JPH11250455A - 磁気ディスクの製造方法 - Google Patents
磁気ディスクの製造方法Info
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- JPH11250455A JPH11250455A JP5213998A JP5213998A JPH11250455A JP H11250455 A JPH11250455 A JP H11250455A JP 5213998 A JP5213998 A JP 5213998A JP 5213998 A JP5213998 A JP 5213998A JP H11250455 A JPH11250455 A JP H11250455A
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- head
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ディスク基板上に磁性層及び保護層を順次成
膜し、保護層上に潤滑膜を形成した後グライド検査を行
う磁気ディスクの製造方法において、グライド検査にお
けるヘッドバーニッシュ工程を省略可能とする。 【解決手段】 保護層成膜後に潤滑膜を形成した後テー
プクリーニングを行い、その後バーニッシュを省略して
グライド検査を行う。
膜し、保護層上に潤滑膜を形成した後グライド検査を行
う磁気ディスクの製造方法において、グライド検査にお
けるヘッドバーニッシュ工程を省略可能とする。 【解決手段】 保護層成膜後に潤滑膜を形成した後テー
プクリーニングを行い、その後バーニッシュを省略して
グライド検査を行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ディスク基板上に
磁性層及び保護層を順次成膜し、保護層上に潤滑膜を形
成した後グライド検査を行う磁気ディスクの製造方法に
係り、特に、グライド検査におけるヘッドバーニッシュ
工程を省略することができる磁気ディスクの製造方法に
関する。
磁性層及び保護層を順次成膜し、保護層上に潤滑膜を形
成した後グライド検査を行う磁気ディスクの製造方法に
係り、特に、グライド検査におけるヘッドバーニッシュ
工程を省略することができる磁気ディスクの製造方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、コンピュータ等の情報処理技術の
発達に伴い、その外部記憶装置として磁気ディスク等の
磁気記録媒体が用いられている。
発達に伴い、その外部記憶装置として磁気ディスク等の
磁気記録媒体が用いられている。
【０００３】従来、磁気ディスクは、一般に、アルミニ
ウム合金基板にアルマイト処理やＮｉ−Ｐメッキ等の非
磁性メッキ処理を施した後、Ｃｒ等の下地層を形成し、
次いでＣｏ系合金等の磁性薄膜層を形成し、更に炭素質
の保護層を形成して製造されている。
ウム合金基板にアルマイト処理やＮｉ−Ｐメッキ等の非
磁性メッキ処理を施した後、Ｃｒ等の下地層を形成し、
次いでＣｏ系合金等の磁性薄膜層を形成し、更に炭素質
の保護層を形成して製造されている。
【０００４】より具体的には、次の通りである。
【０００５】即ち、一般にアルミニウム合金からなるデ
ィスク状基板を所定の厚さに加工した後、その表面を鏡
面加工してから非磁性金属、例えばＮｉ−Ｐ合金又はＮ
ｉ−Ｃｕ−Ｐ合金を無電解メッキ処理等により約５〜２
０μｍの膜厚の表面層を形成する。
ィスク状基板を所定の厚さに加工した後、その表面を鏡
面加工してから非磁性金属、例えばＮｉ−Ｐ合金又はＮ
ｉ−Ｃｕ−Ｐ合金を無電解メッキ処理等により約５〜２
０μｍの膜厚の表面層を形成する。
【０００６】次いで、上記基板の表面層上にテキスチャ
ー加工処理を施し、該基板表面に微細な溝もしくは凹凸
を形成する。このテキスチャー加工により磁気ヘッドと
基板との吸着が防止でき、且つＣＳＳ特性が改善され、
さらに磁気異方性が良好となる。
ー加工処理を施し、該基板表面に微細な溝もしくは凹凸
を形成する。このテキスチャー加工により磁気ヘッドと
基板との吸着が防止でき、且つＣＳＳ特性が改善され、
さらに磁気異方性が良好となる。
【０００７】上記基板表面上に第２次下地層としてＣｒ
層をスパッタリングにより形成する。該Ｃｒ下地層の膜
厚としては通常５０〜２０００Åの範囲である。
層をスパッタリングにより形成する。該Ｃｒ下地層の膜
厚としては通常５０〜２０００Åの範囲である。
【０００８】このような基板のＣｒ下地層上に磁性薄膜
層が形成される。その材料としては、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ
−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｘ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｘ、Ｃｏ−Ｗ−
Ｘ等で表わされるＣｏ系合金の磁性薄膜層が好適であ
る。ここでＸとしては、Ｌｉ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、
Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｓ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒ
ｈ、Ａｇ、Ｗの１種又は２種以上が挙げられる。Ｘとし
てはその他、Ｓｂ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉ
ｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓ
ｍ、及び、Ｅｕよりなる群から選ばれた１種又は２種以
上の元素を用いることもできる。
層が形成される。その材料としては、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ
−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｘ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｘ、Ｃｏ−Ｗ−
Ｘ等で表わされるＣｏ系合金の磁性薄膜層が好適であ
る。ここでＸとしては、Ｌｉ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、
Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｓ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒ
ｈ、Ａｇ、Ｗの１種又は２種以上が挙げられる。Ｘとし
てはその他、Ｓｂ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉ
ｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓ
ｍ、及び、Ｅｕよりなる群から選ばれた１種又は２種以
上の元素を用いることもできる。
【０００９】このようなＣｏ系合金からなる磁性層は、
通常スパッタリング等の手段によって基板のＣｒ下地層
上に被着形成される。該磁性層の膜厚としては、通常１
００〜２５００Åの範囲とされる。
通常スパッタリング等の手段によって基板のＣｒ下地層
上に被着形成される。該磁性層の膜厚としては、通常１
００〜２５００Åの範囲とされる。
【００１０】磁性層形成後は、その上面にディスク保護
のための保護薄膜が成膜される。
のための保護薄膜が成膜される。
【００１１】この保護層としては炭素質膜が好ましく、
炭素質保護膜は、通常、アルゴン、Ｈｅ等の希ガス及び
これらと水素や窒素、空気の混合ガスの雰囲気下でダイ
ヤモンド状、グラファイト状又はアモルファス状のカー
ボンをターゲットとしてスパッタリングにより磁性層上
に被着形成される。該保護層の膜厚は、通常５０〜５０
０Åの範囲とされる。
炭素質保護膜は、通常、アルゴン、Ｈｅ等の希ガス及び
これらと水素や窒素、空気の混合ガスの雰囲気下でダイ
ヤモンド状、グラファイト状又はアモルファス状のカー
ボンをターゲットとしてスパッタリングにより磁性層上
に被着形成される。該保護層の膜厚は、通常５０〜５０
０Åの範囲とされる。
【００１２】保護層の成膜後は、テープクリーニングを
行う。このテープクリーニングは一般的には、研磨テー
プを用いて実施され、この研磨テープとしては、通常、
ポリエチレンテレフタレート製、ポリアミド製等のフィ
ルム上に粒径０．３〜３μｍのアルミナ粒子、ＳｉＣ粒
子等の研磨砥粒を担持した研磨テープが用いられる。例
えば、日本ミクロコーティング株式会社製の“ＡＷＡ８
０００ ＦＮＹ”、“ＡＷＡ８０００ ＮＡ１−Ｃ”等
を用いることができる。
行う。このテープクリーニングは一般的には、研磨テー
プを用いて実施され、この研磨テープとしては、通常、
ポリエチレンテレフタレート製、ポリアミド製等のフィ
ルム上に粒径０．３〜３μｍのアルミナ粒子、ＳｉＣ粒
子等の研磨砥粒を担持した研磨テープが用いられる。例
えば、日本ミクロコーティング株式会社製の“ＡＷＡ８
０００ ＦＮＹ”、“ＡＷＡ８０００ ＮＡ１−Ｃ”等
を用いることができる。
【００１３】このテープクリーニング方法には、クリー
ニングテープにエアを吹き付け、その吹き付け圧力でク
リーニングテープをディスクに接触させる方式（以下、
「ＦＴＰ方式」と称す。）と、直接クリーニングテープ
をロールによりディスクに接触させる方式とがある。
ニングテープにエアを吹き付け、その吹き付け圧力でク
リーニングテープをディスクに接触させる方式（以下、
「ＦＴＰ方式」と称す。）と、直接クリーニングテープ
をロールによりディスクに接触させる方式とがある。
【００１４】この保護層形成後のテープクリーニング工
程終了後、通常、保護層の表面に潤滑剤層が設けられ
る。潤滑剤としては、例えば、フッ素系液体潤滑剤が使
用され、通常、ディップコート法、スピンコート法、ス
プレーコート法等により、保護層の表面に形成される。
潤滑剤層の厚さは、通常、約５〜５０Åの範囲である。
程終了後、通常、保護層の表面に潤滑剤層が設けられ
る。潤滑剤としては、例えば、フッ素系液体潤滑剤が使
用され、通常、ディップコート法、スピンコート法、ス
プレーコート法等により、保護層の表面に形成される。
潤滑剤層の厚さは、通常、約５〜５０Åの範囲である。
【００１５】そして、磁気ディスクには高性能が要求さ
れるため、磁気ディスク製造の最終工程においては、グ
ライド検査と称される表面突起除去とサーティファイ検
査と称される電磁変換特性の試験が行われている。
れるため、磁気ディスク製造の最終工程においては、グ
ライド検査と称される表面突起除去とサーティファイ検
査と称される電磁変換特性の試験が行われている。
【００１６】このうち、グライド検査はバーニッシュヘ
ッドによりディスク表面の突起・汚れを除去するヘッド
バーニッシュ工程とメジャーヘッドにて突起をチェック
するメジャー工程の２工程より構成される。
ッドによりディスク表面の突起・汚れを除去するヘッド
バーニッシュ工程とメジャーヘッドにて突起をチェック
するメジャー工程の２工程より構成される。
【００１７】このグライド検査は、例えば、図１に示す
装置を用いて行われる。図１のグライド検査装置は、４
個のヘッド１（バーニッシュヘッド１ａ及び１ｂ、メジ
ャーヘッド１ｃ及び１ｄ）を有し、該ヘッド１はディス
ク２の半径方向に進退可能に駆動装置３Ａ，３Ｂに支持
されている。バーニッシュヘッド１ａ，１ｂはディスク
２表面の突起や汚れを除去するための薄膜ヘッドであ
り、メジャーヘッド１ｃ，１ｄはディスク２表面の突起
の有無をチェックするためのピエゾセンサ付ヘッドであ
り、図２に示す如く、検査時においてバーニッシュヘッ
ド１ａ，１ｂとディスク２とのクリアランス（浮上量）
は、メジャーヘッド１ｃ，１ｄとディスク２とのクリア
ランス（浮上量）よりも小さくなるように設定されてい
る。４は、磁気ディスクを着脱自在に固定し回転させる
スピンドルである。
装置を用いて行われる。図１のグライド検査装置は、４
個のヘッド１（バーニッシュヘッド１ａ及び１ｂ、メジ
ャーヘッド１ｃ及び１ｄ）を有し、該ヘッド１はディス
ク２の半径方向に進退可能に駆動装置３Ａ，３Ｂに支持
されている。バーニッシュヘッド１ａ，１ｂはディスク
２表面の突起や汚れを除去するための薄膜ヘッドであ
り、メジャーヘッド１ｃ，１ｄはディスク２表面の突起
の有無をチェックするためのピエゾセンサ付ヘッドであ
り、図２に示す如く、検査時においてバーニッシュヘッ
ド１ａ，１ｂとディスク２とのクリアランス（浮上量）
は、メジャーヘッド１ｃ，１ｄとディスク２とのクリア
ランス（浮上量）よりも小さくなるように設定されてい
る。４は、磁気ディスクを着脱自在に固定し回転させる
スピンドルである。
【００１８】この装置を用いてグライド検査を行うに
は、バーニッシュヘッド１ａ，１ｂ、メジャーヘッド１
ｃ，１ｄをディスク２の外縁より離隔方向へ後退させて
おき、検査用磁気ディスク２をスピンドル４に係合させ
て固定すると共にスピンドル４を回転させる。しかし
て、ディスク２の回転数が所定の回転数となったとき、
ヘッド駆動装置３Ａ，３Ｂにより、ヘッド１ａ〜１ｄを
ディスク２上の所定位置に進出させて図１の状態とす
る。このとき、バーニッシュヘッド１ａ，１ｂは図３に
示すようにディスク２の回転に伴って発生する気流によ
って浮上してディスク２とは非接触状態で対面し、この
状態でディスク２表面の突起や汚れ６を除去する。この
後、メジャーヘッド１ｃ，１ｄにてディスク２表面の突
起の有無をチェックし、もし突起が残っている時は、更
にバーニッシュヘッド１ａ，１ｂによる突起や汚れの除
去及びメジャーヘッド１ｃ，１ｄによるチェックを数回
繰り返す。
は、バーニッシュヘッド１ａ，１ｂ、メジャーヘッド１
ｃ，１ｄをディスク２の外縁より離隔方向へ後退させて
おき、検査用磁気ディスク２をスピンドル４に係合させ
て固定すると共にスピンドル４を回転させる。しかし
て、ディスク２の回転数が所定の回転数となったとき、
ヘッド駆動装置３Ａ，３Ｂにより、ヘッド１ａ〜１ｄを
ディスク２上の所定位置に進出させて図１の状態とす
る。このとき、バーニッシュヘッド１ａ，１ｂは図３に
示すようにディスク２の回転に伴って発生する気流によ
って浮上してディスク２とは非接触状態で対面し、この
状態でディスク２表面の突起や汚れ６を除去する。この
後、メジャーヘッド１ｃ，１ｄにてディスク２表面の突
起の有無をチェックし、もし突起が残っている時は、更
にバーニッシュヘッド１ａ，１ｂによる突起や汚れの除
去及びメジャーヘッド１ｃ，１ｄによるチェックを数回
繰り返す。
【００１９】
【発明が解決しようとする課題】磁気ディスクにおいて
は、記録の高密度化が進められ、それに伴い、記録再生
時の磁気ディスクと磁気ヘッドとの間隔、即ち磁気ヘッ
ドの浮上量は益々小さくなっており、最近では０．１０
μｍ以下程度になっている。このように磁気ヘッドの浮
上量が著しく小さいため、磁気ディスク面に歪みがある
とヘッドクラッシュを招き、ディスク表面を傷つけるこ
とがある。また、ヘッドクラッシュに至らないような微
小なうねりでも情報の読み書きの際の種々のエラーの原
因となりやすい。
は、記録の高密度化が進められ、それに伴い、記録再生
時の磁気ディスクと磁気ヘッドとの間隔、即ち磁気ヘッ
ドの浮上量は益々小さくなっており、最近では０．１０
μｍ以下程度になっている。このように磁気ヘッドの浮
上量が著しく小さいため、磁気ディスク面に歪みがある
とヘッドクラッシュを招き、ディスク表面を傷つけるこ
とがある。また、ヘッドクラッシュに至らないような微
小なうねりでも情報の読み書きの際の種々のエラーの原
因となりやすい。
【００２０】一方、前記グライド検査におけるバーニッ
シュヘッドによる突起や汚れ除去に際してバーニッシュ
ヘッドとディスク表面の突起との衝突の影響でディスク
表面に微小な衝突痕が発生するが、最近の高記録密度化
傾向に伴なって、このバーニッシュ時にディスク表面に
発生する微小傷が最終製品のエラーとなり、製品の歩留
り低下の原因となっている。
シュヘッドによる突起や汚れ除去に際してバーニッシュ
ヘッドとディスク表面の突起との衝突の影響でディスク
表面に微小な衝突痕が発生するが、最近の高記録密度化
傾向に伴なって、このバーニッシュ時にディスク表面に
発生する微小傷が最終製品のエラーとなり、製品の歩留
り低下の原因となっている。
【００２１】グライド検査におけるヘッドバーニッシュ
工程を省略することができるならば、上記バーニッシュ
ヘッドによるエラーの発生の問題は解消される上に、グ
ライド検査の工程数が減って、製造効率も向上するが、
従来において、ヘッドバーニッシュ工程を省略すると、
メジャー工程でのヒット数が大幅に増加し、グライド検
査の歩留りが悪化することとなるため、グライド検査時
のヘッドバーニッシュ工程を省略することは困難であっ
た。
工程を省略することができるならば、上記バーニッシュ
ヘッドによるエラーの発生の問題は解消される上に、グ
ライド検査の工程数が減って、製造効率も向上するが、
従来において、ヘッドバーニッシュ工程を省略すると、
メジャー工程でのヒット数が大幅に増加し、グライド検
査の歩留りが悪化することとなるため、グライド検査時
のヘッドバーニッシュ工程を省略することは困難であっ
た。
【００２２】本発明は上記従来の問題点を解決し、グラ
イド検査におけるヘッドバーニッシュ工程を省略するこ
とができる磁気ディスクの製造方法を提供することを目
的とする。
イド検査におけるヘッドバーニッシュ工程を省略するこ
とができる磁気ディスクの製造方法を提供することを目
的とする。
【００２３】
【課題を解決するための手段】本発明の磁気ディスクの
製造方法は、ディスク基板上に磁性層及び保護層を順次
成膜し、保護層上に潤滑膜を形成した後グライド検査を
行う磁気ディスクの製造方法において、該潤滑膜形成後
にテープクリーニングを行うことを特徴とする。
製造方法は、ディスク基板上に磁性層及び保護層を順次
成膜し、保護層上に潤滑膜を形成した後グライド検査を
行う磁気ディスクの製造方法において、該潤滑膜形成後
にテープクリーニングを行うことを特徴とする。
【００２４】即ち、本発明者らは、グライド検査におけ
るヘッドバーニッシュ工程を省略すべく鋭意検討を重ね
た結果、従来、保護層成膜後に行われていたテープクリ
ーニング工程を、潤滑膜形成後に行うことで、グライド
検査におけるヘッドバーニッシュ工程を省略することが
できることを見出し、本発明を完成させた。
るヘッドバーニッシュ工程を省略すべく鋭意検討を重ね
た結果、従来、保護層成膜後に行われていたテープクリ
ーニング工程を、潤滑膜形成後に行うことで、グライド
検査におけるヘッドバーニッシュ工程を省略することが
できることを見出し、本発明を完成させた。
【００２５】潤滑膜形成後にテープクリーニングを行う
本発明によれば、次のような作用効果でヘッドバーニッ
シュ工程の省略が可能となるものと推定される。
本発明によれば、次のような作用効果でヘッドバーニッ
シュ工程の省略が可能となるものと推定される。
【００２６】即ち、一般に、潤滑膜形成時に微小異物の
ディスクへの付着を皆無にすることは極めて困難であ
り、潤滑膜形成後のディスクには少なからず、微小異物
が付着している。このディスクをヘッドバーニッシュ工
程を経ることなく、メジャー工程に供すると、微小異物
の存在で、検査時のヒット数が多くなり、グライド検査
歩留りが悪いものとなる。これに対して、本発明に従っ
て、潤滑膜形成後にテープクリーニングを行って、この
潤滑膜形成時に付着した微小異物をも含めてディスク上
の異物を効率的に除去することにより、ヘッドバーニッ
シュ工程を経ることなく、直接メジャー工程に供するこ
とが可能となる。
ディスクへの付着を皆無にすることは極めて困難であ
り、潤滑膜形成後のディスクには少なからず、微小異物
が付着している。このディスクをヘッドバーニッシュ工
程を経ることなく、メジャー工程に供すると、微小異物
の存在で、検査時のヒット数が多くなり、グライド検査
歩留りが悪いものとなる。これに対して、本発明に従っ
て、潤滑膜形成後にテープクリーニングを行って、この
潤滑膜形成時に付着した微小異物をも含めてディスク上
の異物を効率的に除去することにより、ヘッドバーニッ
シュ工程を経ることなく、直接メジャー工程に供するこ
とが可能となる。
【００２７】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を説明
する。
する。
【００２８】本発明の磁気ディスクの製造方法では、従
来において、保護層成膜後、潤滑膜形成前に行っていた
テープクリーニングを、潤滑膜形成後に行うこと以外
は、従来法と同様にして各層の成膜を行うことで、グラ
イド検査におけるヘッドバーニッシュ工程を省略する。
来において、保護層成膜後、潤滑膜形成前に行っていた
テープクリーニングを、潤滑膜形成後に行うこと以外
は、従来法と同様にして各層の成膜を行うことで、グラ
イド検査におけるヘッドバーニッシュ工程を省略する。
【００２９】即ち、ディスク基板上に常法に従って、下
地層、磁性層及び保護層を順次成膜し、その後潤滑膜を
形成した後、テープクリーニングを行う。
地層、磁性層及び保護層を順次成膜し、その後潤滑膜を
形成した後、テープクリーニングを行う。
【００３０】このテープクリーニングは、前述の研磨テ
ープを用いて、従来、保護層成膜後に行われているテー
プクリーニングと同様に実施することができるが、本発
明においては、特に、クリーニングテープにエアを吹き
付けるＦＴＰ方式よりも、クリーニングテープを直接ロ
ールでディスクに接触させる方式（以下「直接方式」と
称す場合がある。）で行うのが好ましい。
ープを用いて、従来、保護層成膜後に行われているテー
プクリーニングと同様に実施することができるが、本発
明においては、特に、クリーニングテープにエアを吹き
付けるＦＴＰ方式よりも、クリーニングテープを直接ロ
ールでディスクに接触させる方式（以下「直接方式」と
称す場合がある。）で行うのが好ましい。
【００３１】この場合、テープクリーニング条件には特
に制限はないが、次のような条件を採用するのが好まし
い。
に制限はないが、次のような条件を採用するのが好まし
い。
【００３２】 テープ速度 ：０．７〜５．０ｍｍ／ｓｅｃ ディスク回転数：１００〜２０００ｒｐｍ 接触圧力 ：０．１〜１０Ｐｏｕｎｄ／ｃｍ2 加工時間 ：１〜１０秒 ロール硬度 ：４０〜９０度 また、テープクリーニング時のオシレーションの有無に
は特に制限はない。
は特に制限はない。
【００３３】このように、潤滑膜形成後にテープクリー
ニングを行うことで、その後のグライド検査に当って
は、ヘッドバーニッシュを経ることなく、直接メジャー
工程に入ることができる。
ニングを行うことで、その後のグライド検査に当って
は、ヘッドバーニッシュを経ることなく、直接メジャー
工程に入ることができる。
【００３４】なお、グライド検査条件には特に制限はな
く、図１に示すようなグライド検査装置により、ヘッド
バーニッシュ工程を省略して次のような条件でグライド
検査（メジャー工程）を行うことができる。
く、図１に示すようなグライド検査装置により、ヘッド
バーニッシュ工程を省略して次のような条件でグライド
検査（メジャー工程）を行うことができる。
【００３５】 メジャーヘッド浮上量：約１．０μインチ
【００３６】
【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。
り具体的に説明する。
【００３７】実施例１ 無電解メッキ法によりＮｉ−Ｐメッキを１０μｍの厚み
で施したアルミニウム合金ディスク基板の表面にポリッ
シュ加工を施し、該基板の表面層上にＣｒ下地膜、Ｃｏ
−Ｃｒ−Ｔａ合金からなる磁性層及び炭素質膜からなる
保護層を順次スパッタ法により成膜した。
で施したアルミニウム合金ディスク基板の表面にポリッ
シュ加工を施し、該基板の表面層上にＣｒ下地膜、Ｃｏ
−Ｃｒ−Ｔａ合金からなる磁性層及び炭素質膜からなる
保護層を順次スパッタ法により成膜した。
【００３８】保護層を成膜後、テープクリーニングを行
うことなく、保護層上に、ディップ法によりフッ素系液
体潤滑剤を塗布して潤滑膜を形成した。
うことなく、保護層上に、ディップ法によりフッ素系液
体潤滑剤を塗布して潤滑膜を形成した。
【００３９】この潤滑膜形成後、下記条件にてテープク
リーニングを行い、その後ヘッドバーニッシュを行うこ
となく、下記条件で直接メジャーヘッドでグライド検査
を行った。
リーニングを行い、その後ヘッドバーニッシュを行うこ
となく、下記条件で直接メジャーヘッドでグライド検査
を行った。
【００４０】[直接方式テープクリーニング条件] テープ種類 ：ＡＷＡ８０００ ＮＡ１−Ｃ テープ速度 ：１ｍｍ／ｓｅｃ ディスク回転数：１０００ｒｐｍ 接触圧力 ：１．０Ｐｏｕｎｄ／ｃｍ2 加工時間 ：１０秒 ロール硬度 ：４０度 オシレーション：無 [グライド検査（メジャー工程）条件] メジャーヘッド浮上量：１．０μインチ このときのグライド歩留りを調べ、下記基準で判定し、
結果を表１に示した。
結果を表１に示した。
【００４１】[判定基準] グライド歩留り ○：８０％以上 △：３０〜８０％未満 ×：３０％未満 実施例２ 実施例１において、テープクリーニングを下記条件のＦ
ＴＰ方式で行ったこと以外は同様にして成膜及びグライ
ド検査を行い、同様にグライド歩留りを調べ、判定結果
を表１に示した。
ＴＰ方式で行ったこと以外は同様にして成膜及びグライ
ド検査を行い、同様にグライド歩留りを調べ、判定結果
を表１に示した。
【００４２】[ＦＴＰ方式テープクリーニング条件] テープ種類 ：ＡＷＡ８０００ ＮＡ１−Ｃ テープ速度 ：１ｍｍ／ｓｅｃ ディスク回転数 ：２０００ｒｐｍ テープテンション：８０ｇ テープ往復 ：１回，７２０ｍｍ／ｍｉｎ ディスク〜エアノズル距離：４ｍｍ 比較例１ 実施例１において、保護層形成後、実施例２における条
件と同様のＦＴＰ方式のテープクリーニングを行い、そ
の後潤滑膜を形成し、テープクリーニングを行うことな
く、下記条件でグライド検査（ヘッドバーニッシュ工程
及びメジャー工程）を行ったこと以外は同様にして成膜
及びグライド検査を行い、同様にグライド歩留りを調
べ、判定結果を表１に示した。
件と同様のＦＴＰ方式のテープクリーニングを行い、そ
の後潤滑膜を形成し、テープクリーニングを行うことな
く、下記条件でグライド検査（ヘッドバーニッシュ工程
及びメジャー工程）を行ったこと以外は同様にして成膜
及びグライド検査を行い、同様にグライド歩留りを調
べ、判定結果を表１に示した。
【００４３】[グライド検査（ヘッドバーニッシュ工程
及びメジャー工程）条件] バーニッシュシーク速度：２ｍｍ／Ｓ バーニッシュシーク回数：２回 ディスク回転速度 ：４０００ｒｐｍ メジャーヘッド浮上量 ：１．０μインチ 比較例２ 実施例１において、保護層形成後、実施例１における条
件と同様の直接方式のテープクリーニングを行い、その
後潤滑膜を形成し、テープクリーニングを行うことな
く、実施例１と同様にしてグライド検査（メジャー工程
のみ）を行ったこと以外は同様にして成膜及びグライド
検査を行い、同様にグライド歩留りを調べ、判定結果を
表１に示した。
及びメジャー工程）条件] バーニッシュシーク速度：２ｍｍ／Ｓ バーニッシュシーク回数：２回 ディスク回転速度 ：４０００ｒｐｍ メジャーヘッド浮上量 ：１．０μインチ 比較例２ 実施例１において、保護層形成後、実施例１における条
件と同様の直接方式のテープクリーニングを行い、その
後潤滑膜を形成し、テープクリーニングを行うことな
く、実施例１と同様にしてグライド検査（メジャー工程
のみ）を行ったこと以外は同様にして成膜及びグライド
検査を行い、同様にグライド歩留りを調べ、判定結果を
表１に示した。
【００４４】
【表１】
【００４５】表１より、潤滑膜形成後にテープクリーニ
ングを行うことにより、特に、このテープクリーニング
を直接方式で行うことにより、グライド検査におけるヘ
ッドバーニッシュ工程を省略することができることがわ
かる。
ングを行うことにより、特に、このテープクリーニング
を直接方式で行うことにより、グライド検査におけるヘ
ッドバーニッシュ工程を省略することができることがわ
かる。
【００４６】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の磁気ディス
クの製造方法によれば、グライド検査におけるヘッドバ
ーニッシュ工程を省略することができるため、ヘッドバ
ーニッシュによるエラーの発生の問題を解消すると共
に、グライド検査の工程数を軽減して、磁気ディスクを
高い生産効率にて歩留り良く製造することが可能とな
る。
クの製造方法によれば、グライド検査におけるヘッドバ
ーニッシュ工程を省略することができるため、ヘッドバ
ーニッシュによるエラーの発生の問題を解消すると共
に、グライド検査の工程数を軽減して、磁気ディスクを
高い生産効率にて歩留り良く製造することが可能とな
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】磁気ディスクのグライド検査装置を示す概略的
な側面図である。
な側面図である。
【図２】バーニッシュヘッドとメジャーヘッドの浮上量
を説明する断面図である。
を説明する断面図である。
【図３】バーニッシュヘッドによる突起除去の原理を示
す断面図である。
す断面図である。
１ ヘッド １ａ，１ｂ バーニッシュヘッド １ｃ，１ｄ メジャーヘッド ２ 磁気ディスク ３Ａ，３Ｂ 駆動装置 ４ スピンドル
Claims (3)
- 【請求項１】 ディスク基板上に磁性層及び保護層を順
次成膜し、保護層上に潤滑膜を形成した後グライド検査
を行う磁気ディスクの製造方法において、 該潤滑膜形成後にテープクリーニングを行うことを特徴
とする磁気ディスクの製造方法。 - 【請求項２】 請求項１の方法において、前記テープク
リーニング後、ヘッドバーニッシュ工程を経ることなく
メジャー工程を行うことを特徴とする磁気ディスクの製
造方法。 - 【請求項３】 請求項１又は２において、ロールを用い
てクリーニングテープをディスク基板に接触させてテー
プクリーニングを行うことを特徴とする磁気ディスクの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5213998A JPH11250455A (ja) | 1998-03-04 | 1998-03-04 | 磁気ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5213998A JPH11250455A (ja) | 1998-03-04 | 1998-03-04 | 磁気ディスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11250455A true JPH11250455A (ja) | 1999-09-17 |
Family
ID=12906550
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5213998A Pending JPH11250455A (ja) | 1998-03-04 | 1998-03-04 | 磁気ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11250455A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6572934B2 (en) | 2000-02-01 | 2003-06-03 | Anelva Corporation | Method for manufacturing a magnetic recording disk |
| US7276262B2 (en) | 2003-09-30 | 2007-10-02 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Control of process timing during manufacturing of magnetic thin film disks |
| JP2008135091A (ja) * | 2006-11-27 | 2008-06-12 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置、磁気記録媒体並びに磁気記録再生装置 |
-
1998
- 1998-03-04 JP JP5213998A patent/JPH11250455A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6572934B2 (en) | 2000-02-01 | 2003-06-03 | Anelva Corporation | Method for manufacturing a magnetic recording disk |
| US8147924B2 (en) | 2000-02-01 | 2012-04-03 | Canon Anelva Corporation | Apparatus for manufacturing magnetic recording disk, and in-line type substrate processing apparatus |
| US7276262B2 (en) | 2003-09-30 | 2007-10-02 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Control of process timing during manufacturing of magnetic thin film disks |
| JP2008135091A (ja) * | 2006-11-27 | 2008-06-12 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置、磁気記録媒体並びに磁気記録再生装置 |
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