JP2008135091A - 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置、磁気記録媒体並びに磁気記録再生装置 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法及び製造装置、磁気記録媒体並びに磁気記録再生装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008135091A JP2008135091A JP2006318824A JP2006318824A JP2008135091A JP 2008135091 A JP2008135091 A JP 2008135091A JP 2006318824 A JP2006318824 A JP 2006318824A JP 2006318824 A JP2006318824 A JP 2006318824A JP 2008135091 A JP2008135091 A JP 2008135091A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic recording
- recording medium
- tape
- manufacturing
- magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
【解決手段】ガラス基板上に少なくとも下地層と磁性層と保護膜層とを順次形成する成膜工程が備えられているとともに、ワイプテープ2を用いて磁気記録媒体の表面を洗浄する表面処理工程が備えられた製造方法であり、前記表面処理工程は、ワイプテープ2を、少なくとも導電性材料を含有するパッド3で押圧することによって磁気記録媒体10の表面10a、10bに接触させ、ワイプテープ2及び磁気記録媒体10を除電しながら、該磁気記録媒体10の表面10a、10bをワイプテープ2に摺動させて洗浄する方法である。
【選択図】図1
Description
そして、このようなガラス基板の本体表面をテクスチャー加工によって適度に粗面化された状態とし、この表面に下地層を形成した後、磁性層、保護層、潤滑層を順次成膜し、更に、ガラス基板上に成膜された膜表面の突起等を除去するテープバニッシュ処理を施すことにより、磁気記録媒体が得られる。このようなテープバニッシュ処理は、例えば、アルミナ塗料を塗布したラッピングテープ等を用いて行なわれ、このラッピングテープをゴム製のコンタクトロールによって媒体表面に押し当てることにより、媒体表面を軽く研磨する工程である。このような処理を行うことにより、媒体表面の異常突起等が除去されるので、磁気記録媒体が用いられるハードディスク装置等において、磁気ヘッドの浮上量をより小さくすることが可能となる。
しかしながら、このような方法で洗浄処理を行なった場合、磁気記録媒体とワイプテープとの摩擦によって双方に静電気が発生し、磁気記録媒体表面に残留したパーティクル等の異物が静電気によってワイプテープに付着するとともに、媒体表面にも異物がそのまま付着、残留した状態となることがある。このような場合には、その後のテープバニッシュ工程等において磁気記録媒体とテープとの間に異物が噛み込まれ、上述と同様に媒体表面が傷付けられてしまうという問題がある。
しかしながら、媒体周縁に除電ローラを接触させる特許文献2に記載の方法では、磁気記録媒体全体から静電気の除電を行なうことができず、残留した静電気によって磁気記録媒体に異物が付着してしまうという問題があった。
即ち、本発明は以下に関する。
[2] 前記表面処理工程が、前記成膜工程の後に備えられていることを特徴とする[1]に記載の磁気記録媒体の製造方法。
[3] 前記表面処理工程の後に、磁気記録媒体の表面を研磨するテープバニッシュ工程が備えられていることを特徴とする[2]に記載の磁気記録媒体の製造方法。
[4] 前記ワイプテープが織布であることを特徴とする[1]〜[3]の何れかに記載の磁気記録媒体の製造方法。
[5] 前記ワイプテープが、ナイロン−ポリエステル系樹脂の織布であることを特徴とする[4]に記載の磁気記録媒体の製造方法。
[7] 前記表面処理手段が、前記成膜手段において少なくとも下地層と磁性層と保護膜層とが順次成膜された磁気記録媒体の表面を洗浄するものであることを特徴とする[6]に記載の磁気記録媒体の製造装置。
[8] 前記表面処理手段で洗浄された磁気記録媒体の表面を研磨するテープバニッシュ手段が備えられていることを特徴とする[7]又は[8]に記載の磁気記録媒体の製造装置。
[9] 前記ワイプテープが織布からなることを特徴とする[6]〜[8]の何れかに記載の磁気記録媒体の製造装置。
[10] 前記ワイプテープが、ナイロン−ポリエステル系樹脂の織布からなることを特徴とする[9]に記載の磁気記録媒体の製造装置。
[12] 上記[11]に記載の磁気記録媒体と、この磁気記録媒体を記録方向に駆動する駆動部と、記録部と再生部からなる磁気ヘッドと、前記磁気ヘッドを磁気記録媒体に対して相対運動させる手段と、前記磁気ヘッドへの信号入力と磁気ヘッドからの出力信号再生を行うための記録再生信号処理手段を組み合わせてなる磁気記録再生装置。
従って、エラーが少なく記録再生特性に優れた磁気記録媒体並びに磁気記録再生装置を提供することができる。
また、本実施形態では、前記表面処理工程が前記成膜工程の後に備えられ、前記表面処理工程の後に、磁気記録媒体10の表面10a、10bを研磨するテープバニッシュ工程が備えられた方法としている。
以下に、本実施形態の製造方法及び製造方法によって得られる磁気記録媒体の一例について、主に図2の断面模式図を参照しながら説明する。
図2に示す本実施形態の磁気記録媒体10は、非磁性のガラス基板11上に、下地層12、中間層13、磁性層14、保護膜層15の各層が順次積層され、最上層に潤滑剤層16が設けられて概略構成されている。
また、本実施形態のガラス基板11は、ガラス材料からなる基体と、この基体表面にNiP、NiP合金、又は他の合金から選ばれる1種以上からなる膜を、メッキ、スパッタ法等の方法により蒸着させて形成した表面層とから構成されたものとしても良い。
また、ガラス基板11には、大気圧近傍の圧力下で発生するプラズマによって活性化されたガス(処理ガス)を用いて前処理を施すことができる。
また、下地層12を多層構造の非磁性下地層とする場合には、非磁性下地層を構成する層の内、少なくとも1層を上記Cr合金又はCrで構成することができる。
また、前記非磁性下地層は、NiAl系合金、RuAl系合金、又はCr合金(Ti,Mo,Al,Ta,W,Ni,B,Si及びVの群から選ばれる1種もしくは2種以上とCrとからなる合金)で構成することもできる。
また、非磁性下地層を多層構造とする場合には、非磁性下地層を構成する各層の内、少なくとも1層をNiAl系合金、RuAl系合金、又は上記Cr合金で構成することができる。
なお、本実施形態の磁気記録媒体では、さらに、磁性層を2種以上の積層構造としたものとしてもよい。
また、磁気記録媒体の基板として用いられる非磁性材料としては、上述のガラス材料の他、例えば、Alを主成分としたAl−Mg合金等のAl合金や、シリコン、チタン、セラミックス、各種樹脂材料等、非磁性材料であれば任意のものを用いることも可能である。
以下に、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法の一例について、図1(符号1の表面処理装置を参照)及び図3(符号7の成膜装置を参照)に示す例の製造装置を参照しながら説明する。
本実施形態の製造方法は、上述したように、図2に示すようなガラス基板11上に少なくとも下地層12と磁性層14と保護膜層15とを順次形成する成膜工程(図3の成膜装置5を参照)が備えられているとともに、図1(a)、(b)に示すようなワイプテープ2を用いて磁気記録媒体10の表面10a、10bを洗浄する表面処理工程が備えられた方法であり、この表面処理工程は、ワイプテープ2を、少なくとも導電性のパッド3で押圧することによって磁気記録媒体10の表面10a、10bに接触させ、ワイプテープ2及び磁気記録媒体10を除電しながら、該磁気記録媒体10の表面10a、10bをワイプテープ2に摺動させて洗浄する方法である。また、本実施形態では、前記表面処理工程が前記成膜工程の後に備えられ、前記表面処理工程の後に、磁気記録媒体10の表面10a、10bを研磨するテープバニッシュ工程が備えられた方法としている。
図1(a)、(b)に例示する表面処理装置(表面処理手段)1は、磁気記録媒体10の表面10a、10bを洗浄するものであり、この表面処理装置1には、ワイプテープ2と、少なくとも導電性材料を含有してなるパッド3とが備えられ、概略構成されている。
ワイプテープ2の材質としては、通常、磁気記録媒体表面の均一化や洗浄に用いられるものであれば特に制限されず、例えば、PET材料からなる織布等、適宜選択して用いることができる。
パッド3の材質としては、上述のように導電性材料を含有し、導電特性を示すものであれば特に限定されないが、例えば、クロロプレン等に導電性カーボンを含有させたスポンジ材料等を用いることができる。
本実施形態の磁気記録媒体の製造方法では、まず、上述したような非磁性材料からなるガラス基板11の表面に、テクスチャー工程においてテクスチャー加工を施した後、クリーニング工程においてガラス基板11を洗浄する。この際、例えば、テクスチャー工程の前に、ガラス基板11に対して前記処理ガスを用いる前処理を施しても良い。また、クリーニング工程の前及び/又は後に、ガラス基板11に対して前記処理ガスを用いる前処理を施しても良く、或いは、テクスチャー工程の前と、クリーニング工程の前及び/またはクリーニング工程の後との両方で、前記処理ガスを用いる前処理を施しても良い。
テクスチャー加工の方法としては、特に限定されず、例えば、ガラス基板11の表面に、固定砥粒及び/又は遊離砥粒を用いた機械的加工を施すことにより、円周方向にテクスチャーを施す方法とすることができる。この場合、ガラス基板11の表面にテクスチャー用研磨テープを押し付けて接触させ、ガラス基板11とテープとの間に研磨砥粒を含む研磨スラリーを供給しながらガラス基板11を回転させるとともに、テープを移送することで処理することが可能である。
また、スクラブ洗浄は、カップブラシまたはロールブラシを用いて行なうことが好ましい。
クリーニング工程後、前記処理ガスを用いてガラス基板11を前処理することにより、有機物残渣が分解されH2O,CO2となって気化蒸発するので、有機物残渣の除去効果を向上することができ、有機物残渣に起因するエラーが防止できるので、ヘッドの浮上特性を向上させることが可能となる。
磁気記録媒体の各層を形成する成膜方法は任意であるが、下地層12、中間層13、磁性層14の各層の成膜方法としては、例えば直流(マグネトロン)スパッタリング法、高周波(マグネトロン)スパッタリング法、ECRスパッタリング法、真空蒸着法等の物理的蒸着法が挙げられ、保護膜層15の成膜には、例えばプラズマCVD法、イオンビーム法、スパッタ法等が挙げられる。
また、図3に示す成膜装置7の構成では、ガラス基板11に対して高周波電圧のバイアスを印加するためのバイアス電源74が接続されており、ターゲット材72a、72bに対しては、高周波電圧に加えて直流電圧を印加できるように構成されているが、このバイアス電源74は略しても良い。
そして、成膜装置7のチャンバ70には、スパッタリングガス78を導入するためのバルブ付き導入管75が接続され、更に、チャンバ70の内部を真空ポンプに接続するためのバルブ付き排気管76が接続され、チャンバ70の内部を減圧可能に構成されている。
図示例の成膜装置7では、チャンバ70の内部を規定の圧力に減圧するとともに、スパッタリングガス78をバルブ付き導入管75から導入してターゲット材72a、72bの周囲にプラズマを発生させ、チャンバ50の内部に収容したガラス基板11表面に、スパッタリング法により薄膜を形成し、上記下地層12、中間層13、磁性層14の各層を成膜する。
そして、磁性層14の上に、例えば、プラズマCVD法を用いて保護膜層15を成膜する。
潤滑剤層16に用いる潤滑剤としては、上述したような材質のものが挙げられ、上記材料を用いて、通常1〜4nmの厚さで潤滑剤層16を形成する。潤滑剤層16の形成方法としては、例えば、ディッピング法、スピンコート法等、従来公知の方法を採用することができる。
本実施形態の表面処理工程では、まず、図1(a)に示すように、スピンドル6の取付部61に磁気記録媒体10を取り付ける。
次いで、図1(b)に示すように、ワイプテープ2を、図示略の駆動手段で駆動されるパッド3で押圧することにより、磁気記録媒体10の表面10a、10bに接触させる。
次いで、磁気記録媒体10の表面10a、10bとワイプテープ2とが接触した状態で、スピンドル6を図示略のモータで回転させることにより、スピンドル6に取り付けられた磁気記録媒体10が回転する(図5を参照)。このように、磁気記録媒体10が回転することにより、表面10a、10bをワイプテープ2が摺動し、潤滑剤層16が均一化されるとともに、表面10a、10bに付着したパーティクル等の異物がワイプテープ2によって拭き取られるようにして除去される。
このように、本実施形態の表面処理工程は、磁気記録媒体10及びワイプパッド2を除電しながら洗浄を行う方法なので、磁気記録媒体10の表面10a、10bに、静電気によって異物が付着したまま残留することが無く、ワイプテープ2によって確実に異物が除去される。
また、本実施形態では、導電性のパッド3をワイプテープ2に押し当てることにより、この部分を磁気記録媒体10に接触させて洗浄するとともに、この接触部分で除電処理を行う方法としている。このように、磁気記録媒体10の洗浄と除電とを、ワイプテープ2の磁気記録媒体10への接触部分(パッド3による押圧部分)で同時に行なうことにより、この部分の静電気をより効果的に除電できるので、表面10a、10bに異物が残留することなく効率的に洗浄することが可能となる。
また、本発明では、上述の表面処理工程がテープバニッシュ工程の後にも備えられた方法としても良い。この場合には、テープバニッシュ工程で発生して磁気記録媒体10の表面10a、10bに付着したダストを除去することが可能となる。
図6は、上記本発明に係る磁気記録媒体の製造方法及び製造装置によって得られる磁気記録媒体を用いた磁気記録再生装置の一例を示すものである。
この磁気記録再生装置80は、上記製造方法及び製造装置により得られる磁気記録媒体10と、磁気記録媒体10を回転駆動させる媒体駆動部81と、磁気記録媒体10に情報を記録再生する磁気ヘッド82と、ヘッド駆動部83と、記録再生信号処理系84とを備えている。記録再生信号処理系84は、入力されたデータを処理して記録信号を磁気ヘッド82に送出し、また、磁気ヘッド82からの再生信号を処理してデータを出力することができるようになっている。
本発明に係る磁気記録再生装置は、上記製造方法及び製造装置によって得られる磁気記録媒体を用いているので、記録再生特性に優れた磁気記録再生装置が得られる。
洗浄済みのガラス基板11(HOYA社製、外形2.5インチ)をDCマグネトロンスパッタ装置(アネルバ社製C−3010)の成膜チャンバ内に収容して、到達真空度1×10−5Paとなるまで成膜チャンバ内を排気した後、このガラス基板11上に89Co−4Zr−7Nb(Co含有率89at%、Zr含有率4at%、Nb含有率7at%)のターゲットを用いて100℃以下の基板温度で厚さ100nmの下地層12をスパッタリングにより成膜した。
次いで、ガラス基板11を200℃に加熱して、上記下地層12上に、65Co−30Cr−5Bターゲットを用いて厚さ5nmの中間層13を形成し、61Co−20Cr−17Pt−2Bターゲットを用いて厚さ25nmの磁性層14を形成した。なお、上記スパッタリング工程においては、成膜用のプロセスガスとしてアルゴンを用い、圧力0.5Paにて成膜した。
次いで、プラズマCVD法により、厚さ5nmの保護膜層15を形成した。
次いで、ディッピング法により、パーフルオロポリエーテルからなる潤滑剤層16を形成し、ガラス基板上に各層が成膜された磁気記録媒体を得た。
そして、得られた磁気記録媒体を、テスター(試験装置)にかけ、媒体表面を確認したところ、表面に傷等が生じていないことが確認できた。これにより、実施例1では、上述のテープバニッシュ処理において磁気記録媒体とテープとの間に異物が噛み込まれておらず、上記表面処理装置1によって磁気記録媒体表面の異物が確実に除去されていることが明らかとなった。
本例では、図1に示すような表面処理装置1において、導電性材料が含有されたパッドを用いてワイプテープを押圧し、磁気記録媒体に接触させた場合の除電効果を実証するため、実際に磁気記録媒体を回転させてワイプテープ2に摺動させた際の静電気の電圧を測定した。この際、ワイプテープとして、カネボウ製「EW−NC−011 スーパークリーン(ナイロン+ポリエステル)」を使用し、また、パッドとして、YAC社製クロロプレンスポンジ(導電性カーボン含有)を用いた。
なお、測定位置は、磁気記録媒体表面、及び、ワイプテープ2において図4に示すa〜dの各位置とし、静電気チェッカーとして、TRek Incorporated社製「MODEL 520(electrostatic voltmeter)」を用いた。
また、測定回数については、各々の箇所において3回とし、その平均値を求めた。
実施例2における測定結果を下記表1に示す。
本例では、図1に示すような表面処理装置1を用い、パッドとしてYAC社製クロロプレンスポンジ(絶縁性)を用いた点を除き、実施例2と同様にして静電気を測定し、従来の表面処理方法による試験を行った。
比較例2における測定結果を下記表2に示す。
表1に示すように、導電性のパッドを用いて表面処理装置を構成して試験を行なった実施例2では、ワイプテープ2をパッド3が押圧する箇所である「b」の位置の静電気電圧が−3Vと非常に小さくなっている。また、磁気記録媒体表面の静電気電圧も1Vと非常に小さな数値となっている。
これに対し、絶縁性のパッドを用いて表面処理装置を構成して試験を行った比較例1では、ワイプテープ2をパッド3が押圧する箇所である「b」の位置の静電気電圧が−39V、「a」の位置の電圧が−123Vと、実施例2に比べて非常に大きな値となった。また、磁気記録媒体表面の静電気電圧は2Vであり、これも、実施例2に比べて大きな値となった。
この結果より、導電性のパッド3を用いてワイプテープ2を押圧し、この位置(図5の符号b参照)で磁気記録媒体10を摺動して洗浄する、本発明に係る製造方法では、より高い除電効果が得られ、磁気記録媒体表面に付着した異物を効果的に除去することができることが明らかである。
Claims (12)
- ガラス基板上に少なくとも下地層と磁性層と保護膜層とを順次形成する成膜工程が備えられているとともに、ワイプテープを用いて磁気記録媒体表面を洗浄する表面処理工程が備えられた磁気記録媒体の製造方法であって、
前記表面処理工程は、前記ワイプテープを、少なくとも導電性のパッドで押圧することによって磁気記録媒体表面に接触させ、前記ワイプテープ及び磁気記録媒体を除電しながら、該磁気記録媒体の表面を前記ワイプテープに摺動させて洗浄することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 前記表面処理工程が、前記成膜工程の後に備えられていることを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 前記表面処理工程の後に、磁気記録媒体の表面を研磨するテープバニッシュ工程が備えられていることを特徴とする請求項2に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 前記ワイプテープが織布であることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 前記ワイプテープが、ナイロン−ポリエステル系樹脂の織布であることを特徴とする請求項4に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- ガラス基板上に少なくとも下地層と磁性層と保護膜層とを順次成膜する成膜手段が備えられているとともに、ワイプテープを用いて磁気記録媒体表面を洗浄する表面処理手段が備えられた磁気記録媒体の製造装置であって、
前記表面処理手段は、少なくとも導電性のパッドが備えられており、前記ワイプテープを前記パッドで押圧して磁気記録媒体表面に接触させ、前記ワイプテープ及び磁気記録媒体を除電しながら、該磁気記録媒体の表面を前記ワイプテープに摺動させて洗浄するものであることを特徴とする磁気記録媒体の製造装置。 - 前記表面処理手段が、前記成膜手段において少なくとも下地層と磁性層と保護膜層とが順次成膜された磁気記録媒体の表面を洗浄するものであることを特徴とする請求項6に記載の磁気記録媒体の製造装置。
- 前記表面処理手段で洗浄された磁気記録媒体の表面を研磨するテープバニッシュ手段が備えられていることを特徴とする請求項6又は7に記載の磁気記録媒体の製造装置。
- 前記ワイプテープが織布からなることを特徴とする請求項6〜8の何れか1項に記載の磁気記録媒体の製造装置。
- 前記ワイプテープが、ナイロン−ポリエステル系樹脂の織布からなることを特徴とする請求項9に記載の磁気記録媒体の製造装置。
- 請求項1〜5の何れか1項に記載の磁気記録媒体の製造方法、又は、請求項6〜10に記載の磁気記録媒体の製造装置によって製造される磁気記録媒体。
- 請求項11に記載の磁気記録媒体と、この磁気記録媒体を記録方向に駆動する駆動部と、記録部と再生部からなる磁気ヘッドと、前記磁気ヘッドを磁気記録媒体に対して相対運動させる手段と、前記磁気ヘッドへの信号入力と磁気ヘッドからの出力信号再生を行うための記録再生信号処理手段を組み合わせてなる磁気記録再生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006318824A JP2008135091A (ja) | 2006-11-27 | 2006-11-27 | 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置、磁気記録媒体並びに磁気記録再生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006318824A JP2008135091A (ja) | 2006-11-27 | 2006-11-27 | 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置、磁気記録媒体並びに磁気記録再生装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008135091A true JP2008135091A (ja) | 2008-06-12 |
Family
ID=39559849
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006318824A Pending JP2008135091A (ja) | 2006-11-27 | 2006-11-27 | 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置、磁気記録媒体並びに磁気記録再生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008135091A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8727832B2 (en) | 2011-09-27 | 2014-05-20 | HGST Netherlands B.V. | System, method and apparatus for enhanced cleaning and polishing of magnetic recording disk |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10106229A (ja) * | 1996-09-30 | 1998-04-24 | Toray Ind Inc | ワイピングテープ |
JPH11250455A (ja) * | 1998-03-04 | 1999-09-17 | Mitsubishi Chemical Corp | 磁気ディスクの製造方法 |
JP2003059017A (ja) * | 2001-08-20 | 2003-02-28 | Sony Corp | 回転ヘッドのクリーニング装置 |
JP2004362689A (ja) * | 2003-06-05 | 2004-12-24 | Sony Corp | ヘッドクリーニング装置、及び磁気記録再生装置 |
-
2006
- 2006-11-27 JP JP2006318824A patent/JP2008135091A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10106229A (ja) * | 1996-09-30 | 1998-04-24 | Toray Ind Inc | ワイピングテープ |
JPH11250455A (ja) * | 1998-03-04 | 1999-09-17 | Mitsubishi Chemical Corp | 磁気ディスクの製造方法 |
JP2003059017A (ja) * | 2001-08-20 | 2003-02-28 | Sony Corp | 回転ヘッドのクリーニング装置 |
JP2004362689A (ja) * | 2003-06-05 | 2004-12-24 | Sony Corp | ヘッドクリーニング装置、及び磁気記録再生装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8727832B2 (en) | 2011-09-27 | 2014-05-20 | HGST Netherlands B.V. | System, method and apparatus for enhanced cleaning and polishing of magnetic recording disk |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5635078B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP3801568B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP6105488B2 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP2008135091A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置、磁気記録媒体並びに磁気記録再生装置 | |
JP5032758B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP2006082138A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスク用ガラス基板、並びに、磁気ディスクの製造方法及び磁気ディスク | |
JP2004335081A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の洗浄方法及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法並びに磁気ディスクの製造方法 | |
JP5080904B2 (ja) | 記憶媒体の製造方法 | |
WO2014148421A1 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP6041290B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP2009116950A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP5303741B1 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP2007095238A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP2002025049A (ja) | 情報記録媒体の製造方法 | |
JP6021911B2 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板および情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP6267115B2 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、磁気記録媒体、および、磁気記録媒体の製造方法 | |
JPH11232642A (ja) | 磁気ディスクの製造方法 | |
JP2004290787A (ja) | 磁気ディスク用基板の洗浄方法及び磁気ディスク用基板の製造方法並びに磁気ディスクの製造方法 | |
JP5704755B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
WO2015041011A1 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP2001209932A (ja) | 情報記録媒体の製造方法 | |
JP4828436B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録媒体 | |
JP2009289300A (ja) | 情報記録媒体用基板の洗浄方法および情報記録媒体の製造方法 | |
JP2009087456A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JP2004288354A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20090803 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100325 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20100330 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20100524 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100713 |