JPH087264A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

磁気記録媒体及びその製造方法

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JPH087264A JP13233194A JP13233194A JPH087264A JP H087264 A JPH087264 A JP H087264A JP 13233194 A JP13233194 A JP 13233194A JP 13233194 A JP13233194 A JP 13233194A JP H087264 A JPH087264 A JP H087264A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 マイクロスクラッチを低減可能で、エラー数
の減少した磁気記録媒体及びその製造方法を提供するこ
と。 【構成】 テクスチャ加工の初工程で3μm以下の粒径
の単結晶ダイヤモンドスラリーを用いると、ダイヤモン
ド砥粒であるので、凝集し難く、またスラリーはテープ
研磨に比して研磨材の運動自由度があるため、徒に深い
傷を付けてしまうことがない。そのため、テクスチャ加
工時の表面粗さの平均線深さRV が500 Å以下で、90〜
99%の相対負荷長さtP (90−99) が120 Å以下の磁気
記録媒体を容易に得ることができ、マイクロスクラッチ
が低減し、エラー数が減少する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、固定磁気ディスク装置
に搭載される磁気記録媒体及びその製造方法に関し、特
に、非磁性基板上に形成されるテクスチャ加工溝の最適
値とその加工法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般的な金属薄膜磁気記録ディスク(媒
体)の断面構造は、図5に示すように、非磁性基板1上
に非磁性のCr下地膜2を積層し、このCr下地膜2上
に強磁性合金のCo合金磁性膜3を薄膜状に積層した
後、この磁性膜3上に例えばポリマー質を加味したダイ
ヤモンドライクカーボンDLC(Diamond Like Carbon
n)のカーボン保護膜4を積層形成し、更にそのカーボン
保護膜4の上に液体潤滑材からなる潤滑膜5を設けたも
のである。非磁性基板1としてはAl合金,ガラス,カ
ーボン,チタン等が用いられるが、現在では主に、非磁
性基板1はAl合金基板で、下地膜としてNi−P(ニ
ッケル−リン)めっき膜1aをコートし、この上に磁気
ヘッドの浮上特性と摩擦特性を最適化するためテクスチ
ャ加工溝が形成されている。
【0003】ところで、コンピュータのデータ処理能力
の向上に伴い、固定磁気ディスク装置もますます大容量
・高密度化が指向されている。特に最近では200 Mbit
/int2以上の記録密度を達成した例も報告されており、
磁気面の1μm以下の欠陥も読み書きエラーとして観測
されることがある。従来、テクスチャー加工工程は、粒
径の粗いアルミナのテープ研磨材で研磨する初工程と、
その後、低浮上特性の向上を目的として、粒径の細かい
(2μm以下)アルミナスラリーを用いてスラリー加工
を施す後工程とから成る。テクスチャ加工によって施さ
れる円周方向のテクスチャ加工溝としては磁気的な配向
を考慮して比較的深い溝が形成されている。目視又は光
学顕微鏡により明確に判別できるテクスチャ加工に起因
するスクラッチ傷については、テープ研磨材の砥粒の分
散性やダストの巻き込み等によって低減可能である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、高密度
下においてエラーの原因となるテクスチャ加工によりマ
イクロスクラッチは殆ど考慮されていない。初工程でア
ルミナ砥粒のテープ研磨材を用いてテクスチャ加工を施
すと、ローラ加圧によりテープ面に付着した砥粒のうち
突出した砥粒の逃げ場がないので、基板に深い傷を付け
易い。この突出した砥粒はアルミナ砥粒が凝集して生じ
る。このような深いテクスチャ加工溝のうち上側(山
側)は後工程で緩和化できるものの、下側(谷側)は埋
めることができないから、どうしてもマイクロスクラッ
チとして残ってしまう。
【0005】そこで上記問題点に鑑み、本発明の課題
は、マイクロスクラッチを低減可能で、エラー数の減少
した磁気記録媒体及びその製造方法を提供することにあ
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の講じた手段は、非磁性基板の上に形成され
たテクスチャ加工溝を有する磁気記録媒体において、そ
のテクスチャ加工時の表面粗さの平均線深さRV を500
Å以下で、90〜99%の相対負荷長さtP (90−99) を12
0 Å以下にしたことを特徴とする。このような表面粗さ
を有する磁気記録媒体の製造方法は、テクスチャ工程と
しては、研磨パットを用いた3μm以下の粒径のダイヤ
モンドスラリーにて研磨する初工程と、その後2μm以
下の粒径の研磨材にて研磨する後工程とから成る。そし
て、初工程に用いるダイヤモンドスラリーは単結晶ダイ
ヤモンドスラリーであることが望ましい。また、後工程
に用いる研磨材としては例えばアルミナスラリーとする
ことができる。
【0007】
【作用】このように、テクスチャ加工の初工程で3μm
以下の粒径のダイヤモンドスラリーを用いると、ダイヤ
モンド砥粒であるので、凝集し難く、またスラリーはテ
ープ研磨に比して研磨材の運動自由度があるため、徒に
深い傷を付けてしまうことがない。そのため、テクスチ
ャ加工時の表面粗さの平均線深さRV が500 Å以下で、
90〜99%の相対負荷長さtP (90−99) が120 Å以下の
磁気記録媒体を得ることができ、マイクロスクラッチが
低減し、エラー数が減少する。
【0008】また単結晶ダイヤモンドスラリーを用いる
と、ポリ結晶に比して多角的な角ばりが少ない砥粒であ
るため、研磨の切れが良好でバリの発生がなく、磁気ヘ
ッドの摩擦特性と浮上特性の最適化に有利となる。
【0009】
【実施例】次に、本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明する。
【0010】本例の磁気記録媒体は、Al合金基板の上
にNi−Pめっき膜を施した磁気記録基板に円周方向に
テクスチャ加工を施したものを使用した。そして、テク
スチャ加工の初工程では種々の研磨材を用いてテクスチ
ャ加工を施し、後工程では低浮上特性向上を目的として
2μm以下のアルミナスラリーを用いたスラリー加工を
施す。
【0011】図1は異なったテープ材料A,B,C,D
によってテクスチャー加工を行った後に得られた磁気記
録媒体のエラーアバランシャカーブを示す。横軸はスラ
イスレベル(%)であり、再生信号波高の最大値を100
%としてある。縦軸は片面当たりのMP(ミッシングパ
ルス)のエラー個数である。なお、測定の磁気ヘッド
は、ギャップ長0.3 μm、浮上量0.07μm、周速度9.5
m/sec 、記憶密度は46KFCI である。テープ材料A,
B,C,Dは同一の砥粒径であるが、バインダー,砥粒
の分散性等を変えたもので、そのうち、テープ材料Dが
MPエラー個数が一番低い。因に、スライスレベル80パ
ーセントとき7000個程度である。図1から判るように、
テープ材料によるテクスチャ加工では高々テープ材料D
が最良のエラー特性を示すと言え、これでもエラーが多
いものとなっている。
【0012】図2は表1に示す研磨材料,研磨方法でテ
クスチャ加工したときの磁気記録媒体のエラーアバラン
シャカーブを示す。
【0013】
【表1】
【0014】ここで、Tex1のテープ材料B,Tex
2のテープ材料Cは図1のテープ材料B,Cと同じもの
である。なお、測定の磁気ヘッドはMRヘッドで、ギャ
ップ長0.3 μm、浮上量0.1 μm、記憶密度は60KFCI
である。
【0015】この図2から判るように、粗さRaの細か
なTex2の方がTex1よりもエラー特性が良好であ
る。しかし、粗さRaが細か過ぎると摩擦特性に劣る。
これに対して3μmのホワイトアルミナスラリー又は単
結晶ダイヤモンドスラリーを用いて研磨パットで研磨す
ると、テープ研磨材に比してエラー特性が優れている。
砥粒の運動自由度が高いから研磨パットで加圧しながら
研磨しても徒に基板面を砥粒が押し付けることがなく、
深い傷が付き難いためと推察できる。特に、単結晶ダイ
ヤモンドスラリーの方はホワイトアルミナスラリーに比
してエラー特性が良好である。これはポリ結晶に比して
単結晶は角ばっていないためと推察される。単結晶ダイ
ヤモンドスラリーを用いると、研磨の切れが良好でバリ
の発生がなく、磁気ヘッドの摩擦特性と浮上特性の最適
化に有利となる。なお、平均粗さRa65Åであるた
め、摩擦特性も同時に満足している。
【0016】図3(a)は粒径3μmの単結晶状ダイヤ
モンドスラリーを用いて種々の条件でテクスチャ加工を
施した場合のMPエラー個数に対する平均線深さRV
関係を示すグラフ、図3(b)は粒径3μmの単結晶状
ダイヤモンドスラリーを用いて種々の条件でテクスチャ
加工を施した場合のMPエラー個数に対する90〜99%の
相対負荷長さtP (90−99) の関係を示すグラフであ
る。ここで、粗さは小坂研究所製ET−30Kの粗さ測
定器を用い、0.5 μm径の触針を使用して半径方向に測
定した。平均線深さRV は、図4(a)に示すように、
カットオフをしない断面曲線から平均線aに対して下側
(谷側)の最大深さを表す。90〜99%の相対負荷長さt
P (90−99) は、まず図4(b)に示すように、最大の
谷底から最大のピークまでの長さを100 %とするカッテ
ィング深さCVの密度分布曲線である相対負荷曲線を求
め、図4(c)に示すように、n1 =90%とn2 =99%
との間のカッティング深さの差ΔCV (μm)を表す。
【0017】図3(a),(b)から判るように、エラ
ー個数はそれぞれ平均線深さRV ,相対負荷長さt
P (90−99) と比例関係にある。これらの関係の意味す
るところは、深さ方向に深い溝がなく、かつ異常な溝が
少なく均一であることがエラー数の減少に有効であるこ
とを示唆している。信頼性の高い磁気記録媒体とするに
は、エラー数は最大でも100個程度に抑える必要があ
ることから、平均線深さRV は500 Å以下とすることが
望ましく、また90〜99%の相対負荷長さtP (90−99)
は120 Å以下とすることが望ましい。このような条件の
磁気記録媒体は上述したように単結晶ダイヤモンドスラ
リーを用いたテクスチャー加工により容易に得ることが
できる。
【0018】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、テクス
チャ加工の初工程として、研磨パットを用いた3μm以
下の粒径のダイヤモンドスラリーにて研磨する工程であ
ることに特徴を有するので、次の効果を奏する。
【0019】 ダイヤモンド砥粒であるので、凝集し
難く、またスラリーはテープ研磨に比して研磨材の運動
自由度があるため、徒に深い傷を付けてしまうことがな
いため、テクスチャ加工時の表面粗さの平均線深さRV
が500 Å以下で、90〜99%の相対負荷長さtP (90−9
9) が120 Å以下の磁気記録媒体を容易に得ることがで
き、マイクロスクラッチが低減し、エラー数が減少す
る。
【0020】 単結晶ダイヤモンドスラリーを用いる
と、ポリ結晶に比して多角的な角ばりが少ない砥粒であ
るため、研磨の切れが良好でバリの発生がなく、磁気ヘ
ッドの摩擦特性と浮上特性の最適化に有利となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例において、異なったテープ材料
A,B,C,Dによってテクスチャー加工を行った後に
得られた磁気記録媒体のエラーアバランシャカーブを示
すグラフである。
【図2】本発明の実施例において、表1に示す研磨材
料,研磨方法でテクスチャ加工したときの磁気記録媒体
のエラーアバランシャカーブを示すグラフである。
【図3】(a)は粒径3μmの単結晶状ダイヤモンドス
ラリーを用いて種々の条件でテクスチャ加工を施した場
合のMPエラー個数に対する平均線深さRV の関係を示
すグラフで、(b)は粒径3μmの単結晶状ダイヤモン
ドスラリーを用いて種々の条件でテクスチャ加工を施し
た場合のMPエラー個数に対する90〜99%の相対負荷長
さtP (90−99) の関係を示すグラフである。
【図4】(a),(b),(c)は平均線深さRV 及び
90〜99%の相対負荷長さtP (90−99) の意味を説明す
る説明図である。
【図5】一般的な金属薄膜磁気記録ディスク(媒体)の
断面構造を示す模式的断面図である。
【符号の説明】
1…非磁性基板 1a…Ni−Pめっき膜 2…Cr下地膜 3…Co合金磁性膜 4…カーボン保護膜 5…潤滑膜。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 非磁性基板の上に形成されたテクスチャ
    加工溝を有する磁気記録媒体において、前記テクスチャ
    加工時の表面粗さの平均線深さRV が500 Å以下で、90
    〜99%の相対負荷長さtP (90−99) が120 Å以下であ
    ることを特徴とする磁気記録媒体。
  2. 【請求項2】 非磁性基板の上にテクスチャ加工を施す
    テクスチャ工程の後、磁性膜を形成する磁気記録媒体の
    製造方法において、前記テクスチャ工程は、研磨パット
    を用いた3μm以下の粒径のダイヤモンドスラリーにて
    研磨する初工程と、その後2μm以下の粒径の研磨材に
    て研磨する後工程とを有することを特徴とする磁気記録
    媒体の製造方法。
  3. 【請求項3】 請求項2に記載の磁気記録媒体の製造方
    法において、前記初工程に用いる前記ダイヤモンドスラ
    リーは単結晶ダイヤモンドスラリーであることを特徴と
    する磁気記録媒体の製造方法。
  4. 【請求項4】 請求項2又は請求項3に記載の磁気記録
    媒体の製造方法において、前記後工程に用いる前記研磨
    材はアルミナスラリーであることを特徴とする磁気記録
    媒体の製造方法。
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