JPH1064055A

JPH1064055A - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH1064055A
Application number: JP31592896A
Authority: JP
Inventors: Naoki Inoue; 直樹井上; Hironori Hara; 裕紀原; Nobuo Kurataka; 伸雄倉高
Original assignee: Kubota Corp
Current assignee: Kubota Corp
Priority date: 1996-06-14
Filing date: 1996-11-27
Publication date: 1998-03-06

Abstract

(57)【要約】【課題】ヘッドの浮上高(グライド高さ)を低くしつ
つ、ヘッドと磁気記録媒体との吸着を有効に防止でき、
且つ読出し／書込み時の電磁変換上のエラーの少ない磁
気記録媒体を提供する。【解決手段】非磁性の媒体基板11の表面に、下地層1
4、磁性層15及び保護膜16を順次積層成膜して形成さ
れ、データゾーン3の内側にＣＳＳゾーン2を有する磁気
記録媒体であって、媒体基板11の表面のＣＳＳゾーン及
びデータゾーンとなる領域には、機械的テクスチャによ
る機械的テクスチャ31が円周方向に形成され、媒体基板
11の表面のＣＳＳゾーンとなる領域には、レーザーテク
スチャリングによる環状の隆起部22が多数個形成されて
いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ハードディスクド
ライブ装置等の磁気ディスク装置に使用される磁気記録
媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】ハードディスクドライブ装置等の磁気デ
ィスク装置に用いられる磁気記録媒体(1)は、図３に示
す如く、一般的にＡｌ合金からなる非磁性のサブストレ
ート(12)上に非晶質のＮｉＰ層(13)が形成された基板(1
1)に、Ｃｒ下地層(14)、Ｃｏ合金の磁性層(15)、カーボ
ン等の保護膜(16)を順次積層成膜して形成される。

【０００３】磁気記録媒体は高記録密度化の要請によ
り、磁気記録媒体とヘッドとの距離を小さくし、ヘッド
浮上高を低くする必要がある。ヘッド浮上高を低くする
には、磁気記録媒体の表面は滑らかであることが望まし
いが、表面を滑らかにすると、磁気記録媒体とヘッドと
の接触面積が大きくなって、磁気記録媒体とヘッドとの
間の摩擦が増大したり、ヘッドが磁気記録媒体に吸着す
ることがあり、ＣＳＳ(コンタクト・スタート・ストッ
プ)性能が低下するという問題がある。

【０００４】そこで、磁気記録媒体に意図的に凹凸を形
成して、ヘッドと磁気記録媒体との接触面積を小さくす
ることが行なわれている。この方法として、テクスチャ
と呼ばれる微細な凹凸をＮｉＰ層の表面に機械的に形成
するものがある。機械的テクスチャリング加工は、回転
する基板に対し、表面に砥粒が混合された樹脂(バイン
ダー)が薄く塗布されたテープを、背面からローラを押
し当てつつ走行させて実施される。ＮｉＰ層に機械的テ
クスチャリングを施した後、順に下地層、磁性層、保護
膜を形成すると、ＮｉＰ層に形成されたテクスチャとほ
ぼ同様の凹凸が各層に出現する。

【０００５】機械的テクスチャは、磁気記録媒体とヘッ
ドとの吸着を防止するためには、ある程度の粗さにする
必要がある。しかしながら、機械的テクスチャリング加
工は、上述のとおり、機械的にＮｉＰ層の表面を加工し
てテクスチャを形成するため、テクスチャ面全体の中
で、図１１に示すごとく、局所的に異常に高い突起(33)
が不可避的に形成される。テクスチャの粗さを大きくす
ると、それに応じてこの異常突起(33)の高さも高くな
る。異常突起(33)は、磁気記録媒体の読出し／書込み時
に電磁変換上のエラーの発生原因となったり、磁気記録
媒体とヘッドとの接触または衝突を引き起こす。ヘッド
との接触等を防止するには、ヘッド浮上高を異常突起(3
3)よりも高く設定せざるを得ないから、異常突起(33)の
高さが高くなると、磁気記録媒体の記録密度が低下する
問題がある。

【０００６】ヘッドの低浮上化を図るために、レーザー
光を利用してテクスチャを形成する方法(以下「レーザ
ーテクスチャリング」という)がある。レーザーテクス
チャリングは、基板のＮｉＰ層の表面にレーザー光を照
射し、ＮｉＰ層の表面を溶融して凹凸を形成するもので
あり、レーザー光をＮｉＰ層の表面に照射すると、図９
に示すような、ＮｉＰ層の表面よりも低く凹んだ凹部(2
3)と、該凹部の外周に連続しＮｉＰ層の表面よりも高く
盛り上がった環状の隆起部(22)を有する椀状部(21)が形
成される。レーザーテクスチャリングによって形成され
る環状の隆起部(22)の高さは、任意に調節できるため、
ヘッドの低浮上化を達成し、ヘッドと磁気記録媒体との
吸着防止に有効である。しかしながら、レーザーによる
テクスチャだけでは、磁気異方性の向上効果がないた
め、保磁力等に劣る問題があった。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、ヘッドの浮
上高(グライド高さ)を低くしつつ、ヘッドと磁気記録媒
体との吸着を有効に防止でき、且つ読出し／書込み時の
電磁変換上のエラーの少ない磁気記録媒体を提供するこ
とを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の磁気記録媒体
は、非磁性の媒体基板(11)の表面に、下地層(14)、磁性
層(15)及び保護膜(16)を順次積層成膜して形成され、デ
ータゾーン(3)の内側にＣＳＳゾーン(2)を有する磁気記
録媒体に於いて、媒体基板(11)の表面のＣＳＳゾーン
(2)及びデータゾーン(3)となる領域には、機械的テクス
チャリング加工による機械的テクスチャ(31)が形成さ
れ、媒体基板(11)の表面のＣＳＳゾーン(2)となる領域
には、レーザーテクスチャリング加工による環状の隆起
部(22)が多数個形成されている。

【０００９】機械的テクスチャ(31)は、ヘッドの低浮上
化のために、磁気異方性向上効果が得られる範囲内で、
できるだけ微細にする必要があり、具体的には、粗さ
(中心線平均粗さ)Ｒａが０.１ｎｍ〜３ｎｍとなるよう
に形成することが好ましい。機械的テクスチャリング
は、媒体基板(11)の表面の異常突起、スクラッチの除去
にも有効である。媒体基板(11)としてＮｉＰ層(13)の形
成されたＡｌ合金などのサブストレート(12)を用いる場
合には、円周方向に機械的テクスチャリングを施すと、
磁気異方性の向上にも有効である。

【００１０】椀状部(21)が形成されるＣＳＳゾーン(2)
は、図７に示す如く、ハードディスク装置等のヘッド
が、磁気記録媒体の回転停止中に位置する領域である。
ＣＳＳゾーン(2)の径方向外側は、データの書込み／読
出しが行なわれるデータゾーン(3)である。椀状部(21)
は、媒体基板(11)の機械的テクスチャ(31)の上からパル
スレーザー光を照射することによって多数個形成され
る。レーザーテクスチャリングは、上記ＣＳＳゾーン
(2)に施され、図１に示す如く、レーザー光の照射され
た部分に、機械的テクスチャ(31)の凹凸面よりも低い凹
部(23)と、該凹部の外周に環状の隆起部(22)を有する椀
状部(21)が形成される。隆起部(22)は、機械的テクスチ
ャ(31)の凹凸面よりも高く盛り上がっており、該隆起部
(22)の内側は、凹部(23)に連続している。この隆起部(2
2)は、ＣＳＳ性能の向上に特に重要であり、パルスレー
ザー光の照射条件により、高さを一定に調節できる。

【００１１】レーザーテクスチャリングにより形成され
る椀状部(21)は、隆起部(22)が、基板(11)の基準面(32)
よりも３ｎｍ〜３０ｎｍ高くなるように形成することが
望ましく、隆起部(22)の最高部の直径は１μｍ〜３０μ
ｍとなるように形成することが望ましい。なお、基準面
(32)とは、基板表面の機械的テクスチャ(31)の平均高さ
となる面をいう。更に、ＣＳＳ性能を向上させるため
に、椀状部(21)は５μｍ〜１００μｍの間隔で形成する
ことが望ましい。また、椀状部(21)の個数は、１ｍｍ²
当り１００〜４００００個形成することが望ましい。

【００１２】基板のＣＳＳゾーン(2)及びデータゾーン
(3)となる領域に対し、機械的テクスチャ(31)が形成さ
れ、ＣＳＳゾーン(2)となる内側領域に対し、レーザー
テクスチャリングによって椀状部(21)が多数個形成され
た媒体基板(11)の上に、順に下地層、磁性層及び保護膜
を積層成膜すると、各層には媒体基板(11)のテクスチャ
と同様の形状を有する凹凸が出現する。

【００１３】上記の如く、機械的テクスチャリング加工
は、ＣＳＳゾーン(2)とデータゾーン(3)の両方に施し、
レーザーテクスチャリング加工は、機械的テクスチャ(3
1)の上からＣＳＳ以外のＣＳＳゾーン(2)にのみ施して
いるが、これは、機械的テクスチャ(31)をデータゾーン
(3)にのみ施すと、データゾーン(3)がＣＳＳゾーン(2)
よりも低くなるか、もしくは高くなり、ＣＳＳゾーン
(2)とデータゾーン(3)との間に段差を生じて、ヘッドの
低浮上化を妨げる不都合があるためである。

【００１４】本発明の磁気記録媒体は、さらに、レーザ
ーテクスチャリングにより形成される椀状部(21)の隆起
部(22)の高さＨを、図８に示すように、ＣＳＳゾーン
(2)に施された機械的テクスチャ(31)の突起(31a)の最大
高さＲｐよりも、１ｎｍ〜５ｎｍ高くなるようにするも
のである。機械的テクスチャリングでは、上述のとおり
媒体基板(11)の表面に機械的な研磨を施してテクスチャ
(31)を形成するため、テクスチャ(31)よりも異常に高い
突起(31a)が不可避的に形成されてしまう。この突起(31
a)の高さが、隆起部(22)よりも高いと、突起(31a)とヘ
ッドは衝突する。逆に、突起(31a)とヘッドとの衝突を
避けるために、隆起部(22)をかなり高めに形成すると、
ヘッド浮上高さが高くなり、高記録密度化を達成できな
い不都合がある。そこで、本発明では、隆起部(22)は、
ＣＳＳゾーン(2)に施された機械的テクスチャ(31)の最
も高い突起(31a)よりも高く形成し、隆起部(22)の高さ
Ｈと突起(31a)の最大高さＲｐとの差を、１ｎｍ〜５ｎ
ｍとして、ＣＳＳゾーン(2)でのヘッドと突起(31a)との
衝突を防止すると共に、ヘッド浮上高さを低く抑えるこ
とができるようにした。

【００１５】

【作用】媒体基板(11)に、機械的テクスチャ(31)が形成
されることにより、得られた磁気記録媒体は、磁気異方
性が高められ、保磁力に優れる。また、レーザーテクス
チャリングによって形成された多数の椀状部(21)によ
り、磁気記録媒体は、ＣＳＳ性能に優れる。更に、レー
ザーテクスチャと、微細な機械的テクスチャとの組合せ
によりヘッドの低浮上化を達成でき、記録密度を向上さ
せることができる。

【００１６】また、ＣＳＳゾーン(2)に形成された機械
的テクスチャ(31)の突起(31a)の最大高さＲｐよりも、
その上に形成される椀状部(21)の環状の隆起部(22)の高
さＨを１ｎｍ〜５ｎｍだけ高く設定した磁気記録媒体に
ついては、機械的テクスチャ(31)の突起(31a)が、隆起
部(22)よりも低く形成されているから、突起(31a)とヘ
ッドとの衝突がない。また、隆起部(22)は、単に突起(3
1a)よりも高さが高いだけではなく、これら高さの差を
１ｎｍ〜５ｎｍと小さく設定して、隆起部(22)の高さを
可及的に低くなるようにしているので、ヘッドの低浮上
化を達成することができる。

【００１７】

【発明の実施の形態】図７は、本発明の磁気記録媒体
(1)の斜視図を示している。磁気記録媒体(1)の中央に
は、ハードディスクドライブ装置等の駆動系に接続する
ための貫通孔(19)が開設されている。磁気記録媒体(1)
には、後述するテクスチャリングによって、内周部にヘ
ッドと磁気記録媒体との吸着を防止するＣＳＳゾーン
(2)と、その外側にデータの書込み／読出しを行なうデ
ータゾーン(3)が形成される。

【００１８】図３は、本発明の磁気記録媒体(1)の部分
断面図を示している。本発明の記録媒体(1)は、非磁性
の媒体基板(11)上に、下地層(14)、磁性層(15)及び保護
膜(16)を、この順序で積層成膜して形成される。図３で
は、下地層(14)、磁性層(15)及び保護膜(16)がサブスト
レート(12)に関して対称に成膜されており、両面で書込
み／読出しを行なえる構成としているが、各層を片面に
のみ成膜して、片面のみで書込み／読出しを行なう構成
とすることもできる。

【００１９】基板(11)は、Ａｌ合金、ガラス等の非磁性
材料にて構成されたサブストレート(12)上に、ＮｉＰ層
(13)を、ＤＣスパッタリング法、メッキ法又は真空蒸着
法等の公知の方法によって形成したものである。サブス
トレートは一般的に、１.２７ｍｍ以下であり、ＮｉＰ
層は３〜１５μｍ程度の厚さに形成される。サブストレ
ート(12)としてガラス基板を用いる場合は、通常、Ｎｉ
Ｐ層の形成は省略されるので、テクスチャリングは、ガ
ラス基板に直接形成すればよい。

【００２０】機械的テクスチャリング加工得られた基板(11)のＮｉＰ層(13)に機械的テクスチャリ
ングを施す。機械的テクスチャは、磁気記録媒体(1)の
ＣＳＳゾーン(2)及びデータゾーン(3)となる部分(図２
及び図７参照)に実施する。ＮｉＰ層(13)には、図１０
に示すような微細なテクスチャ(31)が形成されるように
機械的テクスチャリングを施す。テクスチャ(31)は、粗
さ(中心線平均粗さ)Ｒａが０.１ｎｍ〜３ｎｍとなるよ
うに施すことが望ましく、１ｎｍ〜２.５ｎｍとなるよ
うに施すことがより望ましい。機械的テクスチャ(31)が
あまりに細かいと、磁気異方性の効果を十分に得ること
ができず、また機械的テクスチャ(31)をこれよりも粗く
すると、磁気記録媒体の書込み／読出しの際に、電磁変
換上のエラーが発生したり、不可避的に異常突起が形成
されてヘッドと磁気記録媒体とが衝突するためである。
機械的テクスチャ(31)は、円周方向に限らずクロス方向
に形成されるように施してもよいが、磁気異方性の向上
を図るには、円周方向に機械的テクスチャリングを施す
ことが望ましい。機械的テクスチャ(31)の中心線平均粗
さＲａが０.１ｎｍ〜３ｎｍとなるように機械的テクス
チャリングを施した場合、機械的テクスチャ(31)の最も
高い突起(31a)は、基板(11)の機械的テクスチャ(31)の
平均高さとなる基準面(32)からの最大高さＲｐが、ほぼ
２ｎｍ〜２５ｎｍとなるように形成される。

【００２１】機械的テクスチャ(31)を円周方向に施す装
置として、図４に示す如き研磨装置(5)を使用すること
ができる。該装置は、バフテープ(51)を回転する基板(1
1)に押し付けながら走行させ、ＮｉＰ層(13)を研磨する
ものである。基板(11)は、モータ(図示せず)の回転軸を
貫通孔(19)に嵌めて、周方向に回転可能となるように固
定される。バフテープ(51)は、磁気記録媒体(1)のデー
タゾーン(3)とＣＳＳゾーン(2)となる部分の半径分にほ
ぼ対応する寸法のものが使用され、ノズルからスラリー
がバフテープ(51)へ供給される。該バフテープ(51)は、
基板(11)を挟むよう対向して配備され、スプリング(図
示せず)に連繋されたローラ(52)によってＮｉＰ層(13)
に押し当てられながら走行する。図中の矢印で示すよう
に、バフテープの走行方向は、基板の回転方向と対向す
る向きとなっている。バフテープ(51)と基板(11)は線接
触であり、機械的テクスチャリングを施している間、接
触部分には、ノズル(54)からスラリー(53)が供給され
る。

【００２２】上記研磨装置において、次の条件で機械的
テクスチャリングを行なうことにより、基板(11)の中心
線平均粗さを上述の範囲に制御することができる。・バフテープの種類電気植毛バフテープ・バフテープの走行速度１〜１０ｃｍ／ｍｉｎ・基板の回転速度１００〜８００ｒｐｍ・バフテープの押付力０.５〜３.０ｋｇｆ・スラリーの種類ダイヤモンドスラリー・研磨時間１０〜６０ｓｅｃ

【００２３】レーザーテクスチャリング加工機械的テクスチャリングが施された基板(11)の半径方向
内側領域にレーザーテクスチャリングを施し、図１及び
図２に示す如く、ＮｉＰ層(13)に、機械的テクスチャ(3
1)の凹凸面よりも低く凹んだ凹部(23)と、該凹部の外周
から機械的テクスチャ(31)の凹凸面よりも高く盛り上が
った隆起部(22)を有する椀状部(21)を形成する。レーザ
ーテクスチャリングの施された部分が、磁気記録媒体の
ＣＳＳゾーン(2)(図７参照)となる。

【００２４】レーザーテクスチャリングの原理を図５を
参照しながら説明する。レーザー光(25)がＮｉＰ層(13)
に照射される（図５(a)）と、レーザー光(25)の一部は
ＮｉＰ層(13)に吸収され（図５(b)）、表面の温度が上
昇する。この温度上昇により、ＮｉＰ層(13)表面が溶融
し（図５(c)）、蒸発したＮｉＰによる蒸発反跳力によ
って溶融部分(26)が変形する（図５(d)）。変形した溶
融部分は、レーザー光照射の停止により、冷却されてそ
のままの形状が残り、椀状部(21)となるのである（図５
(e)）。

【００２５】レーザー光をＮｉＰ層(13)に垂直な方向か
ら照射した場合、図１に示す如く、隆起部(22)が環状に
盛り上がった椀状部(21)を形成することができる。隆起
部(22)の基準面(32)からの高さＨは、ＣＳＳ性能を向上
させるために最も重要な値であって、３ｎｍ〜３０ｎｍ
とすることが望ましく、８ｎｍ〜２０ｎｍとすることが
より望ましい。隆起部(22)の最高部の直径Ｒは１μｍ〜
３０μｍとすることが望ましい。上記の如く隆起部(22)
を形成した場合、凹部(23)の深さＤは、基準面(32)から
２０ｎｍ〜１５０ｎｍ低くなる。また、椀状部(21)は、
ＣＳＳ性能を向上させるために、５μｍ〜１００μｍの
間隔で形成することが望ましく、２０μｍ〜５０μｍの
間隔で形成することがより望ましい。また、椀状部(21)
は、１ｍｍ²当り１００〜４００００個形成されること
が望ましく、４００〜２５００個形成されることがより
望ましい。

【００２６】上記動作は、図６に示すようなレーザー照
射装置(6)を用いて行なうことができる。レーザーヘッ
ド(61)は、バナデート等のパルスレーザー光を照射する
ことができるものであり、例えばスペクトラ・フィジッ
クス社製のT20-V70-106Qを挙げることができる。レーザ
ーヘッド(61)は、基板(11)の直径方向に水平移動可能で
あり、該ヘッド(61)が基板(11)に対して垂直にパルスレ
ーザー光(25)を照射できるように駆動部(62)に取り付け
られている。レーザーヘッド(61)から照射されるパルス
レーザー光のパルス間隔は、椀状部(21)の間隔、後述す
る基板(11)の周方向回転速度等の諸条件に基づいて調節
すればよい。基板(11)は、照射されるレーザー光(25)に
対して垂直な面内で周方向回転可能となるように、貫通
孔(19)がモータ(63)の回転軸(64)に嵌められる。レーザ
ーヘッド(61)、駆動部(62)、モータ(63)は夫々制御部(6
5)に接続されている。該制御器は、レーザーヘッドから
照射されるパルスレーザー光の間隔、レーザーヘッドの
移動量、基板の回転速度の制御をすることができる。

【００２７】レーザーヘッド(61)は、ＣＳＳゾーンの内
周となる位置に配置される。次に、モータ(63)が駆動し
て、基板(11)が回転する。なお、図６中の矢印は、夫々
レーザーヘッド(61)の移動方向、基板(11)の回転方向を
示している。レーザーヘッド(61)からの所定間隔毎にパ
ルスレーザー光(25)が照射され、ＮｉＰ層(13)の表面に
椀状部(21)が、周方向に順に形成される。レーザーヘッ
ド(61)は、駆動部(62)により基板(11)の外周方向に移動
し、その間、レーザー光(25)の照射及び基板(11)の回転
が続けられる。レーザーヘッド(61)がＣＳＳゾーンの外
周部に達すると、レーザー光の照射及びレーザーヘッド
の移動を停止し、基板の回転を止める。これにより、Ｃ
ＳＳゾーンに対応する部分にレーザーテクスチャリング
が施される。なお、レーザーヘッド(61)の移動は、外周
から内周に向けて移動させることもできる。また、レー
ザーヘッド(61)を周方向に回転させてもよい。

【００２８】上記レーザー照射装置において、次の条件
にてレーザーテクスチャリングを行なうと、ＣＳＳゾー
ンに形成される椀状部の形状を上述の範囲に制御するこ
とができる。レーザー光の強さ０.５〜５μＪ／パルス椀状部１個当りのレーザー光の照射時間５〜１５０ｎｓｅｃパルスレーザー光のパルス間隔０.０１〜１ｍｓｅｃレーザーヘッドの移動速度０.０５〜１ｍ／ｓｅｃ基板の回転速度１００〜２０００ｒｐｍなお、バナデート以外に、ＹＡＧ、ＹＦＬ等のレーザー
光によってレーザーテクスチャリングをすることもでき
る。

【００２９】基板に機械的テクスチャリング及びレーザ
ーテクスチャリングを施した後、ＤＣスパッタリング
法、メッキ法又は真空蒸着法等の公知の方法によって、
Ｃｒ下地層、Ｃｏ合金磁性層及びカーボン保護膜を形成
することにより、磁気記録媒体を得ることができる。下
地層、磁性層及び保護膜の表面には、ＮｉＰ層と同様の
形状の凹凸が出現する。つまり、磁気記録媒体のデータ
ゾーンには、機械的テクスチャの微細な凹凸が出現し、
ＣＳＳゾーンには、機械的テクスチャの微細な凹凸と、
レーザーテクスチャリングによって形成された隆起部と
凹部を有する椀状部が多数個形成される。磁気記録媒体
のデータゾーンに出現する機械的テクスチャの凹凸によ
り磁気異方性を高めることができる。またＣＳＳゾーン
に出現する椀状部、特に隆起部は、ヘッドと磁気記録媒
体との吸着を防止するのに有効であり、磁気記録媒体表
面からの高さを低く抑えることによりヘッドの低浮上化
を図ることができる。

【００３０】

【実施例】

［実施例１］本発明の磁気記録媒体(本発明媒体)と、比
較のための磁気記録媒体(比較媒体１〜３)を夫々以下の
条件で作製し、グライド性能、ＣＳＳ性能及びミッシン
グパルス個数を測定して比較を行なった。なお、本発明
媒体と比較媒体の作製条件は、テクスチャリング以外は
同じである。

【００３１】基板サブストレート：Ａｌ基板、厚さ０.８ｍｍ、直径３.５
インチＮｉＰ層：厚さ１１μｍ(無電解メッキ法により
形成)テクスチャリング基板のＮｉＰ層に、表１に示すテクスチャリングを施し
た。なお、ＣＳＳゾーンとなる領域へのテクスチャリン
グは、基板の内周の内径３４ｍｍ、幅３ｍｍの部分に実
施した。

【００３２】

【表１】

【００３３】表１中のテクスチャリングは、以下の条件
で行なった。・レーザーテクスチャリングレーザー光の種類：バナデートレーザー光の強さ：１μＪ／パルスレーザー光のパルス間隔：７０ｋＨｚ１ｍｍ²当りの椀状部の個数：１１００個・機械的テクスチャリング(微細) スラリー：ダイヤモンドスラリー(平均粒径０.５μｍ) ・機械的テクスチャリング(粗) スラリー：ダイヤモンドスラリー(平均粒径１.５μｍ）

【００３４】上記各処理を施した媒体に、下地層、磁性
層、保護膜及び潤滑膜を形成した。下地層：成分Ｃｒ、厚さ４０ｎｍ（スパッタリング法に
より形成) 磁性層：成分ＣｏＣｒＴａ、厚さ４０ｎｍ(スパッタリ
ング法により形成) 保護膜：カーボン、厚さ１５ｎｍ(スパッタリング法に
より形成) 潤滑膜：成分パーフルオロポリエーテル、平均厚さ２ｎ
ｍとなるように成膜

【００３５】得られた本発明媒体と比較媒体の表面状態
を測定し、以下の試験を行なった。・表面状態の測定レーザーテクスチャリングを施した部分については、基
準面からの隆起部の高さＨを測定(表２中「高さＨ」)。
機械的テクスチャ及びスーパーポリッシュを施した部分
については、中心線平均粗さＲａを、測定長さ２.５ｍ
ｍ、カットオフ値０.２５ｍｍ、スタイラス(触針)径０.
５μｍＲの条件で測定(表２中「Ｒａ」)。・グライド性能試験ヘッドと磁気記録媒体が接触せずに飛行できる最低浮上
高を比較。ヘッドと磁気記録媒体が接触し始めたときの
高さを測定。・ＣＳＳ性能試験ハードディスク装置にて、電源のオン／オフを３万回行
ない、ヘッドと磁気記録媒体を繰り返し摺動させた(Ｃ
ＳＳ)後の摩擦力を測定。・ミッシングパルスエラー個数測定試験磁化方向を１インチ当り９００００回変えて書込み動作
を行なった後、スレショルド７０％としてパルスの読み
出しを行ない、ディスク１枚当りの読出し不能のパルス
の個数を測定。この値により、記録密度等の磁気記録媒
体全体としての評価を行なうことができる。

【００３６】夫々の結果を表２に示す。

【表２】

【００３７】表２より、ＣＳＳゾーンにレーザーテクス
チャリングを施した記録媒体(本発明媒体及び比較媒体
３)は、レーザーテクスチャリングを施さない記録媒体
(比較媒体１及び２)に比べて、グライド高さは約２５％
低く、ＣＳＳ３万回後の摩擦力も約２１％低くできたこ
とが判る。また、微細な機械的テクスチャリングを施し
た磁気記録媒体(本発明媒体及び比較媒体１)は、ミッシ
ングパルスエラー個数が少なく、データゾーンにおける
電磁変換の際の読み出しエラーの発生回数も減少してい
ることが判る。本発明媒体と比較媒体１には、データゾ
ーンに同様の機械的テクスチャリングを施しているが、
本発明媒体は、比較媒体１に比べてエラー個数が減少し
ている。この原因として、本発明媒体のＣＳＳゾーンに
はレーザーテクスチャリングが施され、グライド高さを
低くできたこと、また、比較媒体１は、データゾーンと
ＣＳＳゾーンとの境界部分(トランジッションゾーン)で
のエラーが発生しやすく、その部分でのエラーが含まれ
ているのに対し、本発明媒体は、トランジッションゾー
ンでのエラー発生を抑えることができたことが挙げられ
る。比較媒体３については、データゾーンにスーパーポ
リッシュを施しているため、局所的に磁気異方性のばら
つきが生じ、エラーが発生していることがわかる。

【００３８】［実施例２］円周方向の機械的テクスチャ
リングを施したＮｉＰ層(13)に、レーザーの照射条件を
適宜調整してレーザーテクスチャリングを施して、形成
される椀状部（２１）の環状の隆起部（２２）の高さＨ
を変えた基板(11)に、下地層、磁性層、保護膜及び潤滑
膜を順次積層した磁気記録媒体を７種類(表３参照)作製
し、グライド性能、初期摩擦係数及びＣＳＳ２万回後の
摩擦係数を夫々測定した。磁気記録媒体は、各種類複数
枚ずつ作製した。レーザーテクスチャリングの照射条件
以外は、実施例１の本発明媒体と同じである。機械的テ
クスチャリングを施したＮｉＰ層(13)の機械的テクスチ
ャ(31)の突起(31a)の最大高さＲｐ(図８参照)を、触針
式粗さ計にて荷重２０ｍｇ、スキャン長２.５ｍｍ、カ
ットオフ０.２５ｍｍ、触針半径０.５μｍの条件で測定
したところ、すべて１１.１ｎｍであった。また、レー
ザーテクスチャリングによって形成された椀状部(21)の
環状の隆起部(22)の高さＨ及び径は、ＡＦＭ(原子間力
顕微鏡)にて、スキャン長９０μｍの条件で測定を行な
った。隆起部(22)の高さＨ(図８参照)は、表３に示すよ
うに、６.６ｎｍ〜１９.０ｎｍであり、隆起部(22)の径
Ｒは、すべて８μｍであった。また、潤滑膜の厚さを夫
々ＸＰＳ(Ｘ線電子分光法)及びＦＴ−ＩＲ(フーリエ変
換赤外分光法)にて測定したところ、すべて１.５ｎｍで
あった。

【００３９】得られた磁気記録媒体のグライド性能、初
期摩擦係数及びＣＳＳ２万回後の摩擦係数を測定した。
グライド性能は、ＰＺＴセンサーを搭載した５０％スラ
イダーのヘッドをグライド高さ１８ｎｍで浮上させて、
ヘッドと磁気記録媒体との衝突回数をカウントすること
により測定し、各磁気記録媒体の測定された衝突回数
の、隆起部(22)の高さＨ毎の平均値を求めた。また、初
期摩擦係数及びＣＳＳ性能は、５０％スライダーのヘッ
ドを用い、荷重３.５ｇの条件で測定し、同様に隆起部
(22)の高さＨ毎に平均値を算出した。結果を夫々表３に
示す。

【００４０】

【表３】

【００４１】表３より、ヘッド衝突回数は、レーザーテ
クスチャリングにより形成される隆起部(22)の高さＨが
高くなるにつれて大きくなっている。特に、隆起部(22)
の高さＨが１７.１ｎｍつまり隆起部(22)の高さＨと機
械的テクスチャ(31)の突起(31a)の高さＲｐの差が６ｎ
ｍ以上となると、ヘッド衝突回数は、急激に増大してい
ることがわかる。初期摩擦係数は、隆起部(22)の高さＨ
が高くなるにつれて減少し、高さＨが１５.５ｎｍつま
り隆起部(22)の高さＨと機械的テクスチャ(31)の突起(3
1a)の高さＲｐの差が４.４ｎｍの部分で最小となり、そ
れよりも高くなると徐々に増大していることがわかる。
なお、初期摩擦係数は、ほぼ０.４５以下であれば、実
質的に性能には問題がない。さらに、ＣＳＳ２万回後の
摩擦係数は、隆起部(22)の高さＨが高くなるにつれて減
少し、高さＨが１７.１ｎｍつまり隆起部(22)の高さＨ
と機械的テクスチャ(31)の突起(31a)の高さＲｐの差が
６ｎｍの部分で最小となり、それよりも高くなると再度
増大していることがわかる。なお、ＣＳＳ２万回後の摩
擦係数は、１.２以下であれば、実質的に性能に問題は
ない。

【００４２】上記各測定結果を総合すると、レーザーテ
クスチャリングにより形成された椀状部(21)の隆起部(2
2)の高さＨを、機械的テクスチャ(31)の突起(31a)の最
大高さＲｐよりも１ｎｍ〜５ｎｍ高くすることにより、
上記各性質に優れた磁気記録媒体を得ることができるこ
とがわかる。高さの差は、１ｎｍ〜４.４ｎｍの範囲が
より好ましく、１.４ｎｍ〜３ｎｍとすることが最も望
ましい。

【００４３】

【発明の効果】本発明の磁気記録媒体によれば、データ
ゾーンとなる媒体基板部分及びＣＳＳゾーンとなる媒体
基板部分に微細な機械的テクスチャリングを施し、ＣＳ
Ｓゾーンとなる媒体基板部分には、機械的テクスチャの
上から、レーザーテクスチャリングを施しているため、
グライド高さが低く、ヘッドと磁気記録媒体との摩擦が
小さく、且つ読出し／書込み時の電磁変換上のエラーが
少ない磁気記録媒体を得ることができる。これにより磁
気記録媒体の高品質、高性能化等の効果を得ることがで
きる。加えて、本発明の磁気記録媒体は、機械的テクス
チャを媒体基板のデータゾーンとＣＳＳゾーンの両方に
形成しているため、データゾーンとＣＳＳゾーンとの間
に機械的テクスチャによる段差は生じないから、データ
ゾーンのみに機械的テクスチャを施した磁気記録媒体に
比べてグライド高さをさらに低く設定できる。

【００４４】上記のごとく、レーザーテクスチャリング
により形成される椀状部の環状の隆起部を、機械的テク
スチャの突起の最大高さＲｐに応じて、その高さＨを変
えて形成した磁気記録媒体は、隆起部の高さＨを低くで
き、且つヘッドと突起との衝突を防止させながら、ヘッ
ドの低浮上化を図ることができる。ヘッドの低浮上化を
図ることにより、磁気記録媒体の高記録密度化を達成で
きる。

【００４５】本発明では、レーザーテクスチャリングに
より形成される隆起部の形状を環状としている。これに
より、ヘッドと隆起部とが環状の線接触となり、適度な
接触面積を確保でき、隆起部の単位面積に加わるヘッド
の荷重を分散させて、隆起部の摩耗の減少を図ることが
できる。隆起部の構造については、隆起部の先端を尖っ
た錐状にすることが考えられるが、その場合、ヘッドと
隆起部は点接触となるため初期の接触面積は小さくでき
るが、逆に１つの隆起部に加わるヘッドの荷重が増大す
るから、ＣＳＳを繰り返すうちに、隆起部が早く摩耗
し、その結果、ヘッドと突起との接触面積が増大した
り、摩耗粉によりヘッドに汚れが発生しやすく好ましく
ない。

【図面の簡単な説明】

【図１】機械的テクスチャの上からレーザーテクスチャ
リングが施された基板の部分拡大図である。

【図２】基板の一部を拡大した斜視図である。

【図３】磁気記録媒体の拡大断面図である。

【図４】研磨装置の斜視図である。

【図５】レーザーテクスチャリングの原理を示す図であ
る。

【図６】レーザー照射装置の斜視図である。

【図７】磁気記録媒体の斜視図である。

【図８】本発明の異なる実施例を示す基板の部分拡大図
である。

【図９】従来のレーザーテクスチャリングにより形成さ
れた椀状部を示す斜視図である。

【図１０】粗さの十分に細かい機械的テクスチャを示す
図である。

【図１１】ある程度の粗さをもった機械的テクスチャを
示す図である。

【符号の説明】

(１) 磁気記録媒体 (11) 記録媒体 (13) ＮｉＰ層 (21) 椀状部 (22) 隆起部 (23) 凹部 (31) 機械的テクスチャ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】非磁性の媒体基板(11)の表面に、下地層
(14)、磁性層(15)及び保護膜(16)を順次積層成膜して形
成され、データゾーン(3)の内側にＣＳＳゾーン(2)を有
する磁気記録媒体に於いて、媒体基板(11)の表面のＣＳ
Ｓゾーン(2)及びデータゾーン(3)となる領域には、機械
的テクスチャリング加工によるテクスチャ(31)が形成さ
れ、媒体基板(11)の表面のＣＳＳゾーン(2)となる領域
には、レーザーテクスチャリング加工による環状の隆起
部(22)が多数個形成されていることを特徴とする磁気記
録媒体。
【請求項２】環状の隆起部(22)は、ＣＳＳゾーン(2)
に施された機械的テクスチャ(31)の最も高い突起(31a)
よりも高く形成し、隆起部(22)の高さＨと突起(31a)の
最大高さＲｐとの差を、１ｎｍ〜５ｎｍにすることを特
徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】環状の隆起部(22)は、機械的テクスチャ
(31)の平均高さとなる基準面(32)からの高さＨが、３ｎ
ｍ〜３０ｎｍであることを特徴とする請求項１又は請求
項２に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】機械的テクスチャ(31)は、中心線平均粗
さＲａが０.１ｎｍ〜３ｎｍであることを特徴とする請
求項１乃至請求項３の何れかに記載の磁気記録媒体。
【請求項５】機械的テクスチャ(31)は、媒体基板(11)
の円周方向に向けて形成されることを特徴とする請求項
１乃至請求項４の何れかに記載の磁気記録媒体。