JP3511002B2 - 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体の製造方法 - Google Patents
情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体の製造方法Info
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- JP3511002B2 JP3511002B2 JP2000253991A JP2000253991A JP3511002B2 JP 3511002 B2 JP3511002 B2 JP 3511002B2 JP 2000253991 A JP2000253991 A JP 2000253991A JP 2000253991 A JP2000253991 A JP 2000253991A JP 3511002 B2 JP3511002 B2 JP 3511002B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
- C03C21/001—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions
- C03C21/002—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions to perform ion-exchange between alkali ions
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は情報処理機器の記録
媒体として使用される情報記録媒体に用いられる情報記
録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体用ガラ
ス基板並びに情報記録媒体の製造方法及び情報記録媒体
に関する。
媒体として使用される情報記録媒体に用いられる情報記
録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体用ガラ
ス基板並びに情報記録媒体の製造方法及び情報記録媒体
に関する。
【０００２】
【従来の技術】情報処理機器の記録媒体として使用され
る情報記録媒体の一つとして磁気ディスクがある。磁気
ディスクは、基板上に磁性層等の薄膜を形成して構成さ
れたものであり、その基板としてはアルミやガラス基板
が用いられてきた。最近では、高記録密度化の追求に呼
応して、アルミと較べて磁気ヘッドと磁気記録媒体との
間隔をより狭くすることが可能なガラス基板の占める比
率が次第に高くなってきている。
る情報記録媒体の一つとして磁気ディスクがある。磁気
ディスクは、基板上に磁性層等の薄膜を形成して構成さ
れたものであり、その基板としてはアルミやガラス基板
が用いられてきた。最近では、高記録密度化の追求に呼
応して、アルミと較べて磁気ヘッドと磁気記録媒体との
間隔をより狭くすることが可能なガラス基板の占める比
率が次第に高くなってきている。
【０００３】このように増加の傾向にあるガラス基板
は、磁気ディスクドライバーに装着された際の衝撃に耐
えるように一般的に強度を増すために化学強化されて製
造されている。又、ガラス基板表面は磁気ヘッドの浮上
高さを極力下げることができるように、高精度に研磨し
て高記録密度化を実現している。他方、ガラス基板だけ
ではなく、磁気ヘッドも薄膜ヘッドから磁気抵抗（ＭＲ
ヘッド）に推移し、高記録密度化に対応できるようにな
ってきている。
は、磁気ディスクドライバーに装着された際の衝撃に耐
えるように一般的に強度を増すために化学強化されて製
造されている。又、ガラス基板表面は磁気ヘッドの浮上
高さを極力下げることができるように、高精度に研磨し
て高記録密度化を実現している。他方、ガラス基板だけ
ではなく、磁気ヘッドも薄膜ヘッドから磁気抵抗（ＭＲ
ヘッド）に推移し、高記録密度化に対応できるようにな
ってきている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述したように高記録
密度化にとって必要な低フライングハイト化のために磁
気ディスク表面の高い平坦性は必要不可欠である。加え
て、ＭＲヘッドを用いた場合，ＴＡ（サーマル・アスペ
リティー）の問題からも磁気記録媒体の表面には高い平
坦性が必要となる。このサーマル・アスペリティーは、
磁気ディスクの表面上に突起があると、この突起にＭＲ
ヘッドが影響をうけてＭＲヘッドに熱が発生し、この熱
によってヘッドの抵抗値が変動し電磁変換に誤動作を引
き起こす現象である。
密度化にとって必要な低フライングハイト化のために磁
気ディスク表面の高い平坦性は必要不可欠である。加え
て、ＭＲヘッドを用いた場合，ＴＡ（サーマル・アスペ
リティー）の問題からも磁気記録媒体の表面には高い平
坦性が必要となる。このサーマル・アスペリティーは、
磁気ディスクの表面上に突起があると、この突起にＭＲ
ヘッドが影響をうけてＭＲヘッドに熱が発生し、この熱
によってヘッドの抵抗値が変動し電磁変換に誤動作を引
き起こす現象である。
【０００５】このように、低フライングハイト化にとっ
ても、サーマル・アスペリティーの発生防止のためにも
磁気ディスク表面の高い平坦性の要請は日増に高まって
きている。このような、磁気ディスク表面の高い平坦性
を得るためには結局高い平坦性の基板表面が求められる
ことになるが、もはや、高精度に基板表面を研磨するだ
けでは、磁気ディスクの高記録密度化を実現できない段
階まで来ている。つまり、いくら、高精度に研磨しても
基板上に異物が付着していては高い平坦性は得られな
い。勿論、従来から異物の除去はなされていたが、従来
では許容されていた基板上の異物が、今日の高密度化の
レベルでは問題視される状況にある。
ても、サーマル・アスペリティーの発生防止のためにも
磁気ディスク表面の高い平坦性の要請は日増に高まって
きている。このような、磁気ディスク表面の高い平坦性
を得るためには結局高い平坦性の基板表面が求められる
ことになるが、もはや、高精度に基板表面を研磨するだ
けでは、磁気ディスクの高記録密度化を実現できない段
階まで来ている。つまり、いくら、高精度に研磨しても
基板上に異物が付着していては高い平坦性は得られな
い。勿論、従来から異物の除去はなされていたが、従来
では許容されていた基板上の異物が、今日の高密度化の
レベルでは問題視される状況にある。
【０００６】この種の異物としては、例えば、通常の洗
浄では除去できない極めて微小な鉄粉、ステンレス片、
ガラスチップ等が挙げられる。これらの鉄粉等のパーテ
ィクルがガラス基板上に付着した状態で磁性膜等の薄膜
を積層すると、磁気ディスク表面に突部が形成され、低
フライング・ハイト化や、サーマル・アスペリティーの
防止の阻害要因になる。このような問題を解決するため
に、化学強化処理液に存在する微小なパーティクルを、
循環する化学強化処理液を濾過するフィルターや磁石に
よって捕捉する化学強化処理方法が提案されている（特
開平１０−１９４７８６）。しかし、フィルターのメッ
シュを通過するパーティクルは捕捉できずにガラス基板
に付着したり、磁石によって捕捉することができないパ
ーティクルについてもガラス基板に付着することがあ
り、低フライング・ハイトや、サーマル・アスペリティ
ーの防止の阻害要因であった。
浄では除去できない極めて微小な鉄粉、ステンレス片、
ガラスチップ等が挙げられる。これらの鉄粉等のパーテ
ィクルがガラス基板上に付着した状態で磁性膜等の薄膜
を積層すると、磁気ディスク表面に突部が形成され、低
フライング・ハイト化や、サーマル・アスペリティーの
防止の阻害要因になる。このような問題を解決するため
に、化学強化処理液に存在する微小なパーティクルを、
循環する化学強化処理液を濾過するフィルターや磁石に
よって捕捉する化学強化処理方法が提案されている（特
開平１０−１９４７８６）。しかし、フィルターのメッ
シュを通過するパーティクルは捕捉できずにガラス基板
に付着したり、磁石によって捕捉することができないパ
ーティクルについてもガラス基板に付着することがあ
り、低フライング・ハイトや、サーマル・アスペリティ
ーの防止の阻害要因であった。
【０００７】本発明は、上述の背景の元でなされたもの
であり、化学強化工程において、微小な鉄粉等がパーテ
ィクルのガラス基板に付着することを、より簡便な方法
で確実に防止する情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
及び情報記録媒体用ガラス基板並びに情報記録媒体の製
造方法及び情報記録媒体を提供することを目的とする。
であり、化学強化工程において、微小な鉄粉等がパーテ
ィクルのガラス基板に付着することを、より簡便な方法
で確実に防止する情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
及び情報記録媒体用ガラス基板並びに情報記録媒体の製
造方法及び情報記録媒体を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めの手段として、第１の手段は、精密研磨したガラス基
板を化学強化処理液に接触させることにより、ガラス基
板の中に含まれる一部のイオンを、そのイオンより大き
なイオン径の処理液中のイオンに置換することによりガ
ラス基板を強化する化学強化工程を含む情報記録媒体用
ガラス基板の製造方法において、前記化学強化工程を行
う前に、化学強化処理液中に存在する微小なパーティク
ルを捕捉するためのダミーガラス部材を投入することを
特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であ
る。第２の手段は、前記パーティクルは、金属を含むも
のであることを特徴とする第１の手段にかかる情報記録
媒体用ガラス基板の製造方法である。第３の手段は、前
記ダミーガラス部材の投入は、化学強化工程を経た後の
化学強化ガラス基板表面に存在する金属を含む凸部の大
きさが、設計基準値以下となるまで行うことを特徴とす
る第１または第２の手段にかかる情報記録媒体用ガラス
基板の製造方法である。第４の手段は、前記ダミーガラ
ス部材の投入は、複数回行うことを特徴とする第３の手
段にかかる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であ
る。第５の手段は、前記ダミーガラス部材は、シート状
のガラス基板、円形のガラス基板、円盤状のガラス基板
の何れかであることを特徴とする第１乃至第４のいずれ
かの手段にかかる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
である。第６の手段は、情報記録媒体用ガラス基板が磁
気ディスク用ガラス基板であることを特徴とする第１乃
至５のいずれかの手段にかかる情報記録媒体用ガラス基
板の製造方法である。第７の手段は、磁気ディスク用ガ
ラスが、磁気抵抗型ヘッドに使用される磁気ディスク用
ガラス基板であることを特徴とする第６の手段にかかる
情報記録媒体用ガラス基板の製造方法である。第８の手
段は、第１乃至第７のいずれかの手段の製造方法で製造
されたことを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板であ
る。第９の手段は、第１乃至第７の何れかの手段にかか
る情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって得られ
たガラス基板上に少なくとも記録層を形成することを特
徴とする情報記録媒体の製造方法である。第１０手段
は、記録層が磁性層であることを特徴とする第８の手段
にかかる情報記録媒体の製造方法である。第１１の手段
は、第９又は第１０の手段にかかる情報記録媒体の製造
方法によって製造されたことを特徴とする情報記録媒体
である。
めの手段として、第１の手段は、精密研磨したガラス基
板を化学強化処理液に接触させることにより、ガラス基
板の中に含まれる一部のイオンを、そのイオンより大き
なイオン径の処理液中のイオンに置換することによりガ
ラス基板を強化する化学強化工程を含む情報記録媒体用
ガラス基板の製造方法において、前記化学強化工程を行
う前に、化学強化処理液中に存在する微小なパーティク
ルを捕捉するためのダミーガラス部材を投入することを
特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であ
る。第２の手段は、前記パーティクルは、金属を含むも
のであることを特徴とする第１の手段にかかる情報記録
媒体用ガラス基板の製造方法である。第３の手段は、前
記ダミーガラス部材の投入は、化学強化工程を経た後の
化学強化ガラス基板表面に存在する金属を含む凸部の大
きさが、設計基準値以下となるまで行うことを特徴とす
る第１または第２の手段にかかる情報記録媒体用ガラス
基板の製造方法である。第４の手段は、前記ダミーガラ
ス部材の投入は、複数回行うことを特徴とする第３の手
段にかかる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であ
る。第５の手段は、前記ダミーガラス部材は、シート状
のガラス基板、円形のガラス基板、円盤状のガラス基板
の何れかであることを特徴とする第１乃至第４のいずれ
かの手段にかかる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
である。第６の手段は、情報記録媒体用ガラス基板が磁
気ディスク用ガラス基板であることを特徴とする第１乃
至５のいずれかの手段にかかる情報記録媒体用ガラス基
板の製造方法である。第７の手段は、磁気ディスク用ガ
ラスが、磁気抵抗型ヘッドに使用される磁気ディスク用
ガラス基板であることを特徴とする第６の手段にかかる
情報記録媒体用ガラス基板の製造方法である。第８の手
段は、第１乃至第７のいずれかの手段の製造方法で製造
されたことを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板であ
る。第９の手段は、第１乃至第７の何れかの手段にかか
る情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって得られ
たガラス基板上に少なくとも記録層を形成することを特
徴とする情報記録媒体の製造方法である。第１０手段
は、記録層が磁性層であることを特徴とする第８の手段
にかかる情報記録媒体の製造方法である。第１１の手段
は、第９又は第１０の手段にかかる情報記録媒体の製造
方法によって製造されたことを特徴とする情報記録媒体
である。
【０００９】上述の手段において、化学強化方法として
は、ガラス転移温度を超えない領域でイオン交換を行う
低温型化学強化が好ましい。化学強化処理溶液として用
いるアルカリ溶融塩としては、硝酸カリウム、硝酸ナト
リウム、あるいはそれらを混合した硝酸塩、Ｎａ２ＳＯ
４、Ｋ２ＳＯ４、ＮａＢｒ、ＫＢｒなどが使用できる。
又、ガラス基板としてはアルミノシリケートガラス、ソ
ーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、鉛ガラスが使用
できる。
は、ガラス転移温度を超えない領域でイオン交換を行う
低温型化学強化が好ましい。化学強化処理溶液として用
いるアルカリ溶融塩としては、硝酸カリウム、硝酸ナト
リウム、あるいはそれらを混合した硝酸塩、Ｎａ２ＳＯ
４、Ｋ２ＳＯ４、ＮａＢｒ、ＫＢｒなどが使用できる。
又、ガラス基板としてはアルミノシリケートガラス、ソ
ーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、鉛ガラスが使用
できる。
【００１０】パーティクルとしては、Ｆｅ、Ｎａ、Ｍ
ｇ、Ｓｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｋ、Ａｌ、Ｋｒ等の金属、鉄
粉、ステンレス等の金属片や金属酸化物、ガラスチップ
がある。詳細なメカニズムはわからないが、ダミーガラ
ス部材を投入することによって、化学強化処理液中に存
在する微小なパーティクルがダミーガラスに吸着し、捕
捉することができる。投入する部材の材料をガラスとし
ているので、特に化学強化の際にガラスに悪影響を及ぼ
すパーティクルを効果的に取り除くことができるものと
考えられる。但し、ガラス部材は、化学強化処理液の高
熱に耐え得る耐熱性のあるガラスが好ましい。好ましく
は、実際化学強化するガラスの硝種を同じものが望まし
い。
ｇ、Ｓｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｋ、Ａｌ、Ｋｒ等の金属、鉄
粉、ステンレス等の金属片や金属酸化物、ガラスチップ
がある。詳細なメカニズムはわからないが、ダミーガラ
ス部材を投入することによって、化学強化処理液中に存
在する微小なパーティクルがダミーガラスに吸着し、捕
捉することができる。投入する部材の材料をガラスとし
ているので、特に化学強化の際にガラスに悪影響を及ぼ
すパーティクルを効果的に取り除くことができるものと
考えられる。但し、ガラス部材は、化学強化処理液の高
熱に耐え得る耐熱性のあるガラスが好ましい。好ましく
は、実際化学強化するガラスの硝種を同じものが望まし
い。
【００１１】ダミーガラス部材の投入は、化学強化工程
によって得られる化学強化ガラス基板に、ガラス基板に
金属を含む凸部がある設計基準値以下となる程度まで行
うことが好ましい。ここで設計基準値以下とは、凸部が
ヘッドクラッシュや、サーマルアスペリティーを起こさ
ない程度の高さとなる値や、ヘッドクラッシュや、サー
マルアスペリティーを引き起こす不良品がある一定の確
率となる値などをいう。
によって得られる化学強化ガラス基板に、ガラス基板に
金属を含む凸部がある設計基準値以下となる程度まで行
うことが好ましい。ここで設計基準値以下とは、凸部が
ヘッドクラッシュや、サーマルアスペリティーを起こさ
ない程度の高さとなる値や、ヘッドクラッシュや、サー
マルアスペリティーを引き起こす不良品がある一定の確
率となる値などをいう。
【００１２】また、ダミーガラス部材の投入は、１回で
も、複数回行ってもよい。複数回行うことで、化学強化
処理液中に存在するパーティクルを確実に行うことがで
きるので好ましい。また、ダミーガラス部材の投入時期
は、生産量に応じて数バッチ毎に定期的に行っても良い
し、製造する毎に行ってもよい。
も、複数回行ってもよい。複数回行うことで、化学強化
処理液中に存在するパーティクルを確実に行うことがで
きるので好ましい。また、ダミーガラス部材の投入時期
は、生産量に応じて数バッチ毎に定期的に行っても良い
し、製造する毎に行ってもよい。
【００１３】また、ダミーガラス部材の投入時の時間
や、化学強化処理液の温度は特に制限はない。例えば、
投入の時間は、数十分から数十時間、温度は、３００〜
４５０℃の範囲内で適宜選択することができる。
や、化学強化処理液の温度は特に制限はない。例えば、
投入の時間は、数十分から数十時間、温度は、３００〜
４５０℃の範囲内で適宜選択することができる。
【００１４】ダミーガラス部材は、微小なパーティクル
を効果的に捕捉することができるように表面積が大きい
ものが望ましい。具体的な形状としては、例えばシート
状のガラス基板、円形のガラス基板、円板状のガラス基
板が挙げられる。化学強化を行う際のガラス基板を保持
する保持部材（基板カセット）を使うためには、円形の
ガラス基板、円板状のガラス基板が好ましい。
を効果的に捕捉することができるように表面積が大きい
ものが望ましい。具体的な形状としては、例えばシート
状のガラス基板、円形のガラス基板、円板状のガラス基
板が挙げられる。化学強化を行う際のガラス基板を保持
する保持部材（基板カセット）を使うためには、円形の
ガラス基板、円板状のガラス基板が好ましい。
【００１５】情報記録媒体用ガラス基板には、磁気記録
媒体用ガラス基板、光記録媒体用ガラス基板、光磁気記
録媒体用ガラス基板等がある。特に磁気抵抗型ヘッド用
磁気ディスク及びその基板の製造方法に顕著な効果を奏
する。
媒体用ガラス基板、光記録媒体用ガラス基板、光磁気記
録媒体用ガラス基板等がある。特に磁気抵抗型ヘッド用
磁気ディスク及びその基板の製造方法に顕著な効果を奏
する。
【００１６】本発明の磁気記録媒体は、上記本発明の磁
気記録媒体用ガラス基板上に、少なくとも磁性層を形成
したものである。本発明では、サーマル・アスペリティ
ーあるいはヘッドクラッシュの原因となるパーティクル
が付着することがないので、ガラス基板上に磁性層等を
形成して磁気記録媒体を製造する際にガラス基板の主表
面にサーマル・アスペリティーの原因となるパーティク
ルによって形成される凸部が発生せず、より高いレベル
でヘッドクラッシュを防止できる。特に、磁気抵抗型ヘ
ッドによって再生を行う磁気記録媒体にとって、磁気抵
抗型ヘッドの機能を十分に引き出すことができる。ま
た、磁気抵抗型ヘッドに好適に使用することができるＣ
ｏＰｔ系等の磁気記録媒体としてもその性能を十分に引
き出すことができる。
気記録媒体用ガラス基板上に、少なくとも磁性層を形成
したものである。本発明では、サーマル・アスペリティ
ーあるいはヘッドクラッシュの原因となるパーティクル
が付着することがないので、ガラス基板上に磁性層等を
形成して磁気記録媒体を製造する際にガラス基板の主表
面にサーマル・アスペリティーの原因となるパーティク
ルによって形成される凸部が発生せず、より高いレベル
でヘッドクラッシュを防止できる。特に、磁気抵抗型ヘ
ッドによって再生を行う磁気記録媒体にとって、磁気抵
抗型ヘッドの機能を十分に引き出すことができる。ま
た、磁気抵抗型ヘッドに好適に使用することができるＣ
ｏＰｔ系等の磁気記録媒体としてもその性能を十分に引
き出すことができる。
【００１７】同様に、磁気記録媒体の記録・再生面にお
いてもサーマル・アスペリティーの原因となるパーティ
クルによって形成される凸部が発生せず、より高いレベ
ルでヘッドクラッシュを防止できる。また、サーマル・
アスペリティーの原因となるパーティクルによって、磁
性層等の膜に欠陥が発生しエラーの原因となるというこ
ともない。
いてもサーマル・アスペリティーの原因となるパーティ
クルによって形成される凸部が発生せず、より高いレベ
ルでヘッドクラッシュを防止できる。また、サーマル・
アスペリティーの原因となるパーティクルによって、磁
性層等の膜に欠陥が発生しエラーの原因となるというこ
ともない。
【００１８】磁気記録媒体は、通常、所定の平坦度、表
面粗さを有し、必要に応じ表面の化学強化処理を施した
磁気ディスク用ガラス基板上に、下地層、磁性層、保護
層、潤滑層を順次積層して製造する。
面粗さを有し、必要に応じ表面の化学強化処理を施した
磁気ディスク用ガラス基板上に、下地層、磁性層、保護
層、潤滑層を順次積層して製造する。
【００１９】本発明の磁気記録媒体における下地層は、
磁性層に応じて選択される。下地層としては、例えば、
Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｖ、Ｂ、Ｎｉ、Ａｌなど
の非磁性金属から選ばれる少なくとも一種以上の材料か
らなる下地層等が挙げられる。Ｃｏを主成分とする磁性
層の場合には、磁気特性向上等の観点からＣｒ単体やＣ
ｒ合金であることが好ましい。また、下地層は単層とは
限らず、同一又は異種の層を積層した複数層構造とする
こともできる。例えば、Ｃｒ／Ｃｒ、Ｃｒ／ＣｒＭｏ、
Ｃｒ／ＣｒＶ、ＣｒＶ／ＣｒＶ、Ａｌ／Ｃｒ／ＣｒＭ
ｏ、Ａｌ／Ｃｒ／Ｃｒ、Ａｌ／Ｃｒ／ＣｒＶ、Ａｌ／Ｃ
ｒＶ／ＣｒＶ等の多層下地層等が挙げられる。
磁性層に応じて選択される。下地層としては、例えば、
Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｖ、Ｂ、Ｎｉ、Ａｌなど
の非磁性金属から選ばれる少なくとも一種以上の材料か
らなる下地層等が挙げられる。Ｃｏを主成分とする磁性
層の場合には、磁気特性向上等の観点からＣｒ単体やＣ
ｒ合金であることが好ましい。また、下地層は単層とは
限らず、同一又は異種の層を積層した複数層構造とする
こともできる。例えば、Ｃｒ／Ｃｒ、Ｃｒ／ＣｒＭｏ、
Ｃｒ／ＣｒＶ、ＣｒＶ／ＣｒＶ、Ａｌ／Ｃｒ／ＣｒＭ
ｏ、Ａｌ／Ｃｒ／Ｃｒ、Ａｌ／Ｃｒ／ＣｒＶ、Ａｌ／Ｃ
ｒＶ／ＣｒＶ等の多層下地層等が挙げられる。
【００２０】本発明の磁気記録媒体における磁性層の材
料は特に制限されない。磁性層としては、例えば、Ｃｏ
を主成分とするＣｏＰｔ、ＣｏＣｒ、ＣｏＮｉ、ＣｏＮ
ｉＣｒ、ＣｏＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＮｉＰｔ
や、ＣｏＮｉＣｒＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＴａ、ＣｏＣｒＴ
ａＰｔ、ＣｏＣｒＰｔＢ、ＣｏＣｒＰｔＳｉＯなどの磁
性薄膜が挙げられる。磁性層は、磁性膜を非磁性膜（例
えば、Ｃｒ、ＣｒＭｏ、ＣｒＶなど）で分割してノイズ
の低減を図った多層構成（例えば、ＣｏＰｔＣｒ／Ｃｒ
Ｍｏ／ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣｒＴａＰｔ／ＣｒＭｏ／Ｃ
ｏＣｒＴａＰｔなど）としてもよい。
料は特に制限されない。磁性層としては、例えば、Ｃｏ
を主成分とするＣｏＰｔ、ＣｏＣｒ、ＣｏＮｉ、ＣｏＮ
ｉＣｒ、ＣｏＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＮｉＰｔ
や、ＣｏＮｉＣｒＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＴａ、ＣｏＣｒＴ
ａＰｔ、ＣｏＣｒＰｔＢ、ＣｏＣｒＰｔＳｉＯなどの磁
性薄膜が挙げられる。磁性層は、磁性膜を非磁性膜（例
えば、Ｃｒ、ＣｒＭｏ、ＣｒＶなど）で分割してノイズ
の低減を図った多層構成（例えば、ＣｏＰｔＣｒ／Ｃｒ
Ｍｏ／ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣｒＴａＰｔ／ＣｒＭｏ／Ｃ
ｏＣｒＴａＰｔなど）としてもよい。
【００２１】磁気抵抗型ヘッド（ＭＲヘッド）又は巨大
磁気抵抗型ヘッド（ＧＭＲヘッド）対応の磁性層として
は、Ｃｏ系合金に、Ｙ、Ｓｉ、希土類元素、Ｈｆ、Ｇ
ｅ、Ｓｎ、Ｚｎから選択される不純物元素、又はこれら
の不純物元素の酸化物を含有させたものなども含まれ
る。
磁気抵抗型ヘッド（ＧＭＲヘッド）対応の磁性層として
は、Ｃｏ系合金に、Ｙ、Ｓｉ、希土類元素、Ｈｆ、Ｇ
ｅ、Ｓｎ、Ｚｎから選択される不純物元素、又はこれら
の不純物元素の酸化物を含有させたものなども含まれ
る。
【００２２】また、磁性層としては、上記の他、フェラ
イト系、鉄−希土類系や、ＳｉＯ2、ＢＮなどからなる
非磁性膜中にＦｅ、Ｃｏ、ＦｅＣｏ、ＣｏＮｉＰｔ等の
磁性粒子が分散された構造のグラニュラーなどであって
もよい。また、磁性層は、内面型、垂直型のいずれの記
録形式であってもよい。
イト系、鉄−希土類系や、ＳｉＯ2、ＢＮなどからなる
非磁性膜中にＦｅ、Ｃｏ、ＦｅＣｏ、ＣｏＮｉＰｔ等の
磁性粒子が分散された構造のグラニュラーなどであって
もよい。また、磁性層は、内面型、垂直型のいずれの記
録形式であってもよい。
【００２３】本発明の磁気記録媒体における保護層は特
に制限されない。保護層としては、例えば、Ｃｒ膜、Ｃ
ｒ合金膜、カーボン膜、ジルコニア膜、シリカ膜等が挙
げられる。これらの保護膜は、下地層、磁性層等ととも
にインライン型スパッタ装置で連続して形成できる。ま
た、これらの保護膜は、単層としてもよく、あるいは、
同一又は異種の膜からなる多層構成としてもよい。
に制限されない。保護層としては、例えば、Ｃｒ膜、Ｃ
ｒ合金膜、カーボン膜、ジルコニア膜、シリカ膜等が挙
げられる。これらの保護膜は、下地層、磁性層等ととも
にインライン型スパッタ装置で連続して形成できる。ま
た、これらの保護膜は、単層としてもよく、あるいは、
同一又は異種の膜からなる多層構成としてもよい。
【００２４】本発明では、上記保護層上に、あるいは上
記保護層に替えて、他の保護層を形成してもよい。例え
ば、上記保護層に替えて、Ｃｒ膜の上にテトラアルコキ
シランをアルコール系の溶媒で希釈した中に、コロイダ
ルシリカ微粒子を分散して塗布し、さらに焼成して酸化
ケイ素（ＳｉＯ2）膜を形成してもよい。
記保護層に替えて、他の保護層を形成してもよい。例え
ば、上記保護層に替えて、Ｃｒ膜の上にテトラアルコキ
シランをアルコール系の溶媒で希釈した中に、コロイダ
ルシリカ微粒子を分散して塗布し、さらに焼成して酸化
ケイ素（ＳｉＯ2）膜を形成してもよい。
【００２５】本発明の磁気記録媒体における潤滑層は特
に制限されない。潤滑層は、例えば、液体潤滑剤である
パーフロロポリエーテル（ＰＦＰＥ）をフレオン系など
の溶媒で希釈し、媒体表面にディッピング法、スピンコ
ート法、スプレイ法によって塗布し、必要に応じ加熱処
理を行って形成する。
に制限されない。潤滑層は、例えば、液体潤滑剤である
パーフロロポリエーテル（ＰＦＰＥ）をフレオン系など
の溶媒で希釈し、媒体表面にディッピング法、スピンコ
ート法、スプレイ法によって塗布し、必要に応じ加熱処
理を行って形成する。
【００２６】
【発明の実施の形態】以下、実施例に基づき本発明をさ
らに具体的に説明する。この実施例にかかる情報記録媒
体用ガラス基板の製造法及び情報記録媒体の製造方法
は、（１）粗ラッピング・形状加工工程、（２）端面加
工工程、（３）精ラッピング工程、（４）第一研磨工
程、（５）第二研磨工程、（６）ダミーガラス投入工
程、（７）化学強化工程、（８）洗浄工程、（９）磁気
ディスク製造工程、からなる。以下、これらの工程を詳
細に説明する。
らに具体的に説明する。この実施例にかかる情報記録媒
体用ガラス基板の製造法及び情報記録媒体の製造方法
は、（１）粗ラッピング・形状加工工程、（２）端面加
工工程、（３）精ラッピング工程、（４）第一研磨工
程、（５）第二研磨工程、（６）ダミーガラス投入工
程、（７）化学強化工程、（８）洗浄工程、（９）磁気
ディスク製造工程、からなる。以下、これらの工程を詳
細に説明する。
【００２７】（１）粗ラッピング工程・形状加工工程
まず、溶融ガラスを、上型、下型、胴型を用いたダイレ
クトプレスして、直径９６ｍｍφ、厚さ１．５ｍｍの円
盤状のアルミノシリケイトガラスからなるガラス基板を
得た。この場合、ダイレクトプレス法の代わりに、ダウ
ンドロー法やフロート法で形成したシートガラスから研
削砥石で切り出して円盤状のガラス基板を得ても良い。
クトプレスして、直径９６ｍｍφ、厚さ１．５ｍｍの円
盤状のアルミノシリケイトガラスからなるガラス基板を
得た。この場合、ダイレクトプレス法の代わりに、ダウ
ンドロー法やフロート法で形成したシートガラスから研
削砥石で切り出して円盤状のガラス基板を得ても良い。
【００２８】なお、アルミノシリケイトガラスとして
は、モル％表示で、ＳｉＯ2を５７〜７４％、ＺｒＯ2を
０〜２．８％、Ａｌ2Ｏ3を３〜１５％、ＬｉＯ2を７〜
１６％、Ｎａ2Ｏを４〜１４％、を主成分として含有す
る化学強化用ガラス（例えば、モル％表示で、Ｓｉ
Ｏ2：６７．０％、ＺｒＯ2：１．０％、Ａｌ2Ｏ3：９．
０％、ＬｉＯ2：１２．０％、Ｎａ2Ｏ：１０．０％を主
成分として含有する化学強化用ガラス）を使用した。
は、モル％表示で、ＳｉＯ2を５７〜７４％、ＺｒＯ2を
０〜２．８％、Ａｌ2Ｏ3を３〜１５％、ＬｉＯ2を７〜
１６％、Ｎａ2Ｏを４〜１４％、を主成分として含有す
る化学強化用ガラス（例えば、モル％表示で、Ｓｉ
Ｏ2：６７．０％、ＺｒＯ2：１．０％、Ａｌ2Ｏ3：９．
０％、ＬｉＯ2：１２．０％、Ｎａ2Ｏ：１０．０％を主
成分として含有する化学強化用ガラス）を使用した。
【００２９】次いで、ガラス基板にラッピング工程を施
した。このラッピング工程は、寸法精度及び形状精度の
向上を目的としている。ラッピング工程は、両面ラッピ
ング装置を用いて行い、砥粒の粒度を＃４００で行っ
た。詳しくは、はじめに粒度＃４００のアルミナ砥粒を
用い、サンギアとインターナルギアを回転させることに
よって、キャリア内に収納したガラス基板の両面を面精
度０〜１μｍ、表面粗さ（Ｒｍａｘ）６μｍ（ＪＩＳ
Ｂ ０６０１で測定）程度にラッピングした。
した。このラッピング工程は、寸法精度及び形状精度の
向上を目的としている。ラッピング工程は、両面ラッピ
ング装置を用いて行い、砥粒の粒度を＃４００で行っ
た。詳しくは、はじめに粒度＃４００のアルミナ砥粒を
用い、サンギアとインターナルギアを回転させることに
よって、キャリア内に収納したガラス基板の両面を面精
度０〜１μｍ、表面粗さ（Ｒｍａｘ）６μｍ（ＪＩＳ
Ｂ ０６０１で測定）程度にラッピングした。
【００３０】次に、円筒状の砥石を用いてガラス基板の
中央部分に孔を開けるとともに、外周端面も研削して直
径を９５ｍｍφとした後、外周端面及び内周面に所定の
面取り加工を施した。このときのガラス基板端面の表面
粗さは、Ｒｍａｘで４μｍ程度であった。
中央部分に孔を開けるとともに、外周端面も研削して直
径を９５ｍｍφとした後、外周端面及び内周面に所定の
面取り加工を施した。このときのガラス基板端面の表面
粗さは、Ｒｍａｘで４μｍ程度であった。
【００３１】（２）端面鏡面加工工程
次いで、ブラシ研磨により、ガラス基板を回転させなが
らガラス基板の端面の表面粗さを、Ｒｍａｘで１μｍ、
Ｒａで０．３μｍ程度に研磨した。上記端面鏡面加工を
終えたガラス基板の表面を水洗浄した。
らガラス基板の端面の表面粗さを、Ｒｍａｘで１μｍ、
Ｒａで０．３μｍ程度に研磨した。上記端面鏡面加工を
終えたガラス基板の表面を水洗浄した。
【００３２】（３）精ラッピング工程
次に、砥粒の粒度を＃１０００に変え、ガラス基板の表
面をラッピングすることにより、表面粗さをＲｍａｘで
２μｍ程度、Ｒａで０．２μｍ程度とした。上記ラッピ
ング工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、水の各洗浄
槽（超音波印加）に順次浸漬して、洗浄した。
面をラッピングすることにより、表面粗さをＲｍａｘで
２μｍ程度、Ｒａで０．２μｍ程度とした。上記ラッピ
ング工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、水の各洗浄
槽（超音波印加）に順次浸漬して、洗浄した。
【００３３】（４）第一研磨工程
次に、第一研磨工程を施した。この第一研磨工程は、上
述した砂掛け工程で残留したキズや歪みの除去を目的と
するもので、研磨装置を用いて行った。詳しくは、ポリ
シャ（研磨粉）として硬質ポリシャ（セリウムパッドＭ
ＨＣ１５：ローデルニッタ製）を用い、以下の研磨条件
で第一研磨工程を実施した。 研磨液：酸化セリウム＋水 荷重：１４０ｇ／ｃｍ2 研磨時間：１５分 除去量：３０μｍ
述した砂掛け工程で残留したキズや歪みの除去を目的と
するもので、研磨装置を用いて行った。詳しくは、ポリ
シャ（研磨粉）として硬質ポリシャ（セリウムパッドＭ
ＨＣ１５：ローデルニッタ製）を用い、以下の研磨条件
で第一研磨工程を実施した。 研磨液：酸化セリウム＋水 荷重：１４０ｇ／ｃｍ2 研磨時間：１５分 除去量：３０μｍ
【００３４】上記第一研磨工程を終えたガラス基板を、
中性洗剤、純水、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコー
ル）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽（超音波印加）に
順次浸漬して、洗浄した。
中性洗剤、純水、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコー
ル）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽（超音波印加）に
順次浸漬して、洗浄した。
【００３５】（５）第二研磨工程
次に、第一研磨工程で使用した研磨装置を用い、ポリシ
ャを硬質ポリシャから軟質ポリシャ（ポリテックス：ス
ピードファム社製）に替えて、第二研磨工程を実施し
た。研磨条件は、荷重を１００ｇ／ｃｍ2、研磨時間を
５分、除去量を５μｍとしたこと以外は、第一研磨工程
と同様とした。
ャを硬質ポリシャから軟質ポリシャ（ポリテックス：ス
ピードファム社製）に替えて、第二研磨工程を実施し
た。研磨条件は、荷重を１００ｇ／ｃｍ2、研磨時間を
５分、除去量を５μｍとしたこと以外は、第一研磨工程
と同様とした。
【００３６】上記第二研磨工程を終えたガラス基板を、
熱硫酸、中性洗剤、中性洗剤、純水、純水、ＩＰＡ（イ
ソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄
槽に順次浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には超音
波を印加した。
熱硫酸、中性洗剤、中性洗剤、純水、純水、ＩＰＡ（イ
ソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄
槽に順次浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には超音
波を印加した。
【００３７】（６）化学強化処理液にダミーガラス部材
の投入 耐食性を有するステンレス合金からなる複数の基板カセ
ットに円板状のガラス基板を１００００枚セットした
後、化学強化装置に硝酸カリウム（６０％）と硝酸ナト
リウム（４０％）を投入し、３８０〜４００℃で１２時
間加熱させた化学強化処理液に、１時間浸漬する。
の投入 耐食性を有するステンレス合金からなる複数の基板カセ
ットに円板状のガラス基板を１００００枚セットした
後、化学強化装置に硝酸カリウム（６０％）と硝酸ナト
リウム（４０％）を投入し、３８０〜４００℃で１２時
間加熱させた化学強化処理液に、１時間浸漬する。
【００３８】ダミーガラス部材を化学強化処理液から引
き上げたダミーガラス部材の表面を電子顕微鏡で観察し
たところ、ダミーガラス部材の表面の一面に凸部が点在
していることが確認された。また、ダミーガラス部材の
表面に付着した凸部を分析したところ、Ｆｅ、Ｃｒ等の
金属を含むものであった。ダミーガラス部材を新たなも
のに変え、同様に化学強化処理液に浸漬し、引き上げる
工程を、７回繰り返した（延べ７００００枚の投入）。
ダミーガラス部材の投入を繰り返す毎にダミーガラス部
材の表面を観察したが、回数を重ねるに従って、付着す
る凸部が減少していることが確認された。
き上げたダミーガラス部材の表面を電子顕微鏡で観察し
たところ、ダミーガラス部材の表面の一面に凸部が点在
していることが確認された。また、ダミーガラス部材の
表面に付着した凸部を分析したところ、Ｆｅ、Ｃｒ等の
金属を含むものであった。ダミーガラス部材を新たなも
のに変え、同様に化学強化処理液に浸漬し、引き上げる
工程を、７回繰り返した（延べ７００００枚の投入）。
ダミーガラス部材の投入を繰り返す毎にダミーガラス部
材の表面を観察したが、回数を重ねるに従って、付着す
る凸部が減少していることが確認された。
【００３９】（７）化学強化工程
次に、上記研削、研磨、洗浄工程を終えたガラス基板に
以下のように化学強化を施した。上述の硝酸カリウム
（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）を混合した化学
強化溶液を化学強化処理装置で４００℃に加熱し、３０
０℃に予熱された洗浄済みのガラス基板を約３時間浸漬
した。この浸漬の際に、ガラス基板の表面全体が化学強
化されるようにするため、複数のガラス基板が端面で保
持されるようにホルダーに収納した状態で行った。
以下のように化学強化を施した。上述の硝酸カリウム
（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）を混合した化学
強化溶液を化学強化処理装置で４００℃に加熱し、３０
０℃に予熱された洗浄済みのガラス基板を約３時間浸漬
した。この浸漬の際に、ガラス基板の表面全体が化学強
化されるようにするため、複数のガラス基板が端面で保
持されるようにホルダーに収納した状態で行った。
【００４０】このように、化学強化溶液に浸漬処理する
ことによって、ガラス基板表層のリチウムイオン、ナト
リウムイオンは、化学強化溶液中のナトリウムイオン、
カリウムイオンにそれぞれ置換されガラス基板は強化さ
れる。化学強化の結果、ガラス基板の表層に形成された
圧縮応力層の厚さは、約１００〜２００μｍであった。
ことによって、ガラス基板表層のリチウムイオン、ナト
リウムイオンは、化学強化溶液中のナトリウムイオン、
カリウムイオンにそれぞれ置換されガラス基板は強化さ
れる。化学強化の結果、ガラス基板の表層に形成された
圧縮応力層の厚さは、約１００〜２００μｍであった。
【００４１】（８）洗浄工程
上記化学強化を終えたガラス基板を、２０℃の水槽に浸
漬して急冷し約１０分間維持した。上記急冷を終えたガ
ラス基板を、約４０℃に加熱した硫酸に浸漬し、超音波
をかけながら洗浄を行った。さらに、中性洗剤、純水、
純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸
気乾燥）の各洗浄槽（超音波印加）に順次浸漬して、洗
浄した。上記の工程を経て得られたガラス基板の表面粗
さＲａは０．５〜１ｎｍであった。さらに、ガラス表面
を精密検査したところサーマル・アスペリティーの原因
となるパーティクルは認められなかった。特に、３〜５
ミクロン以上の鉄粉は全く認められなかった。
漬して急冷し約１０分間維持した。上記急冷を終えたガ
ラス基板を、約４０℃に加熱した硫酸に浸漬し、超音波
をかけながら洗浄を行った。さらに、中性洗剤、純水、
純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸
気乾燥）の各洗浄槽（超音波印加）に順次浸漬して、洗
浄した。上記の工程を経て得られたガラス基板の表面粗
さＲａは０．５〜１ｎｍであった。さらに、ガラス表面
を精密検査したところサーマル・アスペリティーの原因
となるパーティクルは認められなかった。特に、３〜５
ミクロン以上の鉄粉は全く認められなかった。
【００４２】（９）磁気ディスク製造工程
上述した工程を経て得られた磁気ディスク用ガラス基板
の両面に、インライン式のスパッタリング装置を用い
て、ＮｉＡｌシード層、Ｃｒ下地層、ＣｒＶ下地層、Ｃ
ｏＰｔＣｒＢ磁性層、Ｃ保護層を順次成膜し、ディップ
法によりパーフルオロポリエーテル潤滑層を成膜して磁
気ディスクを得た。
の両面に、インライン式のスパッタリング装置を用い
て、ＮｉＡｌシード層、Ｃｒ下地層、ＣｒＶ下地層、Ｃ
ｏＰｔＣｒＢ磁性層、Ｃ保護層を順次成膜し、ディップ
法によりパーフルオロポリエーテル潤滑層を成膜して磁
気ディスクを得た。
【００４３】得られた磁気ディスク（１０００枚）につ
いてグライドテストを実施したところ、ヒット（ヘッド
が磁気ディスク表面の突起にかすること）やクラッシュ
（ヘッドが磁気ディスク表面の突起に衝突すること）は
認められなかった。また、サーマル・アスぺリティーの
原因となるパーティクルによって、磁性層等の膜に欠陥
が発生していないことも確認できた。
いてグライドテストを実施したところ、ヒット（ヘッド
が磁気ディスク表面の突起にかすること）やクラッシュ
（ヘッドが磁気ディスク表面の突起に衝突すること）は
認められなかった。また、サーマル・アスぺリティーの
原因となるパーティクルによって、磁性層等の膜に欠陥
が発生していないことも確認できた。
【００４４】（比較例）上述の実施例において、ダミー
ガラス部材を投入しないでガラス基板を化学強化した以
外は実施例１と同様にして磁気ディスク用ガラス基板、
および磁気ディスクを作製した。得られた磁気ディスク
（１０００枚）についてグライドテスト、磁気抵抗型ヘ
ッドで再生試験を実施したところ、４５０枚がグライド
不良、再生の誤動作が確認された。
ガラス部材を投入しないでガラス基板を化学強化した以
外は実施例１と同様にして磁気ディスク用ガラス基板、
および磁気ディスクを作製した。得られた磁気ディスク
（１０００枚）についてグライドテスト、磁気抵抗型ヘ
ッドで再生試験を実施したところ、４５０枚がグライド
不良、再生の誤動作が確認された。
【００４５】次に、上述の実施例において、ダミーガラ
ス部材の投入枚数を、１１８００、２３６００、３５４
００、４７２００、５９０００、７０８００、８２６０
０、９４４００にして、それぞれの場合の金属パーティ
クルが付着したガラス基板の発見率を調べた。図１はダ
ミーガラス部材の投入枚数と金属パーティクル発見率と
の関係を示すグラフである。金属パーティクル発見率
は、ガラス基板の表面を目視観察し、ガラス基板表面に
１つでも金属パーティクルが発見された場合１つとして
数え、［金属パーティクルが発見された基板の枚数］／
［ダミープレート積算枚数］で計算した値である。
ス部材の投入枚数を、１１８００、２３６００、３５４
００、４７２００、５９０００、７０８００、８２６０
０、９４４００にして、それぞれの場合の金属パーティ
クルが付着したガラス基板の発見率を調べた。図１はダ
ミーガラス部材の投入枚数と金属パーティクル発見率と
の関係を示すグラフである。金属パーティクル発見率
は、ガラス基板の表面を目視観察し、ガラス基板表面に
１つでも金属パーティクルが発見された場合１つとして
数え、［金属パーティクルが発見された基板の枚数］／
［ダミープレート積算枚数］で計算した値である。
【００４６】なお、これらの金属パーティクルが発見さ
れたガラス基板を使って磁気ディスクを作製した場合、
金属パーティクルの箇所でヒットやクラッシュ、又は、
サーマルアスペリティーによる再生の誤動作が発生す
る。図１のように、ダミーガラス部材の投入枚数が増え
るにしたがって、金属パーティクル発見率が減少し、７
００００枚を超えると、ほぼ０％になることがわかっ
た。７００００枚を超えるとダミーガラス部材をいくら
投入しても金属パーティクル発見率は横ばいとなった。
このように予めダミーガラス部材の投入枚数と金属パー
ティクル発見率との関係を把握することによって、金属
パーティクルによるグライド試験において、ヘッドのヒ
ットやクラッシュ、サーマルアスペリティーの発生率を
予測することができ、製造歩留まりを向上維持させるこ
とができる。
れたガラス基板を使って磁気ディスクを作製した場合、
金属パーティクルの箇所でヒットやクラッシュ、又は、
サーマルアスペリティーによる再生の誤動作が発生す
る。図１のように、ダミーガラス部材の投入枚数が増え
るにしたがって、金属パーティクル発見率が減少し、７
００００枚を超えると、ほぼ０％になることがわかっ
た。７００００枚を超えるとダミーガラス部材をいくら
投入しても金属パーティクル発見率は横ばいとなった。
このように予めダミーガラス部材の投入枚数と金属パー
ティクル発見率との関係を把握することによって、金属
パーティクルによるグライド試験において、ヘッドのヒ
ットやクラッシュ、サーマルアスペリティーの発生率を
予測することができ、製造歩留まりを向上維持させるこ
とができる。
【００４７】また、上述の実施例において、円板状のガ
ラス基板のダミーガラス部材の代わりに、化学強化処理
装置の深さに相当するシート状のガラス基板を複数枚投
入するようにし（変形例１）、あるいは、アルミノシリ
ケートガラスの代わりにソーダライムガラスにした（変
形例２）以外は上記実施例と同様にして磁気ディスク用
ガラス基板及び磁気ディスクを作製した。その結果、い
ずれの場合も上述の実施例とほぼ同様の結果の得られる
ことが確認された。
ラス基板のダミーガラス部材の代わりに、化学強化処理
装置の深さに相当するシート状のガラス基板を複数枚投
入するようにし（変形例１）、あるいは、アルミノシリ
ケートガラスの代わりにソーダライムガラスにした（変
形例２）以外は上記実施例と同様にして磁気ディスク用
ガラス基板及び磁気ディスクを作製した。その結果、い
ずれの場合も上述の実施例とほぼ同様の結果の得られる
ことが確認された。
【００４８】以上好ましい実施例を挙げて本発明を説明
したが、本発明は必ずしも上記実施例に限定されるもの
ではない。例えば、ダミーガラス部材の投入枚数は、化
学強化処理装置の容量によって変化することは勿論であ
る。
したが、本発明は必ずしも上記実施例に限定されるもの
ではない。例えば、ダミーガラス部材の投入枚数は、化
学強化処理装置の容量によって変化することは勿論であ
る。
【００４９】また、化学強化処理液中のパーティクルを
捕捉する手段を化学強化処理装置に設けても良い。例え
ば、マイクローシーブ（エッチングで孔を空けた金網）
のフィルターや、磁石を使用することができる。フィル
ターを使用する場合は、化学強化処理装置内の処理えき
はポンプによって循環させ、その循環経路の途中に１ミ
クロン程度のメッシュのステンレス網によって濾過して
さらに清浄な化学強化処理としても良い。
捕捉する手段を化学強化処理装置に設けても良い。例え
ば、マイクローシーブ（エッチングで孔を空けた金網）
のフィルターや、磁石を使用することができる。フィル
ターを使用する場合は、化学強化処理装置内の処理えき
はポンプによって循環させ、その循環経路の途中に１ミ
クロン程度のメッシュのステンレス網によって濾過して
さらに清浄な化学強化処理としても良い。
【００５０】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、化学強化
工程を行う前に、化学強化処理液中に存在する微小なパ
ーティクルを捕捉するためのダミーガラス部材を投入す
ることを特徴とするもので、これにより、化学強化中に
ガラス基板に鉄粉等の金属片又は金属酸化物片が付着す
ることを極めて効果的に防止することを可能にし、その
結果、ヘッドクラッシュや、サーマル・アスペリティー
の原因となるパーティクルの発生の防止、サーマル・ア
スペリティーによる再生機能の低下防止、サーマル・ア
スペリティーの原因となるパーティクルに起因する不良
の回避を可能にしてより高品質の磁気記録媒体が高歩留
まりで得ることを可能にしている。
工程を行う前に、化学強化処理液中に存在する微小なパ
ーティクルを捕捉するためのダミーガラス部材を投入す
ることを特徴とするもので、これにより、化学強化中に
ガラス基板に鉄粉等の金属片又は金属酸化物片が付着す
ることを極めて効果的に防止することを可能にし、その
結果、ヘッドクラッシュや、サーマル・アスペリティー
の原因となるパーティクルの発生の防止、サーマル・ア
スペリティーによる再生機能の低下防止、サーマル・ア
スペリティーの原因となるパーティクルに起因する不良
の回避を可能にしてより高品質の磁気記録媒体が高歩留
まりで得ることを可能にしている。
【図１】 ダミーガラス部材の投入枚数と金属パーティ
クル発見率との関係を示すグラフである。
クル発見率との関係を示すグラフである。
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平10−194786（ＪＰ，Ａ)
特開2000−203888（ＪＰ，Ａ)
特開 平10−198954（ＪＰ，Ａ)
特開 平11−25454（ＪＰ，Ａ)
特開 平10−194785（ＪＰ，Ａ)
特開 平10−228643（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−162627（ＪＰ，Ａ)
特開 平８−64572（ＪＰ，Ａ)
特開 平８−129744（ＪＰ，Ａ)
特開 平１−320623（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G11B 5/62 - 5/858
C03C 21/00 101
Claims (5)
- 【請求項１】 精密研磨したガラス基板を化学強化処理
液に接触させることにより、ガラス基板の中に含まれる
一部のイオンを、そのイオンより大きなイオン径の処理
液中のイオンに置換することによりガラス基板を強化す
る化学強化工程を含む情報記録媒体用ガラス基板の製造
方法において、 前記化学強化工程を行う前に、化学強化処理液中に存在
する微小なパーティクルを捕捉するためのダミーガラス
部材を投入することを特徴とする情報記録媒体用ガラス
基板の製造方法。 - 【請求項２】 前記パーティクルは、金属を含むもので
あることを特徴とする請求項１記載の情報記録媒体用ガ
ラス基板の製造方法。 - 【請求項３】 前記ダミーガラス部材の投入は、化学強
化工程を経た後の化学強化ガラス基板表面に存在する金
属を含む凸部の大きさが、設計基準値以下となるまで行
うことを特徴とする請求項１又は２記載の情報記録媒体
用ガラス基板の製造方法。 - 【請求項４】 情報記録媒体用ガラス基板が磁気ディス
ク用ガラス基板であることを特徴とする請求項１乃至３
のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方
法。 - 【請求項５】 磁気ディスク用ガラスが、磁気抵抗型ヘ
ッドに使用される磁気ディスク用ガラス基板であること
を特徴とする請求項４記載の情報記録媒体用ガラス基板
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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|---|---|---|---|
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|---|---|---|---|---|
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-
2000
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