JP6131124B2 - 情報記録媒体用ガラス基板および情報記録媒体 - Google Patents
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Description
ガラス基板を準備する工程と、
該ガラス基板に対して化学強化処理を施す工程と、
該化学強化処理を施された該ガラス基板を精密研磨する工程と、
該精密研磨された該ガラス基板を洗浄する工程と、
該洗浄された該ガラス基板を検査する工程と、
を含み、
該洗浄する工程は、pH7よりも大きくpH11以下の条件で該精密研磨された該ガラス基板を洗浄することを特徴とするものである。
<情報記録媒体用ガラス基板の製造方法>
本実施の形態の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、ガラス基板を準備する工程(以下「ガラス基板準備工程」とも記す)と、ガラス基板に対して化学強化処理を施す工程(以下「化学強化工程」とも記す)と、化学強化処理を施されたガラス基板を精密研磨する工程(以下「精密研磨工程」とも記す)と、精密研磨されたガラス基板を洗浄する工程(以下「洗浄工程」とも記す)と、洗浄されたガラス基板を検査する工程(以下「検査工程」とも記す)と、を含み、該洗浄工程は、pH7よりも大きくpH11以下の条件で精密研磨されたガラス基板を洗浄することを特徴としている。
本実施の形態で製造される情報記録媒体用ガラス基板は、ハードディスクドライブ装置等の情報記録装置において情報記録媒体の基板として用いられるものであり、その大きさや形状は特に限定されない。
本実施の形態のガラス基板準備工程は、後述の化学強化工程を実行する前に行なわれる工程であり、化学強化工程を実行するためのガラス基板を準備する工程である。
次の「成形工程」は、溶融させたガラス素材を上型および下型を用いたプレスによりガラス基板を作製する工程である。ここで用いられるガラス素材の組成は、上記で説明したガラス基板の組成となる。なお、ガラス基板の作製方法としては、このような成形方法のみに限られず、たとえば公知の手法である板ガラスからの切り出し等でも構わない。
本実施の形態の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法においては、上述のガラス基板準備工程と後述の化学強化工程の間に、他の工程として「粗研磨工程」を含むことができる。
本実施の形態の化学強化工程は、上述のガラス基板準備工程の後であって、後述の精密研磨工程を実行する前に行なわれる工程であり、ガラス基板準備工程を経たガラス基板に対して化学強化処理を施す工程である。
本実施の形態の精密研磨工程は、上述の化学強化工程の後であって、後述の洗浄工程を実行する前に行なわれる工程であり、化学強化工程により化学強化処理を施されたガラス基板を精密研磨する工程である。
本実施の形態の洗浄工程は、上述の精密研磨工程の後であって、後述の検査工程を実行する前に行なわれる工程であり、精密研磨工程により精密研磨されたガラス基板を洗浄する工程である。
本実施の形態の検査工程は、上述の「洗浄工程」の後に行なわれる工程であり、洗浄工程により洗浄されたガラス基板を検査する工程である。
ガラス基板を精密研磨する工程と、精密研磨されたガラス基板を洗浄する工程とを含む製造方法により製造された情報記録媒体用ガラス基板は、次のような性能を示すことが好ましい。すなわち、情報記録媒体用ガラス基板に対してpH11の条件下で3nm±1nmの厚みのエッチング処理を施した場合において、該エッチング処理の前後における算術平均粗さRaの変化量が1Å以下であることが好ましい。なお、この算術平均粗さRaの変化量は、小さければ小さい程好ましいため、その下限値は特に限定されない。しかし、エッチングによる洗浄であるという観点から、その下限値は「0.01Å以上」とすることが好ましい。
次のようにして、情報記録媒体用ガラス基板を製造した。
<実施例2>
実施例1の「洗浄する工程」において、中性洗剤に代えてNaOHを用いてpH9の条件とすることを除き、他は全て実施例1と同様にして情報記録媒体用ガラス基板を製造した。
実施例1の「洗浄する工程」において、中性洗剤に代えてNaOHを用いてpH11の条件とすることを除き、他は全て実施例1と同様にして情報記録媒体用ガラス基板を製造した。
実施例1の「洗浄する工程」において、pH6.5の条件とすることを除き、他は全て実施例1と同様にして情報記録媒体用ガラス基板を製造した。なお、pHの調整は、中性洗剤に代えて、H3PO4を用いて調整した。
実施例1の「洗浄する工程」において、pH3の条件とすることを除き、他は全て実施例1と同様にして情報記録媒体用ガラス基板を製造した。なお、pHの調整は、中性洗剤に代えて、HNO3を用いて調整した。
実施例1の「洗浄する工程」において、中性洗剤に代えてNaOHを用いてpH12の条件とすることを除き、他は全て実施例1と同様にして情報記録媒体用ガラス基板を製造した。
上記で得た各実施例の情報記録媒体用ガラス基板および各比較例の情報記録媒体用ガラス基板について、以下のような評価を行なった。
上記で得た各実施例の情報記録媒体用ガラス基板および各比較例の情報記録媒体用ガラス基板を、pH11かつ40℃のNaOH水溶液中に30分間浸漬する浸漬処理を施した。
上記で得た各実施例の情報記録媒体用ガラス基板および各比較例の情報記録媒体用ガラス基板をpH11のNaOH水溶液中に浸漬することにより、各ガラス基板の主表面に対し表1に記載した厚みのエッチング処理を施した場合において、該エッチング処理の前後における算術平均粗さRaの変化量を求めた。その結果を表1に示す。
上記で得た各実施例の情報記録媒体用ガラス基板および各比較例の情報記録媒体用ガラス基板に対して、pH11かつ40℃のNaOH水溶液中に30分間浸漬する浸漬処理を施した。
上記で得た各実施例の情報記録媒体用ガラス基板および各比較例の情報記録媒体用ガラス基板に対して、pH3かつ40℃のHNO3水溶液中に30分間浸漬した後にさらにpH11かつ40℃のNaOH水溶液中に30分間浸漬する二段浸漬処理を施した。
上記で得た各実施例の情報記録媒体用ガラス基板および各比較例の情報記録媒体用ガラス基板に対して、同じ磁性層を以下のようにして形成した。
基板回転数:7200回転/分
測定位置:半径22.4mm
評価ヘッド:熱式浮上量可変素子内蔵型MRヘッド
ヘッド浮上高さの可変量:1nm/10mW
そして該評価は、シグナルノイズ比の基準値に対する相対比較量の多寡で評価を行なった。ここで、基準値は以下のものとした。
基準値:「精密研磨をする工程」までは上記の実施例1と同様にしてガラス基板を用意した後、このガラス基板をpH10のNaOH水溶液に30分間浸漬し、引続き純水中に10分間浸漬させた後、pH3のHNO3水溶液に30分間浸漬させ、再度純水中に10分間浸漬させる。その後、上記と同様の磁性層を形成させ、情報記録媒体を作製する。そして、このようして作製された情報記録媒体100枚のシグナルノイズ比を上記の条件で測定し、その平均値を基準値とした。
表1より明らかなように、実施例の情報記録媒体用ガラス基板は、比較例の情報記録媒体用ガラス基板に比し、算術平均粗さRaの変化量が小さく、シグナルノイズ比のバラツキも小さくなっていた。
Claims (6)
- ガラス基板を精密研磨する工程と、前記精密研磨された前記ガラス基板を洗浄する工程とを含む製造方法により製造された情報記録媒体用ガラス基板であって、
前記情報記録媒体用ガラス基板に対してpH11の条件下で3nm±1nmの厚みのエッチング処理を施した場合において、前記エッチング処理の前後における算術平均粗さRaの変化量が1Å以下である、情報記録媒体用ガラス基板。 - ガラス基板を精密研磨する工程と、前記精密研磨された前記ガラス基板を洗浄する工程とを含む製造方法により製造された情報記録媒体用ガラス基板であって、
前記情報記録媒体用ガラス基板に対してpH11かつ40℃のNaOH水溶液中に30分間浸漬する浸漬処理を施した場合において、前記浸漬処理の前後における算術平均粗さRaの変化量が0.3Å以下であり、かつSi溶出量が100〜180ppbである、情報記録媒体用ガラス基板。 - ガラス基板を精密研磨する工程と、前記精密研磨された前記ガラス基板を洗浄する工程とを含む製造方法により製造された情報記録媒体用ガラス基板であって、
前記情報記録媒体用ガラス基板に対してpH3かつ40℃のHNO3水溶液中に30分間浸漬した後にさらにpH11かつ40℃のNaOH水溶液中に30分間浸漬する二段浸漬処理を施した場合において、前記二段浸漬処理の前後における算術平均粗さRaの変化量が1Å以下であり、かつSi溶出量が200〜300ppbである、情報記録媒体用ガラス基板。 - 面記録密度が630Gbit/inch 2 以上である情報記録媒体に用いられる、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の情報記録媒体用ガラス基板。
- 請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載された情報記録媒体用ガラス基板を用いてなる、情報記録媒体。
- 前記情報記録媒体は、面記録密度が630Gbit/inch 2 以上である、請求項5に記載の情報記録媒体。
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