JP6021911B2 - 情報記録媒体用ガラス基板および情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 - Google Patents
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- G11B5/73911—Inorganic substrates
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Description
図1および図2を参照して、情報記録媒体用ガラス基板1Gおよび情報記録媒体1の構成について説明する。図1は、情報記録媒体用ガラス基板1Gの斜視図、図2は、情報記録媒体の斜視図である。
次に、図3を参照して、本実施の形態に係るガラス基板1Gおよび情報記録媒体1の製造方法を説明する。図3は、ガラス基板1Gおよび情報記録媒体1の製造方法を示すフロー図である。
上記実施の形態において示したガラス基板の製造方法において、「第2ポリッシュ工程」を行なった後に、ガラス基板1の表面の活性を抑制する前処理工程(S19)として、実施例1から実施例3に示す処理を行なってガラス基板1Gを製造した。製造されたガラス基板1Gに、アルカリ処理を施した後に磁気薄膜層成膜工程を施して情報記録媒体を製造した。同様に、比較例1から比較例2に示す処理も行なった。
実施例1においては、「第2ポリッシュ工程」を行なった後に、1.5ppmの水素水で3分間、ガラス基板に対してシャワーリングによるリンスを実施した。その後、ガラス基板をpH10.5の水酸化ナトリウム溶液と5分間接触させた後、ガラス基板を0.1%のアスコルビン酸に15分間接触させた。その後、純水により、ガラス基板の最終洗浄を行なった。
実施例2においては、「第2ポリッシュ工程」を行なった後に、ガラス基板1Gに対して純水を用いたシャワーリングによるリンスを実施した。その後、ガラス基板1GをpH10.5の水酸化ナトリウム溶液と5分間接触させた後、ガラス基板を0.1%のアスコルビン酸に15分間接触させた。その後、純水によりガラス基板の洗浄を行なった。
実施例3においては、「第2ポリッシュ工程」を行なった後に、1.5ppmの水素水で3分間、ガラス基板に対してシャワーリングによるリンスを実施した。その後、ガラス基板をpH10.5の水酸化ナトリウム溶液と5分間接触させた。その後、純水によりガラス基板の洗浄を行なった。
比較例1においては、「第2ポリッシュ工程」を行なった後に、ガラス基板を0.1%のアスコルビン酸に15分間接触させた。その後、純水によるガラス基板の洗浄を行なった。
比較例2においては、「第2ポリッシュ工程」を行なった後に、純水によるガラス基板1Gの洗浄を行なった。
上記実施例1〜実施例3、および比較例1〜比較例2を実施して得られた100枚のガラス基板1Gから、10枚のガラス基板1Gを抜き取り、飛行時間型二次イオン質量分析装置(ToF−SIMS)を用いて、アルカリ処理前の各ガラス基板1Gの主表面を3ヶ所ずつ、SiOH/Siの値を測定した。
電磁変換特性評価では、実施例1〜比較例2で、アルカリ処理試験で用いなかった90枚のサンプルの中から任意の20枚のガラス基板1Gを取り出して行った。この際、通常の流通状態に合わせる為、製造後のガラス基板を一旦梱包材料で密封し、1日保存した後に取り出して用いた。
Claims (6)
- ガラス基板の主表面上に磁気薄膜層が形成され、磁気記録面における記録密度が600Gbit/平方インチ以上である情報記録媒体に用いられる情報記録媒体用ガラス基板であって、
当該情報記録媒体用ガラス基板は、
当該情報記録媒体用ガラス基板を40℃、pH11の水酸化ナトリウム溶液で30分浸漬させるアルカリ処理を行った場合に、前記ガラス基板の主表面のSiOH/Siの平均値が、0.20以上0.50以下となる、情報記録媒体用ガラス基板。 - 前記アルカリ処理を行った場合における前記ガラス基板の前記主表面のSiOH/Siの平均値が、0.20以上0.45以下である、請求項1に記載の情報記録媒体用ガラス基板。
- 前記アルカリ処理前の前記ガラス基板の前記主表面のSiOH/Siの平均値に対し、前記アルカリ処理後の前記ガラス基板の前記主表面のSiOH/Siの平均値の変化率は20%以下である、請求項1に記載の情報記録媒体用ガラス基板。
- 請求項1〜3の何れか1項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
円盤状ガラス部材の主表面に対して研磨工程が行なわれ、
前記研磨工程の後に、研磨後の前記円盤状ガラス部材を0.1ppm〜1.4ppmの水素水で1〜10分間接触し、その後、前記円盤状ガラス部材をpH10.0〜11.0のアルカリ溶液と5〜20分間接触させた後、前記円盤状ガラス部材を0.05〜0.5%の有機酸に5〜20分接触する処理が施され、その後、最終洗浄工程が施される、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 請求項1〜3の何れか1項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
円盤状ガラス部材の主表面に対して研磨工程が行なわれ、
前記研磨工程の後に、研磨後の前記円盤状ガラス部材をpH10.0〜11.0のアルカリ溶液と5〜20分間接触させた後、前記円盤状ガラス部材を0.05〜0.5%の有機酸に5〜20分接触する処理が施され、その後、最終洗浄工程が施される、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 請求項1〜3の何れか1項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
円盤状ガラス部材の主表面に対して研磨工程が行なわれ、
前記研磨工程の後に、研磨後の円盤状ガラス部材を1.5ppmの水素水で3分間接触し、その後、当該研磨後の円盤状ガラス部材をpH10.0〜11.0のアルカリ溶液と5〜20分間接触する処理が施され、その後、最終洗浄工程が施される、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
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