JPH09180141A - 磁気ディスク検査用ヘッド再生方法 - Google Patents
磁気ディスク検査用ヘッド再生方法Info
- Publication number
- JPH09180141A JPH09180141A JP33891495A JP33891495A JPH09180141A JP H09180141 A JPH09180141 A JP H09180141A JP 33891495 A JP33891495 A JP 33891495A JP 33891495 A JP33891495 A JP 33891495A JP H09180141 A JPH09180141 A JP H09180141A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- head
- disk
- magnetic
- magnetic disk
- cleaning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 磁気ディスク検査用ヘッドの汚れを短時間で
清掃し再生する。 【解決手段】 非磁性基板上に磁性層を形成してなる磁
気ディスクの検査用ヘッドに汚れが生じたときに、検査
用磁気ディスクに代えてクリーニング用ディスクを装填
して、検査用ヘッドが接触する程度の回転数でクリーニ
ング用ディスクを回転して検査用ヘッドとクリーニング
用ディスクを摺動させることを特徴とする磁気ディスク
検査用ヘッドの再生方法。
清掃し再生する。 【解決手段】 非磁性基板上に磁性層を形成してなる磁
気ディスクの検査用ヘッドに汚れが生じたときに、検査
用磁気ディスクに代えてクリーニング用ディスクを装填
して、検査用ヘッドが接触する程度の回転数でクリーニ
ング用ディスクを回転して検査用ヘッドとクリーニング
用ディスクを摺動させることを特徴とする磁気ディスク
検査用ヘッドの再生方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスクのサ
ーティファイ等、磁気ディスクの検査における検査用ヘ
ッドの再生方法に関する。
ーティファイ等、磁気ディスクの検査における検査用ヘ
ッドの再生方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、コンピュータ等の情報処理技術の
発達に伴い、その外部記憶装置として磁気ディスク等の
磁気記録媒体が用いられている。従来、磁気記録媒体と
してはアルミニウム合金基板にアルマイト処理やＮｉ−
Ｐメッキ等の非磁性メッキ処理を施した後に、Ｃｒ等の
下地層を被覆し、次いでＣｏ系合金の磁性薄膜層を被覆
し、更に炭素質の保護膜が被覆されたものが使用されて
いる。
発達に伴い、その外部記憶装置として磁気ディスク等の
磁気記録媒体が用いられている。従来、磁気記録媒体と
してはアルミニウム合金基板にアルマイト処理やＮｉ−
Ｐメッキ等の非磁性メッキ処理を施した後に、Ｃｒ等の
下地層を被覆し、次いでＣｏ系合金の磁性薄膜層を被覆
し、更に炭素質の保護膜が被覆されたものが使用されて
いる。
【０００３】上記磁気記録媒体（磁気ディスク）の高密
度化に伴い、記録再生時の磁気ディスクと磁気ヘッドと
の間隔、即ち磁気ヘッドの浮上量は益々小さくなってお
り、最近では０．１５μｍ以下程度になっている。この
ように磁気ヘッドの浮上量が著しく小さいため、磁気デ
ィスク面に歪みがあるとヘッドクラッシュを招き、ディ
スク表面を傷つけることがある。また、ヘッドクラッシ
ュに至らないような微小なうねりでも情報の読み書きの
際の種々のエラーの原因となりやすい。
度化に伴い、記録再生時の磁気ディスクと磁気ヘッドと
の間隔、即ち磁気ヘッドの浮上量は益々小さくなってお
り、最近では０．１５μｍ以下程度になっている。この
ように磁気ヘッドの浮上量が著しく小さいため、磁気デ
ィスク面に歪みがあるとヘッドクラッシュを招き、ディ
スク表面を傷つけることがある。また、ヘッドクラッシ
ュに至らないような微小なうねりでも情報の読み書きの
際の種々のエラーの原因となりやすい。
【０００４】このように磁気ディスクは高性能が要求さ
れるため、磁気ディスク製造の最終工程においてサーテ
ィファイと称される電磁変換特性の試験が行なわれる。
サーティファイとしては、低周波数信号を書き込み、読
み出したときの出力（ＬＦ）、高周波数を書き込み、読
み出したときの出力（ＨＦ）、ＨＦ／ＬＦ比、低周波数
を書き込んだ後に高周波を書き込み、読み出したときの
低周波の残留量（Ｏ／Ｗ）、トラック一周分の出力のゆ
らぎ量（Ｄｅｖ）等が測定される。
れるため、磁気ディスク製造の最終工程においてサーテ
ィファイと称される電磁変換特性の試験が行なわれる。
サーティファイとしては、低周波数信号を書き込み、読
み出したときの出力（ＬＦ）、高周波数を書き込み、読
み出したときの出力（ＨＦ）、ＨＦ／ＬＦ比、低周波数
を書き込んだ後に高周波を書き込み、読み出したときの
低周波の残留量（Ｏ／Ｗ）、トラック一周分の出力のゆ
らぎ量（Ｄｅｖ）等が測定される。
【０００５】一方、磁気ディスクに書き込み読み取りを
行なうヘッドは磁気ディスクの回転に伴って回転する磁
気ディスク臨接空気層によって浮上し、浮上した非接触
状態で書き込み読み取りが行なわれるが、多数の検査の
間には第４図に示すように、ヘッド１の磁気ディスク２
側の面６に粉塵７等が付着し、電磁変換特性の測定値を
不正確にしたり、磁気ディスクに欠陥を生じさせるおそ
れがある。
行なうヘッドは磁気ディスクの回転に伴って回転する磁
気ディスク臨接空気層によって浮上し、浮上した非接触
状態で書き込み読み取りが行なわれるが、多数の検査の
間には第４図に示すように、ヘッド１の磁気ディスク２
側の面６に粉塵７等が付着し、電磁変換特性の測定値を
不正確にしたり、磁気ディスクに欠陥を生じさせるおそ
れがある。
【０００６】このため従来は、定期的にヘッドを取り外
して清掃作業を行なっているが、清掃の頻度が多く、そ
の都度ヘッドの取外し、清掃、取付け、オフセットの調
整、検出感度の調整等の作業に相当の時間を要し、その
間検定作業が中断する問題があった。
して清掃作業を行なっているが、清掃の頻度が多く、そ
の都度ヘッドの取外し、清掃、取付け、オフセットの調
整、検出感度の調整等の作業に相当の時間を要し、その
間検定作業が中断する問題があった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、作業中断の
要因となるヘッドの取外しを省略し、ヘッドを付けたま
まヘッドの清掃を行なうことを鋭意検討し、その結果な
されたもので、ヘッドの取外しを必要としない結果、ヘ
ッドの取外し取付、オフセットの再調整の手間を無く
し、検定工程の中断を極めて短時間とするものである。
要因となるヘッドの取外しを省略し、ヘッドを付けたま
まヘッドの清掃を行なうことを鋭意検討し、その結果な
されたもので、ヘッドの取外しを必要としない結果、ヘ
ッドの取外し取付、オフセットの再調整の手間を無く
し、検定工程の中断を極めて短時間とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明はかかる目的でな
されたもので、非磁性基板上に磁性層を形成してなる磁
気ディスクの検査用ヘッドに汚れが生じたときに、検査
用磁気ディスクに代えてクリーニング用ディスクを装填
して、検査用ヘッドが接触する程度の回転数でクリーニ
ング用ディスクを回転して検査用ヘッドとクリーニング
用ディスクを摺動させることを特徴とする磁気ディスク
検査用ヘッドの再生方法、に関する。
されたもので、非磁性基板上に磁性層を形成してなる磁
気ディスクの検査用ヘッドに汚れが生じたときに、検査
用磁気ディスクに代えてクリーニング用ディスクを装填
して、検査用ヘッドが接触する程度の回転数でクリーニ
ング用ディスクを回転して検査用ヘッドとクリーニング
用ディスクを摺動させることを特徴とする磁気ディスク
検査用ヘッドの再生方法、に関する。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明の検定に供される磁気ディ
スクは、図１に示すように非磁性材料からなる基板にテ
キスチャー加工処理し、その上に磁性層が成膜される。
磁気記録媒体である磁気ディスクの基板としては一般に
アルミニウム合金からなるディスク状基板が用いられ、
通常、該アルミニウム基板を所定の厚さに加工した後、
その表面を鏡面加工してから非磁性金属、例えばＮｉ−
Ｐ合金、又はＮｉ−Ｃｕ−Ｐ合金を無電解メッキ処理等
により約５〜２０μｍの膜厚の表面層を形成する。
スクは、図１に示すように非磁性材料からなる基板にテ
キスチャー加工処理し、その上に磁性層が成膜される。
磁気記録媒体である磁気ディスクの基板としては一般に
アルミニウム合金からなるディスク状基板が用いられ、
通常、該アルミニウム基板を所定の厚さに加工した後、
その表面を鏡面加工してから非磁性金属、例えばＮｉ−
Ｐ合金、又はＮｉ−Ｃｕ−Ｐ合金を無電解メッキ処理等
により約５〜２０μｍの膜厚の表面層を形成する。
【００１０】次いで、上記基板の表面層上にテキスチャ
ー加工処理を施し、該基板表面に微細な溝もしくは凹凸
を形成する。このテキスチャー加工により磁気ヘッドと
基板との吸着が防止でき、且つＣＳＳ特性が改善され、
さらに磁気異方性が良好となる。上記基板表面上に第２
次下地層としてクロムをスパッタリングにより形成す
る。該クロム下地層の膜厚としては通常５０〜２０００
オングストロームの範囲である。
ー加工処理を施し、該基板表面に微細な溝もしくは凹凸
を形成する。このテキスチャー加工により磁気ヘッドと
基板との吸着が防止でき、且つＣＳＳ特性が改善され、
さらに磁気異方性が良好となる。上記基板表面上に第２
次下地層としてクロムをスパッタリングにより形成す
る。該クロム下地層の膜厚としては通常５０〜２０００
オングストロームの範囲である。
【００１１】このような基板のＣｒ下地層上に金属磁性
薄膜層が形成される。その材料としては、Ｃｏ−Ｃｒ、
Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｘ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｘ、Ｃｏ−
Ｗ−Ｘ等で表わされるＣｏ系合金の磁性薄膜層が好適で
ある。ここでＸとしてＬｉ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃ
ｒ、Ｎｉ、Ａｓ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、
Ａｇ、Ｗの一種又は二種以上を用いたＣｏ系合金の磁性
薄膜層が好適である。その他ＸとしてはＳｂ、Ｈｆ、Ｔ
ａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｌａ、Ｃｅ、
Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、及び、Ｅｕよりなる群から選
ばれた１種又は２種以上の元素を用いることができる。
薄膜層が形成される。その材料としては、Ｃｏ−Ｃｒ、
Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｘ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｘ、Ｃｏ−
Ｗ−Ｘ等で表わされるＣｏ系合金の磁性薄膜層が好適で
ある。ここでＸとしてＬｉ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃ
ｒ、Ｎｉ、Ａｓ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、
Ａｇ、Ｗの一種又は二種以上を用いたＣｏ系合金の磁性
薄膜層が好適である。その他ＸとしてはＳｂ、Ｈｆ、Ｔ
ａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｌａ、Ｃｅ、
Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、及び、Ｅｕよりなる群から選
ばれた１種又は２種以上の元素を用いることができる。
【００１２】このようなＣｏ系合金からなる金属磁性薄
膜層は、通常スパッタリング等の手段によって基板の下
地層上に被着形成される。該金属磁性薄膜層の膜厚とし
ては、通常２００〜２５００オングストロームの範囲と
される。こうして得られた金属磁性薄膜層はクリーニン
グされた後その上面に保護のために保護薄膜が塗布され
る。
膜層は、通常スパッタリング等の手段によって基板の下
地層上に被着形成される。該金属磁性薄膜層の膜厚とし
ては、通常２００〜２５００オングストロームの範囲と
される。こうして得られた金属磁性薄膜層はクリーニン
グされた後その上面に保護のために保護薄膜が塗布され
る。
【００１３】上記金属磁性薄膜層上に形成される保護薄
膜層としては炭素質膜が好ましく、炭素質保護薄膜層
は、通常、アルゴン、Ｈｅ等の希ガスの雰囲気下でダイ
ヤモンド状、グラファイト状又はアモルファス状のカー
ボンをターゲットとしてスパッタリングにより該金属磁
性薄膜層上に被着形成される。該保護薄膜層の膜厚は、
通常１００〜１０００オングストロームの範囲とされ
る。
膜層としては炭素質膜が好ましく、炭素質保護薄膜層
は、通常、アルゴン、Ｈｅ等の希ガスの雰囲気下でダイ
ヤモンド状、グラファイト状又はアモルファス状のカー
ボンをターゲットとしてスパッタリングにより該金属磁
性薄膜層上に被着形成される。該保護薄膜層の膜厚は、
通常１００〜１０００オングストロームの範囲とされ
る。
【００１４】こうして完成した磁気ディスクは検査工程
に移され、まず突起の発生の有無を検査するグライドテ
ストが行なわれ、次いで本発明が適用されるサーティフ
ァイが行なわれる。サーティファイの一例を示せば図２
に示す装置を用いて行なわれる。サーティファイ装置
は、ディスクの裏表と内外周部を測定するために４個の
ヘッド１（１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ）を有し、該ヘッド
１はディスク２の外縁より外へ退去可能に駆動装置３，
３に支持されており、中央部には磁気ディスク２を着脱
自在に固定し回転するスピンドル４を有する。
に移され、まず突起の発生の有無を検査するグライドテ
ストが行なわれ、次いで本発明が適用されるサーティフ
ァイが行なわれる。サーティファイの一例を示せば図２
に示す装置を用いて行なわれる。サーティファイ装置
は、ディスクの裏表と内外周部を測定するために４個の
ヘッド１（１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ）を有し、該ヘッド
１はディスク２の外縁より外へ退去可能に駆動装置３，
３に支持されており、中央部には磁気ディスク２を着脱
自在に固定し回転するスピンドル４を有する。
【００１５】この装置を用いてサーティファイするとき
は、先ずヘッド１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄをディスク２の
外縁より外へ退去（図においては右と左）させた後、検
査用磁気ディスク２をスピンドル４に係合させて固定す
ると共にスピンドル４を回転させる。しかして、磁気デ
ィスク２の回転数が所定の回転数となったとき、ヘッド
駆動装置３によってヘッド１ａ〜１ｄが中心部に進出し
て磁気ディスク２の所定の位置に移動されて図２の状態
となる。
は、先ずヘッド１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄをディスク２の
外縁より外へ退去（図においては右と左）させた後、検
査用磁気ディスク２をスピンドル４に係合させて固定す
ると共にスピンドル４を回転させる。しかして、磁気デ
ィスク２の回転数が所定の回転数となったとき、ヘッド
駆動装置３によってヘッド１ａ〜１ｄが中心部に進出し
て磁気ディスク２の所定の位置に移動されて図２の状態
となる。
【００１６】このとき、ヘッド１ａ〜１ｂは、図３に示
すように磁気ディスク２の回転に伴って回転する気流５
によって浮上して磁気ディスク２とは非接触状態で対向
し、この状態で書き込み読み取りが行なわれ電磁変換特
性が検定される。しかして、多数磁気ディスクの検定を
行なうと、図４に示すように、ヘッド１の磁気ディスク
２側の面６に微細な粉塵７等が付着し、測定を不正確に
する。
すように磁気ディスク２の回転に伴って回転する気流５
によって浮上して磁気ディスク２とは非接触状態で対向
し、この状態で書き込み読み取りが行なわれ電磁変換特
性が検定される。しかして、多数磁気ディスクの検定を
行なうと、図４に示すように、ヘッド１の磁気ディスク
２側の面６に微細な粉塵７等が付着し、測定を不正確に
する。
【００１７】従って、所定枚数の検定を終了したとき、
定期的に本発明清掃作業を行なう。清掃作業を行なうと
きは、検査用磁気ディスク２に代えて、クリーニング用
のディスク２ａを装着し回転させると共にヘッド１を中
央部に前進させて所定の位置に設定する。この場合、ク
リーニング用のディスク２ａの回転数は検査用磁気ディ
スク２の回転数より低く設定する。回転数を低くするこ
とによって、クリーニング用ディスク２ａに伴って回転
する気流５の速度が低下してヘッド１の浮上力が不足
し、ヘッド１はクリーニング用ディスク２ａの表面に接
触した状態となり、両者は摺り合され、ヘッド１の面は
清掃される。
定期的に本発明清掃作業を行なう。清掃作業を行なうと
きは、検査用磁気ディスク２に代えて、クリーニング用
のディスク２ａを装着し回転させると共にヘッド１を中
央部に前進させて所定の位置に設定する。この場合、ク
リーニング用のディスク２ａの回転数は検査用磁気ディ
スク２の回転数より低く設定する。回転数を低くするこ
とによって、クリーニング用ディスク２ａに伴って回転
する気流５の速度が低下してヘッド１の浮上力が不足
し、ヘッド１はクリーニング用ディスク２ａの表面に接
触した状態となり、両者は摺り合され、ヘッド１の面は
清掃される。
【００１８】クリーニング用ディスク２ａは検査用の磁
気ディスク２と同質のものでもよく、また、Ａｌ板、Ｃ
ｕ板、あるいは合成樹脂を被覆した金属板を用いること
ができる。形状は、サーティファイ装置の運転上、検査
用磁気ディスクと全く同じ形状、寸法とすることが望ま
しい。ヘッドとクリーニング用ディスクとの接触時間は
汚れの種類によって定まり、これ等は経験的に知ること
ができるが一般には１０〜６０秒程度好ましくは３０〜
５０秒程度である。
気ディスク２と同質のものでもよく、また、Ａｌ板、Ｃ
ｕ板、あるいは合成樹脂を被覆した金属板を用いること
ができる。形状は、サーティファイ装置の運転上、検査
用磁気ディスクと全く同じ形状、寸法とすることが望ま
しい。ヘッドとクリーニング用ディスクとの接触時間は
汚れの種類によって定まり、これ等は経験的に知ること
ができるが一般には１０〜６０秒程度好ましくは３０〜
５０秒程度である。
【図１】磁気ディスクの製造検査工程を示すフローチャ
ート
ート
【図２】磁気ディスクの検査の例を示す検査装置の側面
図
図
【図３】ヘッドが浮上する原理を示す部分端面図
【図４】ヘッドの汚れを示す端面図
１，１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ ヘッド ２ 磁気ディスク ２ａ クリーニング用ディスク ３ ヘッド駆動装置 ４ スピンドル ５ 気流 ６ ヘッドの面
Claims (2)
- 【請求項１】 非磁性基板上に磁性層を形成してなる磁
気ディスクの検査用ヘッドに汚れが生じたときに、検査
用磁気ディスクに代えてクリーニング用ディスクを装填
して、検査用ヘッドが接触する程度の回転数でクリーニ
ング用ディスクを回転して検査用ヘッドとクリーニング
用ディスクを摺動させることを特徴とする磁気ディスク
検査用ヘッドの再生方法。 - 【請求項２】 検査用ヘッドとクリーニング用ディスク
の摺動が１０〜６０秒間行なわれる請求項１記載の磁気
ディスク検査用ヘッドの再生方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33891495A JPH09180141A (ja) | 1995-12-26 | 1995-12-26 | 磁気ディスク検査用ヘッド再生方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33891495A JPH09180141A (ja) | 1995-12-26 | 1995-12-26 | 磁気ディスク検査用ヘッド再生方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09180141A true JPH09180141A (ja) | 1997-07-11 |
Family
ID=18322530
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33891495A Pending JPH09180141A (ja) | 1995-12-26 | 1995-12-26 | 磁気ディスク検査用ヘッド再生方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09180141A (ja) |
-
1995
- 1995-12-26 JP JP33891495A patent/JPH09180141A/ja active Pending
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