JP4545714B2 - 磁気記録媒体並びに磁気記録再生装置 - Google Patents

Description

本発明は、情報機器の記録媒体として使用される磁気記録媒体並びに磁気記録再生装置に関するものである。

近年各種情報機器の進展にともない、磁気記録媒体の記憶容量は増大の一途をたどっている。特にコンピュータの外部メモリとして中心的な役割をはたしている磁気ディスクは年々記録容量、記録密度ともに増加しているが、更に高密度な記録を行なうための開発が必要とされている。例えば、ノート型パソコンやパームトップパソコンの開発により、小型で衝撃に強い記録装置が望まれ、そのために、より高密度記録ができ、機械強度の強い小型の磁気記録媒体が望まれている。さらに最近ではナビゲーションシステムや携帯用音楽再生装置にも、超小型の磁気記録媒体を使用したものが採用されるようになってきた。

従来よりこの磁気記録媒体である磁気ディスク用の基板としては、表面にＮｉＰメッキ処理をしたアルミニウム合金や、あるいはより高い耐衝撃性、剛性・硬度、化学的耐久性といったシビアな要求に対応できる基板としてガラス基板が採用されている。ガラス基板は磁気記録面の高密度化にとって重要な、磁気記録面上でのヘッドの低浮上に好適な平坦度が容易に得られる利点がある。
近年、高記録密度化を達成するために磁気記録媒体に対するヘッドの浮上高さはますます小さくなる傾向にあり、それに伴って磁気記録媒体用の基板は鏡面のような平坦性や小さい表面粗さが要求され、かつ表面の微小スクラッチや微小ピットなどの表面欠陥が極力無いものが要求されている。

ハードディスク（ＨＤ）用基板に代表される磁気記録媒体用基板は、所望の寸法に成形した後、基板本体の表面を粗研磨するラッピング工程、内外周端面を研削して面取りするチャンファ加工工程、表面を仕上げ研磨するポリッシング工程を経て製造されている。そして、この基板は、更に、基板本体の表面を適度に粗面化するテクスチャー工程、表面に下地層を形成する下地層形成工程、表面に磁性層を成膜する磁性層形成工程、磁性層上に保護層を形成する保護層形成工程、保護層の上に潤滑層を形成する潤滑層形成工程等にて基板本体の表面に成膜し、更にその膜表面の異常突起を除去するバーニッシュ工程を施されて完成製品となる。

このようにして得られる基板は、基板本体の内外周端面においてチャンファ加工された面取部分で、その上に形成された下地層や磁性層の膜剥れを生じて欠陥品となることがあった。この問題を解決して基板本体上に形成された膜の耐久性を向上させる手段として、面取部分の平均表面粗さ（Ｒａ）を０．２０μｍ未満にすることが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
また、磁気記録媒体を磁気抵抗型ヘッドで再生する際、記録密度の向上を求めてヘッドの浮上高さ（フライングハイト）を下げると、再生の誤動作、あるいは、再生が不可能になる現象が発生する。この現象の発生原因は、磁気記録媒体表面上のパーティクルによって形成された凸部が、サーマル・アスペリティ（Thermal Asperity）となって磁気抵抗型ヘッドに熱が発生し、ヘッドの抵抗値を変動させることにより電磁変換に悪影響を与えていることがその原因である。さらにこのパーティクルの発生原因は、磁気記録媒体の製造工程で基板をカセット容器に収納して搬送する際に、基板の端面がカセット容器と擦れることにより、例えば、角張ったパーティクルや、ディスク表面に対して比較的急峻な立ち上がりを持ったパーティクルなどの、ヘッドの浮上に悪影響を及ぼすパーティクルが発生することが判明した。これらのパーティクルは、基板の端面（面取部及び基板側面）が鏡面になっていないため、基板をポリカーボネート等からなる収納カセット容器に出し入れする際に、収納カセット容器の内周面と基板の端面とが接触し、端面から発塵したパーティクルが磁気記録媒体表面に付着するためと考えられる。この問題を解決するために基板の面取部及び側壁部のうち少なくとも一方の表面の平均表面粗さ（Ｒａ）を１μｍ未満の鏡面とすることも提案されている（例えば、特許文献２参照。）。
特開平０９−１０２１２０号公報 特開平１０−１５４３２１号公報

従来より磁気記録媒体として垂直磁気記録層を使用する場合、裏打ち軟磁性層にＦｅ、Ｃｏなどを含む合金が利用されてきているが、その製膜膜厚と合金材料固有のコロージョン性に起因して、もともと密着力が弱い端面部近傍からの軟磁性膜に発生するコロージョンにより、磁気記録媒体の機能上著しい電磁変換特性の劣化を引き起こすことがわかり、その対策が必要とされてきた。基板の表面粗さと裏打ち軟磁性層の付着強度の関係を調査した結果、従来提案されてきた程度の基板端面の表面粗さでは、基板端面と軟磁性層との間の密着が充分でなく、腐食し易い軟磁性層にコロージヨンが発生して強固な付着強度が得られない。
本発明は、基板端面と軟磁性層との間の密着強度を高め、コロージョンを抑制できる磁気記録媒体用基板を備え、この基板を利用した電磁変換特性の劣化を引き起こさない耐久性に優れた磁気記録媒体及びこの磁気記録媒体を使用した磁気記録再生装置を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために以下の発明を提供する。
（１）本発明の磁気記録媒体は、円盤状の非磁性基板の中心部に円孔を有し、裏打ち軟磁性層と垂直磁気記録媒体層を形成するための主表面と外周端面との間、もしくは主表面と前記円孔の内周端面の間の少なくとも一方にチャンファー面を具備した垂直磁気記録媒体用基板を備え、前記主表面上に裏打ち軟磁性層と垂直磁気記録媒体層を備えた磁気記録媒体であって、前記裏打ち軟磁性層が少なくともＦｅまたはＣｏを含む裏打ち軟磁性層であり、前記チャンファー面の表面粗さ（Ｒａ）がＡＦＭで４．０Å≦Ｒａ≦５０Åであり、前記外周端面の表面粗さ（Ｒａ）がＡＦＭで４．０Å≦Ｒａ≦５０Åであり、前記主表面と前記チャンファー面との間のコーナー部の曲面（Ｒ曲面）の表面粗さ（Ｒａ）がＡＦＭで４．０Å≦Ｒａ≦５０Åであり、前記非磁性基板が非晶質ガラス、結晶化ガラス、シリコンのいずれかからなることを特徴とする。
（２）本発明の磁気記録媒体において、前記円孔の内周端面の表面粗さ（Ｒａ）がＡＦＭで４．０Å≦Ｒａ≦１００Åであるものでも良い。
（３）本発明の磁気記録再生装置は、（１）または（２）に記載の磁気記録媒体を組み込んだことを特徴とする。

チャンファー面の表面粗さをこの程度細密に形成しておけば、チャンファー面と軟磁性層との間の密着強度が高まり、軟磁性層のコロージョン発生を抑制することができるので、電磁変換特性の劣化を起こさない磁気記録媒体が得られる。その結果、従来問題となっていた外周部のＳＮＲ劣化による読み取り不良、および外周部に発生するコロージョン部をヘッドが飛行し、ヘッド表面にコロージョン部が付着することによって発生する飛行不安定により引き起こされるサイドライティングによる隣接信号消去不良を著しく改善できることができる。

以下、本発明を詳細に説明する。図１に本発明の磁気記録媒体用基板を示し、図１（ａ）は、本発明の磁気記録媒体用基板を切断して見たときの斜視図で、図１（ｂ）は断面図である。また、図２は図１に示す本発明の磁気記録媒体用基板の各部を説明するために断面を拡大して示した図である。
図１に示すように本発明の磁気記録媒体用基板１は、ドーナツ状の円盤からなっており、円盤の表裏に磁気記録を形成するための主表面１０が有り、円盤の最外周に外周端面１１が、また円盤の中心部の中心円孔１４の内側に内周端面２１が形成されている。
そして主表面１０と外周端面１１との間に面取部（チャンファー）１２が、また主表面１０と内周端面２１との間にも面取部（チャンファー）２２が形成されている。

図２は図１に示す本発明の磁気記録媒体用基板の各部を説明するために断面を拡大して示した図である。図２では主表面１０と面取部（チャンファー）１２との間に半径ｒが１３〜８０μｍのＲ曲面１３が形成されている例を示した。Ｒ曲面１３は磁気記録媒体の製造工程で基板をカセット容器に収納して搬送する際に、基板の端面がカセット容器と擦れてもパーティクルの発生を抑制する効果がある。

本発明で使用する基板としては、非晶質（アモルファス）ガラス基板、結晶化ガラス基板、単結晶シリコン(Ｓｉ)基板、ＮｉＰめっきを施したＡｌもしくはＡｌ合金基板などを用いることができる。非晶質ガラス基板は化学強化ガラス基板でも非強化ガラス基板でも良い。シリコン基板は半導体ウェハで用いられるような高純度な単結晶基板でも構わないし、不純物がドープされていても構わないし、多結晶基板も使用することができる。
本発明で使用する基板は、先ず円盤状の素材に形状精度及び寸法精度の向上を目的としてラッピング加工を施す。ラッピング加工はラッピング装置を用いて通常２段階で行う。
次いで、多数枚の基板素材をスペーサーを介して束ねて基板素材の積層体を準備する。
そして、この基板素材の積層体の中心部に円孔を穿孔した後、基板の内外周部に所定の面取り加工を施す。
さらに研磨ブラシを使用して外周端面及び内周端面をブラシ研磨する。本発明の磁気記録用基板の製造方法では、円孔穿孔から内外周のポリッシュ加工までを、基板素材積層体を使用してバッチ処理で行う。
最後に磁気記録層を設ける主表面をポリッシュ加工する。ポリッシュ加工はそれまでの加工で発生した傷や歪みを除去するために、１次ポリッシュと鏡面に仕上げるための２次ポリッシュ加工の２段階に分けて行う。
ポリッシュ加工を終えた基板は充分洗浄した後、検査工程を経て磁気記録媒体用基板となる。

ここで重要なのは面取り加工を施したチャンファー面や外周端面及び内周端面の研磨仕上げ精度である。従来はこれらの面の仕上げ精度を極く一般的な表面粗さ測定法である触針法で測定した表面粗さで規定していた。しかし従来の仕上げ精度では、基板の主表面と面取部（チャンファー）との境界付近で軟磁性層の密着強度が弱く、軟磁性層にコロージョンが発生し、電磁変換特性の劣化を引き起こしている。
そこで本発明の磁気記録媒体用基板では、さらに精細な測定が可能な原子力間顕微鏡（Atomic Force Microscope ：ＡＦＭ）で測定した表面粗さで仕上げ精度を規定することとした。
原子力間顕微鏡（ＡＦＭ）は、物質の間に働く原子レベルの力を測定することにより、試料表面の２次元的構造を観察する装置で、具体的には試料表面を鋭い先端を持つカンチレバー（プローブ）を使用し、カンチレバー先端と試料表面との間に働く原子間力が一定になるようにカンチレバーの高さ方向位置を制御しながら試料表面をスキャンする。試料表面の凹凸に応じて上下するカンチレバーの変位をレーザ光を当てて検知し、レーザ反射光の位置変化をフォトダイオードにより検出するものである。ＡＦＭによれば、触針法では測定できない微細なレベルのナノオーダーの凹凸を検知することができる。

本発明の磁気記録媒体用基板では、前記チャンファー面の表面粗さ（Ｒａ）をＡＦＭで４．０Å≦Ｒａ≦１００Å、好ましくはＡＦＭで４．０Å≦Ｒａ≦５０Åとすることにした。
Ｒａの下限である４．０Åは加工可能または測定可能の下限でもある。Ｒａが５０Å以下ではコロージョンは全く発生しないが、Ｒａが５０Åを越えると軟磁性層の密着強度が弱くて軟磁性層にコロージョンが発生するようになり、Ｒａが１００Åを越えるとコロージョンがますます発生し易くなって、電磁変換特性の劣化が起こるようになる。したがって、チャンファー面の表面粗さ（Ｒａ）はＡＦＭで４．０Å≦Ｒａ≦１００Å、好ましくはＡＦＭで４．０Å≦Ｒａ≦５０Åとすることにした。

本発明の磁気記録媒体用基板では、チャンファー面に加えて外周端面の表面粗さ（Ｒａ）もＡＦＭで４．０Å≦Ｒａ≦１００Å、望ましくはＡＦＭで４．０Å≦Ｒａ≦５０Åとすることが好ましい。
外周端面の表面粗さをこのように細密に仕上げておけば、基板をカセット容器に収容して搬送する際にも外周端面が破損する危険が少なく、パーティクルの発生に伴うトラブルを防ぐことができる。

本発明の磁気記録媒体用基板では、図２に示すように、基板の主表面と外周端面側のチャンファー面との間、もしくは主表面と円孔側のチャンファー面との間のコーナー部に、半径が０．０１ｍｍ以上０．０５ｍｍ以下の曲面（Ｒ曲面）を介在させることが好ましい。 そしてこの曲面（Ｒ曲面）の表面粗さ（Ｒａ）もＡＦＭで４．０Å≦Ｒａ≦１００Å、望ましくはＡＦＭで４．０Å≦Ｒａ≦５０Åとすることが好ましい。
主表面とチャンファー面との間のコーナー部に曲面を持たせておけば、基板をカセット容器に収容して搬送する際にも外周端面が破損する危険が少なく、パーティクルの発生に伴うトラブルを防ぐことができるし、Ｒ曲面の表面粗さ（Ｒａ）をＡＦＭで４．０Å≦Ｒａ≦１００Å、望ましくはＡＦＭで４．０Å≦Ｒａ≦５０Åとしておけば、軟磁性層の密着強度が強くなって軟磁性層にコロージョンが発生することはなく、電磁変換特性の劣化が起こる心配もない。
以上説明したように、主表面から外周端面もしくは内周端面にかけてのコーナー部の表面粗さをＡＦＭで４．０Å≦Ｒａ≦１００Å、望ましくはＡＦＭで４．０Å≦Ｒａ≦５０Åとしておけば、主表面から外周端面もしくは内周端面にかけての軟磁性層の密着強度が強くなって軟磁性層にコロージョンが発生することはないので非常に好ましい磁気記録媒体用基板となる。
本発明の磁気記録媒体用基板では、前記チャンファー面、チャンファー面に加えて外周端面、基板の主表面と外周端面側のチャンファー面との間もしくは主表面と円孔側のチャンファー面との間のコーナー部の局面（Ｒ曲面）の表面粗さ（Ｒａ）をＡＦＭで４．０Å≦Ｒａ≦１０Å、ＡＦＭで１０Å≦Ｒａ≦１００Åとすることにしても良い。また、望ましくはＡＦＭで４．０Å≦Ｒａ≦１０Å、ＡＦＭで１０Å≦Ｒａ≦５０Åとするようにしても良い。

次に、本発明の磁気記録媒体用基板を得るための研磨方法について説明する。
本発明で使用する基板は、形状精度及び寸法精度の向上を目的としてラッピング加工を施した後、中心部に円孔を穿孔して基板の内外周部に所定の面取り加工（チャンファー加工）を施す。
主表面から外周端面もしくは内周端面にかけてのチャンファー面を含むコーナー部の研磨には、例えば図３に示すように、多数の磁気記録媒体用基板１をスペーサー５を介して重ね合わせた基板の積層体６を使用して行う。
スペーサ５は磁気記録媒体用基板１と同じく中心部に円孔１４を有する円盤状とし、装着した際にスペーサ５の端部（側面）５ａが磁気記録媒体用基板１のコーナー部１５の外周チャンファー面の終端から０〜２ｍｍ程度内側（好ましくは０．５〜２ｍｍ程度内側）になるようにする。また、スペーサ５の厚さは０．１〜０．３ｍｍ程度が好ましい。また、スペーサ５の材質としては、ポリウレタン、アクリル、プラスチック、あるいは研磨工程で使用する研磨パッドと同じ材料など基板より軟質の材料とすることが好ましい。

外周端面のチャンファー面を含むコーナー部を研磨するには、図４に示すように基板の積層体６の外周部に回転するブラシ７を当ててブラシ研磨する。研磨ブラシ７は線径０．０５ｍｍ〜０．３ｍｍ、毛足長１〜１０ｍｍのポリアミド系繊維を螺旋状に植毛した直径２００〜５００ｍｍの筒状ブラシを使用するのが好ましい。
この筒状の研磨ブラシ７を基板積層体６の外周部分に押し付け、研磨液を基板積層体６の外周部分と研磨ブラシ７との接触面に供給しつつ、基板積層体６を６０ｒｐｍ程度で、また筒状の研磨ブラシ７を７００〜１０００ｒｐｍ程度で互いに逆方向に回転させながら上下に移動させて基板の外周端面及びコーナー部分をブラシ研磨することにより、１０μｍ視野でのＡＦＭによる測定により４．０Å≦Ｒａ≦１００Å以内に、望むらくは４．０Å≦Ｒａ≦５０Å以内にコントロールされた鏡面仕上げされたコーナー部分となるように研磨する。
内周端面のチャンファー面を含むコーナー部を研磨するには、図５に示すようにスペーサーを介して重ね合わせた磁気記録媒体用基板１の積層体６の内孔１４内に、回転するブラシ１７を挿入してブラシ研磨する。円孔内も１０μｍ視野でのＡＦＭによる測定により４．０Å≦Ｒａ≦１００Å以内に、望むらくは４．０Å≦Ｒａ≦５０Å以内にコントロールされた鏡面仕上げされたコーナー部分となるように研磨する。
研磨精度の制御は、使用するブラシの材質、太さ、硬さ、長さ、研磨材の材質、粒径、濃度、ブラシを押しつける圧力、ブラシの回転速度、上下移動速度、積層体の回転速度等を適宜調整して行う。

磁性層を形成するための主表面（データ面）とチャンファー面との間にＲ曲面を設ける場合、Ｒ曲面の曲率半径は０．０１〜０．０５ｍｍとするのが好ましい。
ここで、Ｒ曲面の曲率半径とは、図６に示すように、基板の主表面（データ面）の延長線を引き、基板表面の形状曲線が上記延長線と離れる位置をＡ点とする。そのＡ点からそれぞれ１０μｍ離れた基板表面の位置を、それぞれＢ点およびＣ点として、これらの点Ａ、ＢおよびＣを通る円を求め、その円の半径を「Ｒ曲面の曲率」とする。

上記のような表面粗さに加工した非磁性基板の表面に磁性層を形成する。磁性層は面内磁気記録層でも垂直磁気記録層でもかまわないが、本発明は垂直磁気記録層の場合に特に顕著な効果を発揮する。これら磁気記録層は主としてＣｏを主成分とする合金から形成するのが好ましい。
例えば、面内磁気記録媒体用の磁気記録層としては、非磁性のＣｒＭｏ下地層と強磁性のＣｏＣｒＰｔＴａ磁性層からなる積層構造が利用できる。
垂直磁気記録媒体用の磁気記録層としては、例えば軟磁性のＦｅＣｏ合金（ＦｅＣｏＢ、ＦｅＣｏＳｉＢ、ＦｅＣｏＺｒ、ＦｅＣｏＺｒＢ、ＦｅＣｏＺｒＢＣｕなど）、ＦｅＴａ合金（ＦｅＴａＮ、ＦｅＴａＣなど）、Ｃｏ合金（ＣｏＴａＺｒ、ＣｏＺｒＮＢ、ＣｏＢなど）等からなる軟磁性層と、Ｐｔ、Ｐｄ、ＮｉＣｒ、ＮｉＦｅＣｒなどの配向制御膜と、必要によりＲｕ等の中間膜、及び６０Ｃｏ−１５Ｃｒ−１５Ｐｔ合金や７０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ−１０ＳｉＯ２ 合金からなる磁性層を積層したものを利用することがきる。
磁気記録層の厚さは、３ｎｍ以上２０ｎｍ以下、好ましくは５ｎｍ以上１５ｎｍ以下とする。磁気記録層は使用する磁性合金の種類と積層構造に合わせて、十分なヘッド出入力が得られるように形成すればよい。磁性層の膜厚は再生の際に一定以上の出力を得るにはある程度以上の磁性層膜厚が必要であり、一方で記録再生特性を表す諸パラメーターは出力の上昇とともに劣化するのが通例であるため、最適な膜厚に設定する必要がある。
通常、磁気記録層はスパッタ法、真空蒸着法、ガス中蒸着法、ガスフロースパッタ法等の物理的蒸着法を用いて薄膜として形成する。

磁気記録層の表面には保護膜層が形成されている。保護膜としては、炭素（Ｃ）、水素化炭素（ＨｘＣ）、窒素化炭素（ＣＮ）、アルモファスカーボン、炭化珪素（ＳｉＣ）等の炭素質層やＳｉＯ_２ 、Ｚｒ_２Ｏ_３、ＴｉＮなど、通常用いられる保護膜層材料を用いることができる。また、保護膜層が２層以上の層から構成されていてもよい。
保護膜層の膜厚は１０ｎｍ未満とする必要がある。保護膜層の膜厚が１０ｎｍを越えるとヘッドと磁性層との距離が大きくなり、十分な出入力信号の強さが得られなくなるからである。
通常、保護膜層はスパッタ法により形成される。

保護膜層の上には潤滑層を形成することが好ましい。潤滑層に用いる潤滑剤としては、フッ素系潤滑剤、炭化水素系潤滑剤及びこれらの混合物等が挙げられ、通常１〜４ｎｍの厚さで潤滑層を形成する。

次に、本発明の磁気記録再生装置の構成を図７に示す。本発明の磁気記録再生装置４０は、上述の本発明の磁気記録媒体３０と、これを記録方向に駆動する媒体駆動部２６と、記録部と再生部からなる磁気ヘッド２７と、磁気ヘッド２７を磁気記録媒体３０に対して相対運動させるヘッド駆動部２８と、磁気ヘッド２７への信号入力と磁気ヘッド２７からの出力信号再生を行うための記録再生信号処理手段を組み合わせた記録再生信号系２９とを具備したものである。これらを組み合わせることにより記録密度の高い磁気記録装置を構成することが可能となる。
本発明の磁気記録再生装置に使用した磁気記録媒体は、外周近傍や内孔近傍を精細に研磨仕上げしてあるので、基板と磁気記録媒体層との密着強度が強く、磁気記録媒体層にコロージョンが発生することはなく、電磁変換特性の劣化も起こらないので、長期にわたって安定した性能を維持した磁気記録再生装置となる。

（試験例）
外径４８ｍｍ、内径１２ｍｍ、厚さ０．５０８ｍｍに加工した洗浄済みのガラス基板とシリコン基板を準備した。ガラス基板としては、非晶質ガラスと結晶化ガラスを使用した。シリコン基板は半導体用の単結晶シリコン基板を使用した。
各基板試料は図３に示した積層体にした後、図４と図５に示した方法でブラシ研磨して、チャンファー面の表面粗さ（Ｒａ）がＡＦＭ測定にて４．０Å以上〜１００Å以下の範囲、外周もしくは内周端部面の表面粗さ（Ｒａ）がＡＦＭ測定にて４．０Å以上〜１００Å以下の範囲、Ｒ曲面の曲率が０．０１ｍｍ以上〜０．０７ｍｍ以下の範囲になるようにコントロールした磁気記録媒体用基板を準備した。
次に、これらの基板をＤＣマグネトロンスパッタ装置（アネルバ社製Ｃ−３０１０）の成膜チャンバ内に収容して、到達真空度１×１０^−５Ｐａとなるまで成膜チャンバ内を排気した後、基板上に軟磁性膜として９０Ｃｏ−４Ｚｒ−６Ｎｂ（Ｃｏ含有量９０ａｔ％、Ｚｒ含有量４ａｔ％、Ｎｂ含有量６ａｔ％）を５０ｎｍ、Ｒｕ膜を０．８ｎｍ、９０Ｃｏ−４Ｚｒ−６Ｎｂ（Ｃｏ含有量９０ａｔ％、Ｚｒ含有量４ａｔ％、Ｎｂ含有量６ａｔ％）を５０ｎｍ成膜して３層からなる裏打ち層を形成した。このとき基板加熱はおこなわず、磁界を基板半径方向の外周から内周に向かって磁界を印加した。
次いで、配向制御膜としてＲｕを２０ｎｍ、垂直磁気記録層として６６Ｃｏ−８Ｃｒ−１８Ｐｔ−８ＳｉＯ_２を１２ｎｍ成膜した。
次いで、ＣＶＤ法により４ｎｍのアルモファスカーボン保護膜を形成した。
次いで、ディッピング法によりパーフルオロポリエーテルからなる潤滑膜を形成し、磁気記録媒体を得た。

（比較例１〜１９）
基板の研磨加工において、端面のブラシ研磨などの研磨加工を全く実施していないもの、あるいはチャンファー面の表面粗さ（Ｒａ）がＡＦＭ測定にて１００Å以上、外周若しくは外周端面の表面粗さがＡＦＭで１００Å以上、Ｒ曲面の曲率が０．０１ｍｍ以上〜０．０４ｍｍ以下の範囲になるような条件で加工する以外は、試験例に準じて磁気記録媒体を作製した。

（比較例２０〜２２）
また面内方式の磁気記録媒体での効果を比較するために、外周端面をブラシ研磨加工していない従来の基板を使用し、ＤＣマグネトロンスパッタ装置を用いて基板を表面温度１７０℃に加熱後Ｃｒ５０−Ｔｉ合金を２００Å、Ｎｉ５０−Ａｌ合金を１００Å、Ｃｒ２０−Ｔｉ合金を５０Å、Ｃｏ１３−Ｃｒ６−Ｐｔ３−Ｂ合金を３０Å成膜した磁気記録媒体を作成した。

これら試験例および比較例の磁気記録媒体について、外周端面の表面粗さ、Ｒ曲面の曲率、及び記録再生特性としてＳＮＲ特性を評価した。また、主表面とチャンファー面近傍における膜の剥がれの有無と個数を観察した。
〔ＡＦＭ表面粗さの評価〕
Digital Instrument社製ＡＦＭ装置を用いて基板の表面粗さ（Ｒａ）を評価した。測定条件は視野１０μｍ、解像度２５６×２５６、タッピングモード、掃印速度１μｍ／ｓｅｃにて行った。
[Ｒ曲面曲率の測定]
ミツトヨ社製、コントレーサーＣＶ−Ｌ４００を用いて、図６に説明した方法に準じて測定した。この際に用いた測定条件は、以下の通りであった。
測定長さ：１ｍｍ
測定速度：０．０２ｍｍ／ｓ
測定ピッチ：０．００２ｍｍ
モード：Ｘ軸固定
〔垂直磁気記録媒体の評価〕
記録再生特性の評価は、米国ＧＵＺＩＫ社製リードライトアナライザＲＷＡ１６３２、およびスピンスタンドＳ１７０１ＭＰを用いて測定した。
記録再生特性の評価には、書き込みをシングルポール磁極、再生部にＧＭＲ素子を用いたヘッドを用いて、記録周波数条件を線記録密度１０００ｋＦＣＩとしてＳＮＲを測定した。

〔コロージョンによる膜剥がれの有無の評価〕
温度７０℃湿度８０％の環境に設定されたオーブンに試験例および比較例にて作成された磁気記録媒体を投入して２４０時間後に回収した後、データ面、外周端面の境界付近を倍率２４０倍の顕微鏡で観察した。チャンファー面とデータ面の境界領域にコロージョンにより発生した膜はがれの存在の有無を観察し、個数を計数した。
これらの結果をまとめて表１及び表２に示す。

これらの結果から、本発明の磁気記録媒体用基板を使用した垂直磁気記録媒体は、コロージョンによる膜剥がれの発生が無く、ＳＮＲの高い高性能な磁気記録媒体であることが判る。
なお、面内記録方式の磁気記録媒体では、使用する薄膜の特性上コロージョンによる膜剥がれの発生は認められなかった。

本発明の磁気記録媒体用基板を示す図であって、（ａ）は切断して見たときの斜視図、（ｂ）は断面図である。 本発明の磁気記録媒体用基板の各部を説明するために断面を拡大して示した図である。 基板積層体の構成を説明する図である。 外周を研磨する方法を説明する図である。 内周を研磨する方法を説明する図である。 Ｒ曲面曲率の測定方法を説明する図である。 本発明の磁気記録媒再生装置の構成を示す図である。

符号の説明

１…磁気記録媒体用基板、５…スペーサー、５ａ…スペーサの端部、６…基板積層体、７，１７…ブラシ、１０…主表面、１１…外周端面、１２，２２…チャンファー、
１３，２３…Ｒ曲面、１４…内孔、１５…コーナー部、２１…内周端面、２６…媒体駆動部、２７…磁気ヘッド、２８…ヘッド駆動部、２９…記録再生信号系、３０…磁気記録媒体、４０…磁気記録再生装置、

Claims (3)

1. 円盤状の非磁性基板の中心部に円孔を有し、裏打ち軟磁性層と垂直磁気記録媒体層を形成するための主表面と外周端面との間、もしくは主表面と前記円孔の内周端面の間の少なくとも一方にチャンファー面を具備した垂直磁気記録媒体用基板を備え、前記主表面上に裏打ち軟磁性層と垂直磁気記録媒体層を備えた磁気記録媒体であって、
   前記裏打ち軟磁性層が少なくともＦｅまたはＣｏを含む裏打ち軟磁性層であり、
   前記チャンファー面の表面粗さ（Ｒａ）がＡＦＭで４．０Å≦Ｒａ≦５０Åであり、前記外周端面の表面粗さ（Ｒａ）がＡＦＭで４．０Å≦Ｒａ≦５０Åであり、前記主表面と前記チャンファー面との間のコーナー部の曲面（Ｒ曲面）の表面粗さ（Ｒａ）がＡＦＭで４．０Å≦Ｒａ≦５０Åであり、
   前記非磁性基板が非晶質ガラス、結晶化ガラス、シリコンのいずれかからなることを特徴とする磁気記録媒体。
2. 前記円孔の内周端面の表面粗さ（Ｒａ）がＡＦＭで４．０Å≦Ｒａ≦１００Åであることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
3. 前記請求項１または２に記載の磁気記録媒体を組み込んだことを特徴とする磁気記録再生装置。

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