
１．９ｍｍ程度であり、ドーナツ型円板形状において用
いられるものである。中でも、基板材質としては、上記
材質のうち、アルミニウム合金が一般的であり、そのよ
うな基板上に、下地層としてのＮｉ−Ｐメッキ層が、通
常、１０〜２０μｍの厚さにおいて、適当なメッキ手
法、例えば無電解メッキ手法にて形成されている。
スク、特にハードディスクを与える磁気ディスク基板
は、剛性のあるディスク状の非磁性基板上に、下地層と
してのＮｉ−Ｐメッキ層を形成してなるものであって、
そこで用いられる非磁性基板としては、アルミニウム若
しくはその合金、ガラス、セラミックス、エンジニアリ
ングプラスチック等の公知のものの中から適宜に選択さ
れる。また、かかる基板の厚さは、一般に０．５ｍｍ〜
１．９ｍｍ程度であり、ドーナツ型円板形状において用
いられるものである。中でも、基板材質としては、上記
材質のうち、アルミニウム合金が一般的であり、そのよ
うな基板上に、下地層としてのＮｉ−Ｐメッキ層が、通
常、１０〜２０μｍの厚さにおいて、適当なメッキ手
法、例えば無電解メッキ手法にて形成されている。
【０００８】そして、本発明にあっては、このような下
地層を設けた基板に対して、所定の研磨操作を施して、
その面性状を、その半径方向の表面粗さがＲａ（中心線
平均粗さ）で４０〜１２０Åであり、且つＲｔｍで３５
０〜７００Åである表面状態となるようにすると共に、
高さ：１００〜５００Å、直径：０．５〜３μｍの微小
突起を１０〜２５０個／ｍｍ2 の密度で有するように構
成したものであり、このような面性状の採用によって、
初めて、磁気ディスクに要求される磁気ヘッドに対する
ディスク面の摩擦係数、耐久性及び耐吸着性を満足させ
つつ、磁気ヘッドのディスク面上での０．１μｍ以下の
低浮上化を可能ならしめたのである。
地層を設けた基板に対して、所定の研磨操作を施して、
その面性状を、その半径方向の表面粗さがＲａ（中心線
平均粗さ）で４０〜１２０Åであり、且つＲｔｍで３５
０〜７００Åである表面状態となるようにすると共に、
高さ：１００〜５００Å、直径：０．５〜３μｍの微小
突起を１０〜２５０個／ｍｍ2 の密度で有するように構
成したものであり、このような面性状の採用によって、
初めて、磁気ディスクに要求される磁気ヘッドに対する
ディスク面の摩擦係数、耐久性及び耐吸着性を満足させ
つつ、磁気ヘッドのディスク面上での０．１μｍ以下の
低浮上化を可能ならしめたのである。
【０００９】これに対して、基板の半径方向の表面粗さ
がＲａで４０Å未満であったり、Ｒｔｍで３５０Å未満
であったりすると、ディスク面に対する磁気ヘッドの吸
着が発生し易い問題があり、またＲａで１２０Åを越え
たり、Ｒｔｍで７００Åを越えたりすると、磁気ヘッド
との摺動によって、摩耗が激しくなり、磁気ヘッドの低
浮上化を充分に達成し得なくなる。また、基板面に存在
する微小突起が１００Åよりも低いものであったり、
０．５μｍ未満の直径（突起基部の外接円の直径）であ
ったり、更にその密度が１０個／ｍｍ2 未満であったり
すると、基板面が鏡面化し、ヘッド吸着が惹起された
り、摩擦係数が高くなる問題があり、一方その高さが５
００Åを越えたり、直径が３μｍを越える大きさであっ
たり、更にはその密度が２５０個／ｍｍ2 を越えたりす
ると、そのような突起に磁気ヘッドが衝突するヘッドヒ
ット（ＨＨＴ）の回数が増え、甚だしい場合には、磁気
ヘッドやディスク面の破損を惹起する問題を生じる。
がＲａで４０Å未満であったり、Ｒｔｍで３５０Å未満
であったりすると、ディスク面に対する磁気ヘッドの吸
着が発生し易い問題があり、またＲａで１２０Åを越え
たり、Ｒｔｍで７００Åを越えたりすると、磁気ヘッド
との摺動によって、摩耗が激しくなり、磁気ヘッドの低
浮上化を充分に達成し得なくなる。また、基板面に存在
する微小突起が１００Åよりも低いものであったり、
０．５μｍ未満の直径（突起基部の外接円の直径）であ
ったり、更にその密度が１０個／ｍｍ2 未満であったり
すると、基板面が鏡面化し、ヘッド吸着が惹起された
り、摩擦係数が高くなる問題があり、一方その高さが５
００Åを越えたり、直径が３μｍを越える大きさであっ
たり、更にはその密度が２５０個／ｍｍ2 を越えたりす
ると、そのような突起に磁気ヘッドが衝突するヘッドヒ
ット（ＨＨＴ）の回数が増え、甚だしい場合には、磁気
ヘッドやディスク面の破損を惹起する問題を生じる。
【００１０】なお、ここで、基板の半径方向の表面粗さ
を規定するＲａは、従来から中心線平均粗さとして認識
されているものであり、またＲｔｍは、従来と同様にし
て求められるＲmax （最大高さ）の四つの値を用いて、
下式にて求められるものである。なお、かかるＲ
max は、触針式表面粗さ計を用い、２．５μｍ角の触針
にて触針荷重：４ｍｇｆの条件下に測定して求められ
る。
を規定するＲａは、従来から中心線平均粗さとして認識
されているものであり、またＲｔｍは、従来と同様にし
て求められるＲmax （最大高さ）の四つの値を用いて、
下式にて求められるものである。なお、かかるＲ
max は、触針式表面粗さ計を用い、２．５μｍ角の触針
にて触針荷重：４ｍｇｆの条件下に測定して求められ
る。
【００１１】
【数１】
【００１２】また、かくの如き本発明に従う基板の面性
状は、従来からの研磨手法を適用して、その研磨条件を
選定することにより、容易に実現され得るものである
が、本発明にあっては、一般に、バフ研磨手法を採用し
て、平均粒径：１．０μｍ以上の砥粒を用い、加工圧
力：２×１０4 Ｐａ以上、ディスク回転数：２００〜２
０００ｒｐｍ、処理時間：５〜１２０ｓｅｃ、研磨バフ
使用の条件下において、研磨することによって、目的と
する面性状の基板が製造される。
状は、従来からの研磨手法を適用して、その研磨条件を
選定することにより、容易に実現され得るものである
が、本発明にあっては、一般に、バフ研磨手法を採用し
て、平均粒径：１．０μｍ以上の砥粒を用い、加工圧
力：２×１０4 Ｐａ以上、ディスク回転数：２００〜２
０００ｒｐｍ、処理時間：５〜１２０ｓｅｃ、研磨バフ
使用の条件下において、研磨することによって、目的と
する面性状の基板が製造される。
【００１３】そして、このような面性状を有する基板か
ら、目的とする磁気ディスクを得るために、かかる基板
の下地層上には、中間金属層としてＣｒを主成分とする
Ｃｒ系膜が、一般に、３００〜１５００Åの厚さにおい
てスパッター成膜され、更にその上にＣｏ合金等の金属
磁性体からなる磁性膜（磁性層）が、３００〜８００Å
程度の厚さにおいてスパッター成膜される。その後、か
かるスパッター成膜された磁性膜（磁性層）の上には、
更に保護膜としての２００〜４００Å程度の厚さのカー
ボン保護膜や、１０〜５０Å程度の潤滑膜が従来と同様
にして順次成膜され、以て目的とする磁気ディスクとさ
れることとなる。
ら、目的とする磁気ディスクを得るために、かかる基板
の下地層上には、中間金属層としてＣｒを主成分とする
Ｃｒ系膜が、一般に、３００〜１５００Åの厚さにおい
てスパッター成膜され、更にその上にＣｏ合金等の金属
磁性体からなる磁性膜（磁性層）が、３００〜８００Å
程度の厚さにおいてスパッター成膜される。その後、か
かるスパッター成膜された磁性膜（磁性層）の上には、
更に保護膜としての２００〜４００Å程度の厚さのカー
ボン保護膜や、１０〜５０Å程度の潤滑膜が従来と同様
にして順次成膜され、以て目的とする磁気ディスクとさ
れることとなる。
【００１４】
【実施例】以下に、本発明の代表的な実施例を示し、本
発明を更に具体的に明らかにすることとするが、本発明
が、そのような実施例の記載によって、何等の制約をも
受けるものでないことは、言うまでもないところであ
る。
発明を更に具体的に明らかにすることとするが、本発明
が、そのような実施例の記載によって、何等の制約をも
受けるものでないことは、言うまでもないところであ
る。
【００１５】また、本発明には、以下の実施例の他に
も、更には上記の具体的記述以外にも、本発明の趣旨を
逸脱しない限りにおいて、当業者の知識に基づいて種々
なる変更、修正、改良等を加え得るものであることが理
解されるべきである。
も、更には上記の具体的記述以外にも、本発明の趣旨を
逸脱しない限りにおいて、当業者の知識に基づいて種々
なる変更、修正、改良等を加え得るものであることが理
解されるべきである。
【００１６】先ず、外径：９５ｍｍ、内径：２５ｍｍ、
厚さ：１．２７ｍｍのＡｌ−Ｍｇ合金基板を用い、この
基板上に、Ｎｉ−Ｐ下地層を、公知の無電解メッキ法に
て形成した後、通常の研磨を行なって、かかるＮｉ−Ｐ
下地層の厚さを１５μｍとした。次いで、かかる基板の
Ｎｉ−Ｐメッキ下地層の表面に対して、バフ研磨を施
し、下表に示される如き突起数、表面粗さ（Ｒｔｍ，Ｒ
ａ）の異なる５種類の基板：Ｎｏ．１〜Ｎｏ．５を得
た。なお、バフ研磨条件としては、粒径が１．５μｍの
砥粒を用い、加工圧力：４×１０4 Ｐａ、ディスク回転
数：５００ｒｐｍの条件下に、３０〜６０秒の各種の処
理時間を採用して、基板の面性状を異なるものとした。
厚さ：１．２７ｍｍのＡｌ−Ｍｇ合金基板を用い、この
基板上に、Ｎｉ−Ｐ下地層を、公知の無電解メッキ法に
て形成した後、通常の研磨を行なって、かかるＮｉ−Ｐ
下地層の厚さを１５μｍとした。次いで、かかる基板の
Ｎｉ−Ｐメッキ下地層の表面に対して、バフ研磨を施
し、下表に示される如き突起数、表面粗さ（Ｒｔｍ，Ｒ
ａ）の異なる５種類の基板：Ｎｏ．１〜Ｎｏ．５を得
た。なお、バフ研磨条件としては、粒径が１．５μｍの
砥粒を用い、加工圧力：４×１０4 Ｐａ、ディスク回転
数：５００ｒｐｍの条件下に、３０〜６０秒の各種の処
理時間を採用して、基板の面性状を異なるものとした。
【００１７】その後、かくして得られた各種面性状のデ
ィスク基板Ｎｏ．１〜５に対して、金属中間層、磁性層
及びカーボン保護膜を、順次スパッター成膜した。即
ち、それら金属中間層、磁性層及びカーボン保護膜は、
ディスク基板を真空チャンバーに入れ、円形のターゲッ
トと基板が同軸にて停止、対向した状態において、到達
真空度が１×１０-7Ｔｏｒｒとなるまで真空度を上げた
後、基板温度を２９０℃まで上昇せしめて、連続してス
パッター成膜することにより形成した。なお、金属中間
層はＣｒ膜とし、その膜厚は３００Åであった。また、
磁性層はＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ系のＣｏ合金を用い、５００
Åの膜厚において設けた。更に、カーボン保護膜の膜厚
は、３５０Åであった。
ィスク基板Ｎｏ．１〜５に対して、金属中間層、磁性層
及びカーボン保護膜を、順次スパッター成膜した。即
ち、それら金属中間層、磁性層及びカーボン保護膜は、
ディスク基板を真空チャンバーに入れ、円形のターゲッ
トと基板が同軸にて停止、対向した状態において、到達
真空度が１×１０-7Ｔｏｒｒとなるまで真空度を上げた
後、基板温度を２９０℃まで上昇せしめて、連続してス
パッター成膜することにより形成した。なお、金属中間
層はＣｒ膜とし、その膜厚は３００Åであった。また、
磁性層はＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ系のＣｏ合金を用い、５００
Åの膜厚において設けた。更に、カーボン保護膜の膜厚
は、３５０Åであった。
【００１８】さらに、かかる金属中間層、磁性層、カー
ボン保護膜が順次形成されたディスク基板には、通常の
塗布法に従って、パーフロロアルキルポリエーテルの潤
滑膜が３０Åの厚さにおいて、それぞれ設けられ、以て
目的とする磁気ディスクとした。
ボン保護膜が順次形成されたディスク基板には、通常の
塗布法に従って、パーフロロアルキルポリエーテルの潤
滑膜が３０Åの厚さにおいて、それぞれ設けられ、以て
目的とする磁気ディスクとした。
【００１９】かくして得られた磁気ディスクについて、
それぞれ、ＨＨＴ歩留り、エラー歩留り、動摩擦係数、
コンタクト・スタート・ストップ（ＣＳＳ）試験後の摩
擦係数及び表面損傷度、更にはヘッド吸着係数を求め、
その結果を、下表に併わせて示した。
それぞれ、ＨＨＴ歩留り、エラー歩留り、動摩擦係数、
コンタクト・スタート・ストップ（ＣＳＳ）試験後の摩
擦係数及び表面損傷度、更にはヘッド吸着係数を求め、
その結果を、下表に併わせて示した。
【００２０】なお、ＨＨＴ歩留り（％）は、０．０８μ
ｍのヘッド浮上下において、ヘッドヒットの発生しない
磁気ディスクの割合を示すものであり、またエラー歩留
り（％）は、電磁変換特性エラーの生じない磁気ディス
クの割合を示すものであり、また摩擦係数の測定には、
クボタコンプス（株）製のウェアテスターを用い、それ
ぞれの磁気ディスクの半径２０ｍｍの位置に、Ａｌ2 Ｏ
3 ＴｉＣ薄膜ヘッドを位置せしめて、１ｒｐｍの回転数
にて実施した。また、ＣＳＳ試験は、４ヘッド／２媒体
（２０ＭＢ）ドライブ装置を用い、各磁気ディスクをセ
ットして、上記と同様な薄膜ヘッドにて、静止状態から
３６００ｒｐｍまで回転させた後、その回転を静止せし
めるＣＳＳ操作を２万回繰り返すことによって行なっ
た。更に、ヘッド吸着試験は、４ヘッド／２媒体（２０
ＭＢ）ドライブ装置を用い、これに各磁気ディスクをセ
ットし、３０℃、８０％ＲＨの条件下に薄膜ヘッドを密
着させて、４８時間保持した後、各磁気ディスクを回転
する時にかかるトルクを測定して、ヘッド吸着力を求め
ることにより行ない、そしてその求められたヘッド吸着
力をヘッド荷重にて除算することにより、ヘッド吸着係
数を算出した。
ｍのヘッド浮上下において、ヘッドヒットの発生しない
磁気ディスクの割合を示すものであり、またエラー歩留
り（％）は、電磁変換特性エラーの生じない磁気ディス
クの割合を示すものであり、また摩擦係数の測定には、
クボタコンプス（株）製のウェアテスターを用い、それ
ぞれの磁気ディスクの半径２０ｍｍの位置に、Ａｌ2 Ｏ
3 ＴｉＣ薄膜ヘッドを位置せしめて、１ｒｐｍの回転数
にて実施した。また、ＣＳＳ試験は、４ヘッド／２媒体
（２０ＭＢ）ドライブ装置を用い、各磁気ディスクをセ
ットして、上記と同様な薄膜ヘッドにて、静止状態から
３６００ｒｐｍまで回転させた後、その回転を静止せし
めるＣＳＳ操作を２万回繰り返すことによって行なっ
た。更に、ヘッド吸着試験は、４ヘッド／２媒体（２０
ＭＢ）ドライブ装置を用い、これに各磁気ディスクをセ
ットし、３０℃、８０％ＲＨの条件下に薄膜ヘッドを密
着させて、４８時間保持した後、各磁気ディスクを回転
する時にかかるトルクを測定して、ヘッド吸着力を求め
ることにより行ない、そしてその求められたヘッド吸着
力をヘッド荷重にて除算することにより、ヘッド吸着係
数を算出した。
【００２１】
【表１】
【００２２】かかる表の結果より明らかなように、微小
突起が多い程、ＨＨＴ歩留りやエラー歩留りが低下する
傾向があり、それが３００個／ｍｍ2 の密度において存
在すると、激減することが認められる。また、動摩擦係
数やヘッド吸着係数は、微小突起が少ない程、増加する
傾向があり、４個／ｍｍ2 で急増し、それはヘッド表面
との真の接触面積が増加するものと考えられる。更に、
ＣＳＳ耐久性については、微小突起が３００個／ｍｍ2
で、媒体表面に損傷が認められ、またＣＳＳ試験後の摩
擦係数は、微小突起：４個／ｍｍ2 で急増している。
突起が多い程、ＨＨＴ歩留りやエラー歩留りが低下する
傾向があり、それが３００個／ｍｍ2 の密度において存
在すると、激減することが認められる。また、動摩擦係
数やヘッド吸着係数は、微小突起が少ない程、増加する
傾向があり、４個／ｍｍ2 で急増し、それはヘッド表面
との真の接触面積が増加するものと考えられる。更に、
ＣＳＳ耐久性については、微小突起が３００個／ｍｍ2
で、媒体表面に損傷が認められ、またＣＳＳ試験後の摩
擦係数は、微小突起：４個／ｍｍ2 で急増している。
【００２３】また、上記の表に示されるＮｏ．１〜５の
基板を用いて得られた磁気ディスクについて、それぞれ
各種のヘッド浮上量の下において、それぞれの種類の磁
気ディスクの多数のものの間におけるヘッドヒットカウ
ント数を図１に示すが、この図１から明らかなように、
微小突起が少ない程、磁気ディスクの低浮上化に有利で
あり、微小突起が２５０個／ｍｍ2 以下である基板Ｎ
ｏ．１〜４のものから得られたものにあっては、磁気ヘ
ッドのディスク面上での０．１μｍ以下の低浮上を可能
とすることが認められる。
基板を用いて得られた磁気ディスクについて、それぞれ
各種のヘッド浮上量の下において、それぞれの種類の磁
気ディスクの多数のものの間におけるヘッドヒットカウ
ント数を図１に示すが、この図１から明らかなように、
微小突起が少ない程、磁気ディスクの低浮上化に有利で
あり、微小突起が２５０個／ｍｍ2 以下である基板Ｎ
ｏ．１〜４のものから得られたものにあっては、磁気ヘ
ッドのディスク面上での０．１μｍ以下の低浮上を可能
とすることが認められる。
【００２４】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、磁気ディスクに要求されるヘッドに対するデ
ィスク面の摩擦係数、耐久性及び耐吸着性を満足させつ
つ、ヘッドのディスク面上での０．１μｍ以下の低浮上
が可能となるのであり、またヘッドヒット不良（グライ
ドテスト不良）及び信号エラーを低減し、製品としての
歩留りが有利に向上され、更には磁気ディスクまで加工
して評価することなく、単に、ディスク基板の状態にお
ける面性状の評価のみによって、目的とする磁気ディス
クの性能評価が可能となり、以て加工効率の向上も有利
に達成され得ることとなったのである。
によれば、磁気ディスクに要求されるヘッドに対するデ
ィスク面の摩擦係数、耐久性及び耐吸着性を満足させつ
つ、ヘッドのディスク面上での０．１μｍ以下の低浮上
が可能となるのであり、またヘッドヒット不良（グライ
ドテスト不良）及び信号エラーを低減し、製品としての
歩留りが有利に向上され、更には磁気ディスクまで加工
して評価することなく、単に、ディスク基板の状態にお
ける面性状の評価のみによって、目的とする磁気ディス
クの性能評価が可能となり、以て加工効率の向上も有利
に達成され得ることとなったのである。
【図１】実施例において得られた各種磁気ディスクにつ
いての、ヘッド浮上量とヘッドヒットカウント数との関
係を調べた結果を示すグラフである。
いての、ヘッド浮上量とヘッドヒットカウント数との関
係を調べた結果を示すグラフである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山田 賢治 東京都港区新橋五丁目11番３号 住友軽金 属工業株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 剛性のあるディスク状の非磁性基板に、
下地層としてのＮｉ−Ｐメッキ層を形成してなる磁気デ
ィスク基板にして、 半径方向の表面粗さがＲａで４０〜１２０Åであり、且
つＲｔｍで３５０〜７００Åである表面状態を有すると
共に、高さ：１００〜５００Å、直径：０．５〜３μｍ
の微小突起を１０〜２５０個／ｍｍ2 の密度で有してい
ることを特徴とする磁気ディスク基板。 - 【請求項２】 請求項１記載の磁気ディスク基板の上
に、少なくとも、Ｃｒを主成分とする中間金属層、金属
磁性体からなる磁性層、保護層が順次形成されてなる磁
気ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27034491A JPH0581642A (ja) | 1991-09-20 | 1991-09-20 | 磁気デイスク基板及び磁気デイスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27034491A JPH0581642A (ja) | 1991-09-20 | 1991-09-20 | 磁気デイスク基板及び磁気デイスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0581642A true JPH0581642A (ja) | 1993-04-02 |
Family
ID=17484955
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27034491A Pending JPH0581642A (ja) | 1991-09-20 | 1991-09-20 | 磁気デイスク基板及び磁気デイスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0581642A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11002596B2 (en) | 2018-03-15 | 2021-05-11 | Omron Corporation | Photoelectric sensor and manufacturing method thereof |
-
1991
- 1991-09-20 JP JP27034491A patent/JPH0581642A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11002596B2 (en) | 2018-03-15 | 2021-05-11 | Omron Corporation | Photoelectric sensor and manufacturing method thereof |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4046305B2 (ja) | メモリディスクの製造方法 | |
| JP2543265B2 (ja) | 磁気ディスク | |
| WO2019004484A1 (ja) | 磁気ディスク用基板及び磁気ディスク | |
| JPH0660368A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JPH0795369B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
| JPH0581642A (ja) | 磁気デイスク基板及び磁気デイスク | |
| JPH0823935B2 (ja) | 薄膜磁気記録媒体 | |
| JPH05166176A (ja) | 磁気ディスクの製造方法 | |
| JP2705068B2 (ja) | 磁気ディスク | |
| JPH08161736A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2534014B2 (ja) | 浮動型磁気ヘッド | |
| JP3309342B2 (ja) | 磁気ディスク | |
| JP3206701B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH07147068A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2697712B2 (ja) | 磁気ディスク | |
| JP3051851B2 (ja) | 磁気ディスク用基板 | |
| JPH05128501A (ja) | 磁気デイスク | |
| JPH04212714A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP3199422B2 (ja) | 磁気ディスク | |
| JPH11250438A (ja) | 磁気記録媒体、磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録装置 | |
| JPH1064055A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP3475533B2 (ja) | 薄膜型磁気ディスク | |
| JPH0554171B2 (ja) | ||
| JPH071541B2 (ja) | 磁気デイスク | |
| JPH0775069B2 (ja) | 磁気ディスク |